KR100600178B1 - Manufacturing method of semiconductor package - Google Patents

Manufacturing method of semiconductor package Download PDF

Info

Publication number
KR100600178B1
KR100600178B1 KR1020040024634A KR20040024634A KR100600178B1 KR 100600178 B1 KR100600178 B1 KR 100600178B1 KR 1020040024634 A KR1020040024634 A KR 1020040024634A KR 20040024634 A KR20040024634 A KR 20040024634A KR 100600178 B1 KR100600178 B1 KR 100600178B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mounting plate
chip mounting
lead
leads
semiconductor die
Prior art date
Application number
KR1020040024634A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20050099357A (en
Inventor
하선호
박봉서
손순진
Original Assignee
앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 filed Critical 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사
Priority to KR1020040024634A priority Critical patent/KR100600178B1/en
Publication of KR20050099357A publication Critical patent/KR20050099357A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100600178B1 publication Critical patent/KR100600178B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B02CRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING; PREPARATORY TREATMENT OF GRAIN FOR MILLING
    • B02CCRUSHING, PULVERISING, OR DISINTEGRATING IN GENERAL; MILLING GRAIN
    • B02C18/00Disintegrating by knives or other cutting or tearing members which chop material into fragments
    • B02C18/0007Disintegrating by knives or other cutting or tearing members which chop material into fragments specially adapted for disintegrating documents

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 패키지의 제조 방법에 관한 것으로서, 반도체 패키지의 봉지부를 통해서 노출된 칩 탑재판 및 리드에 형성되는 플래시(flash) 및 수지(resin)을 쉽게 제거하는 것을 기술적 과제로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor package, and an object of the present invention is to easily remove flashes and resins formed on a chip mounting plate and leads exposed through an encapsulation portion of a semiconductor package.

이를 위해 본 발명은 중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 더 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와, 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와, 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와, 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 접착력 강화층은 하부로 노출되도록 하는 단계와, 상기 접착력 강화층을 일정 깊이까지 식각하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.To this end, the present invention is a chip mounting plate is located in the center, the outer periphery of the chip mounting plate provides a lead frame in which a plurality of leads are located, the upper and lower surfaces of the lead frame, respectively, to improve the adhesive force with the encapsulant Providing a lead frame having an adhesion reinforcing layer further formed thereon, adhering a semiconductor die to an upper surface of the chip mounting plate through an adhesive, interconnecting the semiconductor die and the lead with conductive wires, and Encapsulating the mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation part, wherein the adhesion reinforcing layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate is exposed to the bottom; Etching to a certain depth so that the flash and resin formed on the surface are removed together. It shall be.

반도체 패키지, 납없는 패키지, 리드프레임, 플래시, 수지Semiconductor Package, Lead Free Package, Leadframe, Flash, Resin

Description

반도체 패키지의 제조 방법{Manufacturing method of semiconductor package}Manufacturing method of semiconductor package

도 1a는 종래의 반도체 패키지를 도시한 단면도이고, 도 1b는 그 저면도이다.1A is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor package, and FIG. 1B is a bottom view thereof.

도 2는 본 발명에 의한 반도체 패키지의 한 제조 방법을 도시한 순차 설명도이다.2 is a sequential explanatory diagram showing a method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention.

도 3a 내지 3e는 도 2에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 단면도이다.3A to 3E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 2.

도 4는 본 발명에 의한 반도체 패키지의 다른 제조 방법을 도시한 순차 설명도이다.4 is an explanatory diagram sequentially showing another method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention.

도 5a 내지 5e는 도 4에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 단면도이다.5A through 5E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 4.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

110; 리드프레임(lead frame) 112; 칩 탑재판110; Lead frame 112; Chip mounting plate

114; 리드(lead) 116; 접착력 강화층114; Lead 116; Adhesive Strengthening Layer

118; 희생층 120; 접착제118; Sacrificial layer 120; glue

130; 반도체 다이(semiconductor die)
140; 도전성 와이어(conductive wire)
130; Semiconductor die
140; Conductive wire

150; 봉지부
151; 플래시 및 수지(flash and resin)
150; Encapsulation
151; Flash and resin

본 발명은 반도체 패키지의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 설명하면 반도체패키지의 봉지부를 통해서 노출된 칩 탑재판 및 리드(lead)에 형성되는 플래시(flash) 및 수지(resin)을 쉽게 제거할 수 있는 반도체패키지의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor package, and in more detail, flash and resin formed on a chip mounting plate and a lead exposed through an encapsulation portion of a semiconductor package can be easily removed. The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor package.

도 1a를 참조하면, 종래 반도체 패키지의 단면도가 도시되어 있고, 도 1b를 참조하면 그 저면도가 도시되어 있다.Referring to FIG. 1A, a cross-sectional view of a conventional semiconductor package is shown, and a bottom view thereof is shown with reference to FIG. 1B.

