KR100628431B1 - Apparatus for silver reflector and titanium color stainless - Google Patents

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주식회사 와이투스틸
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Abstract

본 발명은 스테인레스를 이용하여 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)에 사용되는 은반사판을 제조하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치에 있어서, 진공챔버(chamber)와, 코일형태로 감겨져 설치된 스테인레스를 풀어주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 언코일러부와, 상기 진공챔버내에서 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀어진 스테인레스 표면에 개질층을 형성하기 위한 플라즈마 처리부와, 상기 진공챔버내에서 상기 개질층에 은증착막을 형성하기 위한 은증착부와, 상기 진공챔버내에서 상기 은증착막에 보호층을 형성하기 위한 보호막증착부와, 상기 보호층이 증착된 스테인레스를 다시 감아주기 위해 상기 진공챔버 내에 설치되는 제1 스테인레스 리코일러부를 포함하는 것을 특징으로 하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치에 관한 것이다.The present invention is a silver reflector manufacturing apparatus for manufacturing a silver reflector for use in LCD back light using a stainless steel, the vacuum chamber (chamber), coiled in the form of a coil to release the installed stainless A first stainless uncoiler portion disposed in the vacuum chamber, a plasma treatment portion for forming a modified layer on a stainless surface released from the first stainless uncoiler portion in the vacuum chamber, and the modified layer in the vacuum chamber. A silver deposition portion for forming a silver deposition film on the protective layer, a protective film deposition portion for forming a protective layer on the silver deposition film in the vacuum chamber, and a protective layer deposited in the vacuum chamber to rewind the stainless deposited thereon. A silver reflector comprising a first stainless recoiler portion It relates to a tank device.

실버 리플렉터, 은반사판, 스테인레스, 티타늄 칼라 스테인레스 Silver reflector, silver reflector, stainless steel, titanium color stainless

Description

실버 리플렉터 제조장치 및 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치, 리플렉터{APPARATUS FOR SILVER REFLECTOR AND TITANIUM COLOR STAINLESS}Silver Reflector and Titanium Color Stainless Steel, Reflector {APPARATUS FOR SILVER REFLECTOR AND TITANIUM COLOR STAINLESS}

도1은 종래의 일실시예에 따른 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)용 리플렉터의 개략도.1 is a schematic diagram of a reflector for an LCD back light according to a conventional embodiment;

도2는 종래의 또 다른 일실시예에 따른 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)용 리플렉터의 개략도.2 is a schematic diagram of a reflector for an LCD back light according to another conventional embodiment;

도3은 본 발명에 따른 실버 리플렉터 제조장치에 의한 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)용 실버 리플렉터의 개략도.Figure 3 is a schematic diagram of a silver reflector for LCD back light by the silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention.

도4는 본 발명에 따른 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 의한 내·외장용 티타늄 칼라 스테인레스의 개략도.Figure 4 is a schematic diagram of the interior and exterior titanium color stainless by a titanium color stainless production apparatus according to the present invention.

도5는 본 발명에 따른 실버 리플렉터 제조장치의 개략도.5 is a schematic view of a silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention.

도6은 본 발명에 따른 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치의 개략도.Figure 6 is a schematic diagram of a titanium color stainless production apparatus according to the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 설명** Description of the main parts of the drawings *

1100, 2100: 진공챔버 1200, 2200: 제1 스테인레스 언코일러부1100 and 2100: vacuum chamber 1200 and 2200: first stainless uncoiler part

1300, 2300: 코팅제거부 1400, 2400: 플라즈마 처리부1300 and 2300: coating removal unit 1400 and 2400: plasma treatment unit

1500, 2500: 은증착부 1600, 2600: 보호막 증착부1500 and 2500: silver deposition portion 1600, 2600: protective film deposition portion

1700, 2700: 코팅부 1800, 2800: 제1 스테인레스 리코일러부1700, 2700: coating part 1800, 2800: first stainless steel recoiler part

본 발명은 스테인레스를 이용하여 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)에 사용되는 은반사판을 제조하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치 및 그 리플렉터에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver reflector manufacturing apparatus and a reflector for producing a silver reflector for use in LCD back light using stainless steel.

종래 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)에 사용되는 반사판으로는 도1, 도2에 도시된 것이 있다.As a reflection plate used in a conventional LCD Back Light, there are those shown in FIGS. 1 and 2.

도1을 참조하면 종래기술은 황동에 접착제를 이용하여 은(Ag)증착막을 형성하고, 이 위에 다시 이산화티타늄(TiO2)를 증착하고, 마지막으로 반사판의 보호를 위해 PET필름을 접착한 것이 있다.Referring to FIG. 1, the prior art forms a silver (Ag) deposition film using an adhesive on brass, deposits titanium dioxide (TiO 2 ) on it, and finally, PET film is bonded to protect the reflector. .

그러나, 도1에 도시된 반사판은 반사율이 우수한 장점이 있으나, 황동과 은(Ag)증착막 사이의 접착력이 약한 단점이 있다.However, the reflector shown in Figure 1 has the advantage of excellent reflectance, but there is a disadvantage that the adhesion between the brass and silver (Ag) deposition film is weak.

도2에 도시된 또 다른 종래기술은 알루미늄(Al)에 산화알루미늄(Al2O3)를 증착하고, 그 위에 화학결합층(Bonding Layer)을 형성한 뒤 99.99%의 알루미늄층을 도포하고, 그 위에 이산화규소(SiO2) 및 이산화티타늄(TiO2)를 순차적으로 증착시킨 것이 있다.Another prior art shown in Figure 2 is to deposit aluminum oxide (Al 2 O 3 ) on aluminum (Al), a chemical bonding layer (Bonding Layer) is formed thereon and then coated with an aluminum layer of 99.99%, Silicon dioxide (SiO 2 ) and titanium dioxide (TiO 2 ) are sequentially deposited on the above.

