KR100565443B1

KR100565443B1 - Belt etching plenum system

Info

Publication number: KR100565443B1
Application number: KR1020030060515A
Authority: KR
Inventors: 김석봉
Original assignee: 동부아남반도체 주식회사
Priority date: 2003-08-30
Filing date: 2003-08-30
Publication date: 2006-03-30
Also published as: KR20050022787A

Abstract

본 발명은 벨트 식각 플레넘 장치에 관한 것으로, 특히 컨베이어 벨트 (conveyor belt)를 사용하여 증착(deposition)을 하는 공정에서 벨트에 증착 후에 발생하는 여러 가지의 단점을 보완하기 위한 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a belt etch plenum device, and more particularly, to a device for compensating for various disadvantages occurring after deposition on a belt in a process of deposition using a conveyor belt.

본 발명의 벨트 식각 플레넘 장치는 상기 벨트에 증착 후에 발생하는 단점을 보완하기 위한 장치로서 플레넘 상부에 고정을 시키고, 부착 및 탈착을 할 수 있는 클램프 락; 상기 프레넘의 라인과 라인을 이중으로 연결할 수 있으며, 수의 부분과 암의 부분이 서로 끼어져 조여지는 역할을 하는 퀵 커넥터; 및 상기 플레넘 내부에 잔존하는 불산화 수소 유체를 걸러내고, 상기 플레넘 중앙 부분의 측면에 삽입시키거나 빼서 사용하는 플레넘 필터를 포함하는 기술적 특징이 있다.Belt etching plenum device of the present invention is a device for compensating for the disadvantages that occur after the deposition on the belt clamp lock that can be fixed to the top of the plenum, attach and detach; A quick connector capable of connecting the lines of the prenumers and the lines of the double, and a part of the number and the part of the arm to be pinched together; And a plenum filter for filtering out hydrogen fluoride fluid remaining in the plenum and inserting or removing the hydrogen fluoride fluid into the side of the central portion of the plenum.

따라서, 본 발명의 벨트 식각 플레넘 장치는 다음과 같은 효과가 있다.Therefore, the belt etching plenum device of the present invention has the following effects.

첫째, 종래에 사용하던 부품을 교체해 줌으로써 스크류 부식 현상이 발생되지 않아 부품 소모가 없어진다.First, by replacing the parts used in the prior art, the screw corrosion does not occur and the parts are consumed.

둘째, 부품의 연결 형태를 바꿈으로써 작업 소요시간 단축 및 장비 가동율 향상에 크게 이바지할 수 있다. Second, by changing the connection type of parts, it can greatly contribute to shortening work time and improving equipment utilization rate.

셋째, 필터를 설치함으로써 종래의 불산화수소 유체가 부품 제거시에 드롭 (drop)이 되는 현상을 방지하며, 유체도 안정되게 관리하게 되어 작업자의 안전 및 회사 재해 사고를 예방한다.Third, by installing a filter to prevent the phenomenon of the conventional hydrogen fluoride fluid drop (drop) when removing the parts, and the fluid is also managed stably to prevent worker safety and company accidents.

넷째, 부품을 청결하고 안정되게 유지할 수 있어 장비 예방에 큰 도움이 되 며 파티클(particle)도 일정하게 유지할 수 있다.Fourth, the parts can be kept clean and stable, which is very helpful for equipment prevention and particles can be kept constant.

벨트, 식각Belt, etching

Description

Belt etching plenum system

도 1은 종래의 컨베이어 방식의 화학기상증착설비를 나타낸 도면이다.1 is a view showing a chemical vapor deposition apparatus of the conventional conveyor method.

도 2는 종래의 벨트 식각 플레넘 장치의 밑면을 나타낸 도면이다.Figure 2 is a view showing the bottom of the conventional belt etching plenum device.

도 3은 종래의 벨트 식각 플레넘 장치의 내부를 나타낸 도면이다.3 is a view showing the inside of a conventional belt etching plenum device.

도 4는 본 발명의 벨트 식각 플레넘 장치의 밑면을 나타낸 도면이다.4 is a bottom view of the belt etch plenum device of the present invention.

도 5는 본 발명의 벨트 식각 플레넘 장치의 내부를 나타낸 도면이다.5 is a view showing the inside of the belt etching plenum device of the present invention.

