KR100620062B1 - Fabricating method of non volatile memory device - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 SONOS 구조를 갖는 비휘발성 메모리 소자의 제조방법에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은, 비휘발성 메모리 소자의 제조방법에 있어서, 비휘발성 메모리 소자의 제조방법에 있어서, 반도체 기판 상에 하부 유전체막을 형성하는 단계와, 상기 하부 유전체막 상에 질화막을 형성하는 단계와, 상기 질화막 상에 800-1000℃의 고온 공정을 이용한 라디칼 산화법을 이용하여 라디칼 산화막을 형성하는 단계와, 상기 라디칼 산화막 상에 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 비휘발성 메모리 소자의 제조방법을 제공한다.The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a method for manufacturing a nonvolatile memory device having a SONOS structure. To this end, the present invention provides a method of manufacturing a nonvolatile memory device, the method of manufacturing a nonvolatile memory device, forming a lower dielectric film on a semiconductor substrate, and forming a nitride film on the lower dielectric film; And forming a radical oxide film using a radical oxidation method using a high temperature process at 800-1000 ° C. on the nitride film, and forming a gate electrode on the radical oxide film. to provide.
SOSNOS, 라디칼 산화막, CVD 산화막, 질화막SOSNOS, radical oxide, CVD oxide, nitride
Description
도1은 종래기술에 따라 SONOS 구조를 갖는 비휘발성 메모리 소자의 단면을 도시한 단면도,1 is a cross-sectional view showing a cross section of a nonvolatile memory device having a SONOS structure according to the prior art;
도2는 라디칼 산화시, 질화막 표면에서 성장되는 산화막의 두께를 시간에 따라 도시한 그래프, 2 is a graph showing the thickness of an oxide film grown on the surface of a nitride film over time during radical oxidation;
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 라디칼 산화 방법으로 질화막의 표면을 산화시킨 후 폴리실리콘을 캡핑한 시편의 단면도,3 is a cross-sectional view of a specimen capped with polysilicon after oxidizing the surface of the nitride film by a radical oxidation method according to an embodiment of the present invention;
도4a 내지 도4d는 본 발명의 일실시예에 따른 비휘발성 메모리 소자의 제조공정을 도시한 공정단면도.
4A to 4D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
11 : 기판11: substrate
12 : 소자분리막12: device isolation film
13 : 다이렉트 터널링 산화막13: direct tunneling oxide film
14 : 질화막 14: nitride film
15 : CVD 산화막15: CVD oxide film
16 : 게이트 전극16: gate electrode
21 : 기판21: substrate
22 : 소자분리막22: device isolation film
23 : 하부 유전체막23: lower dielectric film
24 : 질화막24: nitride film
25 : 라디칼 산화막25: radical oxide film
26 : 게이트 전극26: gate electrode
27 : 게이트 스페이서
27: gate spacer
본 발명은 반도체 소자의 제조방법에 관한 것으로, 특히 SONOS(Silicon Oxide Nitride Oxide Silicon) 구조를 갖는 비휘발성 메모리 소자의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a method for manufacturing a nonvolatile memory device having a silicon oxide nitride oxide (SONOS) structure.
종래의 일반적인 DRAM 소자에서는 전원을 공급하지 않으면 저장된 정보가 소멸하였다. 즉, 일반적인 디램소자는 트랜지스터가 스위치 기능을 수행하며, 캐패시터는 데이터 저장기능을 하는 형태로서, 전원공급이 끊기면 내부의 데이터도 자동적으로 소멸하는 휘발성(volatile) 메모리이다. In conventional DRAM devices, stored information disappears when power is not supplied. That is, in the general DRAM device, a transistor performs a switch function, and a capacitor functions as a data storage function, and when the power supply is cut off, the internal data is automatically destroyed.
