KR100632717B1 - Cleaning device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 초음파 증폭기를 이용한 세정장치에 관한 것으로서, 특히 베이스의 상부 스테이지상에 연질로 이루어진 다수의 지지봉을 설치하여 소재를 올려놓을 수 있도록 하고, 상부스테이지의 직상방에 높이 및 좌우 이동이 가능하도록 세정수단을 설치하되, 상기 세정수단은 초음파 진동자에서 발생된 초음파를 증폭하여 소재에 공급하여 소재 표면에 존재하는 불순물이 활성화되어 분리되도록 하는 증폭혼이 중앙에 형성되고, 그 일측에는 불순물을 불어주기 위한 가스분사노즐을 형성하며, 타측에는 불순물을 흡입 제거하기 위한 불순물 흡입노즐을 형성하므로서, 반도체 제조공정 또는 LCD 패널 제조공정 중에 기판(웨이퍼 또는 glass) 표면에 붙어있는 불순물을 효율적으로 제거하여 세정 처리할 수 있도록 한 초음파 증폭기를 이용한 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning apparatus using an ultrasonic amplifier, and in particular, to install a plurality of support rods made of soft on the upper stage of the base so that the material can be placed, the height and the left and right to move directly above the upper stage The cleaning means is installed, and the cleaning means amplifies the ultrasonic wave generated by the ultrasonic vibrator to supply the material to the impurities present on the surface of the active material is formed is formed in the center, the impurity blows to one side By forming a gas injection nozzle for the other side, and by forming an impurity suction nozzle for suction removal of impurities on the other side, the impurities are adhered to the surface of the substrate (wafer or glass) during the semiconductor manufacturing process or LCD panel manufacturing process to efficiently remove the cleaning process Cleaning device using ultrasonic amplifier It relates.

초음파, 웨이퍼, 기판, 증폭혼, 가스분사노즐, 불순물 흡입노즐, 세정장치, 반도체, LCD,Ultrasonic, Wafer, Substrate, Amplified Horn, Gas Injection Nozzle, Impurity Suction Nozzle, Cleaning Device, Semiconductor, LCD,

Description

초음파 증폭기를 이용한 세정장치{Cleaning device}Cleaner using ultrasonic amplifiers {Cleaning device}

도 1 은 본 발명의 초음파 증폭기를 이용한 세정장치를 보인 사시도.1 is a perspective view showing a cleaning device using the ultrasonic amplifier of the present invention.

도 2 는 본 발명의 초음파 증폭기를 이용한 세정장치를 보인 배면 사시도.Figure 2 is a rear perspective view showing a cleaning device using an ultrasonic amplifier of the present invention.

도 3 은 본 발명의 동작상태를 보인 도면.3 is a view showing an operating state of the present invention.

도 4 는 본 발명의 작동상태를 상세히 보인 도면.4 is a view showing in detail the operating state of the present invention.

도 5 는 본 발명의 구성을 보인 블럭도.5 is a block diagram showing the configuration of the present invention.

도 6 의 (a)~(d)는 본 발명에 적용된 증폭혼의 구조를 보인 도면.Figure 6 (a) ~ (d) is a view showing the structure of the amplified horn applied to the present invention.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

1: 베이스, 2: 상부스테이지,1: base, 2: upper stage,

3: 지지봉, 4: 가이드,3: support rod, 4: guide,

5: 결합부, 6: 수직봉,5: coupling, 6: vertical rod,

7: 수직이송판, 8: 케이스,7: vertical transfer plate, 8: case,

9: 수직이송레버, 10: 소재,9: vertical feed lever, 10: material,

11: 초음파 제너레이터, 12: 초음파 진동자,11: ultrasonic generator, 12: ultrasonic oscillator,

13: 증폭혼, 14: 가스공급부,13: amplified horn, 14: gas supply unit,

15: 가스분사노즐, 16: 불순물 흡입노즐, 15: gas injection nozzle, 16: impurity suction nozzle,

17: 불순물 흡입탱크, 21: 증폭단부,17: impurity suction tank, 21: amplification end,

22: 끝단부,22: the end,

본 발명은 초음파 증폭기를 이용한 세정장치에 관한 것으로서, 특히 반도체 제조공정 또는 LCD 패널 제조공정 중에 기판(웨이퍼 또는 glass) 표면에 붙어있는 불순물을 효율적으로 제거하여 세정 처리할 수 있도록 한 초음파 증폭기를 이용한 세정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning device using an ultrasonic amplifier, and more particularly, to cleaning using an ultrasonic amplifier to efficiently remove impurities attached to a surface of a substrate (wafer or glass) during a semiconductor manufacturing process or an LCD panel manufacturing process. Relates to a device.