그러나, 도2에 도시된 반사판은 화학결합층(Bonding Layer)을 형성함으로써 접착력이 상대적으로 우수한 장점은 있으나, 지지대를 알루미늄(Al)으로 제약해야 하는 단점과 반사율이 미흡한 단점이 있다.However, the reflector shown in FIG. 2 has an advantage of relatively good adhesive strength by forming a bonding layer, but there are disadvantages of restricting the support to aluminum (Al) and insufficient reflectance.

또한, 도1에 도시된 반사판은 접착제층 및 PET 필름층을 포함하므로 그 두께가 0.25㎜ 정도로 두껍고, 도2에 도시된 반사판은 화학결합층외에 산화알루미늄 (Al2O3)층, 99.99%의 알루미늄층, 이산화규소(SiO2) 및 이산화티타늄(TiO2)층을 포함하므로 그 두께가 0.35㎜ 정도로 두꺼워 LCD판의 두께가 두껍고, 따라서 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)를 사용하는 노트북 등의 무게가 무거워져 이를 소형화, 경량화하기 어려운 단점이 있다.In addition, since the reflector shown in FIG. 1 includes an adhesive layer and a PET film layer, its thickness is about 0.25 mm thick, and the reflector shown in FIG. 2 has an aluminum oxide (Al 2 O 3 ) layer, 99.99%, in addition to the chemical bonding layer. It contains an aluminum layer, silicon dioxide (SiO 2 ) and titanium dioxide (TiO 2 ) layers, so its thickness is about 0.35 mm, so the thickness of the LCD plate is thick, and thus the weight of a notebook using LCD back light. It is heavy and it is difficult to miniaturize and lighten it.

본 발명은 스테인레스 스틸(Stainless Steel)로 된 지지대에 은(Ag)증착막을 직접 증착하기 위하여 스테인레스 스틸(Stainless Steel) 지지대의 표면에 개질층을 형성하고, 이에 은(Ag)을 증착시킴으로써 반사판의 두께가 0.12㎜로 감소된 은반사판을 제조하는 실버 리플렉터 제조장치 및 그 리플렉터를 제공하고자 한다.The present invention is to form a modified layer on the surface of the stainless steel support to directly deposit the silver (Ag) deposition film on the support of stainless steel (Stainless Steel), the thickness of the reflecting plate by depositing silver (Ag) The present invention provides a silver reflector manufacturing apparatus and a reflector for producing a silver reflecting plate is reduced to 0.12mm.

또한, 본 발명은 하나의 진공챔버(chamber)내에 스테인레스 스틸(Stainless Steel) 지지대의 표면 개질을 위한 플라즈마 처리부와, 표면 개질층에 은을 증착하기 위한 은층착부와, 은증착층을 보호하기 위하여 보호층을 형성하는 보호막증착부를 구비함으로써, 공정을 간소화하여 비용이 절감된 은반사판을 제조하는 실버 리플렉터 제조장치 및 그 리플렉터를 제공하고자 한다.In addition, the present invention provides a plasma treatment for surface modification of a stainless steel support in one vacuum chamber, a silver deposition portion for depositing silver on the surface modification layer, and a protection to protect the silver deposition layer. By providing a protective film deposition portion forming a layer, it is to provide a silver reflector manufacturing apparatus and a reflector for producing a silver reflective plate to simplify the process to reduce the cost.

또한, 본 발명은 은반사판의 지지대를 이루는 스테인레스 스틸(Stainless Steel)을 코일형태로 감겨진 로울(roll) 형상으로 하고 로울(roll) 형태의 스테인 레스 스틸(Stainless Steel)을 풀기위한 언코일러부를 구비함으로써 스테인레스 스틸(Stainless Steel)이 순차적으로 풀려가면서 은반사판이 제조되고, 다시 은반사판을 로울(roll) 형태로 감기 위한 리코일러부를 구비함으로써, 공정이 간소화되고 비용이 절감된 은반사판을 제조하는 실버 리플렉터 제조장치 및 그 리플렉터를 제공하고자 한다.In addition, the present invention is to form a roll (roll) wound stainless steel (Stainless Steel) forming the support of the silver reflection plate in the form of a coil and provided with an uncoiler for releasing the rolled stainless steel (Stainless Steel) As a result, the silver reflecting plate is manufactured while the stainless steel is sequentially released, and the silver reflecting plate is rolled again to roll the silver reflecting plate into a roll shape, thereby producing a silver reflecting plate which simplifies the process and reduces the cost. It is an object of the present invention to provide a reflector manufacturing apparatus and a reflector.

한편, 본 발명은 상기 진공챔버(chamber) 내에 아르곤(Ar), 질소(N2)를 주입하고, 은증착부 대신 티타늄증착부를 구비함으로써, 두께가 얇고 공정이 간소하며 제조비용이 절감된 내·외장용 티타늄 칼라 스테인레스를 제조하기 위한 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치 및 그 리플렉터를 제공하고자 한다. On the other hand, the present invention by injecting argon (Ar), nitrogen (N 2 ) in the vacuum chamber (ch), and by providing a titanium deposition portion instead of a silver deposition portion, the thickness is thin, the process is simple and manufacturing cost is reduced An object of the present invention is to provide a titanium color stainless apparatus and a reflector for manufacturing exterior titanium color stainless.

