KR100627420B1 - 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 - Google Patents

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법 Download PDF

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Abstract

플라즈마 표시 장치에서, 복수의 서브필드 중 제1 서브필드에서는 복수의 방전 셀에서 발광 셀을 선택하고 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시킨다. 그리고 제1 서브필드와 이어지는 복수의 제2 서브필드에서는 상기 복수의 방전 셀 중 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 제외한 복수의 방전 셀에서 발광 셀을 선택하고, 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시킨다. 이렇게 하면, 방전 셀이 발광 셀 상태로 된 서브필드와 연속되는 서브필드에 의해 계조가 표현되므로 의사 윤곽이 발생하지 않는다.
PDP, 전극, 방전, 기입, 리셋, 계조, 발광, 의사 윤곽, 명암비,

Description

플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법{PLASMA DISPLAY AND DRIVING METHOD THEREOF}
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3 및 도 4는 각각 본 발명의 제1 및 제2 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 계조 표현 방법을 나타내는 도면이다.
도 5는 도 2에 도시된 구동 방법에 대한 구체적인 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다.
도 6은 도 5에 도시된 유지 기간에서의 구동 파형과 다른 구동 파형을 나타낸 도면이다.
본 발명은 플라즈마 표시 장치 및 그 구동 방법에 관한 것이다.
플라즈마 표시 장치는 기체 방전에 의해 생성된 플라즈마를 이용하여 문자 또는 영상을 표시하는 플라즈마 표시 패널을 이용한 표시 장치이다. 이러한 플라즈 마 표시 패널에는 복수의 방전 셀이 매트릭스 형태로 배열되어 있다.
플라즈마 표시 장치에서는 한 필드(1TV 필드)가 각각의 가중치를 가지는 복수의 서브필드로 분할되어 구동되며, 복수의 서브필드 중 표시 동작이 일어나는 서브필드의 가중치의 조합에 의해 계조가 표시된다. 각 서브필드의 어드레스 기간에서 발광할 방전 셀과 발광하지 않을 방전 셀이 선택되고, 유지 기간에서 선택된 발광 할 방전 셀이 해당 서브필드의 가중치에 해당하는 기간 동안 유지 방전되어 화상이 표시된다.
이러한 플라즈마 표시 장치는 계조 표현을 위해 서로 다른 가중치를 가지는 서브필드를 사용한다. 그리고 복수의 서브필드에서 방전 셀이 발광하는 서브필드의 가중치의 총합에 의해 해당 방전 셀의 계조가 표현된다. 예를 들어, 2의 거듭제곱 형태로 가중치를 가지는 서브필드를 사용하는 경우에 한 방전 셀이 연속되는 두 프레임에서 각각 127 계조와 128 계조를 표현하는 경우에는 의사 윤곽(dynamic false contour)이 발생하게 된다.
그리고 각 서브필드에서 발광 할 셀과 발광하지 않을 셀을 결정하기 위해서는 모든 서브필드에 리셋 기간이 형성된다. 즉, 발광하지 않는 셀도 리셋 기간에서 방전이 일어나므로 명암비가 저하된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 의사 윤곽을 저감시키고 명암비를 향상시킬 수 있는 플라즈마 표시 장치 및 그의 구동 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 한 특징에 따르면, 복수의 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법이 제공된다. 이 구동 방법은 상기 복수의 서브필드 중 제1 서브필드에서, 상기 복수의 방전 셀에서 발광 셀을 선택하고 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계, 그리고 상기 제1 서브필드와 연속되는 복수의 제2 서브필드에서, 상기 복수의 방전 셀 중 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 제외한 복수의 방전 셀에서 발광 셀을 선택하고, 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 따르면, 복수의 방전 셀이 형성되어 있는 플라즈마 표시 패널, 상기 플라즈마 표시 패널을 구동하는 구동부, 그리고 한 필드가 복수의 서브필드로 분할되어 계조가 표현되도록 상기 구동부의 구동을 제어하는 제어부를 포함하는 플라즈마 표시 장치가 제공된다. 