최근에는 DRAM의 이러한 단점을 극복하기 위하여 DRAM의 고속 쓰기 능력과 비휘발 특성을 하나의 DRAM 으로 구현한 비휘발성 메모리 소자에 대한 연구가 진행되고 있다.Recently, in order to overcome such drawbacks of DRAM, researches on nonvolatile memory devices in which the high-speed write capability and nonvolatile characteristics of the DRAM are implemented as one DRAM are being conducted.
즉, 비휘발성 메모리 소자는 트랜지스터가 데이터 저장기능을 갖도록 개발되어, 디램의 전원이 꺼지면, 캐패시터에 저장된 데이터가 트랜지스터로 옮겨 저장되어 비휘발 특성을 갖는 플래쉬 메모리와 유사한 특성을 갖게된다.That is, the nonvolatile memory device is developed such that the transistor has a data storage function, and when the power of the DRAM is turned off, data stored in the capacitor is transferred to the transistor and stored, thereby having characteristics similar to those of a flash memory having nonvolatile characteristics.
반대로, 비휘발성 메모리 소자에 다시 전원이 인가되면, 트랜지스터에 저장된 데이터가 캐패시터로 옮겨저 원래의 디램 동작을 수행하게 된다.On the contrary, when power is applied to the nonvolatile memory device again, the data stored in the transistor is transferred to the capacitor to perform the original DRAM operation.
이와같이 디램과 플래쉬 메모리의 성격을 함께 갖춘 비휘발성 메모리 소자는, 디램의 고속 쓰기 기능과 함께 플래쉬 메모리의 고속 읽기 및 비휘발특성을 모두 갖추고 있기 때문에 휴대폰과 PDA, SoC(System on Chip) 등 다양한 분야에 활용될 것으로 예상된다.As such, the nonvolatile memory device having both characteristics of DRAM and flash memory has both high-speed write function of DRAM and high-speed read and non-volatile characteristics of flash memory, so that various fields such as mobile phone, PDA, and System on Chip (SoC) can be used. It is expected to be used for.
이러한 비휘발성 메모리 소자의 경우, 비휘발성 특성을 갖기 위하여 SONOS(Silicon Oxide Nitride Oxide Silicon) 구조를 채택하고 있는 바, 도1은 종래기술에 따라 SONOS 구조를 갖는 비휘발성 메모리 소자의 단면을 도시한 단면도이다.In the case of such a nonvolatile memory device, a silicon oxide nitride oxide (SONOS) structure is adopted to have nonvolatile characteristics. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a cross section of a nonvolatile memory device having a SONOS structure according to the related art. to be.
도1을 참조하여 종래기술에 따른 비휘발성 메모리 소자의 구조를 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 1, the structure of a nonvolatile memory device according to the prior art will be described.
먼저, 반도체 기판(11) 상에는 활성영역과 필드영역을 정의하는 소자분리막(12)이 형성되어 있으며, 소자분리막을 포함하는 반도체 기판 상부에는 다이렉트 터널링 산화막(13)이 형성되어 있다.First, an
그리고, 다이렉트 터널링 산화막(13)의 상에는 데이터를 저장하는 역할을 수행하는 질화막(Si3N4)(14)이 형성되어 있으며, 질화막(14)의 상부에는 화학기상증착법(Chemical Vapor Deposition : CVD)으로 형성된 CVD 산화막(15)이 형성되어 있다.In addition, a nitride film (Si 3 N 4) 14 is formed on the direct
그리고, CVD 산화막(15)의 상부에는 게이트 전극으로서 폴리실리콘(16)이 형성되어 있다. A
즉, 종래기술에 따른 비휘발성 메모리 소자는 도1에 도시된 바와같이, 폴리실리콘(16)/CVD 산화막(15)/질화막(14)/다이렉트 터널링 산화막(13)/실리콘 기판(11)이 적층된 SONOS(Silicon Oxide Nitride Oxide Silicon)형태를 갖고 있음을 알 수 있다. That is, in the conventional nonvolatile memory device, as shown in FIG. 1,
전술한 바와같이 SONOS 구조를 갖는 비휘발성 메모리와 플래쉬 메모리(flash memory)의 차이점은 다음과 같다. 일단, 구조적인 측면에서 플래쉬 메모리는 플로팅 게이트(floating gate)를 적용하여 이곳에 전하를 저장하는 한편, SONOS 구조의 비휘발성 메모리에서는 질화막(15)에 전하를 저장시키게 된다.As described above, the difference between the nonvolatile memory and the flash memory having the SONOS structure is as follows. First, in terms of structure, the flash memory stores a charge therein by applying a floating gate, while the nonvolatile memory of the SONOS structure stores the charge in the
이와같이, 플래쉬 메모리에서는 폴리실리콘으로 구성된 플로팅 게이트를 전하저장 영역으로 사용하기 때문에, 만약 이곳에 한개의 결함(defect)이라도 존재한다면, 전하의 저장능력이 현저하게 떨어지는 단점이 있다.As described above, in the flash memory, since the floating gate made of polysilicon is used as the charge storage region, there is a disadvantage in that the charge storage capacity is remarkably degraded even if there is even one defect here.