본 발명은 스테인레스를 이용하여 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)에 사용되는 은반사판을 제조하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치에 있어서, 진공챔버(chamber)와, 코일형태로 감겨져 설치된 스테인레스를 풀어주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 언코일러부와, 상기 진공챔버내에서 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀어진 스테인레스 표면에 개질층을 형성하기 위한 플라즈마 처리부와, 상기 진공챔버내에서 상기 개질층에 은증착막을 형성하기 위한 은증착부와, 상기 진공챔버내에서 상기 은증착막에 보호층을 형성하기 위한 보호막증착부와, 상기 보호층이 증착된 스테인레스를 다시 감아주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 리코일러부를 포함하는 것을 특징으로 하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치에 관한 것이다.The present invention is a silver reflector manufacturing apparatus for manufacturing a silver reflector for use in LCD back light using a stainless steel, the vacuum chamber (chamber), coiled in the form of a coil to release the installed stainless A first stainless uncoiler portion disposed in the vacuum chamber, a plasma treatment portion for forming a modified layer on a stainless surface released from the first stainless uncoiler portion in the vacuum chamber, and the modified layer in the vacuum chamber. A silver deposition portion for forming a silver deposition film on the surface, a protective film deposition portion for forming a protective layer on the silver deposition film in the vacuum chamber, and a protective layer deposited in the vacuum chamber to rewind the stainless deposited thereon. A silver reflector comprising a first stainless recoiler portion It relates to a tank device.

또한, 본 발명은 상기 실버 리플렉터 제조장치에 있어서, 상기 보호층은 SiO2층인 것을 특징으로 하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치에 관한 것이기도 하다.The present invention also relates to a silver reflector manufacturing apparatus, wherein the protective layer is a SiO 2 layer.

또한, 본 발명은 상기 실버 리플렉터 제조장치에 있어서, 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀려지는 스테인레스는 그 표면에 코팅층이 형성되어 있고, 상기 제1 스테인레스 언코일러부와 플라즈마 처리부 사이에는 상기 코팅층을 제거하기 위한 코팅제거부가 설치되고, 상기 보호막 증착부와 제1 스테인레스 리코일러부 사이에는 상기 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 코팅부가 설치되는 것을 특징으로 하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치에 관한 것이기도 하다.In the present invention, in the silver reflector manufacturing apparatus, the stainless layer released from the first stainless uncoiler portion has a coating layer formed on a surface thereof, and the coating layer is removed between the first stainless uncoiler portion and the plasma treatment portion. And a coating remover for installing a protective film on the protective layer between the protective film deposition unit and the first stainless recoiler. Do too.

또한, 본 발명은 스테인레스를 이용하여 내·외장용 티타늄 칼라 스테인레스를 제조하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 있어서, 가스가 채워진 진공챔버(chamber)와, 코일형태로 감겨져 설치된 스테인레스를 풀어주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 언코일러부와, 상기 진공챔버내에서 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀어진 스테인레스 표면에 개질층을 형성하기 위한 플라즈마 처리부와, 상기 진공챔버내에서 상기 개질층에 티타늄증착막을 증착시키기 위한 티타늄증착부와, 상기 진공챔버내에서 상기 티타늄증착막에 보호층을 형성하기 위한 보호막증착부와, 상기 보호층이 증착된 스테인레스를 다시 감아주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 리코일러부를 포함하는 것을 특징으로 하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 관한 것이기도 하다.In addition, the present invention is a titanium color stainless manufacturing apparatus for producing internal and external titanium color stainless using stainless, comprising a vacuum chamber filled with gas and a stainless steel wound in the form of a coil in the vacuum chamber A first stainless uncoiler portion provided, a plasma processing portion for forming a modified layer on the stainless surface released from the first stainless uncoiler portion in the vacuum chamber, and a titanium deposition film is deposited on the modified layer in the vacuum chamber. A titanium vapor deposition portion for forming a protective layer, a protective film vapor deposition portion for forming a protective layer on the titanium vapor deposition film in the vacuum chamber, and a first stainless recoiler installed in the vacuum chamber to rewind the deposited stainless steel. Titanium collar characterized by including a part It is also about stainless steel manufacturing equipment.

또한, 본 발명은 상기 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 있어서, 상기 가스는 아르곤(Ar), 질소(N2) 가스이고, 상기 보호층은 SiO2층인 것을 특징으로 하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 관한 것이기도 하다.The present invention also relates to a titanium color stainless production apparatus, wherein the gas is argon (Ar), nitrogen (N 2 ) gas, and the protective layer is a titanium color stainless production apparatus, characterized in that the SiO 2 layer. Do.

또한, 본 발명은 상기 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 있어서, 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀려지는 스테인레스는 그 표면에 코팅층이 형성되어 있고, 상기 제1 스테인레스 언코일러부와 플라즈마 처리부 사이에는 상기 코팅층을 제거하기 위한 코팅제거부가 설치되고, 상기 보호막 증착부와 제1 스테인레스 리코일러부 사이에는 상기 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 코팅부가 설치되는 것을 특징으로 하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 관한 것이기도 하다.In addition, the present invention is the titanium color stainless manufacturing apparatus, the stainless layer released from the first stainless uncoiler portion has a coating layer formed on the surface, and the coating layer between the first stainless uncoiler portion and the plasma treatment portion It is also related to a titanium color stainless manufacturing apparatus, characterized in that the coating removal unit for removing, and the coating unit for coating the protective film on the protective layer is provided between the protective film deposition unit and the first stainless recoiler unit. .

