KR100584955B1 - Method for processing optical waveguide entrance of printed circuit board - Google Patents
Method for processing optical waveguide entrance of printed circuit board Download PDFInfo
- Publication number
- KR100584955B1 KR100584955B1 KR1020030093822A KR20030093822A KR100584955B1 KR 100584955 B1 KR100584955 B1 KR 100584955B1 KR 1020030093822 A KR1020030093822 A KR 1020030093822A KR 20030093822 A KR20030093822 A KR 20030093822A KR 100584955 B1 KR100584955 B1 KR 100584955B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- optical waveguide
- inlet
- processing
- prepreg
- optical
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0274—Optical details, e.g. printed circuits comprising integral optical means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
- G02B6/4214—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms the intermediate optical element having redirecting reflective means, e.g. mirrors, prisms for deflecting the radiation from horizontal to down- or upward direction toward a device
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4274—Electrical aspects
- G02B6/428—Electrical aspects containing printed circuit boards [PCB]
Abstract
본 발명은 인쇄회로기판의 광도파로 인입구 가공 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 동적층판에 광도파로와 프리프레그를 적층한 후에 광도파로 인입구를 가공하도록 하여 접착제의 흘러내림에 의한 난반사나 가압시 온도 또는 압력의 불균형에 의해 발생되는 디라미네이션(Delimination)을 방지하도록 하는 인쇄회로기판(PCB)에서 광도파로 인입구 가공 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for processing an optical waveguide inlet of a printed circuit board, and more particularly, after stacking an optical waveguide and a prepreg on a dynamic layer plate to process the optical waveguide inlet, the temperature at the time of diffuse reflection or pressurization caused by the flow of the adhesive The present invention also relates to an optical waveguide inlet processing method in a printed circuit board (PCB) to prevent delamination caused by an unbalance of pressure.
또한, 본 발명에 따르면, 광도파로(optical waveguide)에 적층되는 적층 부재의 소정 부위를 선가공(pre-routing)하여 상부 윈도우를 가공하는 제 1 단계; 광도파로가 삽입되는 삽입 부재에 광도파로 윈도우를 가공하여 광도파로를 삽입하는 제 2 단계; 동 적층판(Copper Clad Laminate: CCL) 상에 접합제와 상기 광도파로 삽입 부재 및 상기 적층부재를 적층하고 압착하는 제 3 단계; 및 상기 광도파로의 일단을 절단하여 인입구의 반사면을 형성하는 제 4 단계를 포함하는 이루어진 광도파로 인입구 가공 방법이 제공된다.In addition, according to the present invention, a first step of processing the upper window by pre-routing a predetermined portion of the laminated member to be laminated to an optical waveguide (optical waveguide); A second step of processing the optical waveguide window in the insertion member into which the optical waveguide is inserted and inserting the optical waveguide; A third step of laminating and compressing a bonding agent, the optical waveguide insertion member, and the lamination member on a copper clad laminate (CCL); And a fourth step of cutting one end of the optical waveguide to form a reflective surface of the inlet.
광도파로, 인쇄회로기판, 반사면, 인입구 Optical waveguides, printed circuit boards, reflective surfaces, inlets
Description
도 1 은 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 광도파로 인입구 가공시 접착제의 흘러내림을 설명하기 위한 도면.1 is a view for explaining the flow of the adhesive during the optical waveguide inlet processing of a printed circuit board according to the prior art.
도 2는 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 광도파로 인입구 가공시 온도와 압력의 불균형에 따라 발생하는 디라미레이션을 설명하기 위한 도면.Figure 2 is a view for explaining the delamination caused by the imbalance of the temperature and pressure during the optical waveguide inlet processing of the printed circuit board according to the prior art.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 광도파로의 인입구 가공 방법의 흐름도.Figure 3 is a flow chart of the inlet processing method of the optical waveguide according to an embodiment of the present invention.
도 4a 내지 도 4e는 각각 본 발명의 제1실시예에 따른 광도파로 인입구의 가공 방법을 설명하기 위한 도면.4A to 4E are views for explaining the processing method of the optical waveguide inlet, respectively, according to the first embodiment of the present invention.
도 5a 내지 도 5f는 각각 본 발명의 제2실시예에 따른 광도파로의 인입구의 가공 방법의 흐름도.5A to 5F are flowcharts of methods of processing inlets of optical waveguides according to the second embodiment of the present invention, respectively.
