KR100595107B1 - Multiple vacuum evaporation - Google Patents
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Abstract
본 발명은 다중 진공증착장치에 관한 것으로, 다수개의 도가니가 장착될 경우 도가니의 본가열하기 위한 공용의 제1전원 및 제2전원, 제1온도 컨트롤러 및 제2온도 컨트롤러가 설치되고, 또한 도가니의 예비가열을 위한 공용의 제3전원 및 제3온도 컨트롤러가 설치된다. The present invention relates to a multiple vacuum deposition apparatus, and when a plurality of crucibles are installed, a common first power source and a second power source, a first temperature controller, and a second temperature controller are installed for the main heating of the crucible. A common third power source and third temperature controller for preheating are installed.
이로 인해, 기판에 증착을 위해 도가니를 가열하는 본가열 및 본가열을 위해 대기하는 도가니에 대한 예비가열이 이루어질 수 있고, 또한 도가니의 장착되는 수와는 무관하게 예비가열 및 본가열을 위한 단 3개의 전원 및 온도 컨트롤러에 의해 모든 도가니가 가열될 수 있도록 된 것이다.This allows preheating of the main furnace for heating the crucible for deposition on the substrate and the preheating of the crucible waiting for the main heating, and also for the preheating and the main heating, regardless of the number of crucibles to be mounted. All the crucibles can be heated by two power and temperature controllers.
증착장치, 진공증착장치, 도가니, 본가열, 예비가열, 스위칭 Evaporation apparatus, vacuum deposition apparatus, crucible, main heating, preheating, switching
Description
도 1은 종래의 진공증착장치가이 개략적으로 도시된 구성도이고,1 is a schematic view showing a conventional vacuum deposition apparatus,
도 2는 본 발명에 따른 다중 진공증착장치가 이 개략적으로 도시된 구성도이며,Figure 2 is a schematic diagram showing a multiple vacuum deposition apparatus according to the present invention,
도 3은 도 2의 사용 상태도이고,3 is a state diagram used in FIG.
도 4는 도 2에 도시된 다중 진공증착장치의 공정순서가 도시된 블럭도이다. 4 is a block diagram showing a process sequence of the multiple vacuum deposition apparatus shown in FIG.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
100,200,300...제1,2,3도가니,100,200,300 ... 1st, 2nd, 3rd crucible,
110,112,210...제1,2,3전원,110,112,210 ... first, second, third power,
120,122,220...제1,2,3온도컨트롤러120,122,220 ... 1st, 2nd, 3rd temperature controller
130,132,230...제1,2,3열전대,130,132,230 ... first, second, third thermocouple,
140...측정부.140 ... measuring unit.
본 발명은 다중 진공증착장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 본가열과 예비가열을 가지면서 이동되는 도가니가 소정의 위치에서 전원 및 온도컨트롤러와 스위칭되어 접속되도록 된 것이다. The present invention relates to a multiple vacuum deposition apparatus, and more particularly, a crucible which is moved while having a main heating and a preheating is switched to be connected to a power source and a temperature controller at a predetermined position.
일반적으로, 유기물 박막이나 유기물 반도체 및 유기물 발광 소자 등과 같은 유기물 소자 등을 형성하는데 대표적으로 진공 증착법이 사용되고 있다. 진공 증착법은 증착 과정(deposition proceess)이 수행되는 진공 챔버에 열증발원을 챔버의 하부에 설치하고 그 상부에 기판을 설치하여 기판 표면에 박막을 형성하는 방법이다.In general, a vacuum deposition method is typically used to form an organic device such as an organic thin film, an organic semiconductor, and an organic light emitting device. The vacuum deposition method is a method of forming a thin film on the surface of a substrate by installing a thermal evaporation source in the lower part of the chamber and a substrate on the upper part of the vacuum chamber in which a deposition process is performed.
전형적인 진공 증착법에 의한 유기물 박막제조는, 우선 진공 챔버에 연결된 진공펌프(vacuum pump)를 이용하여 진공 챔버 내의 일정한 진공을 형성 유지한다. In organic thin film manufacturing by a typical vacuum deposition method, first, a vacuum pump connected to a vacuum chamber is used to form and maintain a constant vacuum in the vacuum chamber.
이후에, 진공 챔버 내측 하부에 위치한 하나 이상의 유기물 박막 재료를 위한 열증발원으로부터 유기물 박막의 재료인 유기물을 증발시킨다.Thereafter, the organic material, which is the material of the organic thin film, is evaporated from the thermal evaporation source for the one or more organic thin film materials located under the vacuum chamber.
