KR100641486B1 - Catchment device that is used in semiconductor factory - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기에 관한 것이다. The present invention relates to a water collector used in a semiconductor device factory.

본 발명은 원통형 본체의 집수기는, 상기 본체의 수직면 일측에 설치되어 물과 대기중의 공기를 같이 흡입하는 흡입구와; 상기 흡입구의 대향면에 길이 방향으로 "ㄷ"자 설치되어 내부의 수위 집수 상태를 관찰할 수 있는 점검관과; 상기 본체의 수직면 하부 일측에 설치되어 집수된 내부 물을 배출하기 위한 배출관과; 상기 본체의 내측 상부에 설치되어 흡입된 물과 분리된 공기에 비산되어 있는 잔류수를 제거하는 차단막과; 상기 차단막에서 분리된 공기를 토출시킬 수 있도록 상기 본체의 상부면에 설치되는 토출구로; 구성된 것을 특징으로 한다. 따라서 반도체소자 공장에서 발생하는 물 또는 화학약품이 누출되었을 시 신속하고 안전하게 누출수를 처리하여 누출수에 의한 2차 사고유발을 방지하고, 유독성 또는 환경유해 물질로 인한 환경오염 및 작업자의 안전을 도모하는 효과가 있다.The collector of the cylindrical main body, the suction port is installed on one side of the vertical surface of the main body to suck water and air in the air together; An inspection tube installed on the opposite surface of the suction port in a longitudinal direction and configured to observe an internal water level collection state; A discharge pipe installed at one side of the lower vertical surface of the main body to discharge the collected internal water; A blocking membrane installed at an inner upper portion of the main body to remove residual water scattered in the air separated from the sucked water; A discharge port provided on an upper surface of the main body to discharge the air separated from the blocking film; Characterized in that configured. Therefore, when water or chemicals leaking from semiconductor device factory leaks, it treats leaks quickly and safely to prevent secondary accidents caused by leaks and promotes environmental pollution and worker safety due to toxic or environmentally harmful substances. It is effective.

Description

반도체소자 공장에서 사용되는 집수기{CATCHMENT DEVICE THAT IS USED IN SEMICONDUCTOR FACTORY}Catchment DEVICE THAT IS USED IN SEMICONDUCTOR FACTORY}

도 1은 본 발명에 따른 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기를 도시한 개략적인 구성도이고,1 is a schematic configuration diagram showing a water collector used in a semiconductor device factory according to the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기의 사용 상태도이다. 2 is a state diagram used in the water collector used in the semiconductor device factory according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 집수기 10 : 본체1: water collector 10: main body

11 : 바퀴 12 : 흡입구11: wheel 12: inlet

13 : 배출구 14 : 점검관13: outlet 14: inspector

15 : 차단막 16 : 토출구 15: blocking film 16: discharge port

20 : 물흡입용 호스 30 : 진공펌프20: water suction hose 30: vacuum pump

본 발명은 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기에 관한 것으로써, 반도체소자 공장에서 발생하는 누출수의 효율적인 집수와 이를 빠른 시간 내에 제거하기 위 한 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a water collector used in a semiconductor device factory, and more particularly to an efficient collection of leaks generated in a semiconductor device factory and to a water collector used in a semiconductor device factory for quickly removing it.

일반적으로 반도체소자 제조 공장에서 사용되어지는 초순수, 냉각수, 공수, 시수, 소화수 등 여러 종류의 많은 물을 사용하고, 그 사용한 물을 재활용하기 위하여 회수하는 시설과 재활용이 불가한 물은 회수 후 폐수처리하기 위하여 포설한 배관이 복잡하고 다양하게 설치되어 있다.In general, many kinds of water such as ultrapure water, cooling water, air water, sea water, digestive water, etc. used in semiconductor device manufacturing plants are used, and the facilities to recover the used water and the non-recyclable water are the waste water after recovery. The pipes installed for the treatment are complicated and variously installed.

또한, 20여 종류의 화공약품을 공급하고 회수하는 배관이 수없이 포설되어 항상 노출의 위험이 존재하며, 실제로 누출사고가 빈번히 발생한다. 누출 사고시 누출수 처리 및 제거에 상당한 에로 사항이 있으며, 누출수에 의한 2차 사고를 유발할 가능성이 매우 높다.In addition, there are numerous pipes for supplying and recovering more than 20 kinds of chemicals, and there is always a risk of exposure. In the event of a leak, there are significant difficulties in handling and removing the leak, and it is very likely to cause secondary accidents caused by the leak.

한 편, 현재 생산라인에서 누출사고 발생시 누출수 제거 작업은, 와이퍼 또는 걸레 등을 이용하여 닦아내는 방법과 쓰레받이를 사용하여 양동이에 퍼 담는 방법 외에는 별다른 방법이 없으며, 이는 많은 작업자를 필요로 하고 오랜 시간이 소요되며, 유해성 화공약품 또는 화공약품과 혼합한 누출수일 경우 제거작업은 더욱 어렵고 조심하여야 함으로 작업자의 안전 관리에 지대한 영향을 미치는 문제점이 있었다.On the other hand, in the event of a leak in the production line, there is no way to remove the leak except for wiping with a wiper or a rag and using a dustpan to put it in a bucket. It takes time, and if the leaked water mixed with hazardous chemicals or chemicals, the removal work is more difficult and careful to have a problem that greatly affects the safety management of workers.

본 발명은 상기한 바와 같은 결점을 해소시키기 위하여 안출된 것으로서, 반도체소자 공장에서 발생하는 물 또는 화학약품이 누출되었을 시 신속하고 안전하게 누출수를 처리하여 누출수에 의한 2차 사고유발을 방지한 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention has been made in order to solve the above-mentioned defects, the semiconductor that prevents the secondary accident caused by the leak by treating the leak quickly and safely when water or chemicals generated in the semiconductor device factory leaks It is an object to provide a water collector used in an element factory.                         

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 반도체소자 공장에서 발생하는 누출수를 집수 및 제거하기 위한 집수기에 있어서; 상기 원통형 본체의 집수기는, 상기 본체의 수직면 일측에 설치되어 물과 대기중의 공기를 같이 흡입하는 흡입구와; 상기 흡입구의 대향면에 길이 방향으로 "ㄷ"자 설치되어 내부의 수위 집수 상태를 관찰할 수 있는 점검관과; 상기 본체의 수직면 하부 일측에 설치되어 집수된 내부 물을 배출하기 위한 배출관과; 상기 본체의 내측 상부에 설치되어 흡입된 물과 분리된 공기에 비산되어 있는 잔류수를 제거하는 차단막과; 상기 차단막에서 분리된 공기를 토출시킬 수 있도록 상기 본체의 상부면에 설치되는 토출구로; 구성된 것을 특징으로 하는 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기를 제공한다. The present invention for achieving the above object, in the collector for collecting and removing the leakage water generated in the semiconductor device factory; The collector of the cylindrical main body, the suction port is installed on one side of the vertical surface of the main body to suck water and air in the air together; An inspection tube installed on the opposite surface of the suction port in a longitudinal direction and configured to observe an internal water level collection state; A discharge pipe installed at one side of the lower vertical surface of the main body to discharge the collected internal water; A blocking membrane installed at an inner upper portion of the main body to remove residual water scattered in the air separated from the sucked water; A discharge port provided on an upper surface of the main body to discharge the air separated from the blocking film; It provides a water collector used in a semiconductor device factory, characterized in that configured.

본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술 분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시 예로부터 더욱 명확하게 될 것이다.The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기를 도시한 개략적인 구성도이고, 도 2는 본 발명에 따른 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기의 사용 상태도이다. 1 is a schematic configuration diagram showing a water collector used in a semiconductor device factory according to the present invention, and FIG. 2 is a state diagram of a water collector used in a semiconductor device factory according to the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기(1)는, 상면이 플랜지 나사 결합되어 개방되는 원통형의 본체(10) 구조를 가진다. 상기 본체(10)의 하면에는 용이한 이동을 돕는 복수개의 바퀴(11)와, 본체(10) 상에 흡입구(12), 배출구(13), 점검관(14), 차단막(15), 토출구(16)로 구성된다.As shown in FIG. 2, the water collector 1 used in the semiconductor device factory has a structure of a cylindrical body 10 whose upper surface is opened by flange screw coupling. The lower surface of the main body 10 includes a plurality of wheels 11 for easy movement, and an inlet 12, an outlet 13, an inspection tube 14, a barrier film 15, and an outlet port on the body 10. 16).

흡입구(12)는 본체(10)의 수직면 일측에 설치되어 물과 대기중의 공기를 함께 흡입할 수 있게 설치되고, 외측으로 향한 일단부는 물흡입용 호스(20)와의 연결을 용이하게 하기 위한 흡입변(wall mount type inlet valve)을 부착하고 본체(10)의 내측으로는 90°의 곡관으로 이어져 흡입구(12)의 흡입 방향을 전환시켜 본체(10)의 바닥면을 향하도록 하여 집수된 물이 비산되는 현상을 최소화시킨다.The suction port 12 is installed on one side of the vertical surface of the main body 10 so that water and air in the air can be sucked together, and one end facing outwards to facilitate the connection with the water suction hose 20. Water is collected by attaching a wall mount type inlet valve to the inside of the main body 10 to a 90 ° curved pipe to change the suction direction of the suction port 12 to face the bottom surface of the main body 10. Minimize scattering.

그리고 점검관(14)은 투명관으로 본체(10)의 상, 하부를 "ㄷ"자로 연결하여 수시로 집수기(1) 내로 흡입되는 수위를 확인할 수 있다.In addition, the inspection tube 14 may connect the upper and lower portions of the main body 10 to the transparent tube by the letter "c" to check the water level sucked into the water collector 1 at any time.

배출구(13)는 본체(10) 수직면의 하부에 밸브로 설치되어 집수된 물을 신속히 배출한다.The discharge port 13 is installed as a valve in the lower portion of the vertical surface of the main body 10 to quickly discharge the collected water.

그리고 본체(10)의 내측 상부에 흡입된 물과 분리된 공기중에 비산되어 존재하는 잔류수를 분리하는 차단막(15)이 설치된다. 차단막(15)은 잔류수 상태의 물이 토출구(16)를 통하여 배출되지 않도록 부직포를 이용하며, 오염된 차단막(15)은 교체가 가능하게 설치된다.In addition, a blocking film 15 is installed on the inner upper portion of the main body 10 to separate residual water scattered in the separated air. The blocking film 15 uses a nonwoven fabric so that water in the residual water state is not discharged through the discharge port 16, and the contaminated blocking film 15 is installed to be replaced.

상기 차단막(15)을 통과한 공기가 배출될 수 있도록 본체(10)의 상부면에 돌출 형성된 토출구(16)가 형성된다. 토출구(16)는 도 2에 도시된 바와 같이, 토출변에 연결된 호스로 하여 진공펌프(30)에 연결 설치된다.The discharge port 16 protruding from the upper surface of the main body 10 is formed so that the air passing through the blocking film 15 can be discharged. As shown in FIG. 2, the discharge port 16 is connected to the vacuum pump 30 as a hose connected to the discharge side.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기의 작동을 설명하면 다음과 같다. Referring to the operation of the collector used in the semiconductor device factory according to the present invention configured as described above are as follows.                     

도 2를 참조하면, 반도체소자 공장내에서 화학약품의 누출 사고가 발생하면 누출수의 제거를 위하여 먼저, 집수기(1)의 토출구(16)에 진공펌프(30)에서 분기된 호스를 연결한다. 이와 같이 흡입구(12)에도 별도의 물흡입용 호스(20)를 연결한다.Referring to FIG. 2, when a chemical leakage accident occurs in a semiconductor device factory, a hose branched from the vacuum pump 30 is first connected to the discharge port 16 of the collector 1 to remove the leaked water. . In this way, a separate water suction hose 20 is also connected to the suction port 12.

그리고 작업자가 물흡입용 호스(20)를 누출수 근접부에 갔다대면 진공펌프(30)의 흡입력이 토출구(16)와 집수기(1) 본체(10)의 흡입구(12)로 이어져 외부의 누출수를 빨아들이게 된다.When the worker moves the water suction hose 20 to the vicinity of the leaked water, the suction force of the vacuum pump 30 is led to the discharge port 16 and the suction port 12 of the water collector 1 main body 10 to leak externally. It sucks the water.

흡입구(12)를 통하여 본체(10) 내부로 유입된 누출수는 차단막(15)에 의하여 물과 공기로 분리되고 공기는 토출구(16)를 통하여 배출되고, 본체(10)의 하부에 고인 물은 배출구(13)를 통하여 외부로 배출된다.The leaked water introduced into the main body 10 through the inlet 12 is separated into water and air by the blocking membrane 15, and the air is discharged through the discharge port 16, and water accumulated in the lower part of the main body 10 is It is discharged to the outside through the discharge port (13).

따라서, 크린룸의 진공펌프(30)를 이용하여 누출수를 수거할 수 있는 별도의 집수기(1)를 제작하여 누수 발생시 사용하여 작업 시간의 절감 및 작업자의 안전 유지에 탁월한 효과가 있다.Therefore, by using a vacuum pump 30 of the clean room to produce a separate collector (1) that can collect the leakage water is used when the leakage occurs has an excellent effect in reducing work time and maintaining the safety of the worker.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일실시 예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다. In the above description, it should be understood that those skilled in the art can make modifications and changes to the present invention without changing the gist of the present invention as merely illustrative of a preferred embodiment of the present invention.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기는, 반도체소자 공장에서 발생하는 물 또는 화학약품이 누출되었을 시 신속하고 안전하게 누출수를 처리하여 누출수에 의한 2차 사고유발을 방지하고, 유독성 또는 환경유해 물질로 인한 환경오염 및 작업자의 안전을 도모하는 효과가 있다.
As described above, the water collector used in the semiconductor device factory according to the present invention treats the leak quickly and safely when water or chemicals generated in the semiconductor device factory leak, causing secondary accidents due to the leak. It is effective in preventing environmental pollution caused by toxic or environmentally harmful substances and worker's safety.

Claims (3)

반도체소자 공장에서 발생하는 누출수를 집수 및 제거하기 위한 집수기에 있어서;A collector for collecting and removing the leak water generated in the semiconductor device factory; 상기 원통형 본체의 집수기는,The collector of the cylindrical body, 상기 본체의 수직면 일측에 설치되어 물과 대기중의 공기를 같이 흡입하는 흡입구와; A suction port installed at one side of the vertical surface of the main body to suck water and air in the air together; 상기 흡입구의 대향면에 길이 방향으로 "ㄷ"자 설치되어 내부의 수위 집수 상태를 관찰할 수 있는 점검관과;An inspection tube installed on the opposite surface of the suction port in a longitudinal direction and configured to observe an internal water level collection state; 상기 본체의 수직면 하부 일측에 설치되어 집수된 내부 물을 배출하기 위한 배출관과;A discharge pipe installed at one side of the lower vertical surface of the main body to discharge the collected internal water; 상기 본체의 내측 상부에 설치되어 흡입된 물과 분리된 공기에 비산되어 있는 잔류수를 제거하는 차단막과;A blocking membrane installed at an inner upper portion of the main body to remove residual water scattered in the air separated from the sucked water; 상기 차단막에서 분리된 공기를 토출시킬 수 있도록 상기 본체의 상부면에 설치되는 토출구로; 구성된 것을 특징으로 하는 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기.A discharge port provided on an upper surface of the main body to discharge the air separated from the blocking film; A water collector used in a semiconductor device factory, characterized in that the configuration. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 본체의 하면에 이동을 위한 복수개의 바퀴가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기.Water collector used in a semiconductor device factory, characterized in that a plurality of wheels for movement on the lower surface of the main body is installed. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 점검관은, 투명관으로 설치된 것을 특징으로 하는 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기.The inspection tube is a water collector used in a semiconductor device factory, characterized in that installed in the transparent tube.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101005323B1 (en) 2008-08-29 2011-01-05 한양이엔지 주식회사 A Recovery Device of Chemical Agents
CN102760634A (en) * 2012-07-26 2012-10-31 上海宏力半导体制造有限公司 Semiconductor manufacture system
US20210127597A1 (en) * 2018-09-12 2021-05-06 Korea Wheel Corporation Work room system for plant factory

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100895963B1 (en) * 2007-09-07 2009-05-07 주식회사 케이씨텍 Wet station for treating wafers

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5465455A (en) 1994-05-27 1995-11-14 Allen; Harold Overload controlled wet and dry vacuum apparatus
JP2001095738A (en) 1999-09-30 2001-04-10 Amano Corp Air and water separator floor washer
JP2001095731A (en) 1999-09-30 2001-04-10 Amano Corp Float equipment for water suction apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5465455A (en) 1994-05-27 1995-11-14 Allen; Harold Overload controlled wet and dry vacuum apparatus
JP2001095738A (en) 1999-09-30 2001-04-10 Amano Corp Air and water separator floor washer
JP2001095731A (en) 1999-09-30 2001-04-10 Amano Corp Float equipment for water suction apparatus

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101005323B1 (en) 2008-08-29 2011-01-05 한양이엔지 주식회사 A Recovery Device of Chemical Agents
CN102760634A (en) * 2012-07-26 2012-10-31 上海宏力半导体制造有限公司 Semiconductor manufacture system
US20210127597A1 (en) * 2018-09-12 2021-05-06 Korea Wheel Corporation Work room system for plant factory

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KR20040059739A (en) 2004-07-06

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