KR100561740B1

KR100561740B1 - Fine mist and dust removal Apparatus

Info

Publication number: KR100561740B1
Application number: KR1020030095904A
Authority: KR
Inventors: 정상귀
Original assignee: 성진엔지니어링 (주)
Priority date: 2003-12-23
Filing date: 2003-12-23
Publication date: 2006-03-22
Also published as: KR20050064484A

Abstract

본 발명은 반도체 공정상에서 발생되는 폐가스에 포함된 점성 및 비점성의 미세입자를 모두 제거할 수 있는 반도체 공정상에서 발생하는 대기 오염물질의 제거장치에 관한 것으로, 하부는 측부에 하나 이상 배출부가 구비되어 있는 상광하협의 원뿔통체로 구성되고 상부에는 둘레에 가스 공급관이 구비되고 상측 중앙에 가스 배출관이 구비되어 있는 본체와. 외부로부터 상기 원뿔통체의 상부 내면으로 오일을 공급하여 내면에 유막을 연속적으로 형성시키는 오일 공급수단, 및 상기 원뿔통체의 내부에 회전이 가능하게 구비되어 본체의 내부로 투입되는 가스에 원심력을 주어 미세입자를 상기 원뿔통체의 내면 유막에 흡착시켜 상기 배출부를 통해 외부로 배출하고 청정가스는 상기 가스 배출관을 통해 배출시키는 원심력 발생수단으로 구성되고; 상기 배출부는, 상기 원뿔통체에 수직으로 형성된 배출장홀과, 상기 배출장홀의 외부를 감싸며 내부가 연통되어 하부에 배출구가 구비되어 있는 배출닥트로 구성됨을 특징으로 하는 것이다.The present invention relates to an apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process capable of removing both viscous and non-viscous fine particles contained in waste gas generated in a semiconductor process. The main body is composed of a conical cylinder of the ordinary light substrait and has a gas supply pipe at the upper part and a gas discharge pipe at the upper center. Oil supply means for supplying oil to the upper inner surface of the conical cylinder from the outside to form an oil film continuously on the inner surface, and is provided to be rotatable inside the conical cylinder to give centrifugal force to the gas introduced into the body. The particles are adsorbed on the inner surface oil film of the conical cylinder and discharged to the outside through the discharge portion, and the clean gas is composed of centrifugal force generating means for discharging through the gas discharge pipe; The discharge portion, characterized in that consisting of a discharge duct hole formed perpendicular to the conical cylinder, the discharge duct surrounding the outside of the discharge hole and the inside is connected to the discharge port is provided in the lower portion.

Description

Equipment for removing air pollutants generated in semiconductor process {Fine mist and dust removal Apparatus}

도 1은 본 발명의 제거장치를 나타낸 사시도. 1 is a perspective view showing the removal device of the present invention.

도 2는 도 1의 A-A선 단면도. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

도 3은 도 1의 B-B선 단면도. 3 is a cross-sectional view taken along the line B-B in FIG.

도 4는 본 발명에 따른 원심력 발생수단과 배출부를 확대도시한 요부확대도. Figure 4 is an enlarged view of the main portion showing the centrifugal force generating means and the discharge portion in accordance with the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 다른 실시예의 처리장치를 나타낸 전체 구성도. 5 is an overall configuration diagram showing a processing apparatus of another embodiment according to the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 또 다른 실시예의 처리장치를 나타낸 구성도. Figure 6 is a block diagram showing a processing apparatus of another embodiment according to the present invention.

도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 본체1: main body

11 : 원뿔통체 11: conical cylinder

111 : 배출부, 112 : 배출장홀, 113 : 배출닥트 111: discharge part, 112: discharge hole, 113: discharge duct

12 : 가스 공급관 12 gas supply pipe

13 : 가스 배출관 13: gas discharge pipe

2 : 오일 공급수단2: oil supply means

21 : 오일탱크 21: oil tank

211 : 드레인관, 212 : 냉각관, 213 : 부유물 배출관 211: drain pipe, 212: cooling pipe, 213: float discharge pipe

22 : 오일 공급관 22: oil supply pipe

23 : 오일 공급부 23: oil supply

231 : 주 공급관, 232 : 분기관 231: main supply pipe, 232: branch pipe

24 : 오일 회수관 24: oil return pipe

3 : 원심력 발생수단3: centrifugal force generating means

31 : 회전축 31: rotating shaft

311 : 구동모터 311: drive motor

32 : 회전날개 32: rotating blade

321 : 상부 수평지지대, 322 : 중간 수평지지대, 321: upper horizontal support, 322: intermediate horizontal support,

323 : 스크레이핑대, 324 : 경사 날개판, 325 : 돌기, 323: scraping table, 324: slanted wing plate, 325: projection,

326 : 경사면 326: slope

4 : 배기관4: exhaust pipe

5 : 가스 공급관 5: gas supply pipe

본 발명은 반도체 공정상에서 발생하는 대기 오염물질의 제거장치에 관한 것으로서, 좀더 상세히 설명하면, 반도체 공정상에서 발생되는 폐가스에 포함된 점성 및 비점성의 미세입자를 모두 제거할 수 있는 반도체 공정상에서 발생하는 대기 오염물질의 제거장치에 관한 것이다. The present invention relates to an apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process. More specifically, the present invention relates to an atmosphere generated in a semiconductor process capable of removing both viscous and non-viscous fine particles contained in waste gas generated in a semiconductor process. It relates to a device for removing contaminants.

일반적으로 반도체 생산공정으로부터 발생되는 배출가스에는 미세입자 포함되어 있다. In general, the exhaust gas generated from the semiconductor production process contains fine particles.

즉 상기 배출가스에 포함되는 미세입자로는, 식각(깍아내는) 공정 및 박막 증착공정 등에서 사용되는 PFC (Per Fluoro Compounds; 불소화합물 Gas)로 인하여 발생되는 극소크기의 입자와, 기판 세정 후 진공 건조공정에서 비산되는 유기 액적물질 등이 알려져 있다. That is, as the fine particles included in the exhaust gas, particles of very small size generated by PFC (Per Fluoro Compounds) used in an etching process and a thin film deposition process, and vacuum drying after cleaning the substrate Organic droplets and the like that are scattered in the process are known.

그런데, 상기 상기 PFC는, 불소화합물 Gas로 배출 총량은 CO₂의 수천분의 1정도 이지만, 지구온난화지수가 CO₂에 비해 대단히 높고 대기중에서 분해되는 기간이 매우 긴 지구온난화 유발물질로 알려져 있다.By the way, the PFC is a fluorine compound gas, the total discharge amount is about one thousandths of CO ₂ , but the global warming index is very high compared to CO ₂ and is known as a global warming inducer having a long decomposition period in the atmosphere.

또한 상기 유기 액적물질도 마찬가지로, 대기중에 방출시 대기 환경을 교란하는 물질로 배출규제의 물질이다. In addition, the organic liquid droplets, likewise, the substances that disturb the atmospheric environment when released into the atmosphere is a substance for emission control.

이에 종래에는, 상기 미세입자를 제거하기 위하여 물리적인 방식인 필터를 이용하는 방식이 가장 보편적으로 사용되고 있다. In the related art, a method of using a physical filter to remove the fine particles is most commonly used.

즉 배기가스를 필터에 통과시켜 미세입자를 걸러낸 다음 대기중으로 배출하는 방법이 사용되고 있었다. In other words, the exhaust gas was passed through a filter to filter out fine particles and discharge them into the atmosphere.

그런데, 상기 필터링 방식을 통해 배기가스에 포함되는 미세입자를 제거함에 있어서는 다음과 같은 문제점을 가지고 있었다. However, the removal of the fine particles included in the exhaust gas through the filtering method had the following problems.

먼저, 배출가스에 포함되어 있는 미세입자 중 입자의 크기가 매우작은 약 10㎛이하의 극소 미세입자는 걸러낼 수 없는 문제점을 가지고 있었다. First, very small particles of about 10 μm or less having a very small particle size among the fine particles included in the exhaust gas had a problem in that they could not be filtered out.

또한 필터링 방식을 통해 미세입자를 제거함에 있어서, 시간이 경과되면 필터에 미세입자가 다량으로 흡착됨에 따라서 배출가스의 압력손실이 유발됨으로서, 배출가스의 처리량이 저감됨은 물론 배출가스를 이송하는 송풍팬의 부하가 유발되는 문제점도 가지고 있었다. In addition, in the removal of fine particles through a filtering method, as time passes, a large amount of fine particles are adsorbed on the filter, causing a pressure loss of the exhaust gas, thereby reducing the throughput of the exhaust gas as well as a blowing fan for transporting the exhaust gas. There was also a problem that caused the load.

또 상기 유기 액적물질 등의 점성이 강한 미세입자는 필터의 흡착성이 매우 높음에 따라 필터의 수명을 최대로 단축하는 원인이 됨으로서, 필터를 통한 유기 액적물질의 제거하는 데에는 한계가 있는 문제점을 가지고 있었다. In addition, the highly viscous microparticles such as the organic liquid droplets have a problem in that the removal of the organic liquid droplets through the filter has a problem because it is the cause of maximizing the filter life due to the very high adsorption of the filter. .

이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하고자 발명된 것으로서, 반도체 공정상에서 발생되는 폐가스에 포함되어 있는 점성 및 비점성의 미세입자를 모두 제거할 수 있는 반도체 공정상에서 발생하는 대기 오염물질의 제거장치를 제공함을 목적으로 한다. Therefore, the present invention is invented to solve the above problems, an apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process that can remove all the viscous and non-viscous fine particles contained in the waste gas generated in the semiconductor process. For the purpose of providing it.

또한 배출가스에 포함되어 있는 미세입자 중 입자의 크기가 매우작은 약 10㎛이하의 극소 미세입자도 제거할 수 있는 목적도 있다. In addition, it is also possible to remove the very fine particles of about 10㎛ or less of the very small particle size contained in the exhaust gas.

또 미세입자를 제거함에 있어서 배출가스의 이송압력이 저감되는 것을 예방할 수 있는 목적도 있다. In addition, there is also an object to prevent the transfer pressure of the exhaust gas is reduced in removing the fine particles.

또 본체로 배출되는 미세입자가 포함되는 오일을 오일탱크로 재회수하여 이를 다시 본체에 투입하여 연속적인 재사용을 가능하게 하는 목적도 있다. In addition, the oil containing the fine particles discharged to the main body to recover the oil back to the main tank again to enable the continuous reuse.

또 본체를 복수로 연결하여 가스의 처리용량을 극대화 할 수 있는 목적도 있다. In addition, there is also an object to maximize the processing capacity of the gas by connecting a plurality of the main body.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 하부는 측부에 하나 이상 배출부가 구비되어 있는 상광하협의 원뿔통체로 구성되고 상부에는 둘레에 가스 공급관이 구비되고 상측 중앙에 가스 배출관이 구비되어 있는 본체와. 외부로부터 상기 원뿔통체의 상부 내면으로 오일을 공급하여 내면에 유막을 연속적으로 형성시키는 오일 공급수단, 및 상기 원뿔통체의 내부에 회전이 가능하게 구비되어 본체의 내부로 투입되는 가스에 원심력을 주어 미세입자를 상기 원뿔통체의 내면 유막에 흡착시켜 상기 배출부를 통해 외부로 배출하고 청정가스는 상기 가스 배출관을 통해 배출시키는 원심력 발생수단으로 구성되고; 상기 배출부는, 상기 원뿔통체에 수직으로 형성된 배출장홀과, 상기 배출장홀의 외부를 감싸며 내부가 연통되어 하부에 배출구가 구비되어 있는 배출닥트로 구성됨을 특징으로 하는 것이다. The present invention for achieving the above object, the lower portion is composed of a cone cylinder of the upper and lower strait is provided with one or more discharge portion on the side and the upper portion is provided with a gas supply pipe on the periphery and the gas discharge pipe is provided on the upper center Wow. Oil supply means for supplying oil to the upper inner surface of the conical cylinder from the outside to form an oil film continuously on the inner surface, and is provided to be rotatable inside the conical cylinder to give centrifugal force to the gas introduced into the body. The particles are adsorbed on the inner surface oil film of the conical cylinder and discharged to the outside through the discharge portion, and the clean gas is composed of centrifugal force generating means for discharging through the gas discharge pipe; The discharge portion, characterized in that consisting of a discharge duct hole formed perpendicular to the conical cylinder, the discharge duct surrounding the outside of the discharge hole and the inside is connected to the discharge port is provided in the lower portion.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 제거장치를 나타낸 사시도이고, 도 2는 도 1의 A-A선 단면도이며, 도 3은 도 1의 B-B선 단면도이다. 1 is a perspective view showing the removal device of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of Figure 1, Figure 3 is a cross-sectional view taken along the line B-B of FIG.

이에 본 발명의 제거장치는, 하부는 측부에 하나 이상 배출부(111)가 구비되어 있는 상광하협의 원뿔통체(11)로 구성되고, 상부에는 둘레에 반도체 공정으로부터 배출가스가 공급되는 가스 공급관(12)이, 그리고 상측 중앙에 가스 배출관(13)이 구비되어 있는 본체(1)와; 외부로부터 상기 원뿔통체(11)의 상부 내면으로 오일을 공급하여 내면에 유막을 연속적으로 형성시키는 오일 공급수단(2); 및 상기 원뿔통체(11)의 내부에 회전이 가능하게 구비되어 본체(1)의 내부로 투입되는 가스에 원심력을 주어 미세입자를 상기 원뿔통체(11)의 내면 유막에 흡착시켜 상기 배출부(111)를 통해 외부로 배출하고 청정가스는 상기 가스 배출관(13)을 통해 배 출시키는 원심력 발생수단(3)으로 구성된다. Accordingly, the removal apparatus of the present invention, the lower portion is composed of a cone cylinder 11 of the upper and lower narrow shaft provided with one or more discharge portion 111 on the side, the upper portion of the gas supply pipe for supplying the exhaust gas from the semiconductor process ( 12) and a main body (1) provided with a gas discharge pipe (13) in the upper center; Oil supply means (2) for supplying oil from the outside to the upper inner surface of the conical cylinder (11) to continuously form an oil film on the inner surface; And a rotatable inside the conical cylinder 11 to give centrifugal force to the gas introduced into the main