또한, 본 발명은, 보호층과, 상기 보호층 상에 형성된 은 또는 티타늄 증착막과, 상기 증착막 상에 형성되며, 플라즈마 처리된 표면 개질층과, 상기 표면 개질층 상에 형성된 스테인레스 스틸을 포함하는 리플렉터일 수도 있다.In addition, the present invention, a reflector comprising a protective layer, a silver or titanium deposition film formed on the protective layer, a surface modification layer formed on the deposition film, a plasma treatment, and stainless steel formed on the surface modification layer It may be.

실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치Silver reflector manufacturing equipment

이하, 도3 및 도5를 참조하여 본 발명에 따른 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치의 일실시예에 대해 설명한다.3 and 5, an embodiment of a silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention will be described.

도3은 본 발명에 따른 실버 리플렉터 제조장치에 의한 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)용 실버 리플렉터의 개략도를, 도5는 본 발명에 따른 실버 리플렉터 제 조장치의 개략도를 나타낸다.3 is a schematic diagram of a silver reflector for LCD back light by the silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention, Figure 5 is a schematic diagram of a silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention.

도5를 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 하나의 진공챔버(chamber)(1100)를 갖는다. 은반사판이 제조되기 위한 진공챔버(chamber)(2100)의 온도는 200℃이고, 압력은 5×10-3Torr인 것이 바람직하다.5, an embodiment according to the present invention has one vacuum chamber 1100. As shown in FIG. It is preferable that the temperature of the vacuum chamber 2100 for producing the silver reflecting plate is 200 ° C., and the pressure is 5 × 10 −3 Torr.

도5를 참조하면 진공챔버(chamber)(1100) 내부에는 제1 스테인레스 언코일러부(1200)가 설치된다. 제1 스테인레스 언코일러부(1200)는 코일형태로 감겨져 설치된 스테인레스를 풀어주기 위해 설치된다.Referring to FIG. 5, a first stainless uncoiler 1200 is installed inside the vacuum chamber 1100. The first stainless uncoiler 1200 is installed to release the stainless steel wound in a coil form.

본 발명에 따른 일실시예에 있어서, 제1 스테인레스 언코일러부(1200)로부터 풀려지는 스테인레스 스틸은 그 표면 보호를 위한 코팅층(보호필름)이 형성되어 있는 것이 보통이다. 따라서, 도5를 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 코팅층(보호필름)을 제거하기 위한 코팅제거부(1300)가 설치된다. 코팅제거부(1300)는 제1 스테인레스 언코일러부(1200) 우측에 설치된다.In one embodiment according to the present invention, the stainless steel released from the first stainless uncoiler 1200 is usually formed with a coating layer (protective film) for protecting the surface. Therefore, referring to FIG. 5, in one embodiment according to the present invention, a coating remover 1300 for removing a coating layer (protective film) is installed. The coating remover 1300 is installed on the right side of the first stainless uncoiler 1200.

도5를 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 플라즈마 처리부(1400)를 갖는다. 플라즈마 처리부(1400)는 코팅제거부(1300)에 의해 코팅층(보호필름)이 제거된 스테인레스 스틸의 표면을 진공챔버(chamber)(1100)에서 개질시켜 개질층을 형성하기 위한 것이다.Referring to FIG. 5, an embodiment according to the present invention has a plasma processor 1400. The plasma processing unit 1400 is to form a modified layer by modifying the surface of the stainless steel from which the coating layer (protective film) has been removed by the coating removing unit 1300 in the vacuum chamber 1100.

도3을 참조하면 플라즈마 처리부(1400)를 거침으로써 스테인레스 스틸 표면에 존재하는 Fe2O3등의 산화물과 기타 불순물 등이 제거된 표면 개질층이 형성된다.Referring to FIG. 3, a surface modification layer from which oxides such as Fe 2 O 3 and other impurities, etc., existing on the stainless steel surface are removed by passing through the plasma processing unit 1400.

도5를 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 은증착부(1500)를 갖는다. 도3을 참조하면 은증착부(1500)는 진공챔버(1100)내에서 개질층에 은증착막을 형성하기 위한 것으로 플라즈마 처리부(1400) 우측에 설치된다. 본 발명에 의한 일실시예는 플라즈마 처리부(1400)에 의해 산화물과 기타 불순물 등이 제거된 표면 개질층이 형성되므로, 은층착부(1500)에 의한 은증착막이 강한 접착력을 갖고 형성된다.Referring to FIG. 5, an embodiment according to the present invention has a silver deposition unit 1500. Referring to FIG. 3, the silver deposition unit 1500 is formed on the right side of the plasma processing unit 1400 to form a silver deposition film on the modified layer in the vacuum chamber 1100. According to the exemplary embodiment of the present invention, since the surface modification layer in which oxides and other impurities are removed by the plasma processing unit 1400 is formed, the silver deposition film by the silver layer deposition unit 1500 is formed with a strong adhesive force.

도5를 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 보호막증착부(1600)를 갖는다. 도3을 참조하면 보호막증착부(1600)는 진공챔버(1100)내에서 은증착막에 보호층(Protect Layer)를 형성하기 위한 것으로 은증착부(1500) 우측에 설치된다. 보호층은 은증착막을 보호하기 위한 것으로서 SiO2를 증착시켜 SiO2층이 되도록 하는 것이 바람직하다.Referring to Figure 5 one embodiment according to the present invention has a protective film deposition portion 1600. Referring to FIG. 3, the protective film deposition unit 1600 is formed on the right side of the silver deposition unit 1500 to form a protective layer on the silver deposition film in the vacuum chamber 1100. The protective layer is used to protect the silver deposition film, so that SiO 2 is deposited to be a SiO 2 layer.

