KR100656683B1 - Apparatus for opening cover of laser annealing chamber - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래의 레이저 열처리 장치를 설명하기 위한 도면;1 is a view for explaining a conventional laser heat treatment apparatus;
도 2 내지 도 4는 본 발명에 따른 레이저 열처리 챔버의 커버 개방장치로 커버를 개방하는 과정을 순차적으로 도시한 도면들이다. 2 to 4 are views sequentially showing the process of opening the cover with the cover opening device of the laser heat treatment chamber according to the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 참조번호의 설명><Description of reference numbers for the main parts of the drawings>
100: 챔버 110: 윈도우100: chamber 110: window
120: 기판 130: 챔버 커버120: substrate 130: chamber cover
132, 134: 가이드 140: 승강구름장치132, 134: guide 140: lift cloud device
141: 승강대 142: 수평회전원판141: platform 142: horizontal rotating disc
150: 커버지지장치 151: 수평회전대150: cover support device 151: horizontal rotating table
152: 수직회전판 153: 커버이동제한턱152: vertical rotating plate 153: cover movement limit
154: 회전걸림턱 155: 상하이동 고정척154: rotational jaw 155: Shanghai-dong fixed chuck
160: 중간지지장치 161: 중간지지대160: intermediate support device 161: intermediate support
162: 수평회전원판 200: 광학 가이드162: horizontal rotating disc 200: optical guide
210: 미러210: mirror
본 발명은 레이저 열처리 챔버의 커버 개방장치에 관한 것으로서, 특히 레이저를 조사하기 위한 광학모듈과 챔버 커버의 윈도우 사이가 좁을 때 챔버 커버를 용이하게 여는데 적합한 레이저 열처리 챔버의 커버 개방장치에 관한 것이다. The present invention relates to a cover opening device of a laser heat treatment chamber, and more particularly, to a cover opening device of a laser heat treatment chamber suitable for easily opening a chamber cover when the space between the optical module for irradiating a laser and the window of the chamber cover is narrow.
액정패널의 스위칭 소자로 사용되는 박막 트랜지스터는 비정질 실리콘층을 증착한 후에 이를 결정화시켜 만드는데, 상기 결정화 방법으로는 ELA(Eximer Laser Annealing)와 SLS(sequential lateral solidification) 등이 있다. 여기서 ELA 방법은 버티칼 성장을 유도하는 방법으로서 SLS 방법에 비하여 결정화 특성은 떨어지나 기판 전체에 대한 균일도는 더 좋으므로 양산화에 가장 적극적으로 검토되고 있다. 이 방법은 보편적으로 투과율이 상당히 높은 쿼츠(quartz) 재질의 챔버 윈도우를 통하여 레이저를 챔버 안에 조사한다. A thin film transistor used as a switching element of a liquid crystal panel is formed by depositing an amorphous silicon layer and then crystallizing the same. Examples of the crystallization method include ELA (Eximer Laser Annealing) and SLS (sequential lateral solidification). The ELA method is a method of inducing vertical growth, which is less active in crystallization than the SLS method, but has a better uniformity over the entire substrate. This method typically irradiates a laser into the chamber through a chamber window made of quartz material, which has a fairly high transmission.
도 1은 종래의 레이저 열처리 장치를 설명하기 위한 도면이다. 도 1을 참조하면, 챔버(100)의 윗면에는 챔버 개방을 위하여 커버(미도시)가 설치되며, 상기 커버에는 투명한 챔버 윈도우(110)가 설치된다. 기판(120)은 챔버(100)의 내부 저면에 놓여진다. 레이저는 광학 가이드(200)에 의해 경로가 안내되며 광학 가이드(200) 내에는 미러(210)가 설치된다. 레이저는 미러(210)에서 반사되어 챔버 윈도 우(110)를 통과하여 챔버(100)의 내부로 조사된다. 1 is a view for explaining a conventional laser heat treatment apparatus. Referring to FIG. 1, a cover (not shown) is installed on an upper surface of the
열처리 공정을 반복 진행하다보면 챔버(100)내의 구성요소들이 손상되거나 오염된다. 따라서 챔버(100)의 내부를 유지보수하기 위해서 상기 커버를 개방해야 할 필요가 생긴다. 그러나 광학 가이드(200)가 상기 커버의 상부에 매우 가깝게 인접하여 설치되기 때문에 상기 커버의 한쪽을 들어올려 위로 제쳐서 여는 것은 광학 가이드(200)의 존재로 인하여 곤란하다. As the heat treatment process is repeated, components in the