도시된 바와 같이 종래의 반도체패키지(100')는 칩 탑재판(112')과, 상기 칩 탑재판(112')의 외주연에 위치된 다수의 리드(114')와, 상기 칩 탑재판(112') 위에 접착제(120')로 접착된 반도체 다이(130')와, 상기 반도체 다이(130')와 리드(114')를 상호 전기적으로 연결하는 다수의 도전성 와이어(140')와, 상기 칩 탑재판(112'), 다수의 리드(114'), 반도체 다이(130') 및 다수의 도전성 와이어(140')를 감싸되 상기 칩 탑재판(112') 및 리드(114')의 하면은 하부로 노출되도록 하는 봉지부(150')로 이루어져 있다.As illustrated, the conventional semiconductor package 100 'includes a chip mounting plate 112', a plurality of leads 114 'positioned at an outer periphery of the chip mounting plate 112', and the chip mounting plate ( 112 'and a plurality of conductive wires 140' electrically connecting the semiconductor die 130 'and the lead 114' to each other, and The chip mounting plate 112 ', the plurality of leads 114', the semiconductor die 130 'and the plurality of conductive wires 140' are wrapped around the bottom surface of the chip mounting plate 112 'and the leads 114'. The encapsulation portion 150 'is exposed to the lower portion.

한편, 상기 반도체패키지(100')에서 리드(114') 및 칩 탑재판(112')은 납없는 패키지(leadfree package)의 요구에 따라 표면에 납이 없는 동시에 외부 장치에 바로 실장할 수 있는 금속층(도시되지 않음)이 형성되어 있다. 또한, 이 경우 습기 저항 테스트(MRT test)의 끊임없는 상승 요구에 의해 상기 납없는 금속층 위에 다시 봉지부(150')와의 접착력을 향상시킬 수 있는 접착력 강화층(116')이 형성되고 있다.Meanwhile, in the semiconductor package 100 ', the lead 114' and the chip mounting plate 112 'are free of lead and have a metal layer that can be directly mounted on an external device in accordance with a request of a leadfree package. (Not shown) is formed. In addition, in this case, due to the constant demand of the MRT test, an adhesion reinforcing layer 116 ′ is formed on the lead-free metal layer to improve the adhesion with the encapsulation portion 150 ′.

그러나, 이와 같은 접착력 강화층(116')은 반대 급부적으로 봉지 공정 후, 봉지부(150') 하부로 노출된 칩 탑재판(112') 및 리드(114') 아래에에 불필요하게 남아 있는 플래시(flash)나 수지(151')을 제거하기 위한 디플래시(deflash) 공정에서 제거 능력을 현저하게 떨어뜨리는 문제가 있다. 예를 들면, 도 1b에 도시된 바와 같이, 봉지 공정후 봉지부(150')와 인접한 칩 탑재판(112') 및 리드(114')의 일정 영역에 불필요한 플래시나 수지(151')이 남게 되는데, 이는 통상 외부 장치와의 전기적 접속을 방해함으로써, 이를 제거하기 위한 디플래시(deflash) 공정을 수행하게 된다. 그러나, 상술한 바와 같이 접착력 강화층(116')으로 인해 상기 플래시나 수지(151')이 그 접착력 강화층(116')에 매우 단단하게 접착되어 있음으로써, 쉽게 제거되지 않게 된다. 즉, 통상의 디플래시 공정은 화학적 디핑(chemical dipping)이나 레이저로 상기 플래시 또는 수지(151')을 에칭하거나 태워서 제거하게 되는데, 이러한 방법에 의해 상기 플래시나 수지(151')이 완벽하게 제거되지 않고, 따라서 외부 장치와의 전기적 접속력이 현저히 떨어지게 된다. 여기서, 상기 플래시(falsh)란 "금형 용어 사전"에 기재된 바와 같이 금형의 파팅 라인(플래시 라인)이나 이젝터 핀 등의 틈새로부터 수지가 흘러나와 응고 또는 경화된 얇은 조각 모양의 재료를 의미한다. 더불어, 디플래시란 상기와 같이 흘러나와 응고 또는 경화된 얇은 조각 모양의 재료를 제거함을 의미한다.However, such an adhesion reinforcing layer 116 ′ is unnecessarily remaining under the chip mounting plate 112 ′ and the lead 114 ′ exposed under the encapsulation part 150 ′ after the encapsulation process. In the deflash process for removing the flash or the resin 151 ', there is a problem that the removal ability is significantly reduced. For example, as shown in FIG. 1B, after the encapsulation process, unnecessary flash or resin 151 'remains in a predetermined region of the chip mounting plate 112' and the lead 114 'adjacent to the encapsulation part 150'. This typically interrupts the electrical connection with external devices, thereby performing a deflash process to remove it. However, as described above, the flash or the resin 151 'is very firmly adhered to the adhesion reinforcing layer 116' due to the adhesion reinforcing layer 116 ', so that it is not easily removed. In other words, a conventional deflashing process is performed by etching or burning the flash or resin 151 'by chemical dipping or laser, and the flash or resin 151' is not completely removed by this method. Therefore, the electrical connection force with the external device is significantly reduced. Here, the "falsh" refers to a flaky material in which resin flows from a gap such as a parting line (flash line) or ejector pin of a mold and solidifies or hardens, as described in the "mold term dictionary". In addition, deflashing means removing the solidified or cured flake-like material that flows out as described above.