도5 및 도3을 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 코팅부(1700)가 설치된다. 코팅부(1700)는 보호층을 보호하기 위한 것으로 진공챔버(1100) 내에서 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 것으로서, 보호막증착부(1600) 우측에 설치된다.5 and 3, in one embodiment according to the present invention, a coating unit 1700 is installed. The coating unit 1700 is to protect the protective layer and is to coat the protective film on the protective layer in the vacuum chamber 1100, and is installed on the right side of the protective film deposition unit 1600.

도5를 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 제1 스테인레스 리코일러부(1800)를 갖는다. 제1 스테인레스 리코일러부(1800)는 보호필름이 코팅된 스테인레스를 다시 감아주기 위한 것으로 진공챔버(1100)내 코팅부(1700) 우측에 설치된다.Referring to FIG. 5, an embodiment according to the present invention has a first stainless recoiler portion 1800. The first stainless recoiler part 1800 is for rewinding the stainless steel coated with the protective film and is installed on the right side of the coating part 1700 in the vacuum chamber 1100.

상기한 일실시예의 경우 코팅층(보호필름)을 제거하기 위한 코팅제거부(1300)가 설치되는 것으로 하였으나, 다른 실시예의 경우 코팅제거부(1300)가 설치되지 않을 수도 있다. 이때, 제1 스테인레스 언코일러부(1200)로부터 풀려지는 스테인레스는 그 표면에 코팅층(보호필름)이 형성되어 있지 않아야 한다.In the above-described embodiment, the coating removal unit 1300 is installed to remove the coating layer (protective film). However, in another embodiment, the coating removal unit 1300 may not be installed. At this time, the stainless released from the first stainless uncoiler 1200 should not have a coating layer (protective film) formed on the surface thereof.

상기한 일실시예의 경우 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 코팅부(1700)가 설치되는 것으로 하였으나, 다른 실시예의 경우 코팅부(1700)가 설치되지 않을 수도 있다. 즉, 본 발명에 의한 실버 리플렉터는 코일 형태로 감겨 있으므로 최외각을 감싸는 은반사판을 제외하고는 대기 중에서 대기 및 타 물질과 접촉하지 않아 그 표면이 손상될 염려가 적으므로 반드시 코팅부(1700)가 설치되지 않을 수도 있는 것이다.In the case of the embodiment described above, the coating part 1700 for coating the protective film is installed on the protective layer, but in another embodiment, the coating part 1700 may not be installed. That is, since the silver reflector according to the present invention is wound in the form of a coil, the surface of the silver reflector is less likely to be damaged because it is not in contact with the atmosphere and other materials in the air, except for the silver reflecting plate surrounding the outermost shell. It may not be installed.

티타늄 칼라 스테인레스 제조장치Titanium Collar Stainless Steel Manufacturing Equipment

이하, 도4 및 도6을 참조하여 본 발명에 따른 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치의 일실시예에 대해 설명한다.Hereinafter, an embodiment of a titanium color stainless manufacturing apparatus according to the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 6.

도4는 본 발명에 따른 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 의한 내·외장용 티타늄 칼라 스테인레스의 개략도를, 도6은 본 발명에 따른 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치의 개략도를 나타낸다.Figure 4 is a schematic diagram of the interior and exterior titanium color stainless by the titanium color stainless production apparatus according to the present invention, Figure 6 shows a schematic view of the titanium color stainless production apparatus according to the present invention.

도6을 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 하나의 진공챔버(chamber)(2100)를 갖는다. 진공챔버(chamber)(2100)에는 가스가 채워지는데, 가스는 아르곤(Ar) 및 질소(N2) 가스이고, 티타늄 칼라 스테인레스가 제조되기 위한 진공챔버(chamber)(2100)의 온도는 200℃이고, 압력은 5×10-3Torr인 것이 바람직하다.Referring to Figure 6, one embodiment according to the present invention has a vacuum chamber (2100). The vacuum chamber 2100 is filled with gas, and the gases are argon (Ar) and nitrogen (N 2 ) gas, and the temperature of the vacuum chamber 2100 for producing titanium color stainless is 200 ° C. , The pressure is preferably 5x10 -3 Torr.

도6을 참조하면 진공챔버(chamber)(2100) 내부에는 제1 스테인레스 언코일러 부(2200)가 설치된다. 제1 스테인레스 언코일러부(2200)는 코일형태로 감겨져 설치된 스테인레스를 풀어주기 위해 설치된다.Referring to FIG. 6, a first stainless uncoiler part 2200 is installed inside a vacuum chamber 2100. The first stainless uncoiler part 2200 is installed to release the stainless steel wound in a coil shape.

본 발명에 따른 일실시예에 있어서, 제1 스테인레스 언코일러부(2200)로부터 풀려지는 로울(roll) 형태의 스테인레스 스틸은 그 표면 보호를 위한 코팅층(보호필름)이 형성되어 있는 것이 보통이다. 따라서, 도6을 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 코팅층(보호필름)을 제거하기 위한 코팅제거부(2300)가 설치된다. 코팅제거부(2300)는 제1 스테인레스 언코일러부(2200) 우측에 설치된다.In one embodiment according to the present invention, the roll-type stainless steel unrolled from the first stainless uncoiler part 2200 is usually formed with a coating layer (protective film) for protecting the surface. Therefore, referring to FIG. 6, in one embodiment according to the present invention, a coating remover 2300 for removing a coating layer (protective film) is installed. The coating remover 2300 is installed on the right side of the first stainless uncoiler 2200.

