KR100600178B1 - Manufacturing method of semiconductor package - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 패키지의 제조 방법에 관한 것으로서, 반도체 패키지의 봉지부를 통해서 노출된 칩 탑재판 및 리드에 형성되는 플래시(flash) 및 수지(resin)을 쉽게 제거하는 것을 기술적 과제로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor package, and an object of the present invention is to easily remove flashes and resins formed on a chip mounting plate and leads exposed through an encapsulation portion of a semiconductor package.
이를 위해 본 발명은 중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 더 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와, 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와, 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와, 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 접착력 강화층은 하부로 노출되도록 하는 단계와, 상기 접착력 강화층을 일정 깊이까지 식각하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.To this end, the present invention is a chip mounting plate is located in the center, the outer periphery of the chip mounting plate provides a lead frame in which a plurality of leads are located, the upper and lower surfaces of the lead frame, respectively, to improve the adhesive force with the encapsulant Providing a lead frame having an adhesion reinforcing layer further formed thereon, adhering a semiconductor die to an upper surface of the chip mounting plate through an adhesive, interconnecting the semiconductor die and the lead with conductive wires, and Encapsulating the mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation part, wherein the adhesion reinforcing layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate is exposed to the bottom; Etching to a certain depth so that the flash and resin formed on the surface are removed together. It shall be.
반도체 패키지, 납없는 패키지, 리드프레임, 플래시, 수지Semiconductor Package, Lead Free Package, Leadframe, Flash, Resin
Description
도 1a는 종래의 반도체 패키지를 도시한 단면도이고, 도 1b는 그 저면도이다.1A is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor package, and FIG. 1B is a bottom view thereof.
도 2는 본 발명에 의한 반도체 패키지의 한 제조 방법을 도시한 순차 설명도이다.2 is a sequential explanatory diagram showing a method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention.
도 3a 내지 3e는 도 2에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 단면도이다.3A to 3E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 2.
도 4는 본 발명에 의한 반도체 패키지의 다른 제조 방법을 도시한 순차 설명도이다.4 is an explanatory diagram sequentially showing another method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention.
도 5a 내지 5e는 도 4에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 단면도이다.5A through 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 4.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
110; 리드프레임(lead frame) 112; 칩 탑재판110;
114; 리드(lead) 116; 접착력 강화층114;
118; 희생층 120; 접착제118;
130; 반도체 다이(semiconductor die)
140; 도전성 와이어(conductive wire)130; Semiconductor die
140; Conductive wire
150; 봉지부
151; 플래시 및 수지(flash and resin)150; Encapsulation
151; Flash and resin
본 발명은 반도체 패키지의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 설명하면 반도체패키지의 봉지부를 통해서 노출된 칩 탑재판 및 리드(lead)에 형성되는 플래시(flash) 및 수지(resin)을 쉽게 제거할 수 있는 반도체패키지의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
도 1a를 참조하면, 종래 반도체 패키지의 단면도가 도시되어 있고, 도 1b를 참조하면 그 저면도가 도시되어 있다.Referring to FIG. 1A, a cross-sectional view of a conventional semiconductor package is shown, and a bottom view thereof is shown with reference to FIG. 1B.
도시된 바와 같이 종래의 반도체패키지(100')는 칩 탑재판(112')과, 상기 칩 탑재판(112')의 외주연에 위치된 다수의 리드(114')와, 상기 칩 탑재판(112') 위에 접착제(120')로 접착된 반도체 다이(130')와, 상기 반도체 다이(130')와 리드(114')를 상호 전기적으로 연결하는 다수의 도전성 와이어(140')와, 상기 칩 탑재판(112'), 다수의 리드(114'), 반도체 다이(130') 및 다수의 도전성 와이어(140')를 감싸되 상기 칩 탑재판(112') 및 리드(114')의 하면은 하부로 노출되도록 하는 봉지부(150')로 이루어져 있다.As illustrated, the conventional semiconductor package 100 'includes a chip mounting plate 112', a plurality of leads 114 'positioned at an outer periphery of the chip mounting plate 112', and the chip mounting plate ( 112 'and a plurality of conductive wires 140' electrically connecting the semiconductor die 130 'and the lead 114' to each other, and The chip mounting plate 112 ', the plurality of leads 114', the semiconductor die 130 'and the plurality of conductive wires 140' are wrapped around the bottom surface of the chip mounting plate 112 'and the leads 114'. The encapsulation portion 150 'is exposed to the lower portion.