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 극복하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 반도체패키지의 봉지부를 통해서 노출된 칩 탑재판 및 리드에 형성되는 플래시 및 수지을 쉽게 제거할 수 있는 반도체패키지의 제조 방법을 제공하는데 있다.The present invention is to overcome the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing a semiconductor package that can easily remove the flash and resin formed on the chip mounting plate and lead exposed through the encapsulation of the semiconductor package. It is.

상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 더 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와, 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와, 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와, 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 접착력 강화층은 하부로 노출되도록 하는 단계와, 상기 접착력 강화층을 일정 깊이까지 식각하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention provides a lead frame in which a chip mounting plate is positioned at the center, and a plurality of leads are positioned at an outer circumference of the chip mounting plate. The method further includes providing a lead frame having an adhesion reinforcing layer further formed thereon to improve adhesion to an encapsulant, and bonding a semiconductor die to an upper surface of the chip mounting plate through an adhesive, wherein the semiconductor die and the lead are attached to each other. Interconnecting the conductive wires with each other, and encapsulating the chip mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation part, wherein And the flash and resin formed on the surface by etching the adhesion enhancing layer to a predetermined depth. Characterized in that the step made to be removed.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 형성되고, 하면의 접착력 강화층에는 희생층이 더 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와, 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와, 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와, 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 희생층은 하부로 노출되도록 하는 단계와, 상기 희생층을 제거하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.In addition, the method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention in order to achieve the above object is provided with a lead frame in which a chip mounting plate is located in the center, a plurality of leads are located on the outer periphery of the chip mounting plate, the lead frame In the upper and lower surfaces, an adhesion reinforcing layer is formed to improve adhesion to the encapsulant, respectively, and a lead frame having a sacrificial layer is further provided on the lower surface of the adhesion reinforcing layer, and an adhesive is interposed on the upper surface of the chip mounting plate. Bonding a semiconductor die, interconnecting the semiconductor die and the leads with conductive wires, and encapsulating the chip mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation portion. And exposing the sacrificial layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate to a lower portion, and removing the sacrificial layer to form a surface of the sacrificial layer. And removing the flash and the resin together.

여기서, 상기 희생층 제거 단계는 상기 희생층과만 반응하고, 상기 접착력 강화층 및 봉지재와는 반응하지 않는 화학용액을 이용하여 수행할 수 있다.The sacrificial layer removing step may be performed using a chemical solution that reacts only with the sacrificial layer and does not react with the adhesion reinforcing layer and the encapsulant.

상기와 같이 하여 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 봉지부 하부로 노출되는 접착력 강화층을 일정 깊이까지 식각함으로써, 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거할 수 있게 된다.As described above, in the method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention, by etching the adhesion reinforcing layer exposed under the encapsulation portion to a predetermined depth, the flash and the resin formed on the surface can be removed together.

또한, 상기와 같이 하여 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법은 봉지부 하부로 노출되는 리드 및 칩 탑재판의 하면에 희생층을 더 형성하고, 봉지 공정 후 그 희생층을 제거함으로써, 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거할 수 있게 된다.In addition, the manufacturing method of the semiconductor package according to the present invention as described above further forms a sacrificial layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate exposed to the lower portion of the encapsulation, and by removing the sacrificial layer after the sealing process, The formed flash and resin can also be removed together.

더욱이, 본 발명은 상기와 같은 희생층 형성에 의해 차후 외부 장치와 리드 및 칩 탑재판 상호간의 솔더 접속력도 향상되는 효과가 있다.In addition, the present invention has the effect of improving the solder connection between the external device and the lead and the chip mounting plate in the future by forming the sacrificial layer as described above.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings such that those skilled in the art may easily implement the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 의한 반도체 패키지의 제조 방법이 순차 설명도로서 도시되어 있고, 도 3a 내지 3e를 참조하면, 상기 도 2에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법이 단면도로서 도시되어 있다.Referring to FIG. 2, a method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention is shown as an explanatory diagram sequentially, and referring to FIGS. 3A to 3E, a method of manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 2 is illustrated as a cross-sectional view.