도 6a 내지 도 6f는 각각 본 발명의 제3 실시예에 따른 광도파로의 인입구의 가공 방법을 설명하기 위한 도면.6A to 6F are views for explaining the processing method of the inlets of the optical waveguide according to the third embodiment of the present invention, respectively.
도 7a 내지 도 7g는 각각 본 발명의 제4 실시예에 따라 광도파로의 인입구의 가공 방법을 설명하기 위한 도면.7A to 7G are views for explaining a processing method of an inlet of an optical waveguide according to a fourth embodiment of the present invention, respectively.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
41, 51 : SSCCL 43, 55, 62, 76 : 광도파로41, 51: SSCCL 43, 55, 62, 76: optical waveguide
44, 45, 52, 54, 56, 63, 64, 66, 73, 74, 78 : 프리프레그 44, 45, 52, 54, 56, 63, 64, 66, 73, 74, 78: prepreg
46, 57, 61, 67, 72, 77, 79 : CCL 46, 57, 61, 67, 72, 77, 79: CCL
71 : 히트 스프레드 71: heat spread
본 발명은 인쇄회로기판의 광도파로 인입구 가공 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 동적층판에 광도파로와 프리프레그를 적층한 후에 광도파로 인입구를 가공하도록 하여 접착제의 흘러내림에 의한 난반사나 가압시 온도 또는 압력의 불균형에 의해 발생되는 디라미네이션(Delimination)을 방지하도록 하는 인쇄회로기판(PCB)에서 광도파로 인입구 가공 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for processing an optical waveguide inlet of a printed circuit board, and more particularly, after stacking an optical waveguide and a prepreg on a dynamic layer plate to process the optical waveguide inlet, the temperature at the time of diffuse reflection or pressurization caused by the flow of the adhesive The present invention also relates to an optical waveguide inlet processing method in a printed circuit board (PCB) to prevent delamination caused by an unbalance of pressure.
PCB(인쇄회로기판)는 인쇄회로 원판 위에 여러 전자제품 소자들을 일정한 틀에 따라 간편하게 연결시켜 주는 역할을 하며, 디지털 TV를 비롯한 가전제품부터 첨단 통신기기까지 모든 전자제품에 광범위하게 사용되는 부품이다.Printed circuit boards (PCBs) are used to easily connect various electronic devices on a printed circuit board according to a predetermined frame, and are widely used in all electronic products such as digital TVs and other home appliances to high-tech communication devices.
종래에는 PCB를 제조할 경우, 구리판에 회로 패턴을 형성(Patterning)하여 PCB의 내층(Inner Layer)/외층(Out Layer)을 형성하였으나, 최근 고분자 중합체(Polymer)와 유리 섬유(Glass fiber)를 이용하여 빛으로 신호를 송수신 할 수 있는 광 도파로를 PCB에 삽입하게 되었으며, 이를 EOCB(Electro-Optical Circuit Board)라고 한다.Conventionally, when manufacturing a PCB, a circuit pattern is formed on a copper plate to form an inner layer / out layer of the PCB, but recently, a polymer and a glass fiber are used. By inserting an optical waveguide that can transmit and receive signals with light, it is called EOCB (Electro-Optical Circuit Board).
이러한 EOCB란 전기적인 신호와 광 신호를 혼재하여 동일 보드 내에서의 초고속 데이터 통신은 광 신호로 인터페이싱(interfacing)되며, 소자 내에서는 데이터의 저장/신호 처리를 위해 전기적인 신호로 변환할 수 있도록 구리판 회로 패턴을 형성한 상태에서 광 도파로 및 유리판을 삽입한 PCB를 말한다.The EOCB is a mixture of electrical and optical signals, so that high-speed data communication within the same board is interfacing to optical signals, and the copper plate can be converted into electrical signals for data storage / signal processing within the device. The PCB which inserted the optical waveguide and the glass plate in the state which formed the circuit pattern.
상기와 같은 광 도파로 형성 시, PCB의 외층으로부터 내층으로 연결하는 통로를 형성하고 광 신호를 용이하게 전달할 수 있도록 하는 광 비아홀(Opto-Via Hole)이 요구된다.When forming the optical waveguide as described above, an optical via hole for forming a passage connecting from the outer layer to the inner layer of the PCB and easily transmitting the optical signal is required.