이때, 상기 구동부는, 상기 복수의 서브필드 중 적어도 하나의 서브필드에서는 직전 서브필드의 발광 셀은 그대로 유지하고 상기 직전 서브필드의 비발광 셀에서 발광 셀을 선택한다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극, 상기 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극 및 상기 제1 전극, 상기 제2 전극 및 상기 제3 전극에 의해 각각 정의되는 복수의 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법이 제공된다. 이 구동 방법은 상기 복수의 서브필드를 제1 및 제2 서브필드 그룹을 포함하는 복수의 서브필드 그룹으로 분할하는 단계, 상기 제1 서브필드 그룹의 각 서브필드의 리셋 기간 동안 상기 복수의 방전 셀을 비발광 셀로 초기화하 는 단계, 상기 제1 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제1 어드레스 기간 동안 상기 복수의 방전 셀에서 발광 셀 상태로 선택할 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 주사 펄스 및 제1 어드레스 펄스를 인가하는 단계, 상기 제1 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제1 유지 기간 동안 상기 제1 전극의 전압에서 상기 제2 전극의 전압을 뺀 전압이 양의 전압과 음의 전압을 교대로 가지도록 하여 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계, 상기 제2 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제2 어드레스 기간 동안 직전 서브필드에서 발광 셀 상태의 방전 셀을 제외한 나머지 방전 셀에서 발광 셀 상태로 선택할 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제2 주사 펄스 및 제2 어드레스 펄스를 인가하는 단계, 그리고 상기 제2 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제2 유지 기간 동안 상기 제1 전극의 전압에서 상기 제2 전극의 전압을 뺀 전압이 양의 전압과 음의 전압을 교대로 가지도록 하여 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계를 포함한다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시 예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시 예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
그리고 본 발명에서의 벽 전하란 셀의 벽(예를 들어, 유전체층) 상에서 각 전극에 가깝게 형성되는 전하를 말한다. 그리고 벽 전하는 실제로 전극 자체에 접촉되지는 않지만, 여기서는 전극에 “형성됨”, “축적됨” 또는 “쌓임”과 같이 설명한다. 또한 벽 전압은 벽 전하에 의해서 셀의 벽에 형성되는 전위 차를 말한다.
본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치에 대해서 도 1을 참조하여 자세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치를 나타내는 도면이다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치는 플라즈마 표시 패널(100), 제어부(200), 어드레스 전극 구동부(300), 주사 전극 구동부(400) 및 유지 전극 구동부(500)를 포함한다.
플라즈마 표시 패널(100)은 열 방향으로 뻗어 있는 복수의 어드레스 전극(이하 “A 전극”이라 함)(A1∼Am), 그리고 행 방향으로 서로 쌍을 이루면서 뻗어 있는 복수의 유지 전극(이하, “X 전극”이라 함)(X1∼Xn) 및 주사 전극(이하 “Y 전극”이라 함)(Y1∼Yn)을 포함한다. 일반적으로 X 전극(X1∼Xn)은 각 Y 전극(Y1∼Yn)에 대응해서 형성되어 있으며, X 전극과 Y 전극이 유지 기간에서 화상을 표시하기 위한 표시 동작을 수행한다. Y 전극(Y1∼Yn)과 X 전극(X1∼Xn)은 A 전극(A1∼Am)과 직교하도록 배치된다. 이때, A 전극(A1∼Am)과 X 및 Y 전극(X1∼Xn, Y1∼Yn)의 교차부에 있는 방전 공간이 셀(12)을 형성한다. 이러한 플라즈마 표시 패널(100)의 구조는 일 예이며, 아래에서 설명하는 구동 파형이 적용될 수 있는 다른 구조의 패널도 본 발명에 적용될 수 있다.
제어부(200)는 외부로부터 영상 신호를 수신하여 A 전극 구동 제어 신호, X 전극 구동 제어 신호 및 Y 전극 구동 제어 신호를 출력한다. 그리고 제어부(200)는 한 프레임을 복수의 서브필드로 분할하여 구동한다.
어드레스 전극 구동부(300)는 제어부(200)로부터 A 전극 구동 제어 신호를 수신하여 표시하고자 하는 방전 셀을 선택하기 위한 표시 데이터 신호를 각 A 전극에 인가한다.
주사 전극 구동부(400)는 제어부(200)로부터 Y 전극 구동 제어 신호를 수신하여 Y 전극에 구동 전압을 인가한다.