반면에, SONOS 구조의 비휘발성 메모리에서는 상술한 바와같이 폴리실리콘 대신에 질화막을 적용하기 때문에, 공정상의 결함에 대해 그 민감성이 상대적으로 작아지는 잇점이 있다.On the other hand, in the non-volatile memory of the SONOS structure, since the nitride film is applied instead of polysilicon as described above, the sensitivity is less sensitive to process defects.
또한, 플래쉬 메모리에서는 플로팅 게이트의 하부에 약 70Å 이상의 두께를 갖는 터널 산화막(tunneling oxide)을 적용해야 하기 때문에 저전압 동작(low voltage operation) 및 고속성능(high speed)을 구현하는데 한계가 있는 단점이 있다.In addition, the flash memory has a disadvantage in that low voltage operation and high speed are limited because a tunneling oxide having a thickness of about 70 kΩ or more is applied to the bottom of the floating gate. .
하지만 SONOS 구조의 비휘발성 메모리는 질화막 하부에 다이렉트 터널링 산화막(direct tunneling oxide)을 적용하기 때문에 저전압(low voltage), 저전력(low power) 및 고속성능을 갖는 메모리 소자 구현이 가능하다.However, since the SONOS structure applies a direct tunneling oxide to the lower portion of the nitride layer, it is possible to implement a memory device having low voltage, low power, and high speed performance.
이러한 SONOS 구조의 비휘발성 메모리 소자에서, ONO(oxide nitride oxide) 구조를 형성할 때, 종래기술에서는 질화막 상부에 화학기상증착법을 이용한 산화막을 형성하여 왔다.In the non-volatile memory device having such a SONOS structure, when forming an oxide nitride oxide (ONO) structure, in the prior art, an oxide film using a chemical vapor deposition method has been formed on the nitride film.
즉, 도1을 참조하면, 질화막(14) 상에는 화학기상증착법을 이용하여 형성된 CVD 산화막(15)이 구비되어 있음을 알 수 있는데, 이는 질화막이 산화분위기 하에서 산화에 대한 저항성이 매우 크기 때문이다.That is, referring to FIG. 1, it can be seen that the
보통 고온의 산화 분위기에서도 질화막 상에는 약 5Å 이하의 산화막 만이 형성되는 것이 일반적이다. Usually, only an oxide film of about 5 Pa or less is formed on the nitride film even in a high temperature oxidizing atmosphere.
때문에, ONO 구조를 만들기 위해서는 질화막 상에 화학기상증착법을 이용한 CVD 산화막이 주로 이용되어 왔으나, 이러한 CVD 산화막은 열산화막에 비하여 그 품질이 나쁜 단점이 있었으며, 이러한 단점은 질화막에 저장된 데이터의 보유시간(retention time)에도 영향을 주기 때문에 신뢰성 저하의 원인이 되어 왔 다.
Therefore, the CVD oxide film using chemical vapor deposition has been mainly used on the nitride film to make the ONO structure. However, the CVD oxide film has a disadvantage in that its quality is lower than that of the thermal oxide film. Retention time also affects reliability.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, CVD 산화막 대신에 품질이 우수한 라디칼 산화법을 이용한 SONOS 구조의 비휘발성 메모리 소자 제조방법을 제공함을 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a nonvolatile memory device having a SONOS structure using a radical oxidation method having excellent quality instead of a CVD oxide film.
상기한 목적을 달성하기 위한 일측면에 따른 본 발명은, 비휘발성 메모리 소자의 제조방법에 있어서, 반도체 기판 상에 하부 유전체막을 형성하는 단계와, 상기 하부 유전체막 상에 질화막을 형성하는 단계와, 상기 질화막 상에 800-1000℃의 고온 공정을 이용한 라디칼 산화법을 이용하여 라디칼 산화막을 형성하는 단계와, 상기 라디칼 산화막 상에 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 비휘발성 메모리 소자의 제조방법을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a nonvolatile memory device, including forming a lower dielectric film on a semiconductor substrate, forming a nitride film on the lower dielectric film, It provides a method for manufacturing a non-volatile memory device comprising the step of forming a radical oxide film using a radical oxidation method using a high temperature process of 800-1000 ℃ on the nitride film, and forming a gate electrode on the radical oxide film. do.
본 발명에서는 SONOS 구조의 비휘발성에 메모리에서, 질화막 상에 형성되는 산화막으로, 종래의 CVD 산화막 대신에 라디칼 산화를 이용한 고 품질의 라디칼 산화막을 적용하여 소자의 신뢰성과 성능향상을 도모하였다.
In the present invention, the reliability and performance of the device are improved by applying a high quality radical oxide film using radical oxidation instead of the conventional CVD oxide film as an oxide film formed on a nitride film in memory in a nonvolatile structure of the SONOS structure.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. Hereinafter, the most preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily implement the technical idea of the present invention.
먼저, 도2는 본 발명의 일실시예에서 적용된 라디칼 산화법(Radical Oxidation)을 이용하여 질화막(Si3N4)의 표면에 산화막을 형성하는 경우, 질화막의 표면에 성장되는 산화막의 두께를 시간에 대하여 도시한 그래프이다.First, FIG. 2 illustrates the thickness of an oxide film grown on the surface of the nitride film with respect to time when an oxide film is formed on the surface of the nitride film Si3N4 by using a radical oxidation method applied in an embodiment of the present invention. It is a graph.
도2를 참조하면, 질화막의 표면에서도, 일정한 시간동안 원하는 두께의 산화막을 형성시킬 수 있음을 알 수 있다.Referring to FIG. 2, it can be seen that even on the surface of the nitride film, an oxide film having a desired thickness can be formed for a predetermined time.
다음으로 도3은 본 발명의 일실시예에 따라 라디칼 산화 방법으로 질화막의 표면을 산화시킨 후 폴리실리콘을 캡핑한 시편의 단면도로서, 이를 참조하면, 질화막(Nitride)의 표면에 일정한 두께의 산화막(SiO2)이 형성되어 있음을 알 수 있다.Next, FIG. 3 is a cross-sectional view of a specimen in which the surface of the nitride film is oxidized after the oxidation of the nitride film by the radical oxidation method, and referring to this, an oxide film having a predetermined thickness on the surface of the nitride film (Nitride) It can be seen that SiO 2) is formed.