상기 광 비아홀은 광 신호를 PCB 내층의 광 도파로 소자의 곡면 및 인입구에 연결을 해주기 위한 매개체이며, 또한 내부로부터 발생하는 신호를 외부의 포토다이오드(PD), VCSEL 등에 전달해 주는 기능을 하는 PCB의 비아홀을 말한다.The optical via hole is a medium for connecting the optical signal to the curved surface and the inlet of the optical waveguide element in the inner layer of the PCB, and also the via hole of the PCB which transmits the signal generated from the inside to the external photodiode (PD), VCSEL, etc. Say
또한, 인터넷 사용의 급증과 서비스 품질이 높아짐에 따라 데이터 취급량과 전송량이 급증하게 되었고, 이로 인한 대역폭(Bandwidth) 확대와 신호처리의 고속화가 요구됨에 따라 광 인터페이싱(Optical Interfacing)할 수 있는 매개체로서 이와 같은 EOCB가 필요하게 되었다. In addition, as the use of the Internet and the quality of service have increased, data handling and transmission have increased rapidly. As a result, bandwidth and signal processing are required to increase the speed of optical interfacing. The same EOCB was needed.
즉, 종래의 PCB에 사용되던 전기 신호는 기가헤르쯔(㎓) 대역에서 고속 스위칭 시에 노이즈(EMS; Electro Magnetic Susceptibility) 특성에 의해 제한을 받기 때문에, EMI 특성의 제한을 받지 않는 광 인터페이싱이 요구되는 것이다.In other words, the electrical signal used in the conventional PCB is limited by the characteristics of Electro Magnetic Susceptibility (EMS) during high-speed switching in the gigahertz band, so that optical interfacing without the EMI characteristic is required. will be.
이러한 광도파로를 삽입하여 다층 인쇄회로기판을 형성할 경우, 광도파로를 접합하기 위해 열을 가하면 열경화성 에폭시수진인 프리프레그가 흘러내려 광신호가 광도파로 인입구 면에 흘러내려 덮일 수 있는 문제점이 있었다.When the optical waveguide is inserted to form a multilayer printed circuit board, when a heat is applied to bond the optical waveguide, the prepreg, which is a thermosetting epoxy resin, flows down and the optical signal flows onto the inlet surface of the optical waveguide.
도 1 은 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 광도파로 인입구 가공시 접착제의 흘러내림을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining the flow of the adhesive during the optical waveguide inlet processing of a printed circuit board according to the prior art.
도 1을 참조하면 광도파로를 접합하기 위해 열을 가하면 광도파로의 인입구의 대응면에 있는 프리프레그가 흘러내려 광도파로의 인입구에 증착됨에 따라 광도파로의 난반사를 일으키는 문제점이 있었다.Referring to FIG. 1, when heat is applied to join an optical waveguide, prepreg on the corresponding surface of the inlet of the optical waveguide flows down and is deposited on the inlet of the optical waveguide, thereby causing diffuse reflection of the optical waveguide.
도 2는 종래 기술에 따른 인쇄회로기판의 광도파로 인입구 가공시 온도와 압력의 불균형에 따라 발생하는 디라미레이션을 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the delamination caused by the imbalance of the temperature and pressure during the optical waveguide inlet processing of the printed circuit board according to the prior art.
도 2를 참조하면 광도파를 접합하기 위해 열을 가하면 단차부위의 압력과 온도 차이가 발생하여 인입구의 디라미네이션이 발생하는 문제점이 있었다.Referring to FIG. 2, when a heat is applied to bond an optical waveguide, a difference in pressure and temperature occurs in a stepped portion, and a delamination of an inlet occurs.
상기한 문제점을 해결하기 위한 수단으로서, 본 발명의 목적은 광도파로의 인입구를 프리프레그를 적층한 후에 가공하도록 함으로서 프리프레그의 흘러내림에 의한 인입구의 난반사를 방지할 수 있도록 하는 광도파로의 인입구의 가공방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.As a means for solving the above problems, an object of the present invention is to process the inlet of the optical waveguide after laminating the prepreg to prevent the diffuse reflection of the inlet by the falling of the prepreg to prevent the inlet of the optical waveguide Its purpose is to provide a processing method.