도시된 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법은 상,하면에 접착력 강화층(116)이 형성된 리드프레임(110)을 제공하는 단계(S1)(도 3a 참조)와, 상기 리드프레임(110)의 칩 탑재판(112) 위에 반도체 다이(130)를 접착하는 단계(S2)(도 3b 참조)와, 상기 반도체 다이(130)와 리드프레임(110)의 리드(114)를 도전성 와이어(140)로 상호 본딩하는 단계(S3)(도 3c 참조)와, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)를 봉지재로 봉지하되 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 하면에 형성된 접착력 강화층(116)은 노출되도록 하는 단계(S4)(도 3d 참조)와, 상기 접착력 강화층(116)을 일정 깊이까지 식각하여 제거하는 단계(S5)(도 3e 참조)로 이루어져 있다.As shown in the drawing, the method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention includes providing a lead frame 110 having an adhesion reinforcing layer 116 formed on upper and lower surfaces (S1) (see FIG. 3A), and the lead frame 110. Attaching the semiconductor die 130 to the chip mounting plate 112 of FIG. 3 (see FIG. 3B), and the lead 114 of the semiconductor die 130 and the lead frame 110 to the conductive wire 140. Bonding to each other (S3) (see FIG. 3C), and encapsulating the chip mounting plate 112, the plurality of leads 114, the semiconductor die 130, and the plurality of conductive wires 140 with an encapsulant. The adhesive force reinforcing layer 116 formed on the lower surface of the chip mounting plate 112 and the lead 114 is exposed (S4) (see FIG. 3D), and the adhesive force reinforcing layer 116 is etched to a predetermined depth. Removal step S5 (see FIG. 3E).

먼저 상기 리드프레임(110) 제공 단계(S1)에서는, 중앙에 칩 탑재판(112)이 위치되고, 상기 칩 탑재판(112)의 외주연에는 다수의 리드(114)가 위치된 리드프레임(110)을 제공하되, 상기 리드프레임(110)(즉, 칩 탑재판(112) 및 리드(114))의 상,하면에는 일정 두께의 접착력 강화층(116)이 형성된 리드프레임(110)이 제공된다.First, in the lead frame 110 providing step (S1), the chip mounting plate 112 is positioned at the center, and the lead frame 110 at which the plurality of leads 114 are positioned at the outer periphery of the chip mounting plate 112. ), The lead frame 110 is formed on the upper and lower surfaces of the lead frame 110 (that is, the chip mounting plate 112 and the lead 114) is formed with a certain thickness of the adhesion reinforcing layer 116. .

여기서, 상기 리드프레임(110)의 상,하면에는 납(Pb)없이 외부 장치에 부착될 수 있는 납없는 금속층(도시되지 않음)이 형성될 수 있고, 그 표면에 다시 봉지재와의 접착력을 강화하기 위한 접착력 강화층(116)이 형성될 수 있다. 물론, 상기 납없는 금속층은 형성되지 않을 수도 있다.Here, the lead frame 110, the lead-free metal layer (not shown) that can be attached to the external device without lead (Pb) may be formed on the upper and lower surfaces, and reinforces the adhesive force with the encapsulant on the surface again An adhesion reinforcing layer 116 may be formed. Of course, the lead-free metal layer may not be formed.

또한, 상기 리드프레임(110)은 주요 재질이 구리(Cu), 구리 합금(Cu alloy), 철(Fe) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 리드프레임(110)의 재질을 한정하는 것은 아니다.In addition, the lead frame 110 may be made of copper (Cu), copper alloy (Cu alloy), iron (Fe), or an equivalent thereof, and the material of the lead frame 110 is not limited thereto.

더욱이, 상기 도 3a에는 칩 탑재판(112)이 도시되어 있으나, 이러한 칩 탑재판(112)없이 리드(114)만 존재하는 리드프레임(110)도 제공 가능하다.Furthermore, although the chip mounting plate 112 is illustrated in FIG. 3A, a lead frame 110 having only the lead 114 without the chip mounting plate 112 may be provided.

상기 반도체 다이(130) 접착 단계(S2)에서는, 상기 칩 탑재판(112)의 상면에 에폭시, 접착 테이프 또는 이의 등가물이 개재되어 반도체 다이(130)가 접착된다.In the bonding step S2 of the semiconductor die 130, an epoxy die, an adhesive tape, or an equivalent thereof is interposed on an upper surface of the chip mounting plate 112 to bond the semiconductor die 130.

여기서, 상기 칩 탑재판(112)이 없는 리드프레임(110)이 제공되었을 경우에는 상기 다수의 리드(114) 상면에 직접 접착제(120)가 개재되어 반도체 다이(130)가 접착될 수 있다.In this case, when the lead frame 110 without the chip mounting plate 112 is provided, the semiconductor die 130 may be bonded to the adhesive 120 by directly interposing the upper surfaces of the plurality of leads 114.

상기 와이어(140) 본딩 단계(S3)에서는, 상기 반도체 다이(130)와 리드(114)가 도전성 와이어(140)에 의해 상호 전기적으로 연결된다.In the bonding step S3 of the wire 140, the semiconductor die 130 and the lead 114 are electrically connected to each other by the conductive wire 140.

여기서, 상기 도전성 와이어(140)는 골드와이어(Au wire), 알루미늄 와이어(Al wire), 구리 와이어(Cu wire) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 그 재질을 한정하는 것은 아니다.Here, the conductive wire 140 may be a gold wire (Au wire), an aluminum wire (Al wire), a copper wire (Cu wire) or an equivalent thereof, and the material is not limited thereto.

