KR100636424B1 - The preparation method of an adsorbent and the purification method of gases using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 흡착제의 제조방법 및 이를 이용한 기체의 정제방법에 관한 것으로, 상세하게는 금속 전구체를 무기 담체에 담지할 때 폴리히드록시 알콜과 킬레이팅제를 추가한 후 가열하고, 건조, 소성 및 환원하여 금속 이온이 금속 상태로 전환된 흡착제의 제조방법 및 이를 이용한 기체의 정제방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing an adsorbent and a method for purifying a gas using the same. Specifically, when a metal precursor is supported on an inorganic carrier, the polyhydroxy alcohol and the chelating agent are added and then heated, dried, calcined and reduced. The present invention relates to a method for preparing an adsorbent in which metal ions are converted into a metal state and a method for purifying a gas using the same.

본 발명에 따른 흡착제의 제조방법은 금속 입자 크기를 감소시키고 금속의 분산도를 향상시킴으로써, 불활성 기체에 포함된 산소, 이산화탄소 및 수분 등의 불순물을 한번에 고순도로 정제하는데 효율적으로 이용할 수 있다.The method for preparing the adsorbent according to the present invention can be efficiently used to purify impurities, such as oxygen, carbon dioxide, and water, contained in an inert gas with high purity at a time by reducing the metal particle size and improving the dispersibility of the metal.

Description

흡착제의 제조방법 및 이를 이용한 기체의 정제방법{The preparation method of an adsorbent and the purification method of gases using the same}The preparation method of an adsorbent and the purification method of gases using the same}

본 발명은 흡착제의 제조방법 및 이를 이용한 불활성 기체의 정제방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing an adsorbent and a method for purifying an inert gas using the same.

반도체 공정 등에 사용되는 질소, 헬륨과 같은 불활성 기체는 순도가 매우 중요하며 순도가 낮을 시에는 불량률이 현저히 높아져서 생산성이 매우 저하된다. 예를 들어 질소 내의 일산화탄소나 수소 등의 불순물의 농도가 5 ppb 이상이면 실리콘 기판 제조 공정의 불량률이 크게 높아진다(미국특허 제 6,572,681호, 대한민국 등록특허 제 10-300918호). 따라서, 질소 등의 불활성 기체 외에 공기, 수소, 이산화탄소, 수소 함유 기체(hydride gas; H2, NH3, PH3, AsH3, B2H2, SiH4, HCl, HBr 등) 및 염소, 브롬 등의 기체는 반도체 공정에 사용되기 위해서는 매우 고순도로 정제되어야 하며, 많은 경우 흡착으로 제거된다.Inert gases such as nitrogen and helium, which are used in semiconductor processes, are very important in purity, and when the purity is low, the defect rate is significantly increased, resulting in a very low productivity. For example, when the concentration of impurities such as carbon monoxide and hydrogen in nitrogen is 5 ppb or more, the defect rate of the silicon substrate manufacturing process is greatly increased (US Pat. No. 6,572,681 and Korean Patent No. 10-300918). Therefore, in addition to inert gas such as nitrogen, air, hydrogen, carbon dioxide, hydrogen-containing gas (H 2 , NH 3 , PH 3 , AsH 3 , B 2 H 2 , SiH 4 , HCl, HBr, etc.) and gases such as chlorine and bromine must be purified to very high purity in order to be used in semiconductor processes, and in many cases are removed by adsorption.

미국특허 제 6,572,681호에는 Mn, Fe, Ni, Cu, Ag, Pd, Co, Pt, Au이 이온 교환된 제올라이트를 사용하여 일산화탄소와 수소를 흡착하여 제거함으로써 질소를 정제하는 방법이 기재되어 있으며, 미국특허 제 6,088,301호에는 실리카 함량이 낮은 X형 제올라이트를 이용하여 질소, 산소, 이산화탄소, 일산화탄소는 물론 탄화수소를 흡착하여 아르곤이나 헬륨의 순도를 높이는 방법에 대하여 기재되어 있다. 대한민국 등록특허 제 10-300918호에는 질소 또는 산소의 정제를 위해 일산화탄소를 산화하여 이산화탄소로 전환하고, 수소는 담지된 백금 또는 팔라듐 촉매를 이용하여 물로 산화한 후 흡착제를 이용하여 제거하는 방법에 관하여 기재되어 있다. 그러나 이산화탄소의 제거를 위해 Na-X(또는 Ca-X) 제올라이트를 사용하고, 수분의 제거를 위해 실리카겔, 활성화된 알루미나 또는 제올라이트를 사용하는 등 공정이 복잡한 단점이 있다. 미국특허 제 6,408,849호에는 헬륨과 크세논 같은 불활성 기체에서 이산화탄소 및 산소는 흡착하여 제거하고 질소는 게터(getter)를 이용하여 정제하는 방법이 기재되어 있다.U.S. Patent No. 6,572,681 describes a method for purifying nitrogen by adsorbing and removing carbon monoxide and hydrogen using zeolites in which Mn, Fe, Ni, Cu, Ag, Pd, Co, Pt, Au are ion exchanged. Patent 6,088,301 describes a method of increasing the purity of argon or helium by adsorbing nitrogen, oxygen, carbon dioxide, carbon monoxide, as well as hydrocarbons using X-type zeolite with low silica content. Korean Patent No. 10-300918 discloses a method of oxidizing carbon monoxide to carbon dioxide for purification of nitrogen or oxygen, and oxidizing hydrogen to water using a supported platinum or palladium catalyst and then removing it using an adsorbent. It is. However, Na-X (or Ca-X) zeolites are used to remove carbon dioxide, and silica gel, activated alumina or zeolites are used to remove moisture. U. S. Patent No. 6,408, 849 describes a process for adsorption of carbon dioxide and oxygen and removal of nitrogen using a getter from inert gases such as helium and xenon.