한편, 상기 반도체패키지(100')에서 리드(114') 및 칩 탑재판(112')은 납없는 패키지(leadfree package)의 요구에 따라 표면에 납이 없는 동시에 외부 장치에 바로 실장할 수 있는 금속층(도시되지 않음)이 형성되어 있다. 또한, 이 경우 습기 저항 테스트(MRT test)의 끊임없는 상승 요구에 의해 상기 납없는 금속층 위에 다시 봉지부(150')와의 접착력을 향상시킬 수 있는 접착력 강화층(116')이 형성되고 있다.Meanwhile, in the semiconductor package 100 ', the lead 114' and the chip mounting plate 112 'are free of lead and have a metal layer that can be directly mounted on an external device in accordance with a request of a leadfree package. (Not shown) is formed. In addition, in this case, due to the constant demand of the MRT test, an
그러나, 이와 같은 접착력 강화층(116')은 반대 급부적으로 봉지 공정 후, 봉지부(150') 하부로 노출된 칩 탑재판(112') 및 리드(114') 아래에에 불필요하게 남아 있는 플래시(flash)나 수지(151')을 제거하기 위한 디플래시(deflash) 공정에서 제거 능력을 현저하게 떨어뜨리는 문제가 있다. 예를 들면, 도 1b에 도시된 바와 같이, 봉지 공정후 봉지부(150')와 인접한 칩 탑재판(112') 및 리드(114')의 일정 영역에 불필요한 플래시나 수지(151')이 남게 되는데, 이는 통상 외부 장치와의 전기적 접속을 방해함으로써, 이를 제거하기 위한 디플래시(deflash) 공정을 수행하게 된다. 그러나, 상술한 바와 같이 접착력 강화층(116')으로 인해 상기 플래시나 수지(151')이 그 접착력 강화층(116')에 매우 단단하게 접착되어 있음으로써, 쉽게 제거되지 않게 된다. 즉, 통상의 디플래시 공정은 화학적 디핑(chemical dipping)이나 레이저로 상기 플래시 또는 수지(151')을 에칭하거나 태워서 제거하게 되는데, 이러한 방법에 의해 상기 플래시나 수지(151')이 완벽하게 제거되지 않고, 따라서 외부 장치와의 전기적 접속력이 현저히 떨어지게 된다. 여기서, 상기 플래시(falsh)란 "금형 용어 사전"에 기재된 바와 같이 금형의 파팅 라인(플래시 라인)이나 이젝터 핀 등의 틈새로부터 수지가 흘러나와 응고 또는 경화된 얇은 조각 모양의 재료를 의미한다. 더불어, 디플래시란 상기와 같이 흘러나와 응고 또는 경화된 얇은 조각 모양의 재료를 제거함을 의미한다.However, such an
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 극복하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 반도체패키지의 봉지부를 통해서 노출된 칩 탑재판 및 리드에 형성되는 플래시 및 수지을 쉽게 제거할 수 있는 반도체패키지의 제조 방법을 제공하는데 있다.The present invention is to overcome the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor package that can easily remove the flash and resin formed on the chip mounting plate and lead exposed through the encapsulation of the semiconductor package. It is.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 더 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와, 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와, 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와, 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 접착력 강화층은 하부로 노출되도록 하는 단계와, 상기 접착력 강화층을 일정 깊이까지 식각하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention provides a lead frame in which a chip mounting plate is positioned at the center, and a plurality of leads are positioned at an outer circumference of the chip mounting plate. The method further includes providing a lead frame having an adhesion reinforcing layer further formed thereon to improve adhesion to an encapsulant, and bonding a semiconductor die to an upper surface of the chip mounting plate through an adhesive, wherein the semiconductor die and the lead are attached to each other. Interconnecting the conductive wires with each other, and encapsulating the chip mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation part, wherein And the flash and resin formed on the surface by etching the adhesion enhancing layer to a predetermined depth. Characterized in that the step made to be removed.