또한, 본 발명은, 광도파로의 인입구를 프리프레그를 적층한 후에 가공하도록 함으로서 단차 부위의 압력과 온도차이에 의한 인입구의 디라미네이션(Delamination)의 발생을 방지하도록 하는 광도파로의 인입구의 가공 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
In addition, the present invention provides a method for processing the inlet of the optical waveguide in which the inlet of the optical waveguide is processed after the prepreg is laminated, thereby preventing the occurrence of delamination of the inlet due to the pressure difference between the stepped portion and the temperature. Its purpose is to provide.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은 광도파로(optical waveguide)에 적층되는 적층 부재의 소정 부위를 선가공(pre-routing)하여 상부 윈도우를 가공하는 제 1 단계; 광도파로가 삽입되는 삽입 부재에 광도파로 윈도우를 가공하여 광도파로를 삽입하는 제 2 단계; 동 적층판(Copper Clad Laminate: CCL) 상에 접합제와 상기 광도파로 삽입 부재 및 상기 적층부재를 적층하고 압착하는 제 3 단계; 및 상기 광도파로의 일단을 절단하여 인입구의 반사면을 형성하는 제 4 단계를 포함하는 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is a first step of processing the upper window by pre-routing a predetermined portion of the laminated member laminated to an optical waveguide (optical waveguide); A second step of processing the optical waveguide window in the insertion member into which the optical waveguide is inserted and inserting the optical waveguide; A third step of laminating and compressing a bonding agent, the optical waveguide insertion member, and the lamination member on a copper clad laminate (CCL); And a fourth step of cutting one end of the optical waveguide to form a reflective surface of the inlet.
이제, 도 3 이하의 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예에 따른 광도파로의 인입구 가공 방법에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Now, with reference to the drawings of Figure 3 will be described in detail with respect to the inlet processing method of the optical waveguide according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 광도파로의 인입구 가공 방법의 흐름도이다.Figure 3 is a flow chart of the inlet processing method of the optical waveguide according to an embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 광도파로의 인입구 가공 방법은, 먼저 광도파로의 상부에 적층되어 접합되는 동 적층판(Copper Clad Laminate: CCL)과 프리프레그(prepreg)의 소정 부위를 선가공(pre-routing)하여 상부 윈도우를 가공한다(S10).Referring to FIG. 3, in the method of processing the inlet of the optical waveguide according to the present invention, first, a predetermined portion of a copper clad laminate (CCL) and a prepreg laminated and bonded to an upper portion of the optical waveguide is pre-processed ( Pre-routing) to process the upper window (S10).
이후에, 광도파로 삽입용 동 적층판(Copper Clad Laminate: CCL) 상에 광도 파로를 삽입하기 위한 도파로 삽입용 윈도우를 가공한다(S11).Thereafter, the waveguide insertion window for inserting the optical waveguide on the copper clad laminate (CCL) for optical waveguide insertion is processed (S11).
다음에, 도파로 삽입용 윈도우가 가공된 동적층판에 광도파로를 삽입한 후에(S12), 최하위로부터 동적층판, 프리프레그, 광도파로가 삽입된 동적층판, 프리프레그, 동적층판의 순으로 적층한 후에 압축한다(S13).Next, after the optical waveguide is inserted into the dynamic laminated plate processed with the waveguide insertion window (S12), the laminated layer is sequentially stacked from the lowest to the dynamic laminated plate, the prepreg and the dynamic waveguide into which the optical waveguide is inserted, the prepreg, and the dynamic laminated plate. It is compressed (S13).
이후에, 광도파로의 인입구를 절단장비를 이용하여 45도로 가공하여 반사면을 형성하며(S14), 후속 PCB 제조 공정에 의해 PCB가 제조되게 된다(S15).Thereafter, the inlet of the optical waveguide is processed to 45 degrees using a cutting device to form a reflective surface (S14), and the PCB is manufactured by a subsequent PCB manufacturing process (S15).
결국, 상기 광도파로의 삽입 및 접합이 완료된 후에 상기 광도파로의 인입구를 절단장비로 절단하여 반사면을 형성함에 따라 1)종래 방식에 비해 공정 프로세스의 진행이 용이하고, 2)적층 성형시 접착제의 흘러내림과 이물질 부착에 의한 광 난반사를 해결하도록 하였으며, 3)적층시 온도와 압력 불균형에 의한 광도파로의 디라미네이션을 감시시킬 수 있도록 하는 효과가 있다.As a result, after the insertion and bonding of the optical waveguide are completed, the inlet of the optical waveguide is cut with a cutting device to form a reflective surface. 1) The process of the process is easier than in the conventional method, and 2) It is designed to solve the light reflection caused by the falling down and the adhesion of foreign matters. 3) It has the effect of monitoring the delamination of the optical waveguide due to the temperature and pressure imbalance.