즉, 산화분위기 하에서도, 산화에 대한 저항성이 높은 질화막 상이라도, 본 발명의 일실시예에 따른 라디칼 산화법을 이용할 경우에는 충분한 두께의 산화막을 형성시킬 수 있어, 종래의 CVD 산화막에 비해 품질이 우수한 산화막을 얻을 수 있기 때문에 비휘발성 메모리 소자의 신뢰성 향상에 많은 도움을 줄 것이라 기대된다.That is, even under an oxidizing atmosphere, an oxide film having a sufficient thickness can be formed by using the radical oxidation method according to an embodiment of the present invention, even on a nitride film having high resistance to oxidation, which is superior in quality to a conventional CVD oxide film. Since the oxide film can be obtained, it is expected to be of great help in improving the reliability of the nonvolatile memory device.
다음으로는, 도4a 내지 도4d를 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 비휘발성 메모리 소자의 제조방법을 설명한다.Next, a method of manufacturing a nonvolatile memory device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4A to 4D.
먼저, 도4a에 도시된 바와같이 반도체 기판(21) 상에 활성영역과 필드영역을 정의하는 소자분리막(22)을 형성한다. 다음으로 일련의 이온주입 공정이 진행된다.First, as shown in FIG. 4A, an
다음으로, 소자분리막을 포함하는 반도체 기판 상에 일정두께의 하부 유전체막(23)을 형성한다. Next, a
여기서, 하부 유전체막(23)은 다이렉트 터널링 산화막(direct tunneling oxide)이라고도 불리우며, 본 발명의 일실시예에서는 고온 열공정 또는 라디칼 산화법(radical oxidation)을 이용하여 SiO2 산화막으로 이루어진 하부 유전체막(23)을 형성하였다. Here, the
또는 이러한, SiO2 산화막 대신에 고 유전율을 갖는 high-k 유전체막을 하부 유전체막으로 사용할 수도 있다. 여기서, 하부 유전체막으로 SiO2 산화막을 사용할 경우, SiO2 산화막의 두께는 100Å 이하로 함이 바람직하다.Alternatively, a high-k dielectric film having a high dielectric constant may be used as the lower dielectric film instead of the SiO 2 oxide film. Here, when the SiO 2 oxide film is used as the lower dielectric film, the thickness of the SiO 2 oxide film is preferably 100 kPa or less.
이와같이 하부 유전체막을 형성한 다음, 하부 유전체막(23) 상에 질화막(24)을 형성한다. 질화막(24)으로는 실리콘 질화막(Si3N4)이 사용되었으며, 실리콘 질화막은 플라즈마 여기 화학기상증착법(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), 저압 화학기상증착법(Low Pressure Chemical Vapor Deposition), 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition) 등을 이용하여 형성될 수 있으며, 질화막의 두께는 200Å 이하로 함이 바람직하다. After forming the lower dielectric film as described above, the
다음으로, 도4b에 도시된 바와같이 질화막(24) 상에 본 발명의 일실시예에 따른 라디칼 산화법(Radical Oxidation)을 이용하여 라디칼 산화막(25)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 4B, the
본 발명의 일실시예에 따른 라디칼 산화법을 설명하면 다음과 같다.Referring to the radical oxidation method according to an embodiment of the present invention.
먼저, Ar 또는 Xe 플라즈마가 형성된 분위기 하에서 O2, H2O, D20, NO 또는 NO2 가스 등을 주입하게 되면, 주입되는 가스들이 플라즈마 상태하에서 분리되면서 라디칼 상태의 산소(Oxyzen)가 형성된다.(이때 수소(H), 질소(N) 등의 라디칼도 발생된다.)
First, when O 2, H 2 O,
이와같이 형성된 산소 라디칼은 산화력이 무척 강하기 때문에, 질화막(24)의 표면에서도 일정두께의 산화막이 성장될 수 있게 한다.Since the oxygen radicals formed in this way are very strong in oxidizing power, an oxide film having a certain thickness can be grown on the surface of the
전술한 방법이외에도 다음과 같은 방법을 통해 산소 라디칼을 얻을 수도 있다.In addition to the aforementioned method, the oxygen radical may be obtained by the following method.