상기 유기물 박막 재료의 열증발원은 주로 원통 형상 또는 사각 형상으로 구비된 도가니로 그 안에 증착시킬 유기물 재료를 넣어 구성된다. The thermal evaporation source of the organic thin film material is mainly composed of a crucible provided in a cylindrical shape or a square shape to put an organic material to be deposited therein.
상기 증발원으로 사용되는 도가니는 주로 석영 또는 세라믹 등과 같은 내열성 재료로 구성되며, 도가니 주변에는 어떠한 형태의 모양으로 가열 히터가 감겨있어, 전력을 가해주면 도가니 주변의 온도가 상승함과 동시에 도가니 또한 가열된다. 이 도가니가 일정한 온도로 가열되면, 유기물의 증기압에 의존하여 유기물의 기화증발이 시작된다.The crucible used as the evaporation source is mainly composed of a heat-resistant material such as quartz or ceramic, and the heating heater is wound around the crucible in some form. . When the crucible is heated to a constant temperature, vaporization of the organic matter starts depending on the vapor pressure of the organic matter.
또한, 상기 도가니의 온도는 도가니에 설치된 열전대(thermocouple)에 의해 측정되고, 이를 토대로 도가니가 일정한 온도로 유지되도록 히터를 조절하면 원하는 유기물의 증발 속도를 얻을 수 있다. In addition, the temperature of the crucible is measured by the thermocouple (thermocouple) installed in the crucible, by adjusting the heater so that the crucible is maintained at a constant temperature based on this it is possible to obtain the evaporation rate of the desired organic matter.
이때, 증발된 유기물은 도가니로부터 일정한 거리만큼 이격된 곳에 위치된 기판으로 이동되고, 이 기판 표면에 흡착, 증착 및 재증발 등의 연속된 반응 과정들을 통해 기판 위에 고상화되어 얇은 박막을 형성하게 된다. At this time, the evaporated organic matter is moved to the substrate located at a certain distance away from the crucible, and solidified on the substrate to form a thin film through a continuous reaction process such as adsorption, deposition and redevaporation on the substrate surface. .
도 1은 종래의 진공증착장치가 개략적으로 도시된 구성도이다. 1 is a configuration diagram schematically showing a conventional vacuum deposition apparatus.
도 1을 참조하면, 종래의 단일개의 진공증착장치가 개략적으로 도시된 것으로, 먼저 하나의 도가니(10)에 제1,2전원(20,22)이 인가되면서 제1,2열전대(30,32)를 통해 제1,2온도 컨트롤러(40,42)에 의해 온도가 측정되었다. Referring to FIG. 1, a conventional vacuum deposition apparatus is schematically illustrated. First and
이때, 각 한 쌍의 전원, 열전대, 온도 컨트롤러는 도가니(10)의 상부 및 하부에 접속되었다. At this time, each pair of power supply, thermocouple and temperature controller were connected to the upper and lower parts of the
여기서, 상기 제1전원 및 제2전원(20,22)은 도가니(10)의 상부 및 하부를 가열하여 도가니(10)를 전체적으로 고루 상온되도록 하였다. Here, the first power source and the
또한, 상기 제1온도 컨트롤러(40) 및 제2온도 컨트롤러(42) 역시 도가니(10)의 상부 및 하부의 온도를 측정하였고, 이 측정된 상부 및 하부 온도 데이터 값에 따라 각각 제1전원(20) 및 제2전원(22)에서 제공되는 전원값을 제어하였다. In addition, the
그리고, 진공증착장치에는 상기 도가니(10)가 제1전원(20) 및 제2전원(22)을 통해 가열됨으로써, 도가니(10)에 수용된 증착물질의 잔여 여부를 측정하여 도가니(10)의 교체시기를 감지할 수 있도록 센서(52) 및 측정부(50)가 더 마련되었다. In addition, in the vacuum deposition apparatus, the
이렇듯, 상기 도가니(10)에는 제1전원(20) 및 제2전원(22)과, 제1온도 컨트롤러(40) 및 제2온도 컨트롤러(42)가 필요하였다.As such, the
한편, 기술이 점점 더 발전할수록 증착방법 및 증착장치가 발전되어지고 있고, 이 중 하나가 증착장치에 단일개의 도가니(10)가 아닌 다수개의 도가니(10)가 장착되어 공정의 연속성 및 기판의 증착정도가 향상되도록 진행되고 있다.On the other hand, as the technology is further developed, the deposition method and the deposition apparatus are being developed, and one of them is equipped with a plurality of
따라서, 제1전원(20) 및 제2전원(22)과, 제1온도 컨트롤러(40) 및 제2온도 컨트롤러(42)가 장착된 도가니(10)가 다수개 설치된다면 각 도가니(10)에 2개의 전원(20,22) 및 2개의 온도 컨트롤러(40,42)가 필요하게 되는데, 즉 8개의 도가니(10)가 설치되면 16개의 전원(20,22)과 16개의 온도 컨트롤러(40,42)가 요구된다는 문제가 발생하였다. Therefore, if a plurality of