반도체 제조공정 또는 LCD 패널 제조공정은 다수의 화학 처리공정을 포함하고 있으며, 각 공정을 수행할때마다 기판(웨이퍼 또는 glass) 표면에 붙어있는 불순물을 완전히 제거해주어야만 고품질의 반도체 또는 LCD 패널을 제조할 수 있게된다.The semiconductor manufacturing process or the LCD panel manufacturing process includes a number of chemical treatment processes, and each process requires a complete removal of impurities adhering to the surface of the substrate (wafer or glass) to produce high quality semiconductor or LCD panels. Will be.

이때 사용되는 것이 세정장치이다.At this time, the cleaning device is used.

세정장치는 약액을 이용하여 기판 표면에 붙어있는 불순물을 제거하는 습식세정장치와 약액을 사용하지 않고 기판이 건조된 상태에서 그대로 불순물을 제거하는 건식 세정장치가 제공되고 있다.The cleaning apparatus is provided with a wet cleaning apparatus for removing impurities adhering to the surface of the substrate using a chemical liquid and a dry cleaning apparatus for removing impurities as it is while the substrate is dried without using a chemical liquid.

그러나, 습식 세정장치는 기판에 약액을 도포하여 세정한 후 다시 기판을 건조시켜야만 하므로 세정공정이 복잡해지는 문제점이 있었고, 건식 세정장치는 레이저 등과같은 고정밀 및 고가의 장비를 구비해야만 하므로 경제적인 부담이 가중 되는 문제점이 발생하고 있었다.However, the wet cleaning apparatus has a problem that the cleaning process is complicated because it is necessary to dry the substrate again after applying the chemical liquid to the substrate, and the dry cleaning apparatus has to be equipped with high-precision and expensive equipment such as a laser. The problem was aggravating.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명은 베이스의 상부 스테이지상에 연질로 이루어진 다수의 지지봉을 설치하여 소재를 올려놓을 수 있도록 하고, 상부스테이지의 직상방에 높이 및 좌우 이동이 가능하도록 세정수단을 설치하되, 상기 세정수단은 초음파 진동자에서 발생된 초음파를 증폭하여 소재에 공급하여 소재 표면에 존재하는 불순물이 활성화되어 분리되도록 하는 증폭혼이 중앙에 형성되고, 그 일측에는 불순물을 불어주기 위한 가스분사노즐을 형성하며, 타측에는 불순물을 흡입 제거하기 위한 불순물 흡입노즐을 형성하므로서, 반도체 제조공정 또는 LCD 패널 제조공정 중에 기판(웨이퍼 또는 glass) 표면에 붙어있는 불순물을 효율적으로 제거하여 세정 처리할 수 있도록 한 초음파 증폭기를 이용한 세정장치를 제공함을 목적으로 한다.Therefore, the present invention for solving the above problems is to install a plurality of support rods made of soft on the upper stage of the base to put the material, and the cleaning means to move the height and left and right directly above the upper stage It is installed, the cleaning means is amplified horn to amplify the ultrasonic wave generated by the ultrasonic vibrator to supply the material to be activated and separated from the impurities present on the surface of the material is formed in the center, the gas injection for blowing the impurity on one side A nozzle is formed, and an impurity suction nozzle for suctioning and removing impurities is formed on the other side, so that impurities attached to the surface of the substrate (wafer or glass) can be efficiently removed and cleaned during the semiconductor manufacturing process or the LCD panel manufacturing process. To provide a cleaning device using an ultrasonic amplifier The.