도 4a 내지 도 4e는 각각 본 발명의 제1실시예에 따른 광도파로 인입구의 가공 방법을 설명하기 위한 도면들이다.4A to 4E are views for explaining a method of processing the optical waveguide inlet, respectively, according to the first embodiment of the present invention.
먼저, 도 4a는 선가공되는 SSCCL을 나타내는 도면으로서, SSCCL(41)를 선가공하는 이유는 광도파로의 반사면이 가공될 수 있는 공간을 확보하기 위한 것으로서 기존 크기보다 5mm 크게 가공한다. 여기서 SSCCL(41)은 CCL의 양쪽 동박 중에 한 쪽면을 제거한 것을 말한다.First, FIG. 4A is a diagram illustrating a pre-processed SSCCL. The pre-processing of the
이때, 해당 부위의 노출을 위해 라우터 비트(router bit) 또는 드릴 비트(drill bit)(42)를 사용하여 도시된 바와 같이 절단하게 된다. At this time, the router bit or the
그리고, 도시되지는 않았지만 광도파로 삽입용의 프리프레그를 가공하여 광 도파로 삽입용의 윈도우를 가공하고, 광도파로를 삽입한다.Although not shown, the prepreg for inserting the optical waveguide is processed to process the window for inserting the optical waveguide, and the optical waveguide is inserted.
도 4b는 적층되었을 때 SSCCL(41)의 가공 위치를 보여주고 있으며 가공 위치내에 광도파로가 노출되는 위치를 보여주고 있다. 4B shows the machining position of the
도 4b를 참조하면 SSCCL(41)의 가공 위치의 중앙부에 광도파로가 위치하고 있음을 보여준다. 종래 기술에 의하면 광도파로의 인입구가 SSCCL의 중앙 부분에 위치하였으나 본 발명에서는 SSCCL의 가공부의 중앙부위에 광도파로의 인입구가 위치하고 있지 않으며 이는 아직 광도파로의 인입구가 성형되지 않았기 때문이다.4B shows that the optical waveguide is located at the center of the machining position of the
도 4c는 도 4b에 도시된 A-A' 부분을 절개한 수직 단면도로서, SSCCL(41), 광도파로(43)가 삽입된 제1 프리프레그(44), 제2 프리프레그(45), CCL(46)가 적층되어 있는 단면도로서, SSCCL(41)가 간격 d 만큼 선가공되어 있다.FIG. 4C is a vertical cross-sectional view of the AA ′ portion shown in FIG. 4B and includes a
도 4d는 광도파로용 다층 인쇄회로기판의 접합 후 단면을 나타내는 도면으로서, 상기 제1 프리프레그(44) 및 제2 프리프레그(45)의 접합된 상태를 나타내는 도면이다. 실질적으로는, 동 적층판(46), 광도파로(43), 상기 제1 프리프레그(44) 및 제2 프리프레그(45)는 위치가 정렬된 후 한번에 소정의 온도 및 압력으로 접합된다.4D is a cross-sectional view of the optical waveguide multilayer printed circuit board after bonding, and illustrates a state in which the
이때, 종래 기술에 의하면 프리프레그(44, 45)가 광도파로(43)와 접합되므로, 광신호가 인입되는 구면에 프리프레그가 덮이게 될 수 있다.At this time, according to the prior art, since the
그러나, 본 발명에서는 도 4e에서 도시된 바와 같이 프리프레그(44, 45)가 광도파로(43)에 접합된 후에 라우트 비트나 드릴을 사용하여 45도 각도로 반사면을 형성하고 폴리싱을 함에 따라 이와 같은 종래 기술의 문제점을 방지할 수 있다.However, in the present invention, as shown in FIG. 4E, after the
도 5a 내지 도 5f는 각각 본 발명의 제2실시예에 따른 광도파로의 인입구의 가공 방법의 흐름도이다.5A to 5F are flowcharts of a method of processing an inlet of an optical waveguide according to a second embodiment of the present invention, respectively.