공기 정화용 기술은 다수 알려져 있으며, 제거하고자 하는 불순물에 따라 여러 종류의 흡착제가 사용될 수 있다. 예를 들어, 미국특허 제 6,358,302호에는 NOX, 탄화수소 등의 제거를 위해 제올라이트나 알루미나를 사용하는 것이 기재되어 있으며, 미국특허 제 6,238,460호 및 제 6,106,593호에는 이산화탄소, 수분, NOX 및 에틸렌의 제거에 알루미나 및 제올라이트를 사용하는 것이 기재되어 있다. 또한 미국특허 제 6,074,621호에는 일산화탄소와 수소는 알루미나에 담지된 팔라디움 또는 백금 촉매를 이용하여 산화하여 각기 이산화탄소와 수분으로 전환한 후, 흡착 제거 하는 공정에 관하여 기재되어 있다. 미국특허 제 6,391,090호에는 전기음성도가 낮은 금속, 실리카 함량이 높은 제올라이트 및 후전이 금속 성분을 이용하여 물, 알콜, NOX, SOX, 할로겐, 아민, 탄화수소, COX, 실록산(siloxane) 등을 흡착하여 고순도의 압축공기, 헬륨, 질소, 헬륨/산소 등을 얻는 방법에 관하여 기재되어 있다. 미국특허 제 6,464,756호, 제 6,261,528호 및 제 5,558,844호에는, 수소 기체는 실리카 함량이 낮은 LiCaX 같은 X형 제올라이트, 금속 히드리드, 니켈 및 지르코늄 금속을 이용하여 정제될 수 있다고 기재되어 있다. 미국특허 제 6,511,528호에는 이산화탄소의 정제를 위한 탄소, 황 및 질소 원자를 함유한 화합물의 제거를 위해서 제올라이트, 금속산화물, 실리카 및 활성탄 등을 사용한다는 것이 기재되어 있으며, 미국특허 제 6,361,696호에는 탄화수소를 제거하기 위해서 실리카 함량이 높은 Y, ZSM-5, 모더나이트 등의 제올라이트를 사용하는 방법이 기재되어 있다. 미국특허 제 6,099,619호에는 황이나 산소 및 유기물은 AgX 혹은 MFI 형 제올라이트를 이용하여 제거하여 고순도의 이산화탄소를 얻는 방법이 기재되어 있다. 미국특허 제 6,059,859호에는 티타니아, 지르코니아, 이트리아, 바나디아 등을 이용하여 수분을 제거한 고순도의 이산화탄소를 제조하는 방법에 관하여 기재되어 있다.Many techniques for purifying air are known, and various kinds of adsorbents may be used depending on the impurities to be removed. For example, US Pat. No. 6,358,302 describes the use of zeolites or alumina for the removal of NO X , hydrocarbons, and the like, while US Pat. Nos. 6,238,460 and 6,106,593 remove carbon dioxide, water, NO X and ethylene. The use of alumina and zeolites is described. In addition, US Pat. No. 6,074,621 describes carbon monoxide and hydrogen being oxidized using a palladium or platinum catalyst supported on alumina to be converted to carbon dioxide and water, respectively, and then adsorbed and removed. U.S. Patent No. 6,391,090 discloses water, alcohol, NO X , SO X , halogen, amine, hydrocarbon, CO X , siloxane, etc. using low electronegativity metal, high silica content zeolite and post-transition metal components. It is described about a method of adsorbing to obtain compressed air of high purity, helium, nitrogen, helium / oxygen and the like. US Pat. Nos. 6,464,756, 6,261,528 and 5,558,844 describe that hydrogen gas can be purified using X-type zeolites such as LiCaX, metal hydrides, nickel and zirconium metals with low silica content. US Pat. No. 6,511,528 describes the use of zeolites, metal oxides, silica, activated carbon, and the like for the removal of compounds containing carbon, sulfur and nitrogen atoms for the purification of carbon dioxide. US Pat. No. 6,361,696 describes hydrocarbons. In order to remove, a method using a zeolite such as Y, ZSM-5, mordenite having a high silica content is described. U.S. Patent No. 6,099,619 describes a method for obtaining high purity carbon dioxide by removing sulfur, oxygen and organics using AgX or MFI zeolite. U. S. Patent No. 6,059, 859 describes a method for producing high purity carbon dioxide from which moisture is removed using titania, zirconia, yttria, vanadia and the like.