또한, 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 형성되고, 하면의 접착력 강화층에는 희생층이 더 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와, 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와, 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와, 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 희생층은 하부로 노출되도록 하는 단계와, 상기 희생층을 제거하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention in order to achieve the above object is provided with a lead frame in which a chip mounting plate is located in the center, a plurality of leads are located on the outer periphery of the chip mounting plate, the lead frame In the upper and lower surfaces, an adhesion reinforcing layer is formed to improve adhesion to the encapsulant, respectively, and a lead frame having a sacrificial layer is further provided on the lower surface of the adhesion reinforcing layer, and an adhesive is interposed on the upper surface of the chip mounting plate. Bonding a semiconductor die, interconnecting the semiconductor die and the leads with conductive wires, and encapsulating the chip mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation portion. And exposing the sacrificial layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate to a lower portion, and removing the sacrificial layer to form a surface of the sacrificial layer. And removing the flash and the resin together.
여기서, 상기 희생층 제거 단계는 상기 희생층과만 반응하고, 상기 접착력 강화층 및 봉지재와는 반응하지 않는 화학용액을 이용하여 수행할 수 있다.The sacrificial layer removing step may be performed using a chemical solution that reacts only with the sacrificial layer and does not react with the adhesion reinforcing layer and the encapsulant.
상기와 같이 하여 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 봉지부 하부로 노출되는 접착력 강화층을 일정 깊이까지 식각함으로써, 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거할 수 있게 된다.As described above, in the method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention, by etching the adhesion reinforcing layer exposed under the encapsulation portion to a predetermined depth, the flash and the resin formed on the surface can be removed together.
또한, 상기와 같이 하여 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 봉지부 하부로 노출되는 리드 및 칩 탑재판의 하면에 희생층을 더 형성하고, 봉지 공정 후 그 희생층을 제거함으로써, 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거할 수 있게 된다.In addition, the manufacturing method of the semiconductor package according to the present invention as described above further forms a sacrificial layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate exposed to the lower portion of the encapsulation, and by removing the sacrificial layer after the sealing process, The formed flash and resin can also be removed together.
더욱이, 본 발명은 상기와 같은 희생층 형성에 의해 차후 외부 장치와 리드 및 칩 탑재판 상호간의 솔더 접속력도 향상되는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of improving the solder connection between the external device and the lead and the chip mounting plate in the future by forming the sacrificial layer as described above.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings such that those skilled in the art may easily implement the present invention.
도 2를 참조하면, 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법이 순차 설명도로서 도시되어 있고, 도 3a 내지 3e를 참조하면, 상기 도 2에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법이 단면도로서 도시되어 있다.Referring to FIG. 2, a method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention is shown as an explanatory diagram sequentially, and referring to FIGS. 3A to 3E, a method of manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 2 is illustrated as a cross-sectional view.