먼저, 도 5a는 SSCCL(51)를 선가공하는 것을 나타내는 도면으로서, 전술한 제1 실시예의 SSCCL(41)와 같이, SSCCL(51)을 선가공하는 것은 광도파로의 인입구를 가공할 수 있도록 하기 위함이다. 여기서 SSCCL(51)은 CCL의 양쪽 동박 중에 한 쪽면을 제거한 것을 말한다. 즉, 통상적으로 CCL은 에폭시 절연막(51a)의 상부에 적층되는 동박으로서, 에폭시 절연막(51a)의 양쪽에 형성되지만, SSCCL(51)는 그 중 한 쪽면에만 동박(51b)이 형성된 것이다. 제1 실시예와 마찬가지로 해당 부위의 노출을 위해 라우터 비트 또는 드릴 비트(53)를 사용하여 도시된 바와 같은 형상으로 SSCCL(51)을 절단하게 된다.First, FIG. 5A is a diagram showing the pre-processing of the
도 5b는 선가공되는 프리프레그(54)를 나타내는 도면으로서, 이때 프리프레그(54)를 선가공하는 이유는 광도파로와 SSCCL(52)의 접합 및 광도파로의 접합면과 SSCCL의 접합면의 단차 발생을 방지하기 위한 것이다. 제1 실시예와 마찬가지로 해당 부위의 노출을 위해 라우터 비트 또는 드릴 비트(53)를 사용하여 도시된 바와 같이 절단하게 된다. 이때 프리프레그(54)는 고점도의 에폭시수지이다.FIG. 5B is a diagram showing a
도 5c 내지 도5e는 각각 접합시의 접합 상면, 접합 전의 단면, 및 접합 후의 단면을 나타내는 도면들이다. 도 5c는 SSCCL(51)의 가공 위치 및 접합 위치를 나타낸다. 도 5d는 도 5c에 도시된 B-B' 부분을 절개한 수직 단면도이다. 도 5d를 참조하면, 최하위에는 CCL(57), 그 상부에 제2 프리프레그(56), 그 위에 광도파로(55)가 삽입된 프리프레그(52), 그 상부에 제1 프리프레그(54), 그 위에 SSCCL(51)이 적층되어 있다.5C to 5E are diagrams respectively illustrating a bonding top surface at the time of bonding, a cross section before bonding, and a cross section after bonding. 5C shows the machining position and the joining position of the
도 5f는 접합 후에 광도파로의 인입구를 가공하는 과정을 설명하기 위한 도면으로 제2 프리프레그(56)와 SSCCL(51)이 광도파로(55)에 접합된 후에 라우트 비트나 드릴을 사용하여 45도 각도로 반사면을 형성하고 폴리싱을 함에 따라 이와 같은 종래 기술의 문제점을 방지할 수 있다. FIG. 5F is a view for explaining a process of processing the inlet of the optical waveguide after the bonding. After the
결국, SSCCL(51) 및 제2 프리프레그(56)가 광도파로(55)와 접합된 후에, 광도파로(55)의 인입구가 가공되어 반사면이 형성됨에 따라 광신호가 인입되는 구면에 제2 프리프레그(56)가 덮이지 않게 되며, 후속 PCB 제조 공정에 의해 PCB가 제조되게 된다.As a result, after the
도 6a 내지 도 6f는 각각 본 발명의 제3 실시예에 따른 광도파로의 인입구의 가공 방법을 설명하기 위한 도면들이다.6A to 6F are views for explaining a processing method of an inlet of an optical waveguide according to a third embodiment of the present invention, respectively.
도 6a는 제1 CCL의 상면도로서, 광신호가 인입되는 광학적 윈도우(optical window)가 제1 CCL(61)의 소정 영역(m)에 형성되는 것을 나타낸다. FIG. 6A is a top view of the first CCL, in which an optical window into which an optical signal is introduced is formed in a predetermined area m of the
다음에, 도 6b는 제1 CCL(61)와 광도파로(62)가 부착된 상면도를 나타낸다.6B shows a top view with the
다음에, 도 6c는 전술한 제1 실시예에서와 마찬가지로 프리프레그(64)를 선가공하는 것을 보여주며, 광도파로의 접합면과 열경화성 수지의 접합면의 단차 발생을 방지하기 위한 것이다. 제1 실시예와 마찬가지로 해당 부위의 노출을 위해 라우터 비트 또는 드릴 비트(65)를 사용하여 도시된 바와 같이 절단하게 된다. Next, FIG. 6C shows the preprocessing of the
도 6d는 광도파로(62)가 접합되기 전의 단면도로서, 최하위에 제3 CCL(67)이 위치하고, 그 위에 제2 프리프레그(66)이 위치하며, 그 위에 광도파로(62)가 삽입 된 제2 CCL(63)이 위치하고 있으며, 그 위에 제1 프리프레그(64)가 위치하며, 그 위에 제1 CCL(61)이 위치한다.FIG. 6D is a cross-sectional view before the
이후, 도 6e에서 알 수 있는 바와 같이 압착된다.Then, it is compressed as can be seen in FIG. 6E.