상기와 같은 문제점을 감안하여 안출된 본 발명은, 다수개의 도가니가 장착될 경우 도가니의 본가열하기 위한 공용의 제1전원 및 제2전원, 제1온도 컨트롤러 및 제2온도 컨트롤러가 설치되고, 또한 도가니의 예비가열을 위한 공용의 제3전원 및 제3온도 컨트롤러가 설치되도록 하여, 다중 증착장치의 경우 도가니의 장착되는 수와는 무관하게 예비가열 및 본가열을 위한 단 3개의 전원 및 온도 컨트롤러에 의해 모든 도가니가 가열됨과 더불어 그 구조가 간단해지도록 된 다중 진공증착장치 및 그 제어방법을 제공함에 그 목적이 있다. The present invention devised in view of the above problems, when a plurality of crucibles are mounted, the common first power source and second power source, the first temperature controller and the second temperature controller for the main heating of the crucible is installed, The common third power source and third temperature controller for preheating of the crucible are installed so that in the case of multiple deposition apparatuses, only three power and temperature controllers for preheating and main heating are used regardless of the number of crucibles installed. It is an object of the present invention to provide a multiple vacuum deposition apparatus and a control method thereof in which all crucibles are heated and the structure thereof is simplified.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다중 진공증착장치는, 다수개의 도가니와, 이 도가니 중 본가열되는 도가니를 가열하기 위한 전원부와, 도가니와 접속된 열전대를 통해 도가니의 온도를 측정하는 온도 컨트롤러와, 상기 도가니에 수용된 증착물질의 잔여 여부를 측정하는 측정부와, 증착이 완료된 도가니가 이동되면서 본가열 위치로 진입된 도가니와 전원부 및 열전대와 접속되도록 이루어진 스위칭부가 구비되어 이루어진다. Multi-vacuum deposition apparatus according to the present invention for achieving the above object, a plurality of crucibles, the power source for heating the crucible of the main heating of the crucible, and measuring the temperature of the crucible through a thermocouple connected to the crucible A temperature controller, a measuring unit for measuring the remaining amount of the deposition material contained in the crucible, the crucible after the deposition is completed is moved to the crucible entered into the main heating position, the power supply unit and the thermocouple is provided with a switch.
또한, 본 발명에 따른 다중 진공증착장치는 상기 도가니의 예비가열을 위한 전원부 및 열전대, 온도 컨트롤러가 더 구비한다. In addition, the multiple vacuum deposition apparatus according to the present invention further includes a power supply unit, a thermocouple, and a temperature controller for preheating the crucible.
또한, 본 발명에 따른 다중 진공증착장치는 상기 도가니의 이동 및 온도 컨트롤러, 측정부, 전원부, 스위칭부 등을 제어하는 제어부가 더 구비한다. In addition, the multiple vacuum deposition apparatus according to the present invention further includes a control unit for controlling the movement of the crucible and a temperature controller, a measuring unit, a power supply unit, a switching unit, and the like.
상기 도가니의 상부 및 하부에 전원부 및 열전대, 온도 컨트롤러가 설치된 고, 상기 제어부는 온도 컨트롤러의 온도데이터에 의해 전원부의 전원 공급량이 제어되고, 측정부의 수집된 데이터에 의해 도가니가 이동되도록 이루어진다. A power supply unit, a thermocouple, and a temperature controller are installed at upper and lower portions of the crucible, and the control unit controls the power supply of the power supply unit by temperature data of the temperature controller, and moves the crucible by the collected data of the measurement unit.
이하, 본 발명에 따른 다중 진공증착장치에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings for a multiple vacuum deposition apparatus according to the present invention will be described in detail.
도 2는 본 발명에 따른 다중 진공증착장치가 이 개략적으로 도시된 구성도이고, 도 3은 도 2의 사용 상태도이다. Figure 2 is a schematic diagram showing a multiple vacuum deposition apparatus according to the present invention, Figure 3 is a state diagram used in FIG.