도시된 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법은 상,하면에 접착력 강화층(116)이 형성된 리드프레임(110)을 제공하는 단계(S1)(도 3a 참조)와, 상기 리드프레임(110)의 칩 탑재판(112) 위에 반도체 다이(130)를 접착하는 단계(S2)(도 3b 참조)와, 상기 반도체 다이(130)와 리드프레임(110)의 리드(114)를 도전성 와이어(140)로 상호 본딩하는 단계(S3)(도 3c 참조)와, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)를 봉지재로 봉지하되 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 하면에 형성된 접착력 강화층(116)은 노출되도록 하는 단계(S4)(도 3d 참조)와, 상기 접착력 강화층(116)을 일정 깊이까지 식각하여 제거하는 단계(S5)(도 3e 참조)로 이루어져 있다.As shown in the drawing, the method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention includes providing a
먼저 상기 리드프레임(110) 제공 단계(S1)에서는, 중앙에 칩 탑재판(112)이 위치되고, 상기 칩 탑재판(112)의 외주연에는 다수의 리드(114)가 위치된 리드프레임(110)을 제공하되, 상기 리드프레임(110)(즉, 칩 탑재판(112) 및 리드(114))의 상,하면에는 일정 두께의 접착력 강화층(116)이 형성된 리드프레임(110)이 제공된다.First, in the
여기서, 상기 리드프레임(110)의 상,하면에는 납(Pb)없이 외부 장치에 부착될 수 있는 납없는 금속층(도시되지 않음)이 형성될 수 있고, 그 표면에 다시 봉지재와의 접착력을 강화하기 위한 접착력 강화층(116)이 형성될 수 있다. 물론, 상기 납없는 금속층은 형성되지 않을 수도 있다.Here, the
또한, 상기 리드프레임(110)은 주요 재질이 구리(Cu), 구리 합금(Cu alloy), 철(Fe) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 리드프레임(110)의 재질을 한정하는 것은 아니다.In addition, the
더욱이, 상기 도 3a에는 칩 탑재판(112)이 도시되어 있으나, 이러한 칩 탑재판(112)없이 리드(114)만 존재하는 리드프레임(110)도 제공 가능하다.Furthermore, although the
상기 반도체 다이(130) 접착 단계(S2)에서는, 상기 칩 탑재판(112)의 상면에 에폭시, 접착 테이프 또는 이의 등가물이 개재되어 반도체 다이(130)가 접착된다.In the bonding step S2 of the semiconductor die 130, an epoxy die, an adhesive tape, or an equivalent thereof is interposed on an upper surface of the
여기서, 상기 칩 탑재판(112)이 없는 리드프레임(110)이 제공되었을 경우에는 상기 다수의 리드(114) 상면에 직접 접착제(120)가 개재되어 반도체 다이(130)가 접착될 수 있다.In this case, when the
상기 와이어(140) 본딩 단계(S3)에서는, 상기 반도체 다이(130)와 리드(114)가 도전성 와이어(140)에 의해 상호 전기적으로 연결된다.In the bonding step S3 of the
여기서, 상기 도전성 와이어(140)는 골드와이어(Au wire), 알루미늄 와이어(Al wire), 구리 와이어(Cu wire) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 그 재질을 한정하는 것은 아니다.Here, the
상기 봉지 단계(S4)에서는, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)가 봉지재로 봉지되되, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면 즉, 접착력 강화층(116)은 하부로 노출되도록 봉지되어 일정 형태의 봉지부(150)가 형성된다. 즉, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면에 형성된 접착력 강화층(116)만이 봉지부(150) 하부로 노출되며, 그 접착력 강화층(116) 표면에는 봉지 공정중 발생하는 플래시 및 수지(151)이 잔존할 수 있다.In the encapsulation step (S4), the
물론, 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면에 형성된 접착력 강화층(116)은 봉지부(150)와 직접 접착됨으로써, 수분이 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면과 봉지부(150) 사이의 계면을 통해 침투하기 어렵게 된다.Of course, the
상기 접착력 강화층(116)을 일정 깊이까지 식각하여 제거하는 단계(S5)에서는, 상기 접착력 강화층(116)과만 반응하는 화학 용액에 의해 그 접착력 강화층(116)이 일정 두께까지 제거된다.In the step of removing and removing the
여기서, 상기 제거되지 않은 나머지 접착력 강화층(116)은 상기 화학 용액에 의해 일정 깊이까지 제거되는 동안 그 상부의 칩 탑재판(112) 및 리드(114)를 보호함으로써, 패키지 자체의 손상을 방지한다.Here, the remaining non-removable
물론, 이러한 일부 접착력 강화층(116) 제거에 의해 그 표면에 형성된 플래시 및 수지(151)도 함께 제거되고, 이로 인하여 차후 외부 장치와 상기 리드(114) 및/또는 칩 탑재판(112) 상호간의 솔더 접속력이 향상된다.Of course, the flash and the
도 4를 참조하면, 본 발명에 의한 반도체 패키지의 다른 제조 방법이 순차 설명도로서 도시되어 있고, 도 5a 내지 5e를 참조하면, 상기 도 4에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법이 단면도로서 도시되어 있다. 여기서, 동일한 구성 요소는 동일한 도면 부호를 이용하기로 한다.Referring to FIG. 4, another method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention is shown as an explanatory diagram, and referring to FIGS. 5A to 5E, a method for manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 4 is shown as a cross-sectional view. . Here, the same components will use the same reference numerals.