흡착을 이용한 염화수소, 브롬화수소 등의 수소화물의 정제방법에 관하여도 알려져 있다. 미국특허 제 6,461,411호에는 알루미나를 사용하여 SiH4, H2S, GeH4 등을 제거하는 방법에 관하여 기재되어 있으며, 미국특허 제 6,395,070호 및 제 6,110,258호에는 실리카 함량이 높은 제올라이트를 탈수 및 초가열하여 미량의 수 분을 제거하는 방법에 관하여 기재되어 있다. 미국특허 제 6,241,955호 및 제 6,221,132호에는 MnOX, MoOX 등의 금속 산화물 또는 활성탄에 담지된 MgX2 같은 흡착제를 이용하여 염화수소, 브롬화수소 등의 수소화물을 정제하는 방법에 관하여 기재되어 있다. 미국특허 제 5,910,292호에는, 염소와 브롬 등은 실리카 함량이 높은 제올라이트를 이용하여 수분을 흡착하여 제거함으로써 순도를 높이는 방법에 관하여 기재되어 있다.A method for purifying hydrides such as hydrogen chloride and hydrogen bromide using adsorption is also known. US Pat. No. 6,461,411 describes a method for removing SiH 4 , H 2 S, GeH 4, etc. using alumina. US Pat. Nos. 6,395,070 and 6,110,258 dehydrate and superheat zeolites with high silica content. The method for removing trace amounts of water is described. US Pat. Nos. 6,241,955 and 6,221,132 describe methods for purifying hydrides such as hydrogen chloride and hydrogen bromide using adsorbents such as metal oxides such as MnO X , MoO X or MgX 2 supported on activated carbon. U. S. Patent No. 5,910, 292 discloses a method of increasing purity by adsorbing and removing moisture using a zeolite having a high silica content, such as chlorine and bromine.

그러나 상기에 언급한 질소 및 헬륨과 같은 불활성 기체를 정제하는 방법에 있어서, 여러 종류의 흡착제 또는 촉매를 사용함으로써 공정이 복잡해지거나 흡착제의 고온 처리 등의 전처리가 추가로 필요하고, 활성탄 등에 담지된 금속수화물 등은 발화의 가능성이 항상 존재하므로 많은 문제점을 내포하고 있다.However, in the above-mentioned method for purifying inert gas such as nitrogen and helium, the process is complicated by using various kinds of adsorbents or catalysts, or further pretreatment such as high temperature treatment of the adsorbent is required, and the metal supported on activated carbon or the like Hydrates and the like have many problems since there is always a possibility of ignition.

따라서, 불활성 기체를 정제함에 있어 여러 종류의 불순물을 하나의 흡착제로 제거할 수 있으며, 안정하고 비교적 저가인 흡착제의 개발 필요성이 요구되고 있다.Therefore, in purifying an inert gas, various kinds of impurities can be removed with one adsorbent, and there is a need for developing a stable and relatively inexpensive adsorbent.

이에, 본 발명자들은 상기 문제점을 해결하기 위하여 금속 전구체를 무기 담체에 담지할 때 폴리히드록시 알콜과 킬레이팅제를 추가한 후 가열하고, 건조, 소성 및 환원하여 금속 이온이 금속 상태로 전환된 흡착제를 제조하였으며, 이렇게 제조된 흡착제가 금속 입자 크기를 감소시키고 금속의 분산도를 향상시킴으로, 불활성 기체에 포함된 산소, 이산화탄소 및 수분 등의 불순물을 고순도로 정제하는데 효과가 있음을 확인하고 본 발명을 완성하였다.Accordingly, the present inventors add a polyhydroxy alcohol and a chelating agent when the metal precursor is supported on an inorganic carrier to solve the above problems, and then heated, dried, calcined and reduced to convert the metal ions into a metal state By adsorbing the adsorbent thus prepared to reduce the metal particle size and improve the dispersibility of the metal, it was confirmed that it is effective in purifying impurities, such as oxygen, carbon dioxide and moisture contained in the inert gas with high purity and the present invention Completed.

본 발명은 담지된 금속의 분산도를 높이고 입자 크기를 감소시켜 흡착 효율을 향상시킨 흡착제의 제조방법을 제공하고자 한다.The present invention is to provide a method for producing an adsorbent which improves the adsorption efficiency by increasing the degree of dispersion of the supported metal and reducing the particle size.