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 레이저를 챔버 내로 조사하기 위한 광학모듈과 챔버 커버의 윈도우 사이가 좁을 때에도 상기 커버를 용이하게 개방할 수 있는 레이저 열처리 챔버의 커버 개방장치를 제공하는 데 있다. Accordingly, a technical object of the present invention is to provide a cover opening apparatus of a laser heat treatment chamber that can easily open the cover even when the window between the optical module for irradiating a laser into the chamber and the window of the chamber cover is narrow.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 레이저 열처리 챔버의 커버 개방장치는, 마주보는 양측에 가이드가 각각 설치되어 있으며 챔버의 상부 개방부를 덮는 챔버 커버와, 구름 가능하게 설치되는 구름수단으로 상기 커버의 양측 가이드의 밑부분을 지지하면서 상기 커버를 위로 승강시키는 승강구름장치와, 상기 승강구름장치에 설치된 구름수단 상에서 수평이동하여 오는 상기 커버의 양측 가이드 밑부분을 구름 가능하게 설치되는 구름수단으로 이어받는 커버지지장치를 구비하며, 상기 커버지지장치는 상기 챔버의 외벽에 접혀 있다가 펴져서 상기 커버의 양측을 지지하도록 설치되는 것을 특징으로 한다. The cover opening device of the laser heat treatment chamber according to the present invention for achieving the above technical problem, the guide is provided on both sides facing each other and the chamber cover to cover the upper opening of the chamber, and the cover by the cloud means installed cloudably Lifting cloud apparatus for elevating the cover upward while supporting the bottom of both guides of the guide, and the cloud means installed on the lower side of both guides of the cover which is horizontally moved on the rolling means installed in the lifting cloud apparatus The cover supporting apparatus is provided, and the cover supporting apparatus is installed to support both sides of the cover by being folded and extended to the outer wall of the chamber.
본 발명에 따른 커버 개방장치는 상기 승강구름장치와 상기 커버지지장치에 사이에 설치되어 상기 승강구름장치에서부터 수평이동하여 오는 상기 커버의 양측 가이드 밑부분을 구름 가능하게 설치되는 구름수단으로 이어받아 상기 커버지지장치에 넘겨주는 중간지지장치를 구비하는 것이 바람직하다. 상기 중간지지장치에 설치되는 구름수단은 수평회전 가능하게 설치되는 수평회전원판인 것이 바람직하다. The cover opening device according to the present invention is installed between the elevating cloud device and the cover support device and is inherited by a cloud means installed in a cloudable manner to install both side portions of the guide of the cover which are horizontally moved from the elevating cloud device. It is preferable to have an intermediate supporting device to be delivered to the cover supporting device. The rolling means installed in the intermediate support device is preferably a horizontal rotating disc installed horizontally.
상기 승강구름장치에 설치되는 구름수단은 수평회전 가능하게 설치되는 수평회전원판인 것이 바람직하다. The rolling means installed in the elevating cloud device is preferably a horizontal rotating disc installed horizontally.
상기 승강구름장치는 상기 커버의 마주보는 양측 각각에 두개 이상 설치되는 것이 바람직하다. It is preferable that two or more lifting device is installed on each of the opposite sides of the cover.
상기 커버지지장치에 설치되는 구름수단은 수직회전가능하게 설치되는 수직회전원판인 것이 바람직하고, 이 경우 상기 커버의 양측 가이드는 상기 수직회전원판의 측면 돌출부에 올려 놓여지는 것이 바람직하다. The rolling means installed in the cover support device is preferably a vertical rotation disc installed to be capable of vertical rotation, in which case the guides on both sides of the cover are preferably placed on the side projections of the vertical rotation disc.
상기 커버지지장치에 설치되는 구름수단은 상기 커버의 마주보는 양측 각각에 상기 커버의 수평이동 방향으로 두개이상 설치되는 것이 바람직하다. 이 때 상기 승강구름장치 쪽에서 수평이동하여 오는 상기 커버의 가이드의 바깥쪽 부분이 삽입될 수 있도록 안쪽 방향으로 수평가이드 홈이 형성되어 있는 상하이동 고정척이 상기 구름수단 사이에 위치하도록 설치되는 것이 바람직하다. Preferably, two or more rolling means installed in the cover support device are installed in each of the opposite sides of the cover in the horizontal moving direction of the cover. At this time, it is preferable that the Shanghai-dong fixed chuck, which has a horizontal guide groove formed inwardly, is installed between the rolling means so that the outer portion of the guide of the cover, which is horizontally moved from the lifting cloud device side, can be inserted. Do.
상기 커버지지장치의 펴짐은 수평방향으로 회전함으로써 이루어질 수도 있고, 아래에서 윗방향으로 회전함으로써 이루어질 수도 있다. Unfolding of the cover support device may be made by rotating in the horizontal direction, it may be made by rotating in a downward direction.