도시된 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 패키지의 다른 제조 방법은 상,하면에 접착력 강화층(116)이 형성되고, 하면의 접착력 강화층(116)에는 희생층(118)이 더 형성된 리드프레임(110)을 제공하는 단계(S1)(도 5a 참조)와, 상기 리드프레임(110)의 칩 탑재판(112) 위에 반도체 다이(130)를 접착하는 단계(S2)(도 5b 참조)와, 상기 반도체 다이(130)와 리드프레임(110)의 리드(114)를 도전성 와이어(140)로 상호 본딩하는 단계(S3)(도 5c 참조)와, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)를 봉지재로 봉지하되 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 하면에 형성된 희생층(118)은 노출되도록 하는 단계(S4)(도 5d 참조)와, 상기 희생층(118)을 제거하는 단계(S5)(도 5e 참조)로 이루어져 있다.As shown in another manufacturing method of the semiconductor package according to the present invention, the upper and lower adhesive
먼저 상기 리드프레임(110) 제공 단계(S1)에서는, 중앙에 칩 탑재판(112)이 위치되고, 상기 칩 탑재판(112)의 외주연에는 다수의 리드(114)가 위치된 리드프레임(110)을 제공하되, 상기 리드프레임(110)(즉, 칩 탑재판(112) 및 리드(114))의 상,하면에는 일정 두께의 접착력 강화층(116)이 형성되고, 상기 하면의 접착력 강화층(116)에는 희생층(118)이 더 형성된 리드프레임(110)이 제공된다.First, in the
여기서, 상기 리드프레임(110)의 상,하면에는 납(Pb)없이 외부 장치에 부착될 수 있는 납없는 금속층(도시되지 않음)이 형성될 수 있고, 그 표면에 다시 봉지재와의 접착력을 강화하기 위한 접착력 강화층(116)이 형성되며, 이어서 하면의 접착력 강화층(116)에 희생층(118)이 형성될 수 있다. 물론, 상기 납없는 금속층은 형성되지 않을 수도 있다.Here, the
또한, 상기 리드프레임(110)은 주요 재질이 구리(Cu), 구리 합금(Cu alloy), 철(Fe) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 리드프레임(110)의 재질을 한정하는 것은 아니다.In addition, the
더욱이, 상기 도 5a에는 칩 탑재판(112)이 도시되어 있으나, 이러한 칩 탑재판(112)없이 리드(114)만 존재하는 리드프레임(110)도 제공 가능하다.In addition, although the
상기 반도체 다이(130) 접착 단계(S2)에서는, 상기 칩 탑재판(112)의 상면에 에폭시, 접착 테이프 또는 이의 등가물이 개재되어 반도체 다이(130)가 접착된다.In the bonding step S2 of the semiconductor die 130, an epoxy die, an adhesive tape, or an equivalent thereof is interposed on an upper surface of the
여기서, 상기 칩 탑재판(112)이 없는 리드프레임(110)이 제공되었을 경우에는 상기 다수의 리드(114) 상면에 직접 접착제(120)가 개재되어 반도체 다이(130)가 접착될 수 있다.In this case, when the
상기 와이어(140) 본딩 단계(S3)에서는, 상기 반도체 다이(130)와 리드(114)가 도전성 와이어(140)에 의해 상호 전기적으로 연결된다.In the bonding step S3 of the
여기서, 상기 도전성 와이어(140)는 골드와이어(Au wire), 알루미늄 와이어(Al wire), 구리 와이어(Cu wire) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 그 재질을 한정하는 것은 아니다.Here, the
상기 봉지 단계(S4)에서는, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)가 봉지재로 봉지되되, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면 즉, 희생층(118)은 하부로 노출되도록 봉지되어 일정 형태의 봉지부(150)가 형성된다. 즉, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면에 형성된 희생층(118)만이 봉지부(150) 하부로 노출되며, 그 희생층(118) 표면에는 봉지 공정중 발생하는 플래시 및 수지(151)이 잔존할 수 있다.In the encapsulation step (S4), the
물론, 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면에 형성된 접착력 강화층(116)은 봉지부(150)와 직접 접착됨으로써, 수분이 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면과 봉지부(150) 사이의 계면을 통해 침투하기 어렵게 된다.Of course, the