상기 봉지 단계(S4)에서는, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)가 봉지재로 봉지되되, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면 즉, 접착력 강화층(116)은 하부로 노출되도록 봉지되어 일정 형태의 봉지부(150)가 형성된다. 즉, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면에 형성된 접착력 강화층(116)만이 봉지부(150) 하부로 노출되며, 그 접착력 강화층(116) 표면에는 봉지 공정중 발생하는 플래시 및 수지(151)이 잔존할 수 있다.In the encapsulation step (S4), the chip mounting plate 112, the plurality of leads 114, the semiconductor die 130, and the plurality of conductive wires 140 are encapsulated with an encapsulant, and the leads 114 and the chips. The lower surface of the mounting plate 112, that is, the adhesion reinforcing layer 116 is encapsulated so as to be exposed to the bottom to form a sealing portion 150 of a certain form. That is, only the adhesion reinforcement layer 116 formed on the lower surface of the lead 114 and the chip mounting plate 112 is exposed to the lower portion of the encapsulation portion 150, and the flash generated during the encapsulation process on the surface of the adhesion reinforcement layer 116. And resin 151 may remain.

물론, 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면에 형성된 접착력 강화층(116)은 봉지부(150)와 직접 접착됨으로써, 수분이 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면과 봉지부(150) 사이의 계면을 통해 침투하기 어렵게 된다.Of course, the adhesion reinforcing layer 116 formed on the upper surface of the chip mounting plate 112 and the lead 114 is directly adhered to the encapsulation unit 150, so that moisture may be formed in the chip mounting plate 112 and the lead 114. It is difficult to penetrate through the interface between the upper surface and the encapsulation part 150.

상기 접착력 강화층(116)을 일정 깊이까지 식각하여 제거하는 단계(S5)에서는, 상기 접착력 강화층(116)과만 반응하는 화학 용액에 의해 그 접착력 강화층(116)이 일정 두께까지 제거된다.In the step of removing and removing the adhesion reinforcing layer 116 to a predetermined depth (S5), the adhesion reinforcing layer 116 is removed to a certain thickness by a chemical solution that reacts only with the adhesion reinforcing layer 116.

여기서, 상기 제거되지 않은 나머지 접착력 강화층(116)은 상기 화학 용액에 의해 일정 깊이까지 제거되는 동안 그 상부의 칩 탑재판(112) 및 리드(114)를 보호함으로써, 패키지 자체의 손상을 방지한다.Here, the remaining non-removable adhesion enhancing layer 116 protects the chip mounting plate 112 and the lead 114 thereon while being removed to a certain depth by the chemical solution, thereby preventing damage to the package itself. .

물론, 이러한 일부 접착력 강화층(116) 제거에 의해 그 표면에 형성된 플래시 및 수지(151)도 함께 제거되고, 이로 인하여 차후 외부 장치와 상기 리드(114) 및/또는 칩 탑재판(112) 상호간의 솔더 접속력이 향상된다.Of course, the flash and the resin 151 formed on the surface are also removed by removing some of the adhesion reinforcing layer 116, which causes the external device and the lead 114 and / or the chip mounting plate 112 to be separated. Solder connection is improved.

도 4를 참조하면, 본 발명에 의한 반도체 패키지의 다른 제조 방법이 순차 설명도로서 도시되어 있고, 도 5a 내지 5e를 참조하면, 상기 도 4에 대응하는 반도체 패키지의 제조 방법이 단면도로서 도시되어 있다. 여기서, 동일한 구성 요소는 동일한 도면 부호를 이용하기로 한다.Referring to FIG. 4, another method for manufacturing a semiconductor package according to the present invention is shown as an explanatory diagram, and referring to FIGS. 5A to 5E, a method for manufacturing a semiconductor package corresponding to FIG. 4 is shown as a cross-sectional view. . Here, the same components will use the same reference numerals.

도시된 바와 같이 본 발명에 따른 반도체 패키지의 다른 제조 방법은 상,하면에 접착력 강화층(116)이 형성되고, 하면의 접착력 강화층(116)에는 희생층(118)이 더 형성된 리드프레임(110)을 제공하는 단계(S1)(도 5a 참조)와, 상기 리드프레임(110)의 칩 탑재판(112) 위에 반도체 다이(130)를 접착하는 단계(S2)(도 5b 참조)와, 상기 반도체 다이(130)와 리드프레임(110)의 리드(114)를 도전성 와이어(140)로 상호 본딩하는 단계(S3)(도 5c 참조)와, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)를 봉지재로 봉지하되 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 하면에 형성된 희생층(118)은 노출되도록 하는 단계(S4)(도 5d 참조)와, 상기 희생층(118)을 제거하는 단계(S5)(도 5e 참조)로 이루어져 있다.As shown in another manufacturing method of the semiconductor package according to the present invention, the upper and lower adhesive strength reinforcing layer 116 is formed, the lower surface of the adhesion reinforcing layer 116 is further provided with a lead frame 110, the sacrificial layer 118 is further formed ) S1 (see FIG. 5A), adhering the semiconductor die 130 onto the chip mounting plate 112 of the leadframe 110 (S2) (see FIG. 5B), and the semiconductor Bonding the die 130 and the lead 114 of the leadframe 110 to the conductive wire 140 (S3) (see FIG. 5C), the chip mounting plate 112, and the plurality of leads 114. The semiconductor die 130 and the plurality of conductive wires 140 are encapsulated with an encapsulant, but the sacrificial layer 118 formed on the lower surface of the chip mounting plate 112 and the lead 114 is exposed (S4) ( 5D) and removing the sacrificial layer 118 (S5) (see FIG. 5E).