먼저 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 다중 진공증착장치는 어느 하나의 도 가니(100)가 본가열 위치로 이동되면, 이 제1도가니(100)를 본가열하기 위해 마련된 제1전원(110) 및 제2전원(112)이 제1스위칭부(150)를 통해 스위칭(switching)되어 제1도가니(100)의 상부 및 하부와 접속된다. First, referring to FIG. 2, when any one of the
또한, 상기 제1전원(110) 및 제2전원(112)에 의해 가열된 도가니(100)의 온도를 측정하기 위해 마련된 제1열전대(130) 및 제2열전대(132)가 제2스위칭부(152)를 통해 스위칭되어 도가니(100)의 상부 및 하에 접속되고, 이 제1열전대(130) 및 제2열전대(132)에는 각각 제1온도 컨트롤러(120) 및 제2온도 컨트롤러(122)가 설치된다.In addition, the
상기 제1온도 컨트롤러(120) 및 제2온도컨트롤러(122)는 각각 제1열전대(130) 및 제2열전대(32)를 통해 도가니(100)의 온도를 측정하게 된다. The
이러한 제1온도 컨트롤러(102) 및 제2온도컨트롤러(122)는 각각 제1전원(110) 및 제2전원(112)과 연결되어 상기 제1온도 컨트롤러(102) 및 제2온도컨트롤러(122)에서 획득된 온도데이터를 토대로 상기 제1전원(110) 및 제2전원(112)의 공급량이 조절된다. The first temperature controller 102 and the
즉, 제1전원(110) 및 제2전원(112)에 의해 가열된 도가니(100)의 상부 또는 하부의 온도가 제1온도 컨트롤러(102) 및 제2온도컨트롤러(122)에 획득되어 분석된 결과, 적정한 온도의 범위를 이탈하게 되면 제1전원(110) 또는 제2전원(112)의 공급량이 조정된다.That is, the temperature of the upper or lower portion of the
한편, 본가열을 위해 대기중인 제2도가니(200)는 예비가열하게 되는데, 이 도가니(200)에는 스위칭부(150)를 통해 스위칭 된 제3전원(210)에 의해 예비가열하 게 되고, 이 제3전원(210)에 의해 가열된 도가니(200)의 온도를 측정하기 위한 제3온도 컨트롤러(220)이 설치되며, 이 제3온도 컨트롤러(220)는 제2도가니(200)와 스위칭부(152)에 의해 스위칭된 제3열전대(230)를 통해 제2도가니(200)의 온도를 측정하게 된다. On the other hand, the
이때, 제2도가니(200)를 예비가열하는데에는 단일개의 전원(210)과 온도 컨트롤러(220) 및 열전대(230)가 사용된다. In this case, a
그리고, 상기 다중 진공증착장치에는 본가열된 제1도가니(100)에 수용된 증착물질의 잔여 여부를 확인하기 위한 센서(142)와, 이 센서(142)로부터 데이터를 수신하여 측정하는 측정부(140)가 더 포함된다. In addition, the multi-vacuum deposition apparatus includes a
또한, 상기 측정부(140)의 데이터는 제1전원(110)에 전달되어 제1전원(110)의 공급량이 제어된다.In addition, the data of the
한편, 도 3에서와 같이 상기 측정부(140)에 의해 측정된 데이터를 통해 제1도가니(100)에 증착된 증착물질이 모두 방출되면, 본가열된 제1도가니(100)는 배출되면서 예비가열된 제2도가니(200)가 본가열위치로 이동하고, 제1도가니(100)와 제2도가니(200)는 스위칭부(150,152)를 통해 전원(110,112)과 열전대(130,132)와의 접속이 이루어진다. Meanwhile, as shown in FIG. 3, when all the deposition materials deposited on the
또한, 제2도가니(200)가 이동되어 비워지는 예비가열 위치에 제3도가니(300)가 진입하게 되고, 이 제3도가니(300)는 제3전원(210) 및 열전대(230)과 스위칭부(105,152)를 통해 접속되고, 제3전원(210)에 의해 가열되면서 제3온도 컨트롤러(220)에 의해 그 가열온도가 측정된다. In addition, the
한편, 상기 제1도가니(100) 및 제2도가니(200)의 이동, 제1전원(110) 및 제2전원(112), 제1온도컨트롤러(120) 및 제2온도컨트롤러(122), 측정부(140) 등의 모든 제어는 별도의 제어부에서 이루어지고, 이 제어부의 제어는 PC, PLC, MICOM 등의 다양한 일반적인 수단이 이용된다. Meanwhile, the movement of the
또한, 도가니(100,200)과 전원(110,112) 및 열전대(120,122)의 접속은 일반 릴레이(relay)가 사용되는 것이 좋다. In addition, it is preferable that a general relay is used to connect the
도 4는 도 2에 도시된 다중 진공증착장치의 공정순서가 도시된 블럭도이다. 4 is a block diagram showing a process sequence of the multiple vacuum deposition apparatus shown in FIG.