도 6f는 접합 후에 광도파로의 인입구를 가공하는 과정을 설명하기 위한 도면으로 제2 프리프레그(66)와 광도파로(62)에 접합된 후에 라우트 비트나 드릴을 사용하여 45도 각도로 반사면을 형성하고 폴리싱을 함에 따라 이와 같은 종래 기술의 문제점을 방지할 수 있다. FIG. 6F is a view for explaining the process of processing the inlet of the optical waveguide after bonding. After the
결국, 제2 프리프레그(66)와 광도파로(62)와 접합된 후에, 광도파로(62)의 인입구가 가공되어 반사면이 형성됨에 따라 광신호가 인입되는 구면에 제2 프리프레그(66)가 덮이지 않게 되며, 후속 PCB 제조 공정에 의해 PCB가 제조되게 된다.As a result, after the
도 7a 내지 도 7h는 각각 본 발명의 제4 실시예에 따라 광도파로의 인입구의 가공 방법을 설명하기 위한 도면들이다.7A to 7H are views for describing a processing method of an inlet of an optical waveguide, respectively, according to the fourth embodiment of the present invention.
먼저, 도 7a는 히트 스프레더(71)를 가공한 후 식각에 의해 소정 영역을 절단한 것을 나타내는 도면으로서, 상기 히트 스프레더(71)는 합금성분의 구리(cu)로 형성되며, 접합시 높은 열을 단시간 내에 외부로 방출시켜줄 수 있도록 각 층 사이에 삽입되고, 회로적인 관점에서는 접지(Ground) 역할을 하게 된다.First, FIG. 7A is a view illustrating cutting a predetermined region by etching after processing the
도 7b는 제1 프리프레그(74)를 선가공하는 것을 보여주며, 이후 상기 제1 프리프레그(74)는 히트 스프레더 방열판과 제1 CCL(72)의 에폭시 면을 접합하기 위한 것이다. FIG. 7B shows the prefabrication of the
도 7c는 히트 스프레더(71)가 형성된 상면도로서, 도면부호 q는 광학적 윈도 우로서 광도파로의 접합 위치를 나타낸다. 상기 히트 스프레더(71)는 금속층으로서, 열을 발산하는 방열판 역할을 할 수 있다.FIG. 7C is a top view in which the
도 7d는 제2 CCL(77)에 광도파로(76)가 접합된 상태를 나타내는 단면도이고, 도 7e는 선가공된 제1 프리프레그(74) 및 히트 스프레더(71)의 접합 전의 단면도이며, 도 7f는 접합 후의 단면을 나타낸다. 도 7d에서 제1 CCL(72)의 상부 동박(72c)은 접합 성능을 향상시키기 위해서 소정 부위가 미리 제거된 형태를 취할 수도 있다.FIG. 7D is a cross-sectional view illustrating a state in which the
도 7e를 참조하면, 최하위에 제3 CCL(79)가 위치하며, 그위에 제3 프리프레그(78)이 적층되어 있으며, 그 위에 광도파로(76)가 삽입된 제2 CCL(77)가 적층되어 있으며, 그 위에 제2 프리프레그(73)이 적층되어 있고, 그 위에 히트 스프레더(71)이 적층되어 있으며, 그 위에 제1 프리프레그(74)가 적층되어 있으며, 그 위에 제1 CCL(72)가 적층되어 있다.Referring to FIG. 7E, the
도 7g는 접합 후에 광도파로의 인입구를 가공하는 과정을 설명하기 위한 도면으로 적층된 후에 광도파로의 인입구를 45도 각도로 가공하여 반사면을 형성한다.FIG. 7G is a view for explaining a process of processing an inlet of an optical waveguide after bonding, and after forming the reflective surface, the inlet of the optical waveguide is processed at a 45 degree angle.
결국, 히트 스프레더(71)가 형성되고, 제1 프리프레그(74)가 선가공되며, 광학적 윈도우를 형성 한 후에 광도파로(76)와 접합하고, 그 후에 광도파로(76)의 인입구의 반사면을 가공함에 따라 광신호가 인입되는 구면에 제3 프리프레그(78)가 덮이지 않게 된다.As a result, a
본 발명에 따른 광도파로 인입구 가공 방법은 단지 상기한 실시예들에 한정 되는 것이 아니고, 그 기술적 요지를 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 변형 및 변경 실시할 수 있다.The optical waveguide inlet processing method according to the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications and changes can be made without departing from the technical gist of the invention.