먼저 상기 리드프레임(110) 제공 단계(S1)에서는, 중앙에 칩 탑재판(112)이 위치되고, 상기 칩 탑재판(112)의 외주연에는 다수의 리드(114)가 위치된 리드프레임(110)을 제공하되, 상기 리드프레임(110)(즉, 칩 탑재판(112) 및 리드(114))의 상,하면에는 일정 두께의 접착력 강화층(116)이 형성되고, 상기 하면의 접착력 강화층(116)에는 희생층(118)이 더 형성된 리드프레임(110)이 제공된다.First, in the lead frame 110 providing step (S1), the chip mounting plate 112 is positioned at the center, and the lead frame 110 at which the plurality of leads 114 are positioned at the outer periphery of the chip mounting plate 112. ), But the upper and lower surfaces of the lead frame 110 (that is, the chip mounting plate 112 and the lead 114) is formed with an adhesion reinforcing layer 116 of a predetermined thickness, and the adhesion reinforcing layer of the lower surface 116 is provided with a lead frame 110 in which a sacrificial layer 118 is further formed.

여기서, 상기 리드프레임(110)의 상,하면에는 납(Pb)없이 외부 장치에 부착될 수 있는 납없는 금속층(도시되지 않음)이 형성될 수 있고, 그 표면에 다시 봉지재와의 접착력을 강화하기 위한 접착력 강화층(116)이 형성되며, 이어서 하면의 접착력 강화층(116)에 희생층(118)이 형성될 수 있다. 물론, 상기 납없는 금속층은 형성되지 않을 수도 있다.Here, the lead frame 110, the lead-free metal layer (not shown) that can be attached to the external device without lead (Pb) may be formed on the upper and lower surfaces, and reinforces the adhesive force with the encapsulant on the surface again An adhesion reinforcing layer 116 may be formed, and then a sacrificial layer 118 may be formed on the adhesion reinforcing layer 116 on the bottom surface. Of course, the lead-free metal layer may not be formed.

또한, 상기 리드프레임(110)은 주요 재질이 구리(Cu), 구리 합금(Cu alloy), 철(Fe) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 리드프레임(110)의 재질을 한정하는 것은 아니다.In addition, the lead frame 110 may be made of copper (Cu), copper alloy (Cu alloy), iron (Fe), or an equivalent thereof, and the material of the lead frame 110 is not limited thereto.

더욱이, 상기 도 5a에는 칩 탑재판(112)이 도시되어 있으나, 이러한 칩 탑재판(112)없이 리드(114)만 존재하는 리드프레임(110)도 제공 가능하다.In addition, although the chip mounting plate 112 is illustrated in FIG. 5A, the lead frame 110 having only the lead 114 without the chip mounting plate 112 may be provided.

상기 반도체 다이(130) 접착 단계(S2)에서는, 상기 칩 탑재판(112)의 상면에 에폭시, 접착 테이프 또는 이의 등가물이 개재되어 반도체 다이(130)가 접착된다.In the bonding step S2 of the semiconductor die 130, an epoxy die, an adhesive tape, or an equivalent thereof is interposed on an upper surface of the chip mounting plate 112 to bond the semiconductor die 130.

여기서, 상기 칩 탑재판(112)이 없는 리드프레임(110)이 제공되었을 경우에는 상기 다수의 리드(114) 상면에 직접 접착제(120)가 개재되어 반도체 다이(130)가 접착될 수 있다.In this case, when the lead frame 110 without the chip mounting plate 112 is provided, the semiconductor die 130 may be bonded to the adhesive 120 by directly interposing the upper surfaces of the plurality of leads 114.

상기 와이어(140) 본딩 단계(S3)에서는, 상기 반도체 다이(130)와 리드(114)가 도전성 와이어(140)에 의해 상호 전기적으로 연결된다.In the bonding step S3 of the wire 140, the semiconductor die 130 and the lead 114 are electrically connected to each other by the conductive wire 140.

여기서, 상기 도전성 와이어(140)는 골드와이어(Au wire), 알루미늄 와이어(Al wire), 구리 와이어(Cu wire) 또는 이의 등가물이 가능하며, 여기서 그 재질을 한정하는 것은 아니다.Here, the conductive wire 140 may be a gold wire (Au wire), an aluminum wire (Al wire), a copper wire (Cu wire) or an equivalent thereof, and the material is not limited thereto.