도6을 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 플라즈마 처리부(2400)를 갖는다. 플라즈마 처리부(2400)는 코팅제거부(2300)에 의해 코팅층(보호필름)이 제거된 스테인레스 스틸의 표면을 진공챔버(chamber)(2100)에서 개질시켜 개질층을 형성하기 위한 것이다.Referring to FIG. 6, an embodiment according to the present invention has a plasma processor 2400. The plasma processing unit 2400 is to form a modified layer by modifying the surface of the stainless steel from which the coating layer (protective film) has been removed by the coating removing unit 2300 in the vacuum chamber 2100.

도4를 참조하면 플라즈마 처리부(2400)를 거침으로써 스테인레스 스틸 표면에 존재하는 Fe2O3등의 산화물과 기타 불순물 등이 제거된 표면 개질층이 형성된다.Referring to FIG. 4, a surface modification layer is formed by removing oxides such as Fe 2 O 3 and other impurities from the stainless steel surface by passing through the plasma processing unit 2400.

도6을 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 티타늄증착부(2500)를 갖는다. 도4를 참조하면 티타늄증착부(2500)는 진공챔버(2100)내에서 개질층에 티타늄증착막을 형성하기 위한 것으로 플라즈마 처리부(2400) 우측에 설치된다. 티타늄증착부(2500)에 의해 증착되는 티타늄증착막은 TixNy의 형태이다. 이때, 동일한 x값에 대해 y값이 클수록 색깔이 어두워지므로TiN이 되도록 하는 것이 바람직하다. 한편, 본 발명에 의한 일실시예는 플라즈마 처리부(2400)에 의해 산화물과 기타 불순물 등이 제거된 표면 개질층이 형성되므로, 티타늄증착부(2500)에 의한 티타늄증착막이 강한 접착력을 갖고 형성된다.Referring to Figure 6 one embodiment according to the present invention has a titanium deposition portion 2500. Referring to FIG. 4, the titanium deposition unit 2500 is formed on the right side of the plasma processing unit 2400 to form a titanium deposition film on the modified layer in the vacuum chamber 2100. The titanium deposition film deposited by the titanium deposition portion 2500 is in the form of Ti x N y . At this time, since the larger the y value for the same x value, the darker the color, it is preferable to make TiN. On the other hand, according to the embodiment of the present invention, since the surface modification layer in which oxides and other impurities are removed by the plasma processing unit 2400 is formed, the titanium deposition film by the titanium deposition unit 2500 is formed with a strong adhesive force.

도6을 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 보호막증착부(2600)를 갖는다. 도4를 참조하면 보호막증착부(2600)는 진공챔버(2100)내에서 티타늄증착막에 보호층(Protect Layer)를 형성하기 위한 것으로 티타늄증착부(2500) 우측에 설치된다. 보호층은 티타늄증착막을 보호하기 위한 것으로서 SiO2를 증착시켜 SiO2층이 되도록 하는 것이 바람직하다.Referring to Figure 6 one embodiment according to the present invention has a protective film deposition portion (2600). Referring to FIG. 4, the protective film deposition part 2600 is formed on the right side of the titanium deposition part 2500 to form a protective layer on the titanium deposition film in the vacuum chamber 2100. The protective layer is preferably vapor-deposited a SiO 2 serves to protect the titanium vapor-deposited film so that the SiO 2 layer.

도6 및 도4를 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 코팅부(2700)가 설치된다. 코팅부(2700)는 보호층을 보호하기 위한 것으로 진공챔버(2100) 내에서 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 것으로서, 보호막증착부(2600) 우측에 설치된다.6 and 4, in one embodiment, the coating part 2700 is installed. The coating part 2700 is for protecting the protective layer, and is for coating the protective film on the protective layer in the vacuum chamber 2100. The coating part 2700 is installed on the right side of the protective film deposition part 2600.

도6을 참조하면 본 발명에 따른 일실시예는 제1 스테인레스 리코일러부(2800)를 갖는다. 제1 스테인레스 리코일러부(2800)는 보호필름이 코팅된 스테인레스를 다시 감아주기 위한 것으로 진공챔버(2100)내 코팅부(2700) 우측에 설치된다.Referring to FIG. 6, an embodiment according to the present invention has a first stainless recoiler portion 2800. The first stainless recoiler part 2800 is for rewinding the stainless steel coated with the protective film and is installed on the right side of the coating part 2700 in the vacuum chamber 2100.

상기한 일실시예의 경우 코팅층(보호필름)을 제거하기 위한 코팅제거부(2300)가 설치되는 것으로 하였으나, 다른 실시예의 경우 코팅제거부(2300)가 설치되지 않을 수도 있다. 이때, 제1 스테인레스 언코일러부(2200)로부터 풀려지는 스테인레스는 그 표면에 코팅층(보호필름)이 형성되어 있지 않아야 한다.In the above-described embodiment, the coating removal unit 2300 is installed to remove the coating layer (protective film), but in another embodiment, the coating removal unit 2300 may not be installed. At this time, the stainless released from the first stainless uncoiler part 2200 should not have a coating layer (protective film) formed on the surface thereof.

상기한 일실시예의 경우 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 코팅부(2700)가 설치되는 것으로 하였으나, 다른 실시예의 경우 코팅부(2700)가 설치되지 않을 수도 있다. 즉, 본 발명에 의한 티타늄 칼라 스테인레스는 코일 형태로 감겨 있으므로 최외각을 감싸는 티타늄 칼라 스테인레스를 제외하고는 대기 중에서 대기 및 타 물질과 접촉하지 않아 그 표면이 손상될 염려가 적으므로 반드시 코팅부(2700)가 설치되지 않을 수도 있는 것이다.In the case of the above embodiment, the coating part 2700 for coating the protective film is installed on the protective layer, but in another embodiment, the coating part 2700 may not be installed. That is, since the titanium color stainless according to the present invention is wound in the form of a coil, except for the titanium color stainless covering the outermost part, the surface of the titanium color stainless may not be in contact with the atmosphere and other materials in the air, so that the surface thereof may be damaged. ) May not be installed.

상기한 일실시예의 경우 진공챔버(2100) 내에 채워지는 가스는 아르곤(Ar) 및 질소(N2) 가스인 것으로 하였으나, 다른 실시예의 경우 아세틸린(C2H2) 및 질소(N2) 일 수도 있다.In the above embodiment, the gas filled in the vacuum chamber 2100 is argon (Ar) and nitrogen (N 2 ) gas, but in another embodiment, acetylene (C 2 H 2) and nitrogen (N 2 ) It may be.

상기한 일실시예의 경우 티타늄 칼라 스테인레스가 제조되기 위한 진공챔버(chamber)(2100)의 온도는 200℃이고, 압력은 5×10-3Torr인 것으로 하였으나, 당업자가 변경 가능한 기타의 온도 및 압력일 수 있다. 이때, 압력변화를 위해서는 아르곤(Ar)의 양을 조절하는 것이 바람직하다.In the above-described embodiment, the temperature of the vacuum chamber 2100 for producing titanium color stainless is 200 ° C., and the pressure is 5 × 10 −3 Torr. Can be. At this time, it is preferable to adjust the amount of argon (Ar) in order to change the pressure.

본 발명에 따른 실버 리플렉터 제조장치에 의한 은반사판은 스테인레스 스틸(Stainless Steel)로 된 지지대에 은(Ag)증착막을 직접 증착하기 위하여 스테인레스 스틸(Stainless Steel) 지지대의 표면에 개질층을 형성하고, 이에 은(Ag)을 증착시킴으로써 반사판의 두께가 0.12㎜로 감소되고, 개질층에 은층착막이 강하게 접착되는 장점이 있다. 이에 따라 LCD판의 두께가 얇아지고, 엘시디 백 라이트(LCD Back Light)를 사용하는 노트북 등의 무게가 가벼워져서, 노트북 등을 소형화, 경 량화할 수 있는 장점이 있다.The silver reflector plate according to the silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention forms a modified layer on the surface of the stainless steel support to directly deposit the silver (Ag) deposition film on the support made of stainless steel (Stainless Steel), By depositing silver (Ag), the thickness of the reflecting plate is reduced to 0.12 mm, and there is an advantage in that the silver adhesion film is strongly bonded to the modified layer. As a result, the thickness of the LCD panel becomes thinner and the weight of a notebook using an LCD back light becomes lighter, and thus, the notebook, etc. can be miniaturized and lightened.

또한, 본 발명에 따른 실버 리플렉터 제조장치는 하나의 진공챔버(chamber)내에 스테인레스 스틸(Stainless Steel) 지지대의 표면 개질을 위한 플라즈마 처리부와, 표면 개질층에 은을 증착하기 위한 은층착부와, 은증착층을 보호하기 위하여 보호층을 형성하는 보호막증착부를 구비함으로써, 공정을 간소화하여 비용이 절감된 은반사판을 제조하는 장점이 있기도 하다.In addition, the silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention is a plasma processing unit for the surface modification of the stainless steel (Stainless Steel) support in one vacuum chamber, a silver depositing portion for depositing silver on the surface modification layer, silver deposition In order to protect the layer by providing a protective film deposition forming a protective layer, there is an advantage in producing a silver reflective plate to simplify the process to reduce the cost.

또한, 본 발명에 따른 실버 리플렉터 제조장치는 은반사판의 지지대를 이루는 스테인레스 스틸(Stainless Steel)을 코일형태로 감겨진 로울(roll) 형상으로 하고 로울(roll) 형태의 스테인레스 스틸(Stainless Steel)을 풀기위한 언코일러부를 구비함으로써 스테인레스 스틸(Stainless Steel)이 순차적으로 풀려가면서 은반사판이 제조되고, 다시 은반사판을 로울(roll) 형태로 감기 위한 리코일러부를 구비함으로써, 공정이 간소화되고 비용이 절감된 은반사판을 제조하는 장점이 있기도 하다.In addition, the silver reflector manufacturing apparatus according to the present invention to form a roll (roll) wound stainless steel (Stainless Steel) forming the support of the silver reflection plate in the form of a coil (roll) and to unwind the stainless steel (roll) The silver reflector plate is manufactured while the stainless steel is sequentially released by providing the uncoiler part, and the recoiler part for winding the silver reflector plate in a roll form is again provided, thereby simplifying the process and reducing the cost. There is also the advantage of manufacturing swash plate.

한편, 본 발명에 따른 내·외장용 티타늄 칼라 스테인레스를 제조하기 위한 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치는 상기 진공챔버(chamber) 내에 아르곤(Ar), 질소(N2)를 주입하고, 은증착부 대신 티타늄증착부를 구비함으로써, 두께가 얇고 공정이 간소하며 제조비용이 절감된 내·외장용 티타늄 칼라 스테인레스를 제조할 수 있는 장점이 있다.On the other hand, the titanium color stainless manufacturing apparatus for manufacturing the interior and exterior titanium color stainless according to the present invention injects argon (Ar), nitrogen (N 2 ) in the vacuum chamber (chamber), instead of the silver deposition portion titanium deposition unit By providing, there is an advantage that can be produced for the interior and exterior titanium color stainless steel is thin, the process is simple and the manufacturing cost is reduced.

Claims (7)

스테인레스를 이용하여 엘시디 백 라이트에 사용되는 은반사판을 제조하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치에 있어서,In the silver reflector manufacturing apparatus for producing a silver reflector used for an LCD backlight using a stainless, 진공챔버(chamber)와,Vacuum chamber, 코일형태로 감겨져 설치된 스테인레스를 풀어주기 위해 상기 진공챔버 내에 설치되는 제1 스테인레스 언코일러부와,A first stainless uncoiler part installed in the vacuum chamber to release the stainless steel wound in a coil shape; 상기 진공챔버 내에서 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀어진 스테인레스 표면에 개질층을 형성하기 위한 플라즈마 처리부와,A plasma processing unit for forming a modified layer on the stainless surface released from the first stainless uncoiler in the vacuum chamber; 상기 제1 스테인레스 언코일러부와 상기 플라즈마 처리부 사이에 설치되어 상기 코팅층을 제거하기 위한 코팅제거부와,A coating removal part installed between the first stainless uncoiler part and the plasma processing part to remove the coating layer; 상기 진공챔버 내에서 상기 개질층에 은증착막을 형성하기 위한 은증착부와,A silver deposition portion for forming a silver deposition film on the modified layer in the vacuum chamber; 상기 진공챔버 내에서 상기 은증착막에 보호층을 형성하기 위한 보호막증착부와,A protective film deposition part for forming a protective layer on the silver deposition film in the vacuum chamber; 상기 보호층이 증착된 스테인레스를 다시 감아주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 리코일러부와,A first stainless recoiler unit installed in the vacuum chamber to rewind the stainless on which the protective layer is deposited; 상기 보호막 증착부와 상기 제1 스테인레스 리코일러부 사이에 설치되어 상기 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 코팅부를 포함하는 것을 특징으로 하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치.Silver reflector manufacturing apparatus characterized in that it is provided between the protective film deposition portion and the first stainless recoiler portion comprises a coating for coating a protective film on the protective layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 보호층은 SiO2층인 것을 특징으로 하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치.Silver reflector manufacturing apparatus, characterized in that the protective layer is a SiO 2 layer. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀려지는 스테인레스는 그 표면에 코팅층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 실버 리플렉터(silver reflector) 제조장치.The stainless reflector is released from the first stainless uncoiler is a silver reflector (silver reflector) manufacturing apparatus, characterized in that the coating layer is formed on the surface. 스테인레스를 이용하여 내·외장용 티타늄 칼라 스테인레스를 제조하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치에 있어서,In the titanium color stainless manufacturing apparatus for manufacturing the interior and exterior titanium color stainless using stainless, 가스가 채워진 진공챔버(chamber)와,A vacuum chamber filled with gas, 코일형태로 감겨져 설치된 스테인레스를 풀어주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 언코일러부와,A first stainless uncoiler part installed in the vacuum chamber to release the stainless steel wound in a coil shape; 상기 진공챔버 내에서 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀어진 스테인레스 표면에 개질층을 형성하기 위한 플라즈마 처리부와,A plasma processing unit for forming a modified layer on the stainless surface released from the first stainless uncoiler in the vacuum chamber; 상기 제1 스테인레스 언코일러부와 상기 플라즈마 처리부 사이에 설치되어 상기 코팅층을 제거하기 위한 코팅제거부와,A coating removal part installed between the first stainless uncoiler part and the plasma processing part to remove the coating layer; 상기 진공챔버 내에서 상기 개질층에 티타늄증착막을 증착시키기 위한 티타늄증착부와,A titanium deposition portion for depositing a titanium deposition film on the modified layer in the vacuum chamber; 상기 진공챔버 내에서 상기 티타늄증착막에 보호층을 형성하기 위한 보호막증착부와,A protective film deposition part for forming a protective layer on the titanium deposition film in the vacuum chamber; 상기 보호층이 증착된 스테인레스를 다시 감아주기 위해 상기 진공챔버내에 설치되는 제1 스테인레스 리코일러부와,A first stainless recoiler unit installed in the vacuum chamber to rewind the stainless on which the protective layer is deposited; 상기 보호막 증착부와 상기 제1 스테인레스 리코일러부 사이에 설치되어 상기 보호층에 보호필름을 코팅하기 위한 코팅부를 포함하는 것을 특징으로 하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치.Titanium color stainless steel manufacturing apparatus characterized in that it is provided between the protective film deposition portion and the first stainless recoiler portion to include a coating for coating a protective film on the protective layer. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 가스는 아르곤(Ar) 및 질소(N2) 가스이고,The gas is argon (Ar) and nitrogen (N 2 ) gas, 상기 보호층은 SiO2층인 것을 특징으로 하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치.The protective layer is a titanium color stainless production apparatus, characterized in that the SiO 2 layer. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 제1 스테인레스 언코일러부로부터 풀려지는 스테인레스는 그 표면에 코팅층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 티타늄 칼라 스테인레스 제조장치.Stainless steel released from the first stainless uncoiler portion is a titanium color stainless production apparatus, characterized in that the coating layer is formed on the surface. 보호층과;A protective layer; 상기 보호층 상에 형성된 은 또는 티타늄 증착막과;A silver or titanium deposition film formed on the protective layer; 상기 증착막 상에 형성되며, 플라즈마 처리된 표면 개질층과;A surface modification layer formed on the deposition film and subjected to plasma treatment; 상기 표면 개질층 상에 형성된 스테인레스 스틸을 포함하는 제1항 내지 제6항의 제조장치에 의해 제조된 리플렉터.A reflector manufactured by the manufacturing apparatus of claim 1 comprising stainless steel formed on the surface modification layer.
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