상기 커버지지장치는 펴짐 정도를 제한하도록 설치되는 회전걸림턱을 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. The cover support device preferably comprises a rotation catching jaw installed to limit the degree of spreading.
상기 커버지지장치는 상기 커버의 수평이동 정도를 제한하기 위한 커버이동제한턱을 포함하여 이루어지는 것이 바람직하다. The cover support device preferably comprises a cover movement limit for limiting the horizontal movement degree of the cover.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 아래의 실시예는 본 발명의 내용을 이해하기 위해 제시된 것일 뿐이며 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상 내에서 많은 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명의 권리범위가 이러한 실시예에 한정되는 것으로 해석돼서는 안 된다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. The following examples are only presented to understand the content of the present invention, and those skilled in the art will be capable of many modifications within the technical spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as limited to these embodiments.
도 2 내지 도 4는 본 발명에 따른 레이저 열처리 챔버의 커버 개방장치로 커버를 개방하는 과정을 순차적으로 도시한 도면들로서, 도 2는 챔버 커버(130)가 덮여있는 상태를 나타낸 것이고, 도 3은 챔버 커버(130)가 위로 승강하는 과정을 나나낸 것이며, 도 4는 챔버 커버(140)가 수평이동하여 챔버(100)가 개방되는 과정을 나타낸 것이다. 2 to 4 are views sequentially showing the process of opening the cover with the cover opening device of the laser heat treatment chamber according to the present invention, Figure 2 shows a state in which the
도 2에 도시된 바와 같이, 챔버(100)의 상부 개방부에는 챔버 커버(130)가 설치되며 챔버 커버(130)의 가운데 부분에는 레이저가 투과하여 들어갈 수 있도록 투명 윈도우(110)가 설치된다. 챔버 커버(130)의 마주보는 양측에는 가이드(132, 134)가 설치된다.As shown in FIG. 2, a
챔버 커버(130)의 양측에는 챔버 커버(130)의 양측 가이드(132, 134)를 들어 올리기 위한 승강구름장치(140)가 설치된다. 승강구름장치(140)는 챔버 커버(130)를 균형있게 들어올리기 위해서 챔버 커버(130)의 양측 각각에 두개 이상 설치되는 것이 바람직한데, 도 2에서는 최소로 두개가 설치되는 경우가 도시되었다. 승강구름장치(140)는 승하강 가능하게 설치되는 승강대(141)와 수평회전원판(142)을 포함하여 이루어진다. 수평회전원판(142)은 승강대(141)에 수평회전 가능하게 결합된다. On both sides of the
도 3에 도시된 바와 같이, 수평회전원판(142)이 챔버 커버(130)의 양측 가이드(132, 134) 밑부분을 지지하기 때문에 승강대(141)가 승강하면 챔버 커버(130)가 따라서 승강한다. 승강대(141)의 승강은 공압, 유압, 모터, 스프링 등 여러가지 방식으로 구현될 수 있으며, 투명 윈도우(110) 상에 설치되는 광학 모듈에 챔버 커버(130)가 접촉되지 않는 한도까지만 상기 승강이 이루어지는 것이 바람직하다. As shown in FIG. 3, when the
챔버 커버(130)의 승강이 이루어졌으면 챔버 커버(130)를 수평으로 잡아 당겨서 챔버(100)를 개방하기 시작한다. 이 때 수평회전원판(142)이 수평회전가능하게 설치되어 있으므로 챔버 커버(130)의 수평이동이 용이하게 이루어진다. 수평회전원판(142) 대신에 이러한 기능을 할 수 있는 적절한 다른 구름수단을 설치해도 무방하다. 챔버 커버(130)의 수평이동은 공압, 유압, 모터, 스프링, 수동식 등 여러 가지 방법에 의해 이루어질 수 있다.When the lifting and lowering of the
챔버(100)의 외벽에는 커버지지장치(150)가 설치된다. 커버지지장치(150)는 챔버(100)의 외벽에 접혀 있다가 챔버 커버(130)가 승강구름장치(140)에서 수평이동하여 올 때 챔버(100)의 외벽으로부터 수평방향으로 회전하면서 펴져서 챔버 커 버(130)의 양측 가이드(132, 134)를 지지하도록 설치된다. The