상기 봉지 단계(S4)에서는, 상기 칩 탑재판(112), 다수의 리드(114), 반도체 다이(130) 및 다수의 도전성 와이어(140)가 봉지재로 봉지되되, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면 즉, 희생층(118)은 하부로 노출되도록 봉지되어 일정 형태의 봉지부(150)가 형성된다. 즉, 상기 리드(114) 및 칩 탑재판(112)의 하면에 형성된 희생층(118)만이 봉지부(150) 하부로 노출되며, 그 희생층(118) 표면에는 봉지 공정중 발생하는 플래시 및 수지(151)이 잔존할 수 있다.In the encapsulation step (S4), the chip mounting plate 112, the plurality of leads 114, the semiconductor die 130, and the plurality of conductive wires 140 are encapsulated with an encapsulant, and the leads 114 and the chips. The lower surface of the mounting plate 112, that is, the sacrificial layer 118 is encapsulated so as to be exposed to the lower portion to form an encapsulation portion 150. That is, only the sacrificial layer 118 formed on the lower surface of the lead 114 and the chip mounting plate 112 is exposed to the lower portion of the encapsulation portion 150, and the flash and the resin generated during the encapsulation process on the surface of the sacrificial layer 118. 151 may remain.

물론, 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면에 형성된 접착력 강화층(116)은 봉지부(150)와 직접 접착됨으로써, 수분이 상기 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 상면과 봉지부(150) 사이의 계면을 통해 침투하기 어렵게 된다.Of course, the adhesion reinforcing layer 116 formed on the upper surface of the chip mounting plate 112 and the lead 114 is directly adhered to the encapsulation unit 150, so that moisture may be formed in the chip mounting plate 112 and the lead 114. It is difficult to penetrate through the interface between the upper surface and the encapsulation part 150.

상기 희생층(118) 제거 단계(S5)에서는, 상기 희생층(118)과만 반응하는 화학 용액에 의해 그 희생층(118)이 제거된다. 즉, 상기 화학용액은 상기 희생층(118)과만 반응하고, 상기 접착력 강화층(116) 및 봉지부(150)와는 반응하지 않음으로써, 칩 탑재판(112) 및 리드(114)의 하면에 형성된 접착력 강화층(116)이 봉지부(150)를 통해 그대로 노출된다.In the step S5 of removing the sacrificial layer 118, the sacrificial layer 118 is removed by a chemical solution that reacts only with the sacrificial layer 118. That is, the chemical solution reacts only with the sacrificial layer 118 and does not react with the adhesion reinforcing layer 116 and the encapsulation part 150, thereby forming the bottom surface of the chip mounting plate 112 and the lead 114. The adhesion reinforcing layer 116 is exposed through the encapsulation portion 150 as it is.

여기서, 상기 접착력 강화층(116)은 상기 화학 용액에 의해 희생층(118)이 제거되는 동안 그 상부의 칩 탑재판(112) 및 리드(114)를 보호함으로써, 패키지 자체의 손상을 방지하는 역할도 한다.Here, the adhesion reinforcing layer 116 protects the chip mounting plate 112 and the lead 114 thereon while the sacrificial layer 118 is removed by the chemical solution, thereby preventing damage to the package itself. Also

물론, 이러한 희생층(118) 제거에 의해 그 표면에 형성된 플래시 및 수지(151)도 함께 제거되고, 이로 인하여 차후 외부 장치와 상기 리드(114) 및/또는 칩 탑재판(112) 상호간의 솔더 접속력이 향상된다.Of course, by removing the sacrificial layer 118, the flash and the resin 151 formed on the surface are also removed together, so that the solder connection between the external device and the lead 114 and / or the chip mounting plate 112 is subsequently performed. The power is improved.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법은 봉지부 외부로 노출되는 리드 및 칩 탑재판의 하면에 희생층을 더 형성하고, 봉지 공정 후 그 희생층을 제거함으로써, 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거할 수 있는 효과가 있다.As described above, in the method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention, a sacrificial layer is further formed on the lower surface of the lead and the chip mounting plate exposed to the outside of the encapsulation portion, and the sacrificial layer is removed after the encapsulation process, thereby forming the sacrificial layer. Flash and resin can also be removed together.

더욱이, 본 발명은 상기와 같은 희생층 채택에 의해 차후 외부 장치와 리드 및 칩 탑재판 상호간의 솔더 접속력도 향상되는 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect of improving the solder connection between the external device and the lead and the chip mounting plate in the future by adopting the sacrificial layer as described above.

이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법을 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment for carrying out the method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, as claimed in the following claims of the present invention Without departing from the gist of the present invention, one of ordinary skill in the art will have the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.

Claims (3)

중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와,A chip mounting plate is positioned at the center, and a lead frame in which a plurality of leads are positioned is provided at the outer circumference of the chip mounting plate, and an adhesion reinforcing layer is provided on the upper and lower surfaces of the lead frame to improve adhesion to the encapsulant, respectively. Providing a formed leadframe, 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와,Bonding a semiconductor die to an upper surface of the chip mounting plate through an adhesive; 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와,Interconnecting the semiconductor die and the leads with conductive wires; 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 접착력 강화층은 하부로 노출되도록 하는 단계와,Encapsulating the chip mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation portion, wherein the adhesion reinforcing layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate is exposed downward; 상기 접착력 강화층을 일정 깊이까지 식각하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And etching the adhesive force reinforcing layer to a predetermined depth to remove the flash and the resin formed on the surface thereof. 중앙에 칩 탑재판이 위치되고, 상기 칩 탑재판의 외주연에는 다수의 리드가 위치된 리드프레임을 제공하되, 상기 리드프레임의 상,하면에는 각각 봉지재와의 접착력을 향상시키기 위해 접착력 강화층이 형성되고, 하면의 접착력 강화층에는 희생층이 형성된 리드프레임을 제공하는 단계와,A chip mounting plate is positioned at the center, and a lead frame in which a plurality of leads are positioned at an outer circumference of the chip mounting plate is provided. And a lead frame having a sacrificial layer formed on the adhesion reinforcing layer on the lower surface thereof; 상기 칩 탑재판 상면에 접착제를 개재하여 반도체 다이를 접착하는 단계와,Bonding a semiconductor die to an upper surface of the chip mounting plate through an adhesive; 상기 반도체 다이와 상기 리드를 도전성 와이어로 상호 연결하는 단계와,Interconnecting the semiconductor die and the leads with conductive wires; 상기 칩 탑재판, 다수의 리드, 반도체 다이 및 다수의 도전성 와이어를 봉지재로 봉지하여 봉지부를 형성하되, 상기 리드 및 칩 탑재판 하면의 희생층은 하부로 노출되도록 하는 단계와,Encapsulating the chip mounting plate, the plurality of leads, the semiconductor die, and the plurality of conductive wires with an encapsulant to form an encapsulation portion, wherein the sacrificial layer on the lower surface of the lead and the chip mounting plate is exposed to the bottom; 상기 희생층을 제거하여 그 표면에 형성된 플래시 및 수지도 함께 제거되도록 하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.Removing the sacrificial layer to remove flash and resin formed on the surface thereof. 제 2 항에 있어서, 상기 희생층 제거 단계는 상기 희생층과만 반응하고, 상기 접착력 강화층 및 봉지재와는 반응하지 않는 화학용액을 이용하여 수행함을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.The method of claim 2, wherein removing the sacrificial layer is performed using a chemical solution that reacts only with the sacrificial layer and does not react with the adhesion reinforcing layer and the encapsulant.
KR1020040024634A 2004-04-09 2004-04-09 Manufacturing method of semiconductor package KR100600178B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040024634A KR100600178B1 (en) 2004-04-09 2004-04-09 Manufacturing method of semiconductor package

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040024634A KR100600178B1 (en) 2004-04-09 2004-04-09 Manufacturing method of semiconductor package

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050099357A KR20050099357A (en) 2005-10-13
KR100600178B1 true KR100600178B1 (en) 2006-07-12

Family

ID=37278520

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040024634A KR100600178B1 (en) 2004-04-09 2004-04-09 Manufacturing method of semiconductor package

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100600178B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR20050099357A (en) 2005-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7091581B1 (en) Integrated circuit package and process for fabricating the same
US20200144167A1 (en) Method for fabricating carrier-free semiconductor package
US20210143089A1 (en) Semiconductor package with wettable flank
US6262490B1 (en) Substrate strip for use in packaging semiconductor chips
JP5689462B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
US8455304B2 (en) Routable array metal integrated circuit package fabricated using partial etching process
US20120306031A1 (en) Semiconductor sensor device and method of packaging same
TWI433243B (en) Semiconductor package without chip carrier and fabrication method thereof
JP2008160148A (en) Method of forming electronic package
JP2005531137A (en) Partially patterned leadframe and method for its manufacture and use in semiconductor packaging
JP2005191240A (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
EP3440697B1 (en) Flat no-leads package with improved contact leads
US9917039B2 (en) Method of forming a semiconductor package with conductive interconnect frame and structure
US20130200508A1 (en) Semiconductor package structure
US8643158B2 (en) Semiconductor package and lead frame therefor
US20160020182A1 (en) Wire Bond Mold Lock Method and Structure
US20090206459A1 (en) Quad flat non-leaded package structure
KR100600178B1 (en) Manufacturing method of semiconductor package
JP2010165777A (en) Semiconductor device and method of manufacturing the same
US20130020689A1 (en) Semiconductor device and method of packaging same
JP7148220B2 (en) Semiconductor package and its manufacturing method
KR100455698B1 (en) chip size package and its manufacturing method
JP4305310B2 (en) Semiconductor device
JPH06342816A (en) Semiconductor device, its manufacture, and lead frame used therefor
JP5857883B2 (en) Mold package manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130705

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140704

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150702

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160704

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170704

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180702

Year of fee payment: 13

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190701

Year of fee payment: 14