반도체 제조공정 중에 금속막 또는 절연막 등을 기판 위에 형성시키기 위한 공정으로는 증착공정이 있다. 이 증착공정에는 플라즈마(plasma)를 이용하는 방법, 화학 기상 증착법(Chemical Vapor Depsition, 이하 CVD) 등 여러 가지 증착방법이 이용되며, 그 중에서 화학기상 증착방법은 형성하려고 하는 막의 종류나 질 및 증착 목적에 따라 상압 화학기상 증착법(APCVD), 감압 화학기상 증착법(LPCVD), 플라즈마 화학기상 증착법(PECVD) 등이 이용되는데, 상기와 같은 화학기상 증착에 있어서 증착설비에 있어서도 여러 가지 종류가 상품화되어 이용되고 있으며, 그 중에 한가지가 컨베이어 방식이다. As a process for forming a metal film or an insulating film on a substrate during the semiconductor manufacturing process, there is a vapor deposition process. Various vapor deposition methods such as plasma and chemical vapor deposition (CVD) are used in the deposition process. Among them, the chemical vapor deposition method is used for the type, quality and deposition purpose of the film to be formed. Accordingly, atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD), reduced pressure chemical vapor deposition (LPCVD), plasma chemical vapor deposition (PECVD), and the like are used. In the above-mentioned chemical vapor deposition, various kinds of vapor deposition facilities are commercialized and used. One of them is the conveyor method.

종래에는 다음과 같은 컨베이어 방식의 화학기상 증착설비가 있었는데, 도 1을 통하여 살펴보기로 한다.Conventionally, there was a chemical vapor deposition facility of the following conveyor method, which will be described with reference to FIG. 1.

각 구간에 배치된 롤러(roller)(10)가 소정 구간에 위치한 구동부(12)로부터 동력을 전달받아 컨베이어 벨트(14)를 연속적으로 회전시키게 되고, 이렇게 회전하는 컨베이어 벨트(14)의 일측 상면 위치에는 순차적으로 투입되는 웨이퍼(W)를 상대측으로 이송시키게 된다. 이 과정에서 각각의 웨이퍼(W)는 컨베이어 벨트(14)의 회전에 의해 이송되어 소정의 분위기의 공정챔버(16)를 통과하게 되고, 이러한 분위기 하에서 공정가스의 반응으로 증착공정이 수행된다.The roller 10 disposed in each section receives power from the driving unit 12 located in the predetermined section to rotate the conveyor belt 14 continuously, and the upper surface position of one side of the rotating conveyor belt 14. In the next step, the wafers (W) sequentially introduced are transferred to the counter side. In this process, each wafer W is transferred by the rotation of the conveyor belt 14 to pass through the process chamber 16 in a predetermined atmosphere, and the deposition process is performed by reaction of the process gas under such atmosphere.

이 때, 공정가스에 의해 증착되는 막질은 웨이퍼(W) 상에만 한정되는 것이 아니라 연속적으로 회전하는 컨베이어 벨트(14)를 포함한 공정챔버(16) 내의 전 영역에 무분별하게 형성된다. 여기서, 상기의 컨베이어 벨트(14)에 증착되는 막질은 연속적인 회전에 의해 다음에 투입되는 웨이퍼(W)를 오염시키는 파티클(particle)이 되며, 이를 방지하기 위하여 컨베이어 벨트(14)의 회전구간 내에는 증착된 오염물질을 제거하기 위한 세정작업이 연속선상에 있게 된다. 상기의 세정작업은 통상 하부의 컨베이어 벨트(14) 회전구간에서 이루어지는데, 회전구간의 컨베이어 벨트 (14)에 대하여 식각액을 분사 공급토록 함으로써 그 구간을 지나는 컨베이어 벨트 (14)에 증착된 오염물질을 식각하여 제거하는 식각 세정부(18)가 설치된다. 그리고, 식각 세정부(18) 이후의 회전구간에는 컨베이어 벨트(14)로 하여금 수용된 소정 케미컬과 순수를 통과하도록 함으로써 잔류하는 막질과 식각액을 제거하는 케미컬 세정부(20)와 케미컬 세정부(20)를 통과하는 컨베이어 벨트(14)에 대하여 램프 등을 이용한 가열된 분위기에서 소정 압력으로 공기를 분사하는 건조 세정부(22)가 순차적으로 설치된다.At this time, the film quality deposited by the process gas is not limited only to the wafer W, but is formed indiscriminately in all regions in the process chamber 16 including the conveyor belt 14 that rotates continuously. Here, the film quality deposited on the conveyor belt 14 becomes particles that contaminate the wafer W which is subsequently introduced by the continuous rotation. In order to prevent this, the film quality is deposited within the rotation section of the conveyor belt 14. The cleaning operation to remove the deposited contaminants is on a continuous line. The above cleaning operation is usually performed in the rotation section of the lower conveyor belt 14, by spraying and supplying an etchant to the conveyor belt 14 of the rotating section to remove contaminants deposited on the conveyor belt 14 passing through the section. An etch cleaner 18 for etching is removed. In addition, the chemical cleaning unit 20 and the chemical cleaning unit 20 which remove the remaining film and etching liquid by allowing the conveyor belt 14 to pass the predetermined chemical and pure water in the rotating section after the etching cleaning unit 18. The dry cleaning part 22 which injects air with predetermined pressure in the heated atmosphere using a lamp etc. with respect to the conveyor belt 14 which passes through is provided sequentially.