즉, 800℃ 이상의 높은 온도와 300 Torr 이하의 압력하에서 수소와 산소를 챔버에 각각 주입하거나 또는 D와 산소 가스를 챔버에 각각 주입하게 되면 H20, D2O 를 형성하면서 산소 라디칼이 발생하게 된다. That is, when hydrogen and oxygen are respectively injected into the chamber at a high temperature of 800 ° C. or higher and a pressure of 300 Torr or less, or when D and oxygen gas are respectively injected into the chamber, oxygen radicals are generated while forming H20 and D2O.
이와같이 발생된 산소 라디칼을 이용하는 경우에도 질화막 상에 일정두께의 산화막을 형성할 수 있다.Even in the case of using the generated oxygen radicals, an oxide film having a predetermined thickness can be formed on the nitride film.
도4b는 전술한 라디칼 산화법을 이용하여 질화막 상에 라디칼 산화막을 형성한 모습을 보인 단면도면이다.4B is a cross-sectional view showing the formation of a radical oxide film on a nitride film using the above-described radical oxidation method.
다음으로 도4c에 도시된 바와같이 라디칼 산화막 상에 게이트 전극으로 사용될 폴리실리콘을 증착한다. Next, as shown in FIG. 4C, polysilicon to be used as the gate electrode is deposited on the radical oxide film.
본 발명의 일실시예에서는 게이트 전극으로 폴리실리콘을 사용하였지만, 이외에도, 텅스텐/폴리실리콘 또는 금속실리사이드/폴리실리콘 등의 이중 구조를 갖는 게이트 전극이 적용될 수 도 있다.In an embodiment of the present invention, polysilicon is used as the gate electrode, but in addition, a gate electrode having a double structure such as tungsten / polysilicon or metal silicide / polysilicon may be applied.
다음으로 도4d에 도시된 바와같이 적절한 마스크를 이용하여 게이트 전극을 패턴닝하여 SONOS 구조를 갖는 비휘발성 메모리 소자를 제조한다. 도4D에서 미설명 부호 27은 게이트 스페이서이다.
Next, as shown in FIG. 4D, a gate electrode is patterned using an appropriate mask to fabricate a nonvolatile memory device having a SONOS structure. In FIG. 4D,
본 발명에 개시된 라디칼 산화법을 이용하여 질화막 상부에 일정두께의 산화막을 성장시키게 되면, 종래의 CVD 산화막에 비해 상대적으로 우수한 품질(quality)을 갖는 산화막을 형성시킬 수 있어 소자의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. When the oxide film having a predetermined thickness is grown on the nitride film using the radical oxidation method disclosed in the present invention, an oxide film having a relatively good quality can be formed compared to the conventional CVD oxide film, thereby improving the reliability of the device. .
또한, 종래의 CVD 산화막에 비해 질화막과의 계면 특성이 상대적으로 우수하기 때문에 질화막에 저장된 전하의 손실을 최소화할수 있어, 데이터 보유 시간을 증가시킬 수 있는 장점이 있다. 그리고, ONO 막의 신뢰성이 증가되기에 수율을 증가시키는 장점도 얻을 수 있다.
In addition, since the interface characteristics with the nitride film are relatively superior to the conventional CVD oxide film, the loss of charge stored in the nitride film can be minimized, thereby increasing the data retention time. In addition, since the reliability of the ONO film is increased, an advantage of increasing the yield can be obtained.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니고, 본 발명이 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능함이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
As described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and the present invention may be variously substituted, modified, and changed without departing from the spirit of the present invention. It will be apparent to those of ordinary skill in Esau.
본 발명을 적용하면, 신뢰성이 향상된 비휘발성 메모리 소자 제조가 가능할 뿐 아니라, 데이터 보유시간을 늘릴 수 있으며, ONO 막의 신뢰성이 증가되기 때문에 수율이 증대되는 효과가 있다.
According to the present invention, it is possible not only to manufacture a nonvolatile memory device having improved reliability, but also to increase data retention time and to increase the yield since the reliability of the ONO film is increased.
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