커버지지장치(150)는 수평회전대(151) 및 수직회전판(152)을 포함하여 이루어지며, 수직회전판(152)은 수평회전대(151)에 수직회전 가능하게 설치된다. 수평회전대(151)는 챔버(100)의 외벽에 접혀 있다가 챔버 커버(130)가 승강구름장치(140)에서 수평이동하여 올 때 챔버(100)의 외벽으로부터 펴진다. 수평회전대(151)의 회전은 공압, 유압, 모터 등 여러가지 방식으로 구현될 수 있다. 수평회전대(151)는 챔버 커버(130)의 이동방향과 나란하게 펴져야 하므로 이러한 회전을 제한하기 위해서 회전걸림턱(154)이 설치된다. The
수직회전원판(152)에는 측면 돌출부가 형성되어 있으며, 챔버 커버(130)의 양측 가이드(132, 134)는 수직회전원판(152)의 측면 돌출부에 올려 놓여진다. 수평회전대(151) 각각에는 수평회전원판(152)이 두개 이상 설치되는 것이 바람직한데, 도 3에서는 최소로 두개가 설치되는 경우가 도시되었다. 챔버 커버(130)의 흔들림을 방지하기 위하여 수평회전원판(152) 사이에 챔버 커버(130)의 양측 가이드(132, 134)의 바깥쪽 부분이 삽입될 수 있도록 안쪽 방향으로 수평가이드 홈이 형성되어 있는 상하이동 고정척(155)이 설치된다. 커버지지장치(150)에서 수평회전판이 아닌 수직회전판을 사용하는 이유는 수평회전대(151)가 접혔을 때 챔버(100)의 외벽에 좀 더 가까이 접할 수 있도록 하기 위함이다. The
승강구름장치(140)와 커버지지장치(150)에는 중간지지장치(160)가 설치된다. 중간지지장치(160)는 승강구름장치(140)에서부터 수평이동하여 오는 챔버 커버(130)를 이어받아 이를 커버지지장치(150)에 넘겨주는 중간 다리 역할을 한다. 챔 버 커버(130)가 매우 크고 무겁기 때문에 이러한 중간 다리 역할이 필요하다. The elevating
중간지지장치(160)는 중간지지대(161)와 수평회전원판(162)을 포함하여 이루어지며 수평회전원판(162)은 중간지지대(161)에 수평회전 가능하게 설치된다. 중간지지장치(160)의 수평회전원판(162)은 챔버 커버(130)의 양측 가이드의 밑부분을 지지함으로써 승강구름장치(140)로부터 수평이동하여 오는 챔버 커버(130)를 이어받는다. 중간지지대(161)는 승강구름장치(140)가 승강된 후와 동일한 높이를 유지하고 있으면 족하며 굳이 승강기능이 있을 필요는 없다. The
도 4에 도시된 바와 같이, 챔버 커버(130)가 계속적인 수평이동을 하면 챔버 커버(130)는 중간다리 역할을 하는 중간지지장치(160)의 수평회전원판(162)의 지지를 받으면서 커버지지장치(150)의 수직회전원판(152)의 측면 돌출부에 걸쳐지게 된다. 챔버 커버(130)의 수평이동이 무한정 이루어지면 곤란하므로 이러한 수평이동을 제한하기 위해서 수평회전대(151)의 끝단에 커버이동제한턱(153)이 설치된다. As shown in FIG. 4, when the
챔버 커버(130)가 커버이동제한턱(153)에 걸려 멈추면 챔버(100)의 개방이 이루어지는데, 이 때에 챔버 커버(130)가 챔버(100)의 앞으로 많이 돌출되기 때문에 작업자가 챔버(100)의 앞에서 작업하기가 곤란한 일이 발생할 수 있다. 따라서 수평회전대(151) 대신에 아래로 접혀 있다가 윗방향으로 회전하면서 챔버(100)의 외벽으로부터 펴지는 수직회전대를 설치하여 상기 수직회전대가 펴져서 챔버 커버(130)를 인계받은 후에 상기 수직회전대를 다시 아래로 회전시켜 접음으로써 챔버 커버(130)가 챔버(100)의 외측에 수직으로 세워지도록 하면 좋다. When the
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 챔버 커버(130)를 약간 들어올린 후에 이를 수평이동시켜 챔버(100)를 개방하기 때문에 챔버 커버(130)와 광학모듈 사이의 간격이 좁을 경우에도 챔버 커버(130)를 용이하게 개방시킬 수 있게 된다. As described above, according to the present invention, since the
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Cited By (3)
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KR101687734B1 (en) * | 2015-06-11 | 2016-12-19 | 히라따기꼬오 가부시키가이샤 | Chamber apparatus and treatment system |
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2005
- 2005-12-15 KR KR1020050123918A patent/KR100656683B1/en not_active IP Right Cessation
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KR101327503B1 (en) | 2007-08-24 | 2013-11-20 | 세메스 주식회사 | Apparatus of treating a substrate |
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