상기 희생층(118) 제거 단계(S5)에서는, 상기 희생층(118)과만 반응하는 화학 용액에 의해 그 희생층(118)이 제거된다. 즉, 상기 화학용액은 상기 희생층(118)과만 반응하고, 상기 접착력 강화층(116) 및 봉지부(150)와는 반응하지 않음으로써, 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 하면에 형성된 접착력 강화층(116)이 봉지부(150)를 통해 그대로 노출된다.In the step S5 of removing the
여기서, 상기 접착력 강화층(116)은 상기 화학 용액에 의해 희생층(118)이 제거되는 동안 그 상부의 칩 탑재판(112) 및 리드(114)를 보호함으로써, 패키지 자체의 손상을 방지하는 역할도 한다.Here, the
물론, 이러한 희생층(118) 제거에 의해 그 표면에 형성된 플래시 및 수지(151)도 함께 제거되고, 이로 인하여 차후 외부 장치와 상기 리드(114) 및/또는 칩 탑재판(112) 상호간의 솔더 접속력이 향상된다.Of course, by removing the
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법은 봉지부 외부로 노출되는 리드 및 칩 탑재판의 하면에 희생층을 더 형성하고, 봉지 공정 후 그 희생층을 제거함으로써, 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거할 수 있는 효과가 있다.As described above, in the method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention, a sacrificial layer is further formed on the lower surface of the lead and the chip mounting plate exposed to the outside of the encapsulation portion, and the sacrificial layer is removed after the encapsulation process, thereby forming the sacrificial layer. Flash and resin can also be removed together.
더욱이, 본 발명은 상기와 같은 희생층 채택에 의해 차후 외부 장치와 리드 및 칩 탑재판 상호간의 솔더 접속력도 향상되는 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect of improving the solder connection between the external device and the lead and the chip mounting plate in the future by adopting the sacrificial layer as described above.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment for carrying out the method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, as claimed in the following claims of the present invention Without departing from the gist of the present invention, one of ordinary skill in the art will have the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040024634A KR100600178B1 (en) | 2004-04-09 | 2004-04-09 | Manufacturing method of semiconductor package |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020040024634A KR100600178B1 (en) | 2004-04-09 | 2004-04-09 | Manufacturing method of semiconductor package |
Publications (2)
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KR20050099357A KR20050099357A (en) | 2005-10-13 |
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Family Applications (1)
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-
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- 2004-04-09 KR KR1020040024634A patent/KR100600178B1/en active IP Right Grant
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