도 4를 보면, 본가열 위치와 예비가열 위치에 제1도가니(100)와 제2도가니(200)가 위치되어 있는지를 판단하게 되고, 본가열과 예비가열이 각각 이루어진다. 4, it is determined whether the
본가열의 경우에는 제1도가니(100)가 본가열위치에 진입되면 제1전원(110)와 제2전원(112)과 접속되면서 전원이 공급되어 가열된다.In the case of the main heating, when the
또한, 상기 제1도가니(100)와 접속되는 제1열전대(130) 및 제2열전대(132)를 통해 제1온도 컨트롤러(120) 및 제2온도 컨트롤러(122)가 작동되어 제1도가니(100)의 온도를 측정하게 된다. In addition, the
이 제1온도 컨트롤러(120) 및 제2온도 컨트롤러(122)에 의해 측정된 온도가 적정 온도의 범위에서 이탈되면 상기 제1전원(110) 및 제2전원(112)의 전원 공급량이 조정되어 제1도가니(100)의 온도가 항상 적정 온도범위에 위치하게 된다. When the temperature measured by the
이렇게 가열된 제1도가니(100)에서 증착물질이 방출되는 정도를 센서(142)가 체크하고 그 내용이 측정부(140)에 전달되어 제1도가니(100)의 증착물질의 잔여여 부를 확인하고, 증착물질이 모두 증발되면 제1도가니(100)는 본가열위치에서 방출된다. The
한편, 예비가열 위치에 있는 제2도가니(200)는 제3전원(210)과 접속되어 예비가열되고, 제2도가니(200)와 접속되는 제3열전대(230)를 통해 제3온도 컨트롤러(220)가 작동되어 제2도가니(200)의 온도를 측정하게 된다. On the other hand, the
이렇게 예비가열된 제2도가니(200)는 제1도가니(100)와 더불어 이동되면서 본가열 위치로 이동하게 되고, 본가열 위치에서 전원(110,112) 및 열전대(130,132)와 접속되며, 온도 컨트롤러(120,122)에 의해 그 온도가 측정된다. The pre-heated
또한, 제2도가니(200)가 본가열 위치로 이동되면 제3도가니(300)가 예비가열 위치로 이동되고, 전원(210) 및 열전대(230)과 접속되면서 온도 컨트롤러(220)에 의해 그 온도가 측정된다. In addition, when the
이러한 도가니(100,200,300)의 이동 및 각 구성요소들은 별도의 제어부에 의해 제어된다. The movement of the
상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 다수의 도가니가 설치되는 다중 진공증착장치의 경우, 공용의 전원 및 열전대, 온도 컨트롤러가 설치되면서 기판에 증착을 위해 도가니를 가열하는 본가열 및 본가열을 위해 대기하는 도가니에 대한 예비가열이 이루어질 수 있고, 또한 도가니의 장착되는 수와는 무관하게 예비가열 및 본가열을 위한 단 3개의 전원 및 온도 컨트롤러에 의해 모든 도가니가 가열될 수 있고, 간단한 구조로 다중 증착장치가 사용될 수 있는 효과가 있다. According to the present invention configured as described above, in the case of a multiple vacuum deposition apparatus in which a plurality of crucibles are installed, a common power source, a thermocouple, and a temperature controller are installed to heat the crucible for deposition on a substrate and wait for the main heating. Preheating to the crucible can be done, and all crucibles can be heated by only three power and temperature controllers for preheating and main heating, regardless of the number of crucibles to be installed, and multiple depositions in a simple structure There is an effect that the device can be used.
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Family Applications (1)
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KR1020050019644A KR100595107B1 (en) | 2005-03-09 | 2005-03-09 | Multiple vacuum evaporation |
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KR (1) | KR100595107B1 (en) |
-
2005
- 2005-03-09 KR KR1020050019644A patent/KR100595107B1/en active IP Right Grant
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