상기 구성에서 상기한 식각 세정부(18)의 식각액은 컨베이어 벨트(14) 표면에 고착된 증착 오염물질을 제거하기 위해 강력한 식각력이 요구되지만 증착 오염물질은 공정챔버(16)에서 식각 세정부(18)로 위치되기까지 그 고착 정도가 심화되어 식각액에 의해 충분히 제거되지 못한다. 또한, 공정챔버(16)에서 식각 세정부 (18) 사이의 컨베이어 벨트(14)는 다수의 롤러(10)에 의해 회전 지지되고, 이 과정에서 고착된 증착 오염물질의 일부는 컨베이어 벨트(14)로부터 떨어져 생산라인 내에 부상하여 공정 수행 전후의 웨이퍼(W) 또는 다른 웨이퍼(W)에 대하여 오염원으로 작용하는 경우가 발생된다. 그리고, 상기한 식각 세정부(18)에서 식각액의 분사 공급은 컨베이어 벨트(14)상의 오염물질을 젖게 하여 컨베이어 벨트(14)에 붙게 하고, 또 식각에 의해 그 사이즈가 축소된 오염물질은 컨베이어 벨트(14)의 홈에 끼워져 세정이 이루어지기 어렵게 된다. 이것을 계속적으로 투입되는 다음 웨이퍼(W)에 대한 오염원으로 작용하는 문제가 발생된다.In the above configuration, the etching liquid of the etching cleaning unit 18 requires a strong etching force to remove the deposition contaminants adhered to the surface of the conveyor belt 14, but the deposition contaminants may be removed from the etching chamber in the process chamber 16. The degree of fixation is intensified until it is located at 18), and it cannot be sufficiently removed by the etchant. In addition, the conveyor belt 14 between the etch cleaners 18 in the process chamber 16 is rotatably supported by a plurality of rollers 10, and a portion of the deposition contaminants stuck in the process is transferred to the conveyor belt 14. It arises away from the wafer and acts as a source of contamination for the wafer W or other wafers W before and after the process. In the etching cleaning unit 18, the injection and supply of the etching liquid wets the contaminants on the conveyor belt 14 to adhere to the conveyor belt 14, and the contaminants whose size is reduced by etching are conveyed to the conveyor belt. It is inserted in the groove of (14), and it becomes difficult to perform cleaning. The problem arises that acts as a source of contamination for the next wafer W which is continuously introduced.

또한, 본 발명에서 언급하고자 하는 종래의 벨트 식각 플레넘 장치에 대하여 도면을 통하여 살펴보도록 한다.In addition, the conventional belt etching plenum device to be mentioned in the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2는 종래의 벨트 식각 플레넘 장치의 밑면을 나타낸 도면이다. 플레넘 스크류 홀(plenum screw hole)(30)은 플레넘 스크류가 플레넘과 플레넘 게스켓 (plenum gasket)(38)을 고정시키기 위한 홀이다. 튜브 삽입부(32)는 회전 VCR 형태로 작업시에 반복적으로 돌린다. 플레넘 스크류(34)는 식각 플레넘을 고정시키기 위한 라커(locker) 방식의 일종으로써 스크류를 사용한다. Figure 2 is a view showing the bottom of the conventional belt etching plenum device. The plenum screw hole 30 is a hole through which the plenum screw secures the plenum and the plenum gasket 38. The tube insert 32 is repeatedly rotated during operation in the form of a rotating VCR. The plenum screw 34 uses a screw as a kind of locker method for fixing the etch plenum.

도 3은 종래의 벨트 식각 플레넘 장치의 내부를 나타낸 도면이다. 플레넘 분산 홀(plenum dispersion hole)(36)은 상기 식각 플레넘의 안쪽면에 위치하였으며, 불산화 수소 흄(hydrofluoric hume)이 넓게 퍼지게 하기 위한 분사 장치로서 홀이 뚫려있다. 플레넘 게스켓(38)은 상기 플레넘과 상부의 고정 플레이트(plate) 사이를 밀착시키기 위하여 흄이 바깥쪽으로 새어나가지 않게 하기 위한 역할을 한다. 플레넘 내부 공간(40)은 상기 플레넘 분산 홀(36)에 의하여 퍼진 불산화 수소 흄이 차있는 공간이다. 3 is a view showing the inside of a conventional belt etching plenum device. A plenum dispersion hole 36 is located on the inner side of the etch plenum and is drilled as an injection device for wide spreading of the hydrofluoric hume. The plenum gasket 38 serves to prevent the fume from leaking outward to closely contact the plenum and the upper fixed plate. The plenum interior space 40 is a space filled with hydrogen fluoride fume spread by the plenum dispersion hole 36.

그러나, 상기와 같은 종래의 벨트 식각 플레넘 장치는 다음과 같은 여러 가지 문제점이 있다.However, the conventional belt etching plenum device as described above has various problems as follows.

첫째, 벨트 식각이 진행되거나 벨트 식각이 장시간 동안 진행될 경우에 식각 플레넘 내부에 습기가 생겨 불산화 수소가 증발되어 소모되지 않고 유체가 되어 부분적으로 부식되기 때문에 장비 예방관리 시에 매우 위험한 상황이 생긴다. First, when the belt is etched or the belt is etched for a long time, moisture is generated inside the etch plenum, and hydrogen fluoride is not evaporated and consumed. Therefore, it becomes a fluid and is partially corroded. .

둘째, 식각 플레넘 부품이 설치되어 있는 위치는 장비 밑면 중앙에 작업자가 직접 내부로 들어가서 수작업으로 연결된 부분을 분리하여 식각 플레넘을 제거하는 경우가 생기면서 불산화 수소 유체가 인체에 해를 주기도 한다. Second, where the etch plenum is installed, the operator can go directly to the center of the bottom of the equipment and remove the etch plenum by manually disconnecting the parts connected by hand, and the hydrogen fluoride fluid may harm the human body.

셋째, 부품 연결 장치가 락 스크류 형태로 되어 있어 불산화 수소 부식으로 인하여 스크류를 받쳐서 내려다 보면 아래로 유체가 드롭(drop)되는 상황이 생긴다. Third, the component connecting device is in the form of a lock screw, so that the fluid drops down when the screw is supported by the hydrogen fluoride corrosion.

넷째, 식각 플레넘과 불산화 수소 튜빙을 연결하는 형태가 회전 방식으로 사용되면 그 부위가 계속 마모된다.Fourth, if the form of connecting the etch plenum and the hydrogen fluoride tubing is used in a rotational manner, the site will continue to wear.

대한민국 공개특허공보 제2002-0080528호와 제2002-0082285호에서도 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 방안을 제시하고 있으나, 벨트 컨베이어 전체를 대상으로 하고 있으며, 본 발명과 같이 플레넘 자체의 문제점 해결을 위한 새로운 보완 장치를 제시하지는 못한다.Korean Patent Laid-Open Publication Nos. 2002-0080528 and 2002-0082285 also propose methods to solve the above problems, but are directed to the entire belt conveyor, and solve the problems of the plenum itself as in the present invention. It does not suggest a new complementary device.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 컨베이어 벨트를 사용하여 증착을 하는 공정에서 벨트에 증착 후에 잔존하는 유리나 박막을 제거하기 위하여 필요한 식각 플레넘과 연결 부품을 갖춘 상압 화학기상 증착 장비를 구비하여 식각 플레넘이 하는 역할 및 장비 사용자에 의해 부족하거나 위험한 부분을 보완하는 데 본 발명의 목적이 있다.
Accordingly, the present invention is to solve the problems of the prior art as described above, the atmospheric pressure with the etch plenum and the connecting parts required to remove the glass or thin film remaining after the deposition on the belt in the deposition process using a conveyor belt. It is an object of the present invention to provide a chemical vapor deposition equipment to the role of the etch plenum and to compensate for the shortage or danger by the user of the equipment.