상기와 같은 본 발명에 따르면 광도파로 삽입 후에 45도 각도로 인입구의 반사면을 가공함에 따라 도파로 삽입시 위치 정렬이 용이하도록 하는 효과가 있다.According to the present invention as described above there is an effect to facilitate the position alignment when inserting the waveguide by processing the reflective surface of the inlet at an angle of 45 degrees after the insertion of the optical waveguide.
또한, 본 발명에 따르면 광도파로의 인입구를 45도 각도로 미형성 상태로 PCB 내에 삽입하여 일괄적층한 후에 PCB 상태에서 45도로 가공하고 폴리싱함에 따라 적층 성형시 접착제의 흘러내림에 따른 광 난반사 문제를 해결할 수 있도록 하는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, the inlet of the optical waveguide is inserted into the PCB in an unformed state at an angle of 45 degrees, and laminated in a batch, and then processed and polished at 45 degrees in a PCB state, thereby preventing light reflection problems due to the flow of adhesive during lamination. There is an effect that can be solved.
또한, 본 발명에 따르면 적층시 온도와 압력의 불균형에 따라 발생하는 디라미레이션이 감소하도록 하는 효과가 있다.In addition, according to the present invention there is an effect to reduce the delamination caused by the imbalance of the temperature and pressure during lamination.
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030093822A KR100584955B1 (en) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | Method for processing optical waveguide entrance of printed circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030093822A KR100584955B1 (en) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | Method for processing optical waveguide entrance of printed circuit board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050062141A KR20050062141A (en) | 2005-06-23 |
KR100584955B1 true KR100584955B1 (en) | 2006-05-29 |
Family
ID=37254387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020030093822A KR100584955B1 (en) | 2003-12-19 | 2003-12-19 | Method for processing optical waveguide entrance of printed circuit board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100584955B1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100821289B1 (en) * | 2007-01-30 | 2008-04-11 | 주식회사 두산 | Flexible optical circuit board and manufacturing method thereof |
WO2011019435A2 (en) * | 2009-05-27 | 2011-02-17 | University Of Delaware | Formation of reflective surfaces in printed circuit board waveguides |
-
2003
- 2003-12-19 KR KR1020030093822A patent/KR100584955B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20050062141A (en) | 2005-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7336864B2 (en) | Opto-electronic board | |
US6236786B1 (en) | Substrate with optical waveguide and method of making the same | |
KR100499004B1 (en) | A printed circuit board with opto-via holes, and a process for forming them | |
US7729570B2 (en) | Photoelectric circuit board and device for optical communication | |
JP3666752B2 (en) | System and method for integrating an optical layer into an interboard communication PCB | |
US7306377B2 (en) | Integrated optical sub-assembly having epoxy chip package | |
JP2006120956A (en) | Multilayer printed-wiring board | |
US9651748B2 (en) | Optical module | |
KR20020038594A (en) | Photoelectric wiring board, packaging board, and photoelectric wiring board producing method | |
JP2000081524A (en) | Light transmitter-receiver system | |
US11553598B2 (en) | Integrated electro-optical flexible circuit board | |
WO2010113968A1 (en) | Optical and electrical circuit board and optical module | |
US20110007998A1 (en) | Optical waveguide, opto-electronic circuit board, and method of fabricating opto-electronic circuit board | |
JP4498102B2 (en) | Opto-electric wiring board and optical communication device | |
KR20090028435A (en) | Optical waveguide mounted substrate and method of producing the same | |
US20090065132A1 (en) | Method of forming optical waveguide | |
JP2008129385A (en) | Optical component mounting substrate and optical module | |
KR100584955B1 (en) | Method for processing optical waveguide entrance of printed circuit board | |
JP2004302188A (en) | Electric wiring substrate with optical waveguide | |
KR100467833B1 (en) | A method for forming multi-layer PCB for optical-waveguides | |
JP2004177521A (en) | Optical and electrical combined circuit board | |
JP2004020767A (en) | Photoelectric compound substrate and its manufacturing method | |
JP4476743B2 (en) | Optical component support substrate and manufacturing method thereof | |
JP2005115190A (en) | Opto-electric composite wiring board and laminated optical waveguide structure | |
JP2005099761A (en) | Optical component supporting substrate, method of manufacturing the same, optical component supporting substrate with optical component, and method of manufacturing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130403 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140325 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |