KR100581859B1 - 플라즈마 처리 장치용 안테나 및, 그것을 구비한 플라즈마처리 장치 - Google Patents
플라즈마 처리 장치용 안테나 및, 그것을 구비한 플라즈마처리 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (7)
- 사각형의 외부 루프 안테나와;상기 사각형 외부 루프 안테나의 내측에 배치되며 코너부의 일부가 외측으로 돌출되도록 변형되어 형성된 루프를 구비하는 사각형의 내부 루프 안테나;를 구비하는 플라즈마 처리 장치용 안테나.
- 제 1 항에 있어서,상기 루프는 각형으로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치용 안테나.
- 제 1 항에 있어서,상기 루프는 곡선형으로 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치용 안테나.
- 제 1 항 내지 제 3 항의 어느 한 항에 있어서,상기 코너부에서 내부 루프 안테나와 외부 루프 안테나 사이의 거리는, 코너부가 아닌 다른 부분에서 내부 루프 안테나와 외부 루프 안테나 사이의 거리와 근접하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치용 안테나.
- 제 1 항 내지 제 3 항의 어느 한 항에 있어서,상기 내부 루프 안테나와 외부 루프 안테나는 RF 전원 공급기에 병렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치용 안테나.
- 일측에 공정 가스 주입구와 진공 배기구 형성된 진공 챔버와;상기 진공 챔버를 덮는 유전체 덮개와;상기 진공 챔버내에 배치된 것으로 그 위에 시료가 놓이게 되는 하부 전극과;상기 유전체 덮개의 상부에 설치되며, 사각형의 외부 루프 안테나 및, 상기 사각형 외부 루프 안테나의 내측에 배치되며 코너부의 일부가 외측으로 돌출되도록 변형되어 형성된 루프를 구비하는 사각형의 내부 루프 안테나를 구비한 다중 루프형 안테나와;상기 다중 루프형 안테나에 RF 전압을 인가하기 위한 RF 전원 공급기 및, RF 정합 회로;를 구비하는 플라즈마 처리 장치.
- 제 6 항에 있어서,상기 코너부에서 내부 루프 안테나와 외부 루프 안테나 사이의 거리는, 코너부가 아닌 다른 부분에서 내부 루프 안테나와 외부 루프 안테나 사이의 거리와 근접하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치.
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