본 발명의 상기 목적은 플레넘 상부에 고정을 시키고, 부착 및 탈착을 할 수 있는 클램프 락; 상기 프레넘의 라인과 라인을 이중으로 연결할 수 있으며, 수의 부분과 암의 부분이 서로 끼어져 조여지는 역할을 하는 퀵 커넥터; 및 상기 플레넘 내부에 잔존하는 불산화 수소 유체를 걸러내고, 상기 플레넘 중앙 부분의 측면에 삽입시키거나 빼서 사용하는 플레넘 필터를 포함하는 벨트 식각 플레넘 장치에 의해 달성된다.The object of the present invention is to clamp to the top of the plenum, the clamp lock which can be attached and detached; A quick connector capable of connecting the lines of the prenumers and the lines of the double, and a part of the number and the part of the arm to be pinched together; And a plenum filter for filtering out hydrogen fluoride fluid remaining in the plenum and inserting or removing the fluorine fluid remaining on the side of the central portion of the plenum.

본 발명의 상기 목적과 기술적 구성 및 그에 따른 작용 효과에 관한 자세한 사항은 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.Details of the object and technical configuration of the present invention and the resulting effects thereof will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 벨트 식각 플레넘 장치의 밑면을 나타낸 도면이다. 클램프 락(clamp lock)(100)은 직각 모양으로 플레넘을 조여주는 방식으로 한번에 락을 걸 수 있어 작업자가 작업하기에 훨씬 편리하며, 플레넘 상부에 고정을 시키고 부착 및 탈착을 할 수 있다. 종래의 스크류 형태의 라커(locker)를 보완하기 위하여 상기 클램프 락(100) 방식을 사용하고 있는데, 플레넘 상부에 클램프 고정 바(bar)를 부착시키고, 클램프를 조여 작업시간을 단축하며, 유체의 누출에 대한 안정성을 확보할 수 있다. 튜브 삽입부(102)는 상기 플레넘의 중앙 부분에 위치하고, 불산화 수소 튜브가 삽입되며, 튜브를 억제한다. 퀵 커넥터(104)는 두들겨 구부려서 락을 거는 방식으로 상기 프레넘의 라인과 라인을 이중으로 연결할 수 있으며, 수(male)의 부분과 암(female)의 부분이 서로 끼어져 조여지는 역할을 한다. 종래에는 회전 VCR 형태로 작업시에 반복적으로 돌리는 방식에서 작업자의 안전성 및 효율성을 위하여 퀵 커넥터 방식으로 바뀌었으며, 내부는 두들겨 구부려서 락을 거는 방식을 이용하여 이중으로 락을 더 주게 됨으로써 안정적이다.
도 5는 본 발명의 벨트 식각 플레넘 장치의 내부를 나타낸 도면이다. 플레넘 게스켓(106)은 상기 플레넘과 상부의 고정 플레이트(plate) 사이를 밀착시키기 위하여 불산화 수소 흄(hume)이 바깥쪽으로 새어나가지 않게 하기 위한 역할을 한다. 플레넘 분산 홀(110)은 상기 플레넘의 안쪽면에 위치하였으며, 상기 불산화 수소 흄이 넓게 퍼지게 하기 위한 분사 장치로서 홀이 뚫려있다. 플레넘 내부 공간(108)은 상기 플레넘 분산 홀(110)에 의하여 퍼진 불산화 수소 흄이 차있는 공간이다. 플레넘 필터 (112)는 플레넘 내부에 잔존하는 불산화 수소 유체를 걸러내기 위한 장치로서 내부에는 유체가 고여있다. 상기 플레넘 필터(112)는 플레넘 중앙 부분의 측면 한쪽 부분의 홈에 삽입시키거나 빼서 사용한다. 상기 플레넘 필터(112)를 사용하는 이유는 내부에 잔존하는 불산화 수소 유체를 직접 빼면 작업자가 안전상 부주의로 해를 입을 수 있기 때문이다. 먼저 플레넘 필터(112)를 통하여 유체만 옆으로 제거한 후에 작업을 할 수 있게 하며, 습기의 양도 안정되게 줄일 수 있다. 그리고, 플레넘 중앙 부분에 플레넘 필터가 삽입 또는 빼는 측면과 대향되는 반대 측면은 윈도우(window) 방식을 이용함으로써 작업자가 직접 내부를 보지 않고도 현 상태의 파악이 가능하다.4 is a bottom view of the belt etch plenum device of the present invention. The clamp lock 100 can be locked at a time by tightening the plenum in a right angle shape, which is more convenient for the operator to work on, and to fix and attach and detach the upper part of the plenum. In order to complement the conventional screw locker (locker), the clamp lock 100 is used. A clamp fixing bar is attached to the upper part of the plenum, the clamp is tightened to shorten the working time, and Stability against leakage can be secured. Tube insert 102 is located in the central portion of the plenum, the hydrogen fluoride tube is inserted, and suppresses the tube. The quick connector 104 can be connected to the line and the line of the pre-numerous double in a way to bend the lock by beating, the male part and the female part (female) serves to pinch each other. Conventionally, the rotating VCR type has been changed to a quick connector method for the safety and efficiency of the operator from the method of repeatedly turning during operation, and the inside is stable by giving a double lock by using a method of knocking and bending the lock.
5 is a view showing the inside of the belt etching plenum device of the present invention. The plenum gasket 106 serves to prevent the hydrogen fluoride fume from leaking outward to closely contact the plenum and the upper fixed plate. The plenum dispersion hole 110 is located on the inner side of the plenum, and the hole is drilled as an injection device for spreading the hydrogen fluoride fume widely. The plenum interior space 108 is a space filled with hydrogen fluoride fume spread by the plenum dispersion hole 110. The plenum filter 112 is a device for filtering out hydrogen fluoride fluid remaining in the plenum and fluid is accumulated therein. The plenum filter 112 is used by being inserted into or withdrawn from the groove on one side of the plenum center. The reason why the plenum filter 112 is used is that if the hydrogen fluoride fluid remaining inside is directly removed, the worker may be inadvertently harmed for safety. First, only the fluid through the plenum filter 112 can be removed from the side and then work can be performed, and the amount of moisture can be stably reduced. In addition, the opposite side opposite to the side where the plenum filter is inserted or removed in the center portion of the plenum can be grasped without the operator looking directly inside by using a window method.

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넷째, 부품을 청결하고 안정되게 유지할 수 있어 장비 예방에 큰 도움이 되며 파티클(particle) 관리도 안정하게 유지할 수 있다.Fourth, the parts can be kept clean and stable, which is very helpful for equipment prevention and particle management can be kept stable.

Claims

In a belt etch plenum device,

A clamp lock fixed to the top of the plenum and capable of attaching and detaching;

A quick connector capable of connecting the line and the line of the plenum in double, and acting to tighten the part of the male part and the part of the arm; And

A plenum filter for filtering out hydrogen fluoride fluid remaining in the plenum and inserting or removing the fluoride fluid into the side of the center portion of the plenum.

Belt etch plenum device comprising a.

The method of claim 1,

The clamp lock is a belt etch plenum device, characterized in that using the method to tighten the plenum in a right angle shape.

The method of claim 1,

Belt etch plenum device, characterized in that for attaching a clamp fixing bar on the plenum.

The method of claim 1,

The plenum is a belt etching plenum device, characterized in that the hydrogen fluoride tube is inserted, comprising a tube insert for suppressing the tube.

The method of claim 1,

The quick connector is a belt etch plenum device, characterized in that to use the method of beating by bending.

The method of claim 1,

And the plenum comprises a plenum gasket which serves to prevent hydrogen fluoride fume from leaking outwardly to bring the plenum into close contact with the upper fixing plate.

The method of claim 1,

The plenum is located on the inner surface of the plenum, belt etch plenum device, characterized in that it comprises a plenum dispersion hole through which the hole is drilled.

The method of claim 1,

And the plenum includes a plenum interior space filled with the hydrogen fluoride fume spread by the plenum dispersion hole.

The method of claim 1,

Inserting or removing the plenum filter uses a side groove in the center portion of the plenum.

The method of claim 1,

The opposite side opposite to the side where the plenum filter is inserted or removed in the center portion of the plenum is a window type plenum device.