또한, 본 발명은 상기 제조방법에 의해 제조된 흡착제를 이용한 기체의 정제방법을 제공하고자 한다.
In addition, the present invention is to provide a method for purifying a gas using the adsorbent prepared by the above production method.

본 발명은 흡착제의 제조방법을 제공한다.The present invention provides a method for preparing the adsorbent.

또한, 본 발명은 상기 제조방법에 의해 제조된 흡착제를 이용한 기체의 정제방법을 제공한다.The present invention also provides a method for purifying a gas using an adsorbent prepared by the above method.

이하, 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 흡착제의 제조방법은The preparation method of the adsorbent of the present invention

1) 금속 전구체를 무기 담체에 담지할 때 폴리히드록시 알콜과 킬레이팅제를 추가한 후 가열하는 단계(제 1단계),1) adding polyhydroxy alcohol and a chelating agent when heating the metal precursor on the inorganic carrier (first step),

2) 상기 담지된 금속 전구체를 건조 및 소성하는 단계(제 2단계), 및2) drying and baking the supported metal precursor (second step), and

3) 상기 담지된 금속 전구체를 환원하여 금속으로 전환하는 단계(제 3단계)로 이루어진다.3) converting the supported metal precursor to a metal (third step).

본 발명의 흡착제의 제조방법을 단계별로 구체적으로 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the method of preparing the adsorbent of the present invention will be described in detail.

상기 제 1단계에서, 금속 성분은 산소, 이산화탄소 및 수분의 흡착 특성이 있는 금속은 어떠한 것이라도 가능하며, 팔라듐, 백금, 은, 니켈 및 지르코늄 등을 사용할 수 있고, 특히 니켈이 제조비용 측면에서 바람직하다. In the first step, the metal component may be any metal having adsorption properties of oxygen, carbon dioxide, and water, and palladium, platinum, silver, nickel, zirconium, and the like may be used, and nickel is particularly preferable in terms of manufacturing cost. Do.

상기 금속 전구체는 어떠한 것이라도 무방하나 제조 공정이 간편하고 편의성 때문에 금속염이 바람직하며, 금속염으로는 질산염, 염화염, 황산염, 탄산염 및 수산화염 등을 포함한다.The metal precursor may be any, but a metal salt is preferable because of the simplicity and convenience of the manufacturing process, and the metal salt includes nitrate, chloride, sulfate, carbonate, hydroxide, and the like.

상기 담체로는 소성 및 환원 단계에서의 고온에서 잘 견딜 수 있고, 표면적이 넓어 금속 분산도를 높일 수 있는 것이라면 어떠한 것이라도 가능하며, 실리카, 알루미나, 실리카알루미나, 활성탄 등의 탄소 및 제올라이트 등의 무기 담체가 바람직하다. 본 발명에서는 표면적이 넓고 가격이 저렴한 실리카가 특히 바람직하다.The carrier may be any material as long as it can withstand high temperatures in the calcination and reduction steps and has a wide surface area to increase metal dispersibility. Inorganic materials such as carbon and zeolites such as silica, alumina, silica alumina and activated carbon may be used. Carriers are preferred. In the present invention, silica having a large surface area and low cost is particularly preferable.

상기 금속 전구체를 무기 담체에 담지하는 방법으로는 침전법 (precipitation) 또는 함침법(impregnation)이 바람직하며, 본 발명에서는 조작이 간편하며 편리한 함침법이 특히 바람직하다.Precipitation or impregnation is preferable as a method of supporting the metal precursor on the inorganic carrier, and in the present invention, a simple and convenient impregnation method is particularly preferable.

본 발명에서는 금속 성분의 분산도를 높이고 입자 크기를 작게 하기 위하여, 금속 전구체를 무기 담체에 담지할 때 폴리히드록시 알콜과 킬레이팅제를 가한 다음 가열한다. 상기 폴리히드록시 알콜은 에틸렌클리콜 또는 프로필렌글리콜 등이 바람직하고, 킬레이팅제는 구연산 또는 옥살산이 바람직하다. 특히 폴리히드록시 알콜로는 에틸렌글리콜, 킬레이팅제로는 구연산이 더욱 바람직한데, 이는 이들 물질이 편리할 뿐 아니라 경제적인 측면에서도 저렴하기 때문이다. 가열에 의해 폴리히드록시 알콜과 킬레이팅제 간의 고분자가 얻어지며, 이런 고분자를 형성하는 방법은 고온으로 처리하는 어떠한 방법도 가능하나, 고온에서 회전증발기를 이용하여 진공으로 물을 증발시켜 평형을 고분자 쪽으로 이동시켜 고분자화를 촉진시키는 방법이 효율적이다. 가열 온도는 25~100℃가 바람직하며, 온도가 25℃ 이하이면 공정에 과도한 시간이 소요되고, 100℃ 이상이면 증발시키고자 하는 물질 외에 담체 및 금속 전구체가 안정적으로 유지되지 못하여 손실되기 쉽다.In the present invention, in order to increase the dispersibility of the metal component and to reduce the particle size, polyhydroxy alcohol and a chelating agent are added and then heated when the metal precursor is supported on the inorganic carrier. The polyhydroxy alcohol is preferably ethylene glycol or propylene glycol, and the chelating agent is preferably citric acid or oxalic acid. In particular, ethylene glycol as polyhydroxy alcohol and citric acid as chelating agent are more preferable because these materials are not only convenient but also economically inexpensive. A polymer is obtained between the polyhydroxy alcohol and the chelating agent by heating, and any method of forming such a polymer may be performed at a high temperature. However, the polymer may be equilibrated by evaporating water in a vacuum using a rotary evaporator at a high temperature. It is efficient to move toward to promote polymerisation. The heating temperature is preferably 25 to 100 ° C., if the temperature is 25 ° C. or less, excessive time is required for the process, and if the temperature is 100 ° C. or more, the carrier and the metal precursor other than the material to be evaporated are not easily maintained and are easily lost.

상기 제 2단계에서, 담지된 금속 전구체, 담체, 고분자화된 폴리히드록시 알콜 및 킬레이팅제를 건조하는 방법으로는 가열, 진공 건조, 마이크로파를 이용한 건조 등이 있으며, 특히 건조가 신속하고 균일한 마이크로파를 이용한 건조가 바람직하다. In the second step, a method of drying a supported metal precursor, a carrier, a polymerized polyhydroxy alcohol and a chelating agent includes heating, vacuum drying, microwave drying, and the like. Drying with microwaves is preferred.

흡착제 제조에 사용된 유기물은 고온 소성으로 제거될 수 있으며, 어떠한 소성 방법도 사용가능하며 전기로 또는 마이크로파 소성로를 이용하여 300~1000℃에서 가열하여 분해할 수 있다. 상기 온도가 300℃ 이하이면 소성에 많은 시간이 걸려 실용적이지 못하고, 1000℃ 이상이면 입자 간의 뭉침 현상이 발생할 수 있다. 소성로는 공기 또는 산소 분위기에서 유지하면서 소성하여 유기물을 완전히 제거할 수 있고, 질소 및 헬륨 등의 불활성 기체 분위기에서 유지하여 유기물을 탄소로 전환시켜 담체 및 흡착제로 작용하게 할 수도 있다.The organic material used in the preparation of the adsorbent can be removed by high temperature firing, any firing method can be used and can be decomposed by heating at 300 ~ 1000 ° C. using an electric furnace or a microwave firing furnace. If the temperature is 300 ° C or less, the baking takes a long time and is not practical, and if it is 1000 ° C or more, aggregation between particles may occur. The kiln may be fired while maintaining in an air or oxygen atmosphere to completely remove organic matters, and may be maintained in an inert gas atmosphere such as nitrogen and helium to convert organic matter to carbon to act as a carrier and an adsorbent.

상기 제 3단계에서, 상기 담지된 금속 산화물을 환원하여 금속으로 전환하는데는 어떠한 환원방법도 적용 가능하며, NaBH4, KBH4, 포름알데히드, 히드라진 등의 환원제를 사용할 수 있으나 수소를 이용하여 고온에서 환원하는 것이 가장 간편하고 바람직하다. 이때, 환원 온도는 0~600℃ 범위가 바람직하며, 온도가 0℃ 이하이 면 환원 반응이 너무 느려져서 실용적이지 못하고, 600℃ 이상이면 금속 입자 간의 뭉침 현상이 발생할 수 있다. In the third step, any reducing method may be applied to reduce the supported metal oxide to metal, and a reducing agent such as NaBH 4 , KBH 4 , formaldehyde, or hydrazine may be used, but at high temperature using hydrogen. Reducing is most simple and preferred. At this time, the reduction temperature is preferably in the range of 0 ~ 600 ℃, if the temperature is 0 ℃ or less, the reduction reaction is too slow to be practical, if the temperature is 600 ℃ or more may occur agglomeration between the metal particles.

상기 제조된 흡착제를 이용하여 불활성 기체에 존재하는 불순물을 정제하는 방법은 어떠한 방법이라도 적용 가능하며, 압력에 견디는 원통형으로 된 용기에 흡착제를 알갱이로 성형하여 채운 뒤 불활성 기체를 통과시켜 불순물을 제거한다. 흡착 온도와 압력은 어떠한 조건이라도 무관하나 온도는 상온에서 운전하는 것이 비용면에서 유리하고, 압력은 공정조건에 따라 변화가 가능하다.The method for purifying the impurities present in the inert gas using the prepared adsorbent can be applied to any method, and after filling the granules filled with the adsorbent into granules to withstand pressure, passing the inert gas to remove the impurities. . Adsorption temperature and pressure may be any condition, but operating temperature at room temperature is advantageous in terms of cost, and the pressure can be changed depending on the process conditions.

본 발명에 따른 흡착제의 금속 입자 크기는 20~30㎚로, 에틸렌글리콜과 구연산을 사용하지 않은 흡착제의 금속 입자 크기(51㎚)보다 현저히 작게 나타난다.The metal particle size of the adsorbent according to the present invention is 20-30 nm, which is markedly smaller than the metal particle size (51 nm) of the adsorbent without ethylene glycol and citric acid.

또한, 본 발명에 따른 흡착제의 흡착량은 산소 3.8~4.3 cc/g, 이산화탄소 3.6~4.7 cc/g, 수증기 56~102 cc/g 으로 나타나며, 에틸렌글리콜과 구연산을 사용하지 않은 흡착제의 흡착량은 산소 2.7 cc/g, 이산화탄소 3.0 cc/g, 수증기 66 cc/g 으로 나타나므로, 본 발명에 따른 흡착제의 흡착량이 크게 향상됨을 알 수 있다.In addition, the adsorption amount of the adsorbent according to the present invention is represented by oxygen 3.8 ~ 4.3 cc / g, carbon dioxide 3.6 ~ 4.7 cc / g, water vapor 56 ~ 102 cc / g, the adsorption amount of the adsorbent without using ethylene glycol and citric acid Since 2.7 cc / g of oxygen, 3.0 cc / g of carbon dioxide, and 66 cc / g of water vapor appear, it can be seen that the adsorption amount of the adsorbent according to the present invention is greatly improved.

따라서, 본 발명에 따른 흡착제는 금속 입자 크기를 감소시키고 금속의 분산도를 향상시킴으로, 불활성 기체에 포함된 산소, 이산화탄소 및 수분 등의 불순물을 고순도로 정제하는데 효율적으로 이용할 수 있다.Therefore, the adsorbent according to the present invention can be effectively used to purify impurities with high purity, such as oxygen, carbon dioxide, and moisture contained in the inert gas by reducing the metal particle size and improving the dispersibility of the metal.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예 및 실험예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예 및 실험예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐, 실시예 및 실험예에 의해 본 발명의 내용이 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples and experimental examples are presented to help understand the present invention. However, the following Examples and Experimental Examples are provided only to more easily understand the present invention, and the contents of the present invention are not limited by the Examples and Experimental Examples.

실시예 1Example 1 : 흡착제의 제조 : Preparation of Adsorbent

니켈니트레이트 육수화물(Ni(NO3)2·6H20) 19.83g 을 증류수 50cc에 녹인 후 실리카(fumed silica) 2g을 천천히 가하여 1시간 동안 잘 섞어 주었다. 여기에 에틸렌글리콜 10g, 구연산 10g을 연속하여 가한 후 실온에서 1시간 동안 더 저어준 후 회전 증발기를 이용하여 60℃에서 끈끈한 상태가 될 때까지 물을 증발시켰다. 그 후, 가정용 전자레인지를 이용하여 2분간 추가 건조하여 딱딱한 상태가 되도록 하였다. 이어서 전기로를 이용하여 공기를 흘려주며 600℃에서 3시간 동안 유지하여 유기물들을 제거하고 실리카에 니켈산화물이 담지된 흡착제 전구체를 얻었다.19.83 g of nickel nitrate hexahydrate (Ni (NO 3 ) 2 · 6H 2 0) was dissolved in 50 cc of distilled water, and then slowly added 2 g of silica (fumed silica) and mixed well for 1 hour. 10 g of ethylene glycol and 10 g of citric acid were continuously added thereto, followed by further stirring at room temperature for 1 hour, and then water was evaporated until it became sticky at 60 ° C. using a rotary evaporator. Thereafter, the mixture was further dried for 2 minutes using a microwave oven to obtain a hard state. Subsequently, air was flowed using an electric furnace and maintained at 600 ° C. for 3 hours to remove organics and to obtain an adsorbent precursor in which nickel oxide was supported on silica.

상기에서 얻은 흡착제 전구체에 압력을 가하여 알갱이로 만든 후, 약 1㎜ 크기로 분쇄하고 고정층 반응기에 채웠다. 그런 다음 400℃에서 수소를 이용하여 니켈 산화물을 환원시켜 니켈이 담체에 담지된 흡착제를 제조하였다.After the granules were granulated by applying pressure to the adsorbent precursor obtained above, they were ground to a size of about 1 mm and filled into a fixed bed reactor. Then, nickel oxide was reduced using hydrogen at 400 ° C. to prepare an adsorbent in which nickel was supported on a carrier.

실시예 2Example 2

담체로 실리카 대신 제올라이트 Na-X를 사용하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 흡착제를 제조하였다.An adsorbent was prepared in the same manner as in Example 1, except that zeolite Na-X was used instead of silica as a carrier.

실시예 3Example 3

담체로 실리카 대신 제올라이트 Na-Y를 사용하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 흡착제를 제조하였다.An adsorbent was prepared in the same manner as in Example 1, except that zeolite Na-Y was used instead of silica as a carrier.

실시예 4Example 4

담체로 실리카 대신 감마 알루미나를 사용하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 흡착제를 제조하였다.An adsorbent was prepared in the same manner as in Example 1, except that gamma alumina was used instead of silica as a carrier.

실시예 5Example 5

가정용 전자레인지 대신 전기로를 사용하여 분당 3℃의 속도로 승온하고 300℃에서 건조하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 흡착제를 제조하였다.An adsorbent was prepared in the same manner as in Example 1, except that the temperature was raised at a rate of 3 ° C. per minute and dried at 300 ° C. using an electric furnace instead of a domestic microwave oven.

실시예 6Example 6

전기로를 이용하여 열처리할 때 공기를 흘려주며 600℃에서 유지하는 대신 질소를 흘려주며 400℃에서 유지하며 유기물이 탄화되도록 하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 흡착제를 제조하였다.An adsorbent was prepared in the same manner as in Example 1, except that air was flowed through an electric furnace to maintain nitrogen at 400 ° C. instead of flowing at air and maintaining at 600 ° C. to allow the organics to be carbonized.

비교예Comparative example

에틸렌글리콜과 구연산을 가하지 않고 회전 증발기를 이용한 건조 후 바로 전기로를 이용하여 소성하는 것을 제외하고는, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 흡착제를 제조하였다.An adsorbent was prepared in the same manner as in Example 1, except that the ethylene glycol and citric acid were fired using an electric furnace immediately after drying using a rotary evaporator.

실험예Experimental Example : 흡착제의 금속 입자 크기 및 흡착 성능 평가 : Evaluation of Metal Particle Size and Adsorption Performance of Adsorbent

상기 실시예 1~6 및 비교예에서 제조한 흡착제를 관형 반응기에 넣고, 니켈 입자의 평균적인 크기를 상온에서 일산화탄소 흡착으로부터 측정하였다.The adsorbents prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples were placed in a tubular reactor, and the average size of nickel particles was measured from carbon monoxide adsorption at room temperature.

상기 실시예 1~6 및 비교예에서 제조한 흡착제를 또 다른 관형 반응기에 넣고, 실온에서 산소, 이산화탄소 및 수증기의 혼합 기체를 흡착제에 통과시켜 기체 크로마토그래피를 이용하여 흡착되지 않고 나오는 기체 성분을 분석하여 흡착 성능을 평가하였다.The adsorbents prepared in Examples 1 to 6 and Comparative Examples were placed in another tubular reactor, and a mixed gas of oxygen, carbon dioxide, and water vapor was passed through the adsorbent at room temperature to analyze gas components that were not adsorbed using gas chromatography. To evaluate the adsorption performance.

결과는 표 1에 나타내었다.The results are shown in Table 1.

담체carrier 특징Characteristic 금속입자크기 (㎚)Metal particle size (nm) 흡착량(기체-cc/흡착제-g)Adsorption amount (gas-cc / adsorbent-g) 산소Oxygen 이산화탄소carbon dioxide 수증기vapor 실시예 1Example 1 실리카Silica 2121 4.24.2 3.93.9 7474 실시예 2Example 2 Na-X 제올라이트Na-X zeolite 2424 4.14.1 4.74.7 102102 실시예 3Example 3 Na-Y 제올라이트Na-Y zeolite 2626 4.34.3 4.34.3 8989 실시예 4Example 4 알루미나Alumina 2828 4.14.1 3.63.6 5656 실시예 5Example 5 실리카Silica 건조:전기로Drying: Electric 3030 3.83.8 3.53.5 7070 실시예 6Example 6 실리카Silica 소성:400℃ 질소분위기Firing: 400 ℃ nitrogen atmosphere 2020 4.14.1 4.14.1 6666 비교예Comparative example 실리카Silica 1) 에틸렌글리콜 및 구연산 미사용, 2) 건조단계없이 소성1) without ethylene glycol and citric acid, 2) firing without drying step 5151 2.72.7 3.03.0 6666

표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 흡착제(실시예 1~6)의 금속 입자 크기는 20~30㎚로, 에틸렌글리콜과 구연산을 사용하지 않은 흡착제(비교예)의 금속 입자 크기(51㎚)보다 현저히 작게 나타났다.As shown in Table 1, the metal particle size of the adsorbent (Examples 1 to 6) of the present invention is 20 to 30 nm, and the metal particle size (51 nm) of the adsorbent (comparative example) without using ethylene glycol and citric acid. Significantly smaller.

또한, 본 발명의 흡착제(실시예 1~6)의 흡착량은 산소 3.8~4.3 cc/g, 이산화탄소 3.6~4.7 cc/g, 수증기 56~102 cc/g 으로 나타났으며, 에틸렌글리콜과 구연산을 사용하지 않은 흡착제(비교예)의 흡착량은 산소 2.7 cc/g, 이산화탄소 3.0 cc/g, 수증기 66 cc/g 으로 나타났다.In addition, the adsorption amount of the adsorbent (Examples 1 to 6) of the present invention was found to be 3.8 to 4.3 cc / g of oxygen, 3.6 to 4.7 cc / g of carbon dioxide, and 56 to 102 cc / g of water vapor, and ethylene glycol and citric acid were used. The adsorption amount of the unused adsorbent (comparative example) was 2.7 cc / g of oxygen, 3.0 cc / g of carbon dioxide, and 66 cc / g of water vapor.

따라서, 본 발명의 흡착제는 금속 입자 크기를 감소시키고 금속의 분산도를 향상시킴으로, 불활성 기체에 포함된 산소, 이산화탄소 및 수분 등의 불순물을 고순도로 정제하는데 효율적으로 이용할 수 있다.Therefore, the adsorbent of the present invention can be efficiently used to purify impurities with high purity such as oxygen, carbon dioxide, and water contained in the inert gas by reducing the metal particle size and improving the dispersibility of the metal.

본 발명에 따른 흡착제의 제조방법은 금속 입자 크기를 감소시키고 금속의 분산도를 향상시킴으로써, 불활성 기체에 포함된 산소, 이산화탄소 및 수분 등의 불순물을 한번에 고순도로 정제하는데 효율적으로 이용할 수 있다.The method for preparing the adsorbent according to the present invention can be efficiently used to purify impurities, such as oxygen, carbon dioxide, and water, contained in an inert gas with high purity at a time by reducing the metal particle size and improving the dispersibility of the metal.

Claims (9)

1) 팔라듐, 백금, 은, 니켈 및 지르코늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 금속성분을 함유하는 금속 전구체를 무기 담체에 담지할 때 폴리히드록시 알콜과 킬레이팅제를 추가한 후 25 내지 100℃의 온도에서 가열하는 단계(제 1단계),1) containing at least one metal component selected from the group consisting of palladium, platinum, silver, nickel and zirconium Adding polyhydroxy alcohol and a chelating agent when the metal precursor is supported on the inorganic carrier, and then heating at a temperature of 25 to 100 ° C. (first step), 2) 상기 담지된 금속 전구체를 300 내지 1000℃의 온도에서 건조 및 소성하는 단계(제 2단계), 및2) drying and baking the supported metal precursor at a temperature of 300 to 1000 ° C. (second step), and 3) 상기 담지된 금속 전구체를 환원하여 금속으로 전환하는 단계(제 3단계)로 이루어진 흡착제의 제조방법.3) A method for preparing an adsorbent comprising the step (3) of reducing the supported metal precursor to a metal. 제 1항에 있어서, 상기 제 1단계에서 폴리히드록시 알콜은 에틸렌글리콜 또는 프로필렌글리콜이며, 킬레이팅제는 구연산 또는 옥살산인 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법.The method of claim 1, wherein in the first step, the polyhydroxy alcohol is ethylene glycol or propylene glycol, and the chelating agent is citric acid or oxalic acid. 제 2항에 있어서, 상기 폴리히드록시 알콜은 에틸렌글리콜이며, 킬레이팅제는 구연산인 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법.The method of claim 2, wherein the polyhydroxy alcohol is ethylene glycol and the chelating agent is citric acid. 삭제delete 제 1항에 있어서, 상기 제 1단계에서 무기 담체는 실리카, 알루미나, 실리카알루미나, 탄소 및 제올라이트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법.The method of claim 1, wherein the inorganic carrier in the first step is at least one member selected from the group consisting of silica, alumina, silica alumina, carbon and zeolite. 제 1항에 있어서, 상기 제 2단계에서 건조 및 소성 시 마이크로웨이브를 이용하는 것을 특징으로 하는 흡착제의 제조방법.The method of claim 1, wherein a microwave is used for drying and firing in the second step. 제 1항 내지 제 3항, 제 5항 및 제 6항 중 어느 한 항에 의해 제조된 흡착제를 이용하여 불활성 기체에 포함된 산소, 이산화 탄소 및 수분으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 불순물을 흡착 제거하는 것을 특징으로 하는 기체의 정제 방법.Adsorption and removal of at least one impurity selected from the group consisting of oxygen, carbon dioxide and water contained in the inert gas using the adsorbent prepared according to any one of claims 1 to 3, 5 and 6. The gas purification method characterized by the above-mentioned. 제 7항에 있어서, 상기 불활성 기체는 질소 또는 헬륨인 것을 특징으로 하는 기체의 정제 방법.8. The method of claim 7, wherein the inert gas is nitrogen or helium. 삭제delete
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