상기 목적달성을 위한 본 발명은,The present invention for achieving the above object,

베이스의 상부 스테이지에 수직 설치되어 소재를 올려놓을 수 있도록 하는 다수의 지지봉과;A plurality of supporting rods installed vertically on the upper stage of the base to place the material thereon;

상기 상부 스테이지의 직상방에 높이 조절 및 좌우 이동이 가능하면서 초음파를 이용하여 소재에 붙어있는 불순물을 분리 제거하는 세정수단; 을 형성하되,Washing means for separating the impurities attached to the material by using ultrasonic waves while the height adjustment and the left and right movements directly above the upper stage; Form the

상기 세정수단은,The cleaning means,

케이스의 중앙 상단에 설치되고, 초음파제너레이터에서 생성되어 공급된 초음파에의해 진동하여 초음파를 발생시키는 초음파 진동자와, An ultrasonic vibrator installed at the top of the center of the case and vibrating by ultrasonic waves generated and supplied by the ultrasonic generator,                         

상기 초음파 진동자의 직하방에 설치되고, 초음파 진동자에서 공급된 초음파를 증폭시켜 소재의 표면에 공급하는 증폭혼과,An amplification horn installed directly below the ultrasonic vibrator and amplifying the ultrasonic wave supplied from the ultrasonic vibrator to supply the surface of the material;

상기 증폭혼의 일측에 일정각도 경사지게 설치되고, 가스공급부로부터 공급된 가스를 소재 표면으로 고압 분사하는 가스분사노즐과,A gas injection nozzle installed at an angle to one side of the amplification horn and spraying the gas supplied from the gas supply unit to the surface of the material at high pressure;

상기 증폭혼의 타측에 불순물 흡입탱크와 연결된 상태로 일정각도 경사지게 설치되고, 가스분사노즐에 의해 분리 이송된 불순물을 흡입하여 제거하는 불순물 흡입노즐, 로 구성한 것을 특징으로 한다.It is installed on the other side of the amplification horn inclined at a predetermined angle in a state connected to the impurity suction tank, characterized in that consisting of an impurity suction nozzle, which sucks and removes impurities transported by the gas injection nozzle.

상기 베이스의 배면에 수평상으로 가이드를 형성하고, 수직봉의 하측에 구비된 결합부를 가이드에 결합하여 수직봉이 가이드를 따라 좌우로 움직일 수 있도록 하며, 상기 세정수단을 이루는 케이스의 일측에 형성된 수직이송판을 수직봉에 결합하고, 수직봉의 상측에는 사용자의 조작에 따라 수직이송판의 높이가 조절되도록 하는 수직이송레버를 형성하여 세정수단의 높이조절 및 좌우 이동이 가능하도록 한 것을 특징으로 한다.A guide is formed horizontally on the rear surface of the base, and the coupling part provided at the lower side of the vertical rod is coupled to the guide so that the vertical rod can move left and right along the guide, and a vertical transfer plate formed at one side of the case forming the cleaning means. And coupled to the vertical bar, the upper side of the vertical bar to form a vertical transfer lever to adjust the height of the vertical transfer plate in accordance with the user's operation, characterized in that the height of the cleaning means and to move the left and right.

또한, 상기 증폭혼은 직사각형 모양을 갖도록 형성하여 한번에 소재의 넓은 면적을 세정할 수 있도록 한 것을 특징으로 한다.In addition, the amplifying horn is formed to have a rectangular shape is characterized in that to clean a large area of the material at a time.

이하, 첨부된 도면 도 1 내지 도 6 을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, FIGS. 1 to 6.

도 1 은 베이스를 나타내고, 이 베이스(1)의 상부에는 일정크기의 상부스테이지(2)가 형성된다.1 shows a base, and an upper stage 2 of constant size is formed on the base 1.

상기 상부스테이지(2)의 상면에는 다수의 지지봉(3)이 수직 설치되는데, 상기 지지봉(3)은 연질, 즉, 고무 또는 실리콘 과같은 연질의 소재로서 형성하여 반도체의 웨이퍼 또는 LCD 패널의 기판(glass)을 안전하게 올려놓을 수 있도록 한다.A plurality of support rods 3 are vertically installed on the upper surface of the upper stage 2, and the support rods 3 are formed as a soft material, that is, a soft material such as rubber or silicon, so as to provide a substrate of a semiconductor wafer or an LCD panel ( Make sure the glass is placed safely.

또한, 상기 설명과같은 연질소재로서 지지봉(3)을 형성하게되면 소재(10)를 올려놓았을때 소재(10)와 지지봉(3) 상호간의 마찰력에 의해 소재(10)가 움직이지 않게되어 안정되게 세정작업을 수행할 수 있게된다.In addition, when the support rod 3 is formed as the soft material as described above, when the material 10 is placed, the material 10 is not moved by the frictional force between the material 10 and the support rod 3 and is stable. It is possible to perform the cleaning operation.

상기한 베이스(1)의 배면에는 도 1 및 도 2 에 도시된 바와같이 수평방향으로 가이드(4)를 형성하고, 이 가이드(4)에 결합부(5)가 결합되도록 수직봉(6)을 결합하여 수직봉(6)이 가이드(4)에 안내되어 좌우방향으로 움직일 수 있도록 한다.The back of the base 1 is formed with a guide 4 in the horizontal direction as shown in Figs. 1 and 2, and the vertical rod 6 to the coupling portion 5 is coupled to the guide (4) In combination, the vertical bar 6 is guided to the guide 4 so as to move in the left and right directions.

상기 수직봉(6)의 좌우 움직임은 미도시된 모터의 작동에 의해 자동으로 구현되도록 하는 것이 바람직하다.The left and right movement of the vertical rod 6 is preferably to be implemented automatically by the operation of the motor not shown.

그리고, 상기 수직봉(6)의 도중에는 케이스(8)의 일측에 돌출 형성되어 있는 수직이송판(7)을 상하 유동가능하게 결합하고, 수직봉(6)의 상부에는 사용자가 조작할 수 있도록 수직이송레버(9)를 형성하여 사용자가 수직이송레버(9)를 정역회전시킴에 따라 케이스(8)가 상하 방향으로 높이조절 될 수 있도록 한다.In addition, the vertical transfer plate 7 protrudingly formed on one side of the case 8 in the middle of the vertical rod 6 may be coupled to be vertically movable, and the vertical rod 6 may be vertically operated by a user. Forming the conveying lever (9) so that the user can adjust the height in the vertical direction as the user rotates the vertical conveying lever (9) forward and backward.

상기 수직봉(6)의 내부에는 수직이송레버(9)와 연결되어 있는 스크류가 내장되어 있어서 사용자가 수직이송레버(9)를 정역회전 시킴에 따라 스크류가 정역회전하면서 수직이송판(7)을 상하로 유동시키는 것이다.The inside of the vertical rod (6) has a screw that is connected to the vertical transfer lever (9) is built in, as the user rotates the vertical transfer lever (9) forward and reverse the vertical transfer plate (7) while the forward and reverse rotation It is to move up and down.

한편, 상기 케이스(8)의 내부에는 소재(10)에 붙어있는 불순물(미세한 오염물질-파티클)을 제거하여 세정하기 위한 세정수단이 설치된다.On the other hand, inside the case 8, cleaning means for removing and cleaning impurities (fine contaminants-particles) adhering to the material 10 is provided.

상기 세정수단은,The cleaning means,

초음파신호를 생성하는 초음파 제너레이터(11)와,An ultrasonic generator 11 for generating an ultrasonic signal;

케이스(8)의 중앙 상측에 설치되고, 상기 초음파 제너레이터(11)에서 공급된 초음파신호에 의해 진동하여 초음파를 발생시키는 초음파 진동자(12)와,An ultrasonic vibrator 12 disposed above the center of the case 8 and vibrating by the ultrasonic signal supplied from the ultrasonic generator 11 to generate ultrasonic waves;

상기 초음파 진동자(12)의 직하방에 연결 설치되어 초음파 진동자(12)에서 발생된 초음파를 증폭시켜 소재(10)의 표면으로 공급하여 소재(10) 표면에 붙어있는 불순물이 활성화되어 분리되도록 하는 증폭혼(13)과,It is connected directly below the ultrasonic vibrator 12 and amplified to amplify the ultrasonic wave generated by the ultrasonic vibrator 12 to the surface of the material 10 so that impurities attached to the surface of the material 10 are activated and separated. With the horn (13),

상기 증폭혼(13)의 일측에 일정각도 경사지게 설치되고, 가스공급부(14)로부터 공급된 가스를 고압상태로 소재(10)표면에 분사하여 분리된 불순물이 유동되도록 하는 가스분사노즐(15)과,A gas injection nozzle 15 installed at one side of the amplification horn 13 at an inclined angle and spraying the gas supplied from the gas supply unit 14 to the surface of the material 10 at a high pressure to allow the separated impurities to flow; ,

상기 가스분사노즐(15)과 대향되는 위치에 일정각도 경사지게 형성되고, 유동된 불순물을 연결되어 있는 불순물 흡입탱크(17)로 강제 흡입시켜 제거하는 불순물 흡입노즐(16), 로 구성된다.The impurity suction nozzle 16 is formed to be inclined at a predetermined angle to the position opposite to the gas injection nozzle 15 and forcibly sucks and removes the flowed impurities into the impurity suction tank 17.

상기한 증폭혼(13)은 도면에 도시된 바와같이 금속체를 직사각형 모양으로 길이방향으로 형성하고, 상기 가스분사노즐(15)과 불순물 흡입노즐(16) 또한 증폭혼(13)과 동일한 모양으로 형성하여 세정수단이 한번 이동할때 소재(10)의 넓은 면적을 세정할 수 있도록 한다.As shown in the drawing, the amplifying horn 13 forms a metal body in a longitudinal direction in the shape of a rectangle, and the gas injection nozzle 15 and the impurity suction nozzle 16 also have the same shape as the amplifying horn 13. It is formed so as to clean a large area of the material 10 when the cleaning means moves once.

또한, 상기 증폭혼(13)의 하단부에는 익스퍼넨셜 타입 또는 계단형으로 형 성되어 상부 몸체에 비해 단면적이 축소되는 증폭단부(21)를 형성하여 초음파의 파워 극대화를 구현할 수 있도록 하였고, 상기 증폭단부(21)의 하측 끝단부(22)는 도 6 과같이 반원형 또는 톱니형으로 형성하여 초음파의 파워가 집중될 수 있도록 하였다.In addition, the lower end of the amplifying horn 13 is formed in an expansive type or stepped shape to form an amplifying end 21 having a reduced cross-sectional area compared to the upper body to realize the maximum power of the ultrasonic wave, the amplifying end Lower end portion 22 of 21 is formed in a semi-circular or sawtooth shape as shown in Figure 6 so that the power of the ultrasonic wave can be concentrated.

도 6 의 (a)는 익스퍼넨셜(exponential) 타입으로 증폭단부(21)가 형성되고, 끝단부(22)가 반원형으로 형성된 실시예를 도시한 것이고, (b)는 익스퍼넨셜 타입으로 증폭단부(21)가 형성되고, 끝단부(22)가 톱니형으로 형성된 실시예를 도시한 것이며, (c)는 계단형으로 증폭단부(21)가 형성되고, 끝단부(22)가 반원형으로 형성된 실시예를 도시한 것이고, (d)는 계단형으로 증폭단부(21)가 형성되고 끝단부(22)가 톱니형으로 형성된 실시예를 도시한 것이다.FIG. 6A illustrates an embodiment in which an amplification end 21 is formed in an exponential type, and an end portion 22 is formed in a semicircular shape, and (b) shows an amplification end in an expansive type. 21 shows that the embodiment is formed, the end portion 22 is a sawtooth shape, (c) is an embodiment in which the amplification end portion 21 is formed in a stepped shape, the end portion 22 is formed in a semicircular shape (D) shows an embodiment in which the amplifying end portion 21 is formed in a stepped shape and the end portion 22 is sawtooth-shaped.

이와같이 구성된 본 발명의 동작을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the present invention configured as described above is as follows.

먼저 작업자는 세정 대상물인 소재(10), 즉, 반도체 공정의 웨이퍼 또는 LCD 패널 제조 공정중의 기판(glass)을 지지봉(3) 위에 올려놓는다.First, the operator places the material 10 to be cleaned, that is, a wafer in the semiconductor process or a glass in the LCD panel manufacturing process on the support rod 3.

이러한 상태에서 수직이송레버(9)를 정역회전시켜 케이스(8)의 높이가 소재(10)로 부터 적정한 높이에 위치하도록 셋팅하고, 미도시된 작동스위치를 온동작시키게되면 미도시된 모터의 구동에 의해 케이스(8)가 설치되어 있는 수직봉(6)이 가이드(4)를 따라 일정속도로 전후진하게된다.In such a state, the vertical feed lever 9 is rotated forward and backward to set the height of the case 8 to be at an appropriate height from the material 10, and when the operation switch not shown is turned on to drive the motor not shown. As a result, the vertical rod 6 on which the case 8 is installed moves forward and backward along the guide 4 at a constant speed.

이때, 초음파 제너레이터(11)에서 발생된 초음파신호가 초음파 진동자(12)에 공급되고, 초음파 진동자(12)는 입력되는 초픔파신호에 의해 진동하여 초음파를 생성하여 증폭혼(13)으로 공급하며, 증폭혼(13)은 공급된 초음파를 증폭시켜 직하 방에 위치하고 있는 소재(10) 표면으로 공급한다.At this time, the ultrasonic signal generated by the ultrasonic generator 11 is supplied to the ultrasonic vibrator 12, the ultrasonic vibrator 12 vibrates by the input superwave signal to generate ultrasonic waves and supply them to the amplifying horn 13, The amplification horn 13 amplifies the supplied ultrasonic waves and supplies them to the surface of the material 10 located directly below.

상기한 증폭혼(13)으로 공급된 초음파는 익스퍼넨셜 또는 계단형으로 형성된 증폭단부(21)를 통과하면서 초음파의 파워가 극대화되고, 증폭단부(21)의 하측에 형성된 반원형 또는 톱니형의 끝단부(22)에 의해 초음파의 파워가 한곳으로 집중되어 소재(10) 표면으로 공급된다. Ultrasonic power supplied to the amplifying horn 13 is maximized while passing through the amplifying end 21 formed in an expansive or stepped shape, the semi-circular or sawtooth end formed under the amplifying end 21 By 22, the power of the ultrasonic waves is concentrated in one place and supplied to the surface of the material 10.

상기 증폭혼(13)으로부터 공급된 초음파에 의해 소재(10) 표면에 붙어있는 이물질이 활성화되어 소재(10)로부터 분리된다.The foreign matter adhering to the surface of the material 10 is activated by the ultrasonic wave supplied from the amplifying horn 13 to be separated from the material 10.

한편, 가스공급부(14)에서 공급된 가스가 가스분사노즐(15)을 통해 고압상태로 소재(10) 표면에 분사되어 초음파에 의해 소재(10)로 부터 분리된 불순물을 유동시키게되며, 불순물 흡입탱크(17)에 의해 발생된 흡입력이 불순물 흡입노즐(16)에 작용하면서 가스분사노즐(15)에 의해 유동된 불순물이 상기 불순물 흡입노즐(16)에 의해 강제 흡입되어 불순물 흡입탱크(17)로 이송되어 제거되므로서, 소재(10)에 붙어있는 불순물이 깨끗하게 세정되는 것이다.On the other hand, the gas supplied from the gas supply unit 14 is injected to the surface of the material 10 in a high pressure state through the gas injection nozzle 15 to flow the impurities separated from the material 10 by ultrasonic waves, suction impurities While the suction force generated by the tank 17 acts on the impurity suction nozzle 16, the impurity flowing by the gas injection nozzle 15 is forcibly sucked by the impurity suction nozzle 16 to the impurity suction tank 17. As it is transported and removed, impurities attached to the material 10 are cleaned cleanly.

상기 설명과같이 동작하는 본 발명에 의하면, 증폭혼(13)에서 증폭된 초음파에 의해 소재(10)에 붙어있는 미세한 입자의 불순물을 활성화시켜 분리한 상태에서 고압가스로 불어서 제거하는 것이기 때문에 미세한 입자의 불순물을 효율적으로 제거할 수 있게되며, 별도의 약액을 사용하지 않으므로 세정공정을 단순화시킬 수 있게되는 효과를 기대할 수 있다.According to the present invention operating as described above, the fine particles are activated by the ultrasonic waves amplified in the amplifying horn 13 to remove impurities by activating the impurities of the fine particles attached to the material 10 and blowing them with a high-pressure gas in a separated state. It is possible to efficiently remove impurities, and because it does not use a separate chemical solution can be expected to simplify the cleaning process.

이상에서 설명한 바와같이 본 발명은 베이스의 상부 스테이지상에 연질로 이 루어진 다수의 지지봉을 설치하여 소재를 올려놓을 수 있도록 하고, 상부스테이지의 직상방에 높이 및 좌우 이동이 가능하도록 세정수단을 설치하되, 상기 세정수단은 초음파 진동자에서 발생된 초음파를 증폭하여 소재에 공급하여 소재 표면에 존재하는 불순물이 활성화되어 분리되도록 하는 증폭혼이 중앙에 형성되고, 그 일측에는 불순물을 불어주기 위한 가스분사노즐을 형성하며, 타측에는 불순물을 흡입 제거하기 위한 불순물 흡입노즐을 형성하므로서, 반도체 제조공정 또는 LCD 패널 제조공정 중에 기판(웨이퍼 또는 glass) 표면에 붙어있는 불순물을 효율적으로 제거하여 세정 처리할 수 있도록 한 초음파 증폭기를 이용한 세정장치를 제공하는 효과를 기대할 수 있다.As described above, the present invention installs a plurality of support rods made of soft material on the upper stage of the base so that the material can be placed thereon, and the cleaning means is installed to allow the height and the left and right movements directly above the upper stage. However, the cleaning means is amplified horn is formed in the center to amplify the ultrasonic wave generated by the ultrasonic vibrator to supply to the material to activate and separate the impurities present on the material surface, the gas injection nozzle for blowing the impurities on one side By forming an impurity suction nozzle for suction removal of impurities on the other side, it is possible to efficiently remove the impurities attached to the surface of the substrate (wafer or glass) during the semiconductor manufacturing process or the LCD panel manufacturing process to be cleaned. The effect of providing a cleaning device using an ultrasonic amplifier can be expected. The.

Claims (8)

베이스(1)의 상부 스테이지(2)에 수직 설치되어 소재(10)를 올려놓을 수 있도록 하는 다수의 지지봉(3)과;A plurality of supporting rods 3 installed vertically on the upper stage 2 of the base 1 to place the material 10 thereon; 상기 상부 스테이지(2)의 직상방에 높이 조절 및 좌우 이동이 가능하면서 초음파를 이용하여 소재(10)에 붙어있는 불순물을 분리 제거하는 세정수단; 을 형성한 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.Washing means for separating and removing impurities adhering to the material 10 by using ultrasonic waves while allowing height adjustment and left / right movement directly above the upper stage 2; Cleaning apparatus using an ultrasonic amplifier, characterized in that formed. 제 1 항에 있어서, 상기 세정수단은,The method of claim 1, wherein the cleaning means, 케이스(8)의 중앙 상단에 설치되고, 초음파제너레이터(11)에서 생성되어 공급된 초음파에의해 진동하여 초음파를 발생시키는 초음파 진동자(12)와,An ultrasonic vibrator 12 installed at the upper center of the case 8 and vibrating by ultrasonic waves generated and supplied by the ultrasonic generator 11 to generate ultrasonic waves; 상기 초음파 진동자(12)의 직하방에 설치되고, 초음파 진동자(12)에서 공급된 초음파를 증폭시켜 소재(10)의 표면에 공급하는 증폭혼(13)과,An amplifying horn 13 installed directly below the ultrasonic vibrator 12 and amplifying the ultrasonic wave supplied from the ultrasonic vibrator 12 and supplying the ultrasonic wave to the surface of the material 10; 상기 증폭혼(13)의 일측에 일정각도 경사지게 설치되고, 가스공급부(14)로부터 공급된 가스를 소재(10) 표면으로 고압 분사하는 가스분사노즐(15)과,A gas injection nozzle 15 installed at one side of the amplifying horn 13 at an inclined angle and for high-pressure injection of the gas supplied from the gas supply unit 14 to the surface of the material 10; 상기 증폭혼(13)의 타측에 불순물 흡입탱크(17)와 연결된 상태로 일정각도 경사지게 설치되고, 가스분사노즐(15)에 의해 분리 이송된 불순물을 흡입하여 제거하는 불순물 흡입노즐(16), 로 구성한 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.Impurity suction nozzles (16), installed on the other side of the amplification horn 13 inclined at a predetermined angle in connection with the impurity suction tank (17), to suck and remove impurities transported by the gas injection nozzle (15) Cleaning apparatus using an ultrasonic amplifier, characterized in that configured. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 베이스(1)의 배면에 수평상으로 가이드(4)를 형성하고, 수직봉(6)의 하측에 구비된 결합부(5)를 가이드(4)에 결합하여 수직봉(6)이 가이드(4)를 따라 좌우로 움직일 수 있도록 하며, 상기 세정수단을 이루는 케이스(8)의 일측에 형성된 수직이송판(7)을 수직봉(6)에 결합하고, 수직봉(6)의 상측에는 사용자의 조작에 따라 수직이송판(7)의 높이가 조절되도록 하는 수직이송레버(9)를 형성하여 세정수단의 높이조절 및 좌우 이동이 가능하도록 한 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.The guide 4 according to claim 1 or 2, wherein the guide 4 is formed horizontally on the rear surface of the base 1, and the coupling portion 5 provided on the lower side of the vertical rod 6 is attached to the guide 4. By combining the vertical bar (6) to move left and right along the guide (4), the vertical transfer plate (7) formed on one side of the case (8) constituting the cleaning means coupled to the vertical bar (6), On the upper side of the vertical rod (6) is formed a vertical transfer lever (9) to adjust the height of the vertical transfer plate (7) in accordance with the user's operation characterized in that the height of the cleaning means and the left and right movement is possible Cleaning device using ultrasonic amplifier. 제 2 항에 있어서, 상기 증폭혼(13)은 금속체를 직사각형 모양을 갖도록 형성하여 한번에 소재(10)의 넓은 면적을 세정할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.3. The cleaning device using an ultrasonic amplifier according to claim 2, wherein the amplifying horn (13) is formed to have a rectangular metal body to wash a large area of the material (10) at a time. 제 2 항에 있어서, 증폭혼(13)의 하단부에 초음파의 파워 극대화를 위해 단면적이 축소되는 증폭단부(21)를 형성한 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.The cleaning device using an ultrasonic amplifier according to claim 2, wherein an amplifying end portion (21) having a reduced cross-sectional area is formed at the lower end of the amplifying horn (13) to maximize the power of the ultrasonic waves. 제 5 항에 있어서, 상기 증폭단부(21)는 익스퍼넨셜 타입 또는 계단형으로 형성된 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.The cleaning device using an ultrasonic amplifier according to claim 5, wherein the amplifying end (21) is formed in an exponential type or a stepped shape. 제 5 항에 있어서, 상기 증폭단부(21)의 하측 끝단부(22)는 초음파의 파워 집중을 위해 반원형으로 형성한 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.The cleaning device using an ultrasonic amplifier according to claim 5, wherein the lower end portion (22) of the amplification end portion (21) is formed in a semicircular shape to concentrate the power of the ultrasonic waves. 제 5 항에 있어서, 상기 증폭단부(21)의 하측 끝단부(22)는 초음파의 파워 집중을 위해 톱니형으로 뾰족하게 형성한 것을 특징으로 하는 초음파 증폭기를 이용한 세정장치.The cleaning device using an ultrasonic amplifier according to claim 5, wherein the lower end portion (22) of the amplifying end portion (21) is sharply formed in a sawtooth shape to concentrate the power of the ultrasonic wave.
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