유지 전극 구동부(500)는 제어부(200)로부터 X 전극 구동 제어 신호를 수신하여 X 전극에 구동 전압을 인가한다.
다음, 도 2를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법에 대해서 상세하게 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 2에서는 한 필드(1TV 필드)가 8개의 서브필드로 이루어지는 것으로 도시하였다.
도 2에 나타낸 바와 같이, 한 필드는 복수의 서브필드(SF1∼SF8)로 이루어진다. 이때, 제1 서브필드(SF1)는 리셋 기간(MR), 어드레스 기간(WA1) 및 유지 기간(S1)으로 이루어지며, 제2 내지 제8 서브필드(SF1∼SF8)는 어드레스 기간(WA2∼WA8) 및 유지 기간(S2∼S8)으로 이루어진다. 그리고 제1 내지 제8 서브필드(SF1∼ SF8)의 어드레스 기간(EA1∼EA8)은 선택적 기입 방식(selective Write Address)으로 이루어진다.
선택적 기입 방식은 복수의 방전 셀 중에서 발광할 방전 셀과 발광하지 않을 방전 셀을 선택하기 위해, 발광할 방전 셀을 선택하여 일정한 벽 전압을 형성하는 방식이다. 즉, 선택적 기입 방식은 비발광 셀 상태의 셀을 어드레스 방전시켜서 벽 전하를 형성하여 발광 셀 상태로 설정하는 방식으로, 선택적 기입 방식에서 벽 전하를 형성하기 위한 어드레스 방전을 “기입 방전”이라 한다.
다시 도 2를 보면, 선택적 기입 방식의 어드레스 기간을 가지는 제1 서브필드(SF1)에서는 모든 방전 셀을 초기화하여 비발광 셀 상태로 설정하는 리셋 기간(MR)을 가진다. 즉, 제1 서브필드(SF1)의 리셋 기간(MR)에서는 먼저 모든 방전 셀을 초기화하여 비발광 셀 상태로 설정하고 어드레스 기간(WA1)에서 기입 방전이 가능한 상태로 설정한다. 이어서, 어드레스 기간(WA1)에서는 복수의 방전 셀 중 발광 셀로 설정할 방전 셀을 기입 방전시켜서 벽 전하를 형성하고, 유지 기간(S1)에서 발광 셀을 유지 방전시킨다.
다음, 제2 서브필드(SF2)는 제1 서브필드(SF1)와 유사하다. 단, 제2 서브필드(SF2)에서는 리셋 기간(MR)이 수행되지 않는다. 즉, 제2 서브필드(SF2)의 어드레스 기간(WA2)에서는 제1 서브필드(SF1)의 어드레스 기간(WA1)에서 발광 셀로 설정된 방전 셀을 제외한 복수의 방전 셀에서 발광 셀로 설정할 방전 셀을 기입 방전시켜서 벽 전하를 형성한다. 이어서, 유지 기간(S2)에서는 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시킨다. 이때, 제1 서브필드(SF1)의 어드레스 기간(WA1)에서 발광 셀 로 설정된 방전 셀은 계속 발광 셀 상태이므로 제2 서브필드(SF2)의 유지 기간(S2)에서도 유지 방전된다.
그리고 나머지 서브필드(SF3∼SF8)에서도 앞서 설명한 제2 서브필드(SF12)와 마찬가지로 어드레스 기간(WA3∼WA8) 및 유지 기간(S3∼S8)이 수행된다.
이와 같이 하면, 제1 서브필드(SF1)에서 기입 방전으로 발광 셀로 설정된 방전 셀은 이어지는 서브필드(SF2∼SF8)의 어드레스 기간(WA2∼WA8)에서도 발광 셀 상태이므로 서브필드(SF2∼SF8)의 유지 기간(S2∼S8)에서도 유지 방전을 수행하게 된다.
다음, 도 3 및 도 4를 참조하여 도 2의 구동 방법으로 계조를 표현하는 방법에 대해서 설명한다.
