KR100571430B1 - Ink curable printing method and color filter made using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 잉크 경화식 인쇄 방법 및 이를 이용하여 제작된 컬러 필터에 관한 것으로서, 기판에 컬러 필터의 R, G, B컬러 패턴 등을 정밀하게 인쇄할 수 있는 인쇄 방법 및 이를 이용한 컬러 필터를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. 전술된 본 발명의 목적을 달성하기 위한 인쇄 방법은, 소정의 오목면을 갖는 광 투과성 주형을 마련하는 단계, 광 투과성 주형의 오목면에 잉크를 도포하는 단계, 잉크가 도포된 광 투과성 주형과 기판을 합착하는 단계, 잉크를 상기 기판에 전사 및 경화시키며, 잉크를 광 또는 열을 통하여 경화시키는 단계 및 광 투과성 주형을 기판에서 제거하는 단계를 포함한다. The present invention relates to an ink curable printing method and a color filter manufactured using the same, and to provide a printing method capable of precisely printing R, G, and B color patterns of a color filter on a substrate, and a color filter using the same. For that purpose. The printing method for achieving the object of the present invention described above comprises the steps of: providing a light-transmissive mold having a predetermined concave surface; applying ink to the concave surface of the light-transmissive mold; Adhering to the substrate, transferring and curing the ink onto the substrate, curing the ink through light or heat, and removing the light transmissive mold from the substrate.

경화, 잉크, 인쇄, 컬러 필터, 주형, 표시장치Curing, Ink, Printing, Color Filter, Mold, Display

Description

잉크 경화식 인쇄 방법 및 이를 이용하여 제작된 컬러 필터{Printing Process with Ink Cured and Color-Filter Fabricated by Using the Same}Printing method with Ink Cured and Color-Filter Fabricated by Using the Same}

도1a 및 도1b는 본 발명에 따라 주형을 제작하는 방법을 나타내는 개략 단면도 및 사시도.1A and 1B are schematic cross-sectional and perspective views showing a method of manufacturing a mold according to the present invention.

도2a 및 도2b는 본 발명에 따라 기판 위에 잉크를 전사 및 경화시켜 기판 상에 소정의 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법을 나타내는 개략 단면도 및 사시도.2A and 2B are schematic cross-sectional and perspective views showing a printing method of printing a predetermined pattern on a substrate by transferring and curing ink on the substrate according to the present invention;

도3은 종래 기술에 따라 기판 상에 소정의 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법을 나타내는 개략 단면도.Fig. 3 is a schematic sectional view showing a printing method for printing a predetermined pattern on a substrate according to the prior art.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 마스터100: master

110: 주형틀110: template

120: 주형120: template

120a: 실록산계 주형120a: siloxane mold

125: 실록산계 수지125: siloxane resin

130: 잉크130: Ink

130a: 광경화용 잉크130a: photocuring ink

130b: 잔류 잉크130b: residual ink

135: 잉크 찌꺼기135: ink residue

140: 기판140: substrate

150: 닥터 블레이드 150: doctor blade

본 발명은 잉크 경화식 인쇄 방법 및 이를 이용하여 제작된 컬러 필터에 관한 것으로서, 특히 초박막 액정 디스플레이(TFT-LCD)용 컬러 필터를 제조하기 위하여 광경화가 가능한 고분자 잉크를 사용하여 기판 상에 소정의 패턴을 정밀하게 인쇄할 수 있는 인쇄 방법 및 그 인쇄 방법을 이용하여 제작된 컬러 필터에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to an ink curable printing method and a color filter manufactured using the same, and in particular, a predetermined pattern on a substrate using a photocurable polymer ink to produce a color filter for an ultra-thin liquid crystal display (TFT-LCD). The present invention relates to a printing method capable of precisely printing and a color filter manufactured using the printing method.

최근 들어 고선명, 고화질 및 대화면의 동영상을 구현할 수 있는 디스플레이에 대한 요구가 증대되고, 그에 따라 많은 연구 개발이 진행 중에 있다. 이러한 디스플레이의 종류 중에서 가장 폭 넓게 연구되고 상용화된 것이 바로 TFT LCD라고 할 수 있다. TFT LCD의 컬러 구현 방식은 백라이트(backlight)에서 나온 백색광을 액정 셀에 통과시켜 투과율을 조절한 후, 인접하게 배치된 적(red, R), 녹(green, G), 청(blue, B)의 컬러 필터를 투과시켜 나오는 광들의 혼색을 통하여 이루어진다. 컬러 필터 기판은 색상을 구현하는 컬러 필터와, R, G, B 셀들 사이를 구분하고 광차단 역할을 하는 흑격막(black matrix)과, 그리고 액정 셀에 전압을 인가하기 위한 투명 전극(ITO, indium tin oxide)으로 구성된다. 컬러 필터는 제조 시 사용되는 유기 필터의 재료에 따라 염료 방식과 안료 방식으로 나뉘며, 제작 방법에 따라 염색법, 분산법, 전착법, 인쇄법 등으로 분류될 수 있다. Recently, the demand for a display capable of realizing high definition, high definition, and a large screen video is increasing, and accordingly, a lot of research and development is in progress. TFT LCD is the most widely researched and commercialized type of such display. The color implementation method of TFT LCD controls the transmittance by passing white light from the backlight through the liquid crystal cell, and then adjacently arranged red (R), green (G), and blue (B) Through the color mixture of the light passing through the color filter is made. The color filter substrate includes a color filter that realizes color, a black matrix that distinguishes between R, G, and B cells and serves as a light blocking unit, and a transparent electrode (ITO, indium) for applying a voltage to the liquid crystal cell. tin oxide). The color filter is divided into a dye method and a pigment method according to the material of the organic filter used in manufacturing, and may be classified into a dyeing method, a dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, and the like according to a manufacturing method.

현재 TFT LCD의 컬러 필터 제조에 사용되는 가장 보편적인 방법은 안료 분산법이다. 컬러 필터에 필요한 RGB 패턴은 안료 분산법 중의 하나인 광식각(photolithography) 기술을 이용하며, R, G, B 순서로 동일한 마스크(mask)를 사용하여 이들을 화소 피치(pitch)만큼 이동시켜 노광하여 형성한다. 일반적으로 컬러 포토레지스터는 네가티브형(negative) 포토레지스터를 이용하므로 노광되지 않는 부분이 현상 과정에서 제거되어 패턴이 완성된다. RGB 패턴의 보호와 공통 화소전극 형성 시, 컬러 필터 표면의 평탄화를 위하여 중합체 계열의 수지를 스핀 코팅하는 방법으로 평탄화하는 경우도 있다. 이와 같이 광식각법(Photolithography)을 사용하면, 인쇄된 잉크의 형상 및 두께를 균일하게 제조할 수 있지만, 제조 공정이 복잡하고 비용이 많이 드는 문제가 있다. At present, the most common method used for manufacturing color filters of TFT LCD is pigment dispersion method. The RGB pattern required for the color filter uses photolithography, which is one of pigment dispersion methods, and is formed by exposing them by moving the pixel pitch using the same mask in the order of R, G, and B. do. In general, since the color photoresist uses a negative photoresist, a portion that is not exposed is removed in the development process to complete a pattern. When the RGB pattern is protected and the common pixel electrode is formed, the planarization may be performed by spin coating a polymer-based resin to planarize the color filter surface. Using photolithography as described above, the shape and thickness of the printed ink can be uniformly produced, but the manufacturing process is complicated and expensive.

이러한 기존에 알려진 컬러 필터의 복잡한 제조 방식에서 탈피하여 간단한 제조 공정으로 저가의 패턴을 형성하기 위하여, 투명 기판에 소정의 컬러 패턴을 인쇄법으로 인쇄하여 디스플레이용 컬러 필터를 제조하는 방법이 주목받고 있다. In order to form a low-cost pattern by a simple manufacturing process to escape from such a complicated manufacturing method of a known color filter, a method of manufacturing a color filter for display by printing a predetermined color pattern on a transparent substrate by a printing method has attracted attention. .

통상의 액정 디스플레이용 컬러 필터, 또는 플라즈마 디스플레이용 컬러 필터에 필요한 인쇄 패턴은 매우 정밀하고, 인쇄 형상 및 두께의 균일성이 요구된다. 종래의 인쇄법을 이러한 필터용 기판에 사용하는 경우, 인쇄 대상물인 통상의 기판은 투명한 유리 및 투명한 수지이기 때문에 기판에 잉크가 정착하기 쉽지 않다. 즉, 종래의 인쇄법을 이용하여 컬러 필터를 제조하면, 인쇄되는 패턴의 형상 및 두 께에 큰 변동이 발생하게 된다. 따라서, 종래의 인쇄법에 의해 컬러 필터용 기판에 정밀한 패턴을 안정적으로 인쇄하는 것이 곤란하기 때문에, 상기 액정 디스플레이용 컬러 필터, 또는 플라즈마 디스플레이용 컬러 필터의 제작이 용이하지 않다. The printing pattern required for a normal color filter for liquid crystal displays or a color filter for plasma displays is very precise and uniformity in print shape and thickness is required. When the conventional printing method is used for such a filter substrate, ink is not easily fixed to the substrate because the ordinary substrate as the printing target is transparent glass and transparent resin. That is, when the color filter is manufactured using a conventional printing method, large variations occur in the shape and thickness of the printed pattern. Therefore, since it is difficult to stably print a precise pattern on the color filter substrate by the conventional printing method, the production of the color filter for liquid crystal display or the color filter for plasma display is not easy.

일례로서, 도3은 기판 위에 종래의 인쇄법으로 기판(140)에 패턴을 인쇄하는 방법을 개략 단면도로 도시하고 있다. 주형(120)에 잉크(130)를 도포하고, 닥터 블레이드(150) 등으로 볼록면의 잉크(130)를 제거한 후, 그 위에 기판(140)을 압착시켜 주형(120)의 오목면에 충전된 소정 패턴의 잉크(130)를 전사한다. 그러나 이러한 인쇄 방법으로는, 주형(120)의 오목면에 충전된 잉크(130)가 모두 기판(140)에 전사되는 것이 아니라 오목면의 코너에 잔류 잉크(130b)가 남게 된다. 뿐만 아니라 기판(140)에 전사된 잉크(130)는 잉크(130)의 표면 장력에 의해 인쇄된 잉크의 평활성이 나빠지게 된다. 액정 디스플레이용 컬러 필터, 또는 플라즈마 디스플레이용 컬러 필터에서 인쇄된 잉크의 평활성이 나빠지면, 이는 광의 투과 방향을 변화시키고, 광의 투과율을 저하시켜 상품 가치를 떨어뜨리게 된다. As an example, FIG. 3 shows, in schematic cross-sectional view, a method of printing a pattern on a substrate 140 by a conventional printing method on a substrate. The ink 130 is applied to the mold 120, the convex ink 130 is removed by the doctor blade 150, and the substrate 140 is pressed thereon to fill the concave surface of the mold 120. The ink 130 of the predetermined pattern is transferred. However, in this printing method, not all of the ink 130 filled in the concave surface of the mold 120 is transferred to the substrate 140, but the residual ink 130b remains at the corner of the concave surface. In addition, the ink 130 transferred to the substrate 140 may have poor smoothness of the printed ink due to the surface tension of the ink 130. When the smoothness of the ink printed in the color filter for liquid crystal display or the color filter for plasma display becomes poor, this changes the transmission direction of light, and lowers the transmittance of light, thereby degrading commodity value.

본 발명의 목적은 이러한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판에 컬러 필터의 R, G, B컬러 패턴 등을 정밀하게 인쇄할 수 있는 인쇄 방법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 기존에 알려진 컬러 필터의 복잡한 제조 방식에서 탈피하여 간단한 제조 공정에 의하여 저가로 패턴의 형성을 가능하게 하는 방식을 제공하고, 이 방식을 이용하여 제조한 컬러 필터를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and to provide a printing method capable of precisely printing the R, G, B color pattern and the like of a color filter on a substrate. In addition, another object of the present invention is to provide a color filter manufactured by using this method at a low cost by a simple manufacturing process to avoid the complicated manufacturing method of a conventional color filter, and to provide a color filter manufactured using this method It is.

전술된 본 발명의 목적을 달성하기 위한 일 태양은, 소정의 오목면을 갖는 광 투과성 주형을 마련하는 단계, 상기 광 투과성 주형의 오목면에 잉크를 도포하는 단계, 상기 잉크가 도포된 광 투과성 주형과 기판을 합착하는 단계, 상기 잉크를 상기 기판에 전사 및 경화시키며, 상기 잉크를 광 또는 열을 통하여 경화시키는 단계 및 상기 광 투과성 주형을 상기 기판에서 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄방법이 제공된다.One aspect for achieving the object of the present invention described above is providing a light transmitting mold having a predetermined concave surface, applying an ink to the concave surface of the light transmissive mold, a light transmitting mold to which the ink is applied And bonding the substrate to the substrate, transferring and curing the ink to the substrate, curing the ink through light or heat, and removing the light transmissive mold from the substrate. This is provided.

상기 광 투과성 주형을 마련하는 단계는 소정의 패턴이 형성된 마스터를 준비하는 단계, 상기 마스터 상에 광 투과성 수지를 충전하는 단계, 상기 광 투과성 수지를 경화시키는 단계 및 상기 광 투과성 수지를 마스터에서 분리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 잉크를 상기 기판에 전사 및 경화시키는 단계에서, 상기 기판을 상기 광 투과성 주형에 가압 밀착시킨 상태에서 경화시키는 것을 특징으로 한다.
상기 잉크는 광 경화성 잉크를 포함하고, 상기 잉크를 경화시키는 단계에서, 광을 조사하여 잉크를 경화시키는 것을 특징으로 한다.
상기 잉크는 열경화성 잉크를 포함하고, 상기 잉크를 경화시키는 단계에서, 열을 가하여 잉크를 경화시키는 것을 특징으로 한다.
상기 잉크는 도전성 잉크를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 광 투과성 주형의 오목면에 잉크를 도포하는 단계는 닥터 블레이드 기법을 이용하는 것을 특징으로 한다.
The preparing of the light transmitting mold may include preparing a master on which a predetermined pattern is formed, filling the light transmitting resin on the master, curing the light transmitting resin, and separating the light transmitting resin from the master. Characterized in that it comprises a step.
In the step of transferring and curing the ink to the substrate, it is characterized in that the substrate is cured in a pressure-contacting state to the light transmitting mold.
The ink includes a photocurable ink, and in the step of curing the ink, the ink is cured by irradiating light.
The ink includes a thermosetting ink, and in the step of curing the ink, the ink is cured by applying heat.
The ink is characterized in that it comprises a conductive ink, and the step of applying the ink to the concave surface of the light transmissive mold is characterized by using a doctor blade technique.

상기 광 투과성 수지는 실록산계 수지를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 실록산계 수지는 폴리다이메틸 실록산 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 마스터는 광 식각법으로 제조한 것을 특징으로 하며, 상기 기판은 투명 기판을 포함하고, 상기 투명 기판에 인쇄되는 패턴은 디스플레이용 블랙 매트릭스 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.
The light transmissive resin is characterized in that it comprises a siloxane-based resin, the siloxane-based resin is characterized in that it comprises a polydimethyl siloxane resin.
The master may be manufactured by optical etching, and the substrate may include a transparent substrate, and the pattern printed on the transparent substrate may include a black matrix pattern for display.

상기 기판은 투명 기판을 포함하고, 상기 투명 기판에 인쇄되는 패턴을 R컬러, G컬러 및 B컬러 패턴으로 하여, 상기 단계들을 반복하는 것을 특징으로 하며, 상기 R, G, B 패턴은 델타 배열 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하고, 상기 R, G, B 패턴은 모자이크 배열 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.The substrate includes a transparent substrate, characterized in that for repeating the steps, the pattern printed on the transparent substrate as R color, G color and B color pattern, wherein the R, G, B pattern is a delta array pattern It characterized in that it comprises a, wherein the R, G, B pattern is characterized in that it comprises a mosaic array pattern.

전술된 본 발명의 목적을 달성하기 위한 다른 태양은 이러한 인쇄 방법에 따라 제조된 기판에 관한 것이다.Another aspect for achieving the above object of the present invention relates to a substrate produced according to this printing method.

전술된 본 발명의 목적을 달성하기 위한 또 다른 태양은 R, G, B 패턴을 이용하여 전술된 인쇄 방법에 따라 제조된 컬러 필터에 관한 것이다.Another aspect for achieving the above object of the present invention relates to a color filter manufactured according to the printing method described above using the R, G, B pattern.

다음은 도면을 참조하여 본 발명의 양호한 실시예에 대해 설명하고자 한다.  The following describes a preferred embodiment of the present invention with reference to the drawings.

도1a 및 도1b는 본 발명에 따라 주형을 제작하는 방법을 나타내는 개략 단면도 및 시사도이다. 1A and 1B are schematic cross-sectional and perspective views showing a method of fabricating a mold according to the present invention.

도1a 및 도1b를 상세하게 설명하자면, 광식각법 등에 의해 소정의 패턴이 새겨진 마스터(100)를 주형틀(110) 내에 설치한다. 그 후, 주형틀(110) 내에 실록산계 수지(125), 예를 들면 폴리 다이메틸 실록산 수지를 충전한다. 상기 주형틀(110)을 수평이 잘 유지된 상태에서 5시간 내지 7시간 동안 상온에서 방치하여 기포를 제거한 후, 섭씨 30 내지 100도에서 2시간 내지 10시간 동안 상기 실록산계 수지(125)를 경화시킨다. 경화된 실록산계 수지(125)를 마스터(110)로부터 분리하면 실록산계 주형(120a)이 완성된다. 상기 실록산계 수지(125)로 만든 실록산계 주형(120a)은 투명한 재질의 고분자 수지 주형으로, 이를 이용하여 기판에 잉크를 인쇄하는 방법이 다음의 도2a 및 도2b를 참조로 설명된다.1A and 1B, a master 100 having a predetermined pattern engraved by a photolithography method is installed in the mold 110. Thereafter, the mold 110 is filled with a siloxane resin 125, for example, a polydimethyl siloxane resin. After removing the air bubbles by leaving the mold 110 at room temperature for 5 hours to 7 hours in a well maintained state, the siloxane-based resin 125 is cured for 2 hours to 10 hours at 30 to 100 degrees Celsius. Let's do it. When the cured siloxane-based resin 125 is separated from the master 110, the siloxane-based mold 120a is completed. The siloxane-based mold 120a made of the siloxane-based resin 125 is a polymer resin mold made of a transparent material, and a method of printing ink on the substrate using the siloxane-based mold 120a will be described with reference to FIGS. 2A and 2B below.

도2a 및 도2b는 기판 위에 본 발명에 따라 잉크를 전사 및 경화시켜 기판 상에 소정의 패턴을 인쇄하는 인쇄 방법을 나타내는 개략 단면도 및 사시도이다. 2A and 2B are schematic cross-sectional and perspective views showing a printing method of printing a predetermined pattern on a substrate by transferring and curing ink on the substrate according to the present invention.

실록산계 주형(120a)에 고분자 수지로 만들어진 광경화용 잉크(130a)를 도포한다. 이 때 실록산계 주형(120a)의 볼록면에 도포된 잉크는 닥터 블레이드(150)에 의해 제거된다. 잉크 도포는 이와 같은 닥터 블레이드 기법 이외에도 스핀 코팅 등 여러 가지 방법을 이용할 수 있다. 상기 광경화용 잉크(130a)가 도포된 실록산계 주형(120a)위에 기판(140)을 덮고, 실록산계 주형(120a) 위에 광을 조사한다. 상기 실록산계 주형(120a)은 투명하기 때문에 광경화용 잉크(130a)가 상기 광에 의해 경화된다. 기판(140)이 투명한 경우, 광을 기판 쪽에서 조사할 수도 있다. 광경화용 잉크(130a)의 경화가 완료된 후, 실록산계 주형(120a)을 기판(140)에서 떼어내면 기판(140)에 광경화용 잉크(130a)는 마스터(110)와 동일한 패턴으로 인쇄된다. 광경화성 잉크(130a)의 경화시, 기판(140)은 실록산계 주형(120a)에 대해 가압 밀착하면 실록산계 주형(120a)의 볼록면에 남아 있을 수 있는 잉크를 실록산계 주형(120a)의 오목면이나 외부로 방출시킬 수 있어 바람직하다. The photocuring ink 130a made of a polymer resin is applied to the siloxane mold 120a. At this time, the ink applied to the convex surface of the siloxane mold 120a is removed by the doctor blade 150. In addition to the doctor blade technique, ink coating can be performed using various methods such as spin coating. The substrate 140 is covered on the siloxane mold 120a to which the photocuring ink 130a is applied, and light is irradiated onto the siloxane mold 120a. Since the siloxane-based mold 120a is transparent, the photocuring ink 130a is cured by the light. When the substrate 140 is transparent, light may be irradiated from the substrate side. After curing of the photocurable ink 130a is completed, the siloxane-based mold 120a is removed from the substrate 140, and the photocurable ink 130a is printed on the substrate 140 in the same pattern as the master 110. During curing of the photocurable ink 130a, the substrate 140 may be in contact with the siloxane mold 120a so that the ink that may remain on the convex surface of the siloxane mold 120a is recessed in the siloxane mold 120a. It is preferable because it can be discharged to cotton or outside.

이 과정에서 가장 중요한 단계는 실록산계 주형(120a) 위에 고분자 수지로 만들어진 광경화용 잉크(130a)를 도포하고, 기판(140)을 덮은 채로 광을 가하는 단계이다. 또한, 광경화용 잉크(130a)로서 네가티브형 포토레지스터 등의 광경화가 가능한 고분자 수지에 컬러 필터용 색소를 적절한 비율로 섞은 고분자 물질이 사용될 수도 있다. 그 외에도 열경화용 잉크 등 여러 잉크들이 본 발명의 다른 실시예로서 사용될 수 있다. The most important step in this process is to apply a photocuring ink 130a made of a polymer resin on the siloxane-based mold 120a, and apply light while covering the substrate 140. Further, as the photocuring ink 130a, a polymer material obtained by mixing a color filter dye in an appropriate ratio may be used in a photocurable polymer resin such as a negative photoresist. In addition, various inks, such as thermosetting inks, may be used as other embodiments of the present invention.

여기서 상기 기판(140)은 광차단 역할을 하는 흑격막이 입혀진 유리 기판을 사용하고, R패턴 G패턴 B패턴을 상기 인쇄 방법으로 각각 인쇄함으로써 디스플레이 용 컬러 필터를 제조할 수도 있다. 상기 R패턴 G패턴 B패턴은 스트립 배열 패턴이나 델타 배열 패턴, 모자이크 배열 패턴 등을 사용할 수 있고, 상기 흑격막 또한 상기 인쇄 방법으로 인쇄할 수 있다. The substrate 140 may be a color filter for display by using a glass substrate coated with a black diaphragm that serves as light blocking, and by printing the R pattern G pattern B pattern by the printing method, respectively. The R pattern G pattern B pattern may use a strip array pattern, a delta array pattern, a mosaic array pattern, or the like. The black diaphragm may also be printed by the printing method.

이러한 인쇄 기법은 도전성 잉크를 사용함으로써 회로 기판에 적용될 수 있으며, 이 경우 종래보다 미세한 배선 패턴을 인쇄할 수 있다. This printing technique can be applied to a circuit board by using a conductive ink, in which case it is possible to print a finer wiring pattern than conventional.

상기 구성에 의한 본 발명의 인쇄 방법을 칼라 필터에 적용하는 경우, 인쇄된 패턴이 균일하게 되어 광의 투과 방향과 광의 투과율을 균일하게 함으로써, 색번짐이나 얼룩을 방지하여 디스플레이를 깨끗하고 밝게 나타낼 수 있다. 즉, 본 발명을 이용하면 제조 공정이 복잡하고 값비싼 컬러 필터를 손쉽게 높은 정밀도로 대량 생산 할 수 있기 때문에, 현재 가장 각광받고 있는 디지털 디스플레이인 TFT LCD의 제조 단가를 혁신적으로 낮출 수 있다.  When the printing method of the present invention according to the above configuration is applied to a color filter, the printed pattern is uniform, and the transmission direction and the light transmittance of the light are uniform, thereby preventing color bleeding or staining, thereby making the display clear and bright. That is, by using the present invention, since the manufacturing process is complicated and expensive color filters can be easily mass-produced with high precision, it is possible to innovatively lower the manufacturing cost of the TFT LCD, which is currently the most popular digital display.

이러한 인쇄 방법은, 일단 실록산계 주형이 제조되면 빠른 시간 내에 아주 간단한 공정으로 컬러 필터를 연속적으로 제작할 수 있고, 마스터에 따라 나노 사이즈의 크기부터 수백 마이크로의 크기까지도 패턴을 형성할 수 있으며, 컬러 패턴의 균일성과 평활성 또한 뛰어나다.This printing method, once the siloxane-based mold is produced, it is possible to continuously produce a color filter in a very simple process in a short time, and to form a pattern from nano size to hundreds of micro size depending on the master, color pattern Its uniformity and smoothness are also excellent.

또한 이와 같은 인쇄 방법에 따라 도전성 잉크를 사용하면 반도체의 미세 회로 공정 등 여러 분야에도 적절히 적용할 수 있다.In addition, when the conductive ink is used in accordance with such a printing method, it can be suitably applied to various fields such as a semiconductor fine circuit process.

Claims (16)

소정의 오목면을 갖는 광 투과성 주형을 마련하는 단계,Providing a light transmissive mold having a predetermined concave surface, 상기 광 투과성 주형의 오목면에 잉크를 도포하는 단계,Applying ink to the concave surface of the light transmitting mold, 상기 잉크가 도포된 광 투과성 주형과 기판을 합착하는 단계,Bonding the substrate with the ink-transmitting light-transmitting mold; 상기 잉크를 상기 기판에 전사 및 경화시키며, 상기 잉크를 광 또는 열을 통하여 경화시키는 단계 및 상기 광 투과성 주형을 상기 기판에서 제거하는 단계를 포함하며, 상기 광 투과성 주형을 마련하는 단계는, Transferring and curing the ink to the substrate, curing the ink through light or heat, and removing the light transmissive mold from the substrate, and providing the light transmissive mold, 소정의 패턴이 형성된 마스터를 준비하는 단계;Preparing a master on which a predetermined pattern is formed; 상기 마스터 상에 광 투과성 수지를 충전하는 단계;Filling a light transmissive resin onto the master; 상온에서 방치하여 기포를 제거하는 단계; Leaving bubbles at room temperature to remove bubbles; 상기 광 투과성 수지를 소정 온도에서 경화시키는 단계 및Curing the light transmitting resin at a predetermined temperature; and 상기 광 투과성 수지를 마스터에서 분리하는 단계를 포함하되, 상기 광 투과성 수지는 실록산계 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법. Separating the light transmitting resin from the master, wherein the light transmitting resin comprises a siloxane-based resin. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 잉크를 상기 기판에 전사 및 경화시키는 단계에서, 상기 기판을 상기 광 투과성 주형에 가압 밀착시킨 상태에서 경화시키는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법. The printing method according to claim 1, wherein in the step of transferring and curing the ink to the substrate, the substrate is cured in a state in which the substrate is pressed and adhered to the light transmitting mold. 제1항에 있어서, 상기 잉크는 광 경화성 잉크를 포함하고, 상기 잉크를 경화시키는 단계에서, 광을 조사하여 잉크를 경화시키는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.The printing method according to claim 1, wherein the ink comprises a photocurable ink, and in the step of curing the ink, the ink is cured by irradiating light. 제1항에 있어서, 상기 잉크는 열경화성 잉크를 포함하고, 상기 잉크를 경화시키는 단계에서, 열을 가하여 잉크를 경화시키는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.The printing method according to claim 1, wherein the ink includes a thermosetting ink, and in the step of curing the ink, the ink is cured by applying heat. 제1항에 있어서, 상기 잉크는 도전성 잉크를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.The printing method according to claim 1, wherein the ink includes a conductive ink. 제1항에 있어서, 상기 광 투과성 주형의 오목면에 잉크를 도포하는 단계는 닥터 블레이드 기법을 이용하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.The method of claim 1, wherein the step of applying ink to the concave surface of the light transmissive mold uses a doctor blade technique. 제1항의 인쇄 방법에 따라 인쇄된 기판.A substrate printed according to the printing method of claim 1. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 실록산계 수지는 폴리다이메틸 실록산 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.The printing method according to claim 1, wherein the siloxane resin comprises a polydimethyl siloxane resin. 제1항에 있어서, 상기 마스터는 광 식각법으로 제조한 것을 특징으로 하는 인쇄 방법. The printing method according to claim 1, wherein the master is manufactured by optical etching. 제1항에 있어서, 상기 기판은 투명 기판을 포함하고, The method of claim 1, wherein the substrate comprises a transparent substrate, 상기 투명 기판에 인쇄되는 패턴은 디스플레이용 블랙 매트릭스 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법. The pattern printed on the transparent substrate comprises a black matrix pattern for display. 제1항에 있어서, 상기 기판은 투명 기판을 포함하고, The method of claim 1, wherein the substrate comprises a transparent substrate, 상기 투명 기판에 인쇄되는 패턴을 R컬러, G컬러 및 B컬러 패턴으로 하여, 상기 단계들을 반복하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법.And printing the transparent substrate as R color, G color and B color patterns, repeating the above steps. 제13항에 있어서, 상기 R, G, B 패턴은 델타 배열 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법. The printing method of claim 13, wherein the R, G, and B patterns comprise a delta array pattern. 제13항에 있어서, 상기 R, G, B 패턴은 모자이크 배열 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 인쇄 방법. The printing method as claimed in claim 13, wherein the R, G, and B patterns comprise a mosaic array pattern. 제13항의 인쇄 방법에 따라 인쇄된 컬러 필터.Color filter printed according to the printing method of claim 13.
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