도 3 및 도 4는 각각 본 발명의 제1 및 제2 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 계조 표현 방법을 나타내는 도면이다. 도 3 및 도 4에서 “1”은 방전 셀이 발광 셀 상태인 서브필드를 나타내며, “0”은 방전 셀이 비발광 셀 상태인 서브필드를 나타낸다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 한 필드에서 복수의 서브필드의 가중치가 모두 동일하며, 도 3에서는 서브필드의 가중치를 32로 도시하였다. 제1 서브필드(SF1)의 어드레스 기간(WA1)에서 기입 방전이 일어나 발광 셀로 되면, 이어지는 서브필드(SF2∼SF8)에서도 계속 발광 셀 상태이므로, 256(=32×8) 계조를 표현할 수 있다. 그리고 제1 서브필드(SF1)의 어드레스 기간(WA1)에서 기입 방전이 일어나지 않고 제2 서브필드(SF2)의 어드레스 기간(WA2)에서 기입 방전이 일어나 발광 셀로 되면, 이어지는 서브필드(SF3∼SF8)에서도 계속 발광 셀 상태이므로, 224(=32×7) 계조를 표현할 수 있다. 이처럼, 기입 방전이 일어나 방전 셀이 발광 셀 상태로 된 서브필드로부터 연속되는 서브필드에 의해 계조가 표현되며, 0계조부터 256(=32×8) 계조 중에서 32의 배수에 해당하는 계조를 표현할 수 있다. 이때, 32의 배수가 아닌 계조는 디더링을 사용하여 표현할 수 있다. 이러한 디더링은 특정의 계조를 조합하여 일정 영역 내에서 표현하고자 하는 계조와 평균적으로 근접하여 표현하는 기술이다.
한편, 도 3과는 달리, 제2 실시 예에서는 한 필드에서 각 서브필드 중 적어도 일부를 다르게 설정한다. 도 4에서는 한 필드에서 복수의 서브필드(SF1∼SF8)는 각각 128, 64, 32, 16, 8, 4, 2 및 1의 가중치를 가지는 것으로 도시하였다. 이때, 한 필드에서 복수의 서브필드(SF1∼SF8)를 배열할 때, 가중치가 높은 서브필드부터 가중치가 낮은 서브필드 순으로 배열한다. 그리고 도 3에서와 동일한 방법으로 계조를 표현한다. 즉, 제1 서브필드(SF1)의 어드레스 기간(WA1)에서 기입 방전이 일어나 발광 셀로 되면, 이어지는 서브필드(SF2∼SF8)에서도 계속 발광 셀 상태이므로, 255(=128+64+32+16+8+4+2+1) 계조를 표현할 수 있다. 그리고 방전 셀이 제1 내지 제6 서브필드(SF1∼SF6)의 어드레스 기간(WA1∼WA6)에서 기입 방전이 일어나지 않고 제7 서브필드(SF7)의 어드레스 기간(WA7)에서 기입 방전이 일어나 발광 셀로 되면, 3(=2+1) 계조를 표현할 수 있다. 마찬가지로, 제1 내지 제7 서브필드(SF1∼SF7)의 어드레스 기간(WA1∼WA7)에서 기입 방전이 일어나지 않고 제8 서브필드(SF8)의 어드레스 기간(WA8)에서 기입 방전이 일어나 발광 셀로 되면, 1 계조를 표 현할 수 있다. 그리고 각 서브필드(SF1∼SF8)의 조합으로 표현할 수 없는 계조는 디더링을 사용하여 표현한다.
따라서, 제2 실시 예에서는 1, 3, 7, 15, 31, 63, 127, 255의 계조를 서브필드(SF1∼SF8)의 조합으로 표현할 수 있다. 사람의 눈은 고계조에서의 계조 차이보다 저계조에서의 계조 차이를 잘 인식하기 때문에 제1 실시 예와 같이 저계조를 서브필드의 조합으로 표현하지 않고 디더링을 사용하여 표현하는 경우에는 저계조의 표현력이 저하될 수 있다. 그런데, 제2 실시 예에서는 제1 실시 예에서 디더링으로 표현되는 저계조 중에서 1, 3, 7, 15, 31 계조를 정확하게 표현할 수 있다. 또한, 이들 계조에 디더링을 적용하면, 1계조와 31계조 사이의 계조에 대한 표현력을 제1 실시 예에 비해서 높일 수 있다. 그리고 기입 방전이 일어나 방전 셀이 발광 셀 상태로 된 서브필드로부터 연속되는 서브필드의 가중치의 합에 의해 계조가 표현되므로, 도 4와 같이, 한 필드에서 복수의 서브필드(SF1∼SF8)를 가중치의 역순으로 배열하면, 저계조 표현력이 높아진다.
상술한 바와 같이, 도 2와 같은 구동 방법을 사용하면, 기입 방전이 일어나 방전 셀이 발광 셀 상태로 된 서브필드로부터 연속되는 서브필드의 가중치의 조합에 의해 계조가 표현되므로 의사 윤곽이 발생하지 않는다. 그리고 기입 방전이 일어나 방전 셀이 발광 셀 상태로 된 서브필드는 이후의 서브필드에서 계속 발광 셀 상태를 유지하므로, 어떤 계조를 표현하더라도 어드레스 기간에서 1회의 방전만이 일어난다. 따라서, 어드레스 방전에 따른 소비 전력이 줄어든다. 또한, 모든 서브필드(SF1∼SF8)에서 리셋 기간을 수행하지 않고 한 필드에서 한 번의 리셋 기간 (MR)만 수행하면 되므로, 명암비가 향상된다.
다음, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 표시 장치의 구동 방법에 사용되는 구동 파형에 대해서 도 5 및 도 6을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
도 5는 도 2에 도시된 구동 방법에 대한 구체적인 플라즈마 표시 장치의 구동 파형을 나타낸 도면이다. 도 5에서는 설명의 편의상 제1 및 제2 서브필드(SF1, SF2)만을 도시하였다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 제1 서브필드(SF1)의 리셋 기간(MR)에서는 X 전극에 기준 전압(도 3에서는 0V)을 인가한 상태에서, Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vset 전압까지 점진적으로 증가시킨다. 그러면, Y 전극의 전압이 증가하는 중에 Y 전극과 X 전극 사이에서 미약한 리셋 방전이 일어나면서 모든 방전 셀에 벽 전하가 형성된다. 이어서 X 전극에 Ve 전압을 인가한 상태에서, Y 전극의 전압을 Vs 전압에서 Vnf 전압까지 점진적으로 감소시킨다. 그러면, Y 전극의 전압이 감소하는 중에 Y 전극과 X 전극 사이에서 미약한 리셋 방전이 일어나면서 모든 방전 셀에 형성된 벽 전하가 소거되어 비발광 셀로 초기화된다. 일반적으로 (Vnf-Ve) 전압의 크기는 Y 전극과 X 전극 사이의 방전 개시 전압 근처로 설정된다. 그러면 Y 전극과 X 전극 사이의 벽 전압이 거의 0V가 되어, 어드레스 기간에서 기입 방전이 일어나지 않은 비발광 셀이 유지 기간에서 오방전하는 것을 방지할 수 있다.
어드레스 기간(WA1)에서는 X 전극에 Ve 전압을 인가한 상태에서, 복수의 Y 전극에 순차적으로 VscL 전압의 주사 펄스를 인가한다. 이때, 주사 펄스가 인가된 Y 전극에 의해 형성되는 방전 셀 중 발광할 방전 셀의 A 전극에 양의 전압의 어드 레스 펄스(도시하지 않음)를 인가한다. 그러면 주사 펄스의 VscL 전압과 어드레스 펄스의 양의 전압이 인가된 방전 셀에 기입 방전이 일어나서 X 전극과 Y 전극에 벽 전압이 형성되어 발광 셀로 된다. 그리고 주사 펄스가 인가되지 않는 Y 전극은 주사 펄스의 전압보다 높은 VscH 전압을 인가하고, 도시하지는 않았지만 어드레스 펄스가 인가되지 않는 A 전극에는 기준 전압을 인가한다.
유지 기간(S1)에서는 Y 전극과 X 전극에 하이 레벨 전압(도 3에서는 Vs 전압)과 로우 레벨 전압(도 3에서는 0V 전압)을 가지는 유지 방전 펄스를 반대 위상으로 인가하여 발광 셀을 유지 방전시킨다. 즉, Y 전극에 Vs 전압이 인가될 때 X 전극에는 0V 전압이 인가되고, X 전극에 Vs 전압이 인가될 때 Y 전극에는 0V 전압이 인가된다. 이때, 어드레스 기간(WA1)에서 기입 방전이 일어난 셀만이 발광 셀 상태로 되므로, 어드레스 기간(WA1)에서 기입 방전이 일어난 셀에서만 유지 방전이 일어난다. 이후, 유지 방전 펄스가 해당 서브필드가 표시하는 가중치에 대응하는 횟수만큼 Y 전극과 X 전극에 인가된다. 이때, X 전극에 Vs 전압이 인가되고 Y 전극에 0V 전압이 인가되어 마지막 유지 방전이 일어난다.
다음, 제2 서브필드(SF2)의 어드레스 기간(WA2) 및 유지 기간(S2)은 제1 서브필드(SF1)의 어드레스 기간(WA2) 및 유지 기간(S2)과 동일하다.
제1 서브필드(SF1)에서 X 전극에 Vs 전압이 인가되고 Y 전극에 0V 전압이 인가되어 유지 기간(S1)이 끝나는 이유에 대해 설명하면, 제1 서브필드(SF1)의 어드레스 기간(WA1)에서 발광 셀로 설정된 방전 셀은 이어지는 서브필드(SF2∼SF8)에서도 계속 발광 셀 상태이므로, 제2 서브필드(SF2)의 어드레스 기간(WA2)에서 기입 방전이 일어나지 않아도 유지 기간에서 발광 셀이 유지 방전되어야 한다. 따라서, 제1 서브필드(SF1)에서 X 전극에 Vs 전압이 인가되고 Y 전극에 0V 전압이 인가되어 유지 기간(S1)이 종료되면, 발광 셀의 Y 전극 및 X 전극에는 각각 (+) 벽 전하 및 (-) 벽 전하가 형성되므로, 제2 서브필드(SF2)의 어드레스 기간(WA2)에서 Y 전극에 VscL 전압의 주사 펄스가 인가되어도 기입 방전이 일어나지 않는다. 또한, 어드레스 기간(WA2)에서 기입 방전이 일어나지 않아도 유지 기간(S2)에서 Y 전극에 Vs 전압이 인가되고 X 전극에 0V 전압이 인가되면 발광 셀이 유지 방전된다.
한편, 본 발명의 실시 예에서는 한 필드에서 제1 서브필드(SF1)에만 어드레스 기간 직전에 모든 방전 셀을 초기화하는 리셋 파형을 인가하는 것으로 설명하였지만, 한 필드에서 시간적으로 앞에 있는 소정의 서브필드에 리셋 파형을 인가할 수도 있다.
또한, 본 발명의 실시 예에서는 한 필드의 복수의 서브필드를 그룹화하지 않는 것으로 설명하였지만, 한 필드에서 복수의 서브필드를 복수의 서브필드 그룹으로 나눌 수도 있다. 이 경우, 제1 서브필드 그룹은 리셋 기간, 어드레스 기간 및 유지 기간으로 이루어진 서브필드를 포함하며, 제2 서브필드 그룹은 어드레스 기간과 유지 기간으로 이루어진 서브필드를 포함한다. 그리고 제1 서브필드 그룹 중간 중간에 제2 서브필드 그룹이 배치될 수 있다.
그리고 도 5에서는 Vs 전압과 0V 전압을 교대로 가지는 유지 방전 펄스를 Y 전극과 X 전극에 반대 위상으로 인가하는 경우에 대해서 설명하였지만, 다른 형태의 유지 방전 펄스가 인가되는 경우에도 본 발명이 적용될 수 있다. 즉, 도 6과 같 이, X 전극이 0V 전압으로 바이어스된 상태에서 Y 전극에 Vs 전압과 -Vs 전압을 교대로 가지는 유지 방전 펄스가 인가되는 경우에도, 본 발명이 적용될 수 있다. 단, 이 경우에는 제1 서브필드(SF1)에서 Y 전극에 -Vs 전압이 인가되어 유지 기간(S1)이 끝나면 된다.
이상에서 본 발명의 실시 예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 기입 방전이 일어나 방전 셀이 발광 셀 상태로 된 서브필드와 연속되는 서브필드에 의해 계조가 표현되므로 의사 윤곽이 발생하지 않으며, 어떤 계조를 표현하더라도 어드레스 기간에서 1회의 방전만이 일어나므로, 어드레스 방전에 따른 소비 전력이 줄어든다. 또한, 한 필드에서 한 번의 리셋 기간(MR)만 수행하면 되므로, 명암비가 향상된다.

Claims (17)

  1. 복수의 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서,
    상기 복수의 서브필드 중 제1 서브필드에서, 상기 복수의 방전 셀에서 발광 셀을 선택하고 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계, 그리고
    상기 제1 서브필드와 연속되는 복수의 제2 서브필드에서, 상기 복수의 방전 셀 중 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 제외한 복수의 방전 셀에서 발광 셀을 선택하고, 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 제2 서브필드 중 하나의 제2 서브필드에서 선택된 상기 발광 셀 상태의 방전 셀이 유지 방전되는 동안, 상기 제1 서브필드 및 상기 복수의 제2 서브필드 중 상기 하나의 제2 서브필드 이전의 제2 서브필드에서 선택된 상기 발광 셀 상태의 셀도 유지 방전되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 서브필드에서 상기 발광 셀을 선택하기 전에, 상기 복수의 방전 셀을 비발광 셀로 설정하는 단계를 더 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 플라즈마 표시 장치는 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 더 포함하며, 상기 각 방전 셀은 상기 각 제1 전극, 상기 각 제2 전극 및 상기 각 제3 전극에 의해 정의되며,
    상기 제1 서브필드에서 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계는,
    상기 복수의 제1 전극에 제1 하이 레벨 전압과 제1 로우 레벨 전압을 교대로 인가하고, 상기 제1 하이 레벨 전압 및 상기 제1 로우 레벨 전압과 반대 위상으로 상기 복수의 제2 전극에 제2 하이 레벨 전압과 제2 로우 레벨 전압을 인가하는 단계를 포함하며,
    상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 로우 레벨 전압이 인가되어 마지막 유지 방전이 일어나는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 플라즈마 표시 장치는 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 더 포함하며, 상기 각 방전 셀은 상기 각 제1 전극, 상기 각 제2 전극 및 상기 각 제3 전극에 의해 정의되며,
    상기 제1 서브필드에서 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계는,
    상기 복수의 제1 전극에 제1 전압을 인가한 상태에서, 상기 복수의 제2 전극에 하이 레벨 전압과 로우 레벨 전압을 교대로 인가하는 단계를 포함하며,
    상기 복수의 제2 전극에 상기 로우 레벨 전압이 인가되어 마지막 유지 방전이 일어나는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 제1 전극은 유지 전극이고, 상기 제2 전극은 주사 전극인 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1 서브필드의 가중치가 상기 복수의 제2 서브필드 각각의 가중치보다 크며,
    상기 복수의 제2 서브필드는 가중치의 역순으로 배열되어 있는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  8. 복수의 방전 셀이 형성되어 있는 플라즈마 표시 패널,
    상기 플라즈마 표시 패널을 구동하는 구동부, 그리고
    한 필드가 복수의 서브필드로 분할되어 계조가 표현되도록 상기 구동부의 구 동을 제어하는 제어부를 포함하며,
    상기 구동부는, 상기 복수의 서브필드 중 적어도 하나의 서브필드에서는 직전 서브필드의 발광 셀은 그대로 유지하고 상기 직전 서브필드의 비발광 셀에서 발광 셀을 선택하는 플라즈마 표시 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 복수의 서브필드를 가중치의 역순으로 배열하는 플라즈마 표시 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 플라즈마 표시 패널은 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 더 포함하며,
    상기 각 방전 셀은 상기 각 제1 전극, 상기 각 제2 전극 및 상기 각 제3 전극에 의해 정의되며,
    상기 복수의 서브필드 각각에서,
    상기 구동부는,
    어드레스 기간 동안 상기 발광 셀 상태로 설정될 셀의 상기 제2 전극 및 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가하며,
    유지 기간 동안 상기 복수의 제1 전극에 제1 하이 레벨 전압과 제1 로우 레 벨 전압을 교대로 인가하고, 상기 제1 하이 레벨 전압 및 상기 제1 로우 레벨 전압과 반대 위상으로 상기 복수의 제2 전극에 제2 하이 레벨 전압과 제2 로우 레벨 전압을 인가하며,
    상기 복수의 제1 전극에 상기 제1 로우 레벨 전압이 인가되어 마지막 유지 방전이 일어나는 플라즈마 표시 장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 플라즈마 표시 패널은 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극을 더 포함하며,
    상기 각 방전 셀은 상기 각 제1 전극, 상기 각 제2 전극 및 상기 각 제3 전극에 의해 정의되며,
    상기 복수의 서브필드 각각에서,
    상기 구동부는,
    어드레스 기간 동안 상기 발광 셀 상태로 설정될 셀의 상기 제2 전극 및 제3 전극에 각각 제1 전압 및 제2 전압을 인가하며,
    유지 기간 동안 상기 복수의 제1 전극에 제3 전압을 인가한 상태에서 상기 복수의 제2 전극에 하이 레벨 전압과 로우 레벨 전압을 교대로 인가하며,
    상기 복수의 제1 전극에 상기 로우 레벨 전압이 인가되어 마지막 유지 방전이 일어나는 플라즈마 표시 장치.
  12. 제10항 또는 제11항에 있어서,
    상기 구동부는,
    상기 복수의 서브필드 중 시간적으로 앞에 위치하는 서브필드에서,
    상기 복수의 방전 셀을 비발광 셀로 초기화한 후, 상기 복수의 방전 셀 주에서 발광 셀을 선택하는 플라즈마 표시 장치.
  13. 복수의 제1 전극과 복수의 제2 전극, 상기 제1 전극과 제2 전극에 교차하는 방향으로 형성되는 복수의 제3 전극 및 상기 제1 전극, 상기 제2 전극 및 상기 제3 전극에 의해 각각 정의되는 복수의 방전 셀을 포함하는 플라즈마 표시 장치에서 한 필드를 복수의 서브필드로 나누어 구동하는 방법에 있어서,
    상기 복수의 서브필드를 제1 및 제2 서브필드 그룹을 포함하는 복수의 서브필드 그룹으로 분할하는 단계,
    상기 제1 서브필드 그룹의 각 서브필드의 리셋 기간 동안 상기 복수의 방전 셀을 비발광 셀로 초기화하는 단계,
    상기 제1 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제1 어드레스 기간 동안 상기 복수의 방전 셀에서 발광 셀 상태로 선택할 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제1 주사 펄스 및 제1 어드레스 펄스를 인가하는 단계,
    상기 제1 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제1 유지 기간 동안 상기 제1 전극의 전압에서 상기 제2 전극의 전압을 뺀 전압이 양의 전압과 음의 전압을 교대로 가지도록 하여 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계,
    상기 제2 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제2 어드레스 기간 동안 직전 서브필드에서 발광 셀 상태의 방전 셀을 제외한 나머지 방전 셀에서 발광 셀 상태로 선택할 방전 셀의 상기 제1 전극 및 상기 제3 전극에 각각 제2 주사 펄스 및 제2 어드레스 펄스를 인가하는 단계, 그리고
    상기 제2 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제2 유지 기간 동안 상기 제1 전극의 전압에서 상기 제2 전극의 전압을 뺀 전압이 양의 전압과 음의 전압을 교대로 가지도록 하여 상기 발광 셀 상태의 방전 셀을 유지 방전시키는 단계를 포함하는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제2 서브필드 그룹의 서브필드는 가중치의 역순으로 배열되어 있는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1 서브필드 그룹의 각 서브필드의 제1 유지 기간에서 상기 제1 전극의 전압에서 상기 제2 전극의 전압을 뺀 전압이 음의 전압인 상태에서 마지막 유지 방전이 일어나는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  16. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    시간적으로 상기 제1 서브필드 그룹 다음에 상기 제2 서브필드 그룹이 배치되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
  17. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    시간적으로 상기 제1 서브필드 그룹 중간 중간에 상기 제2 서브필드 그룹이 배치되는 플라즈마 표시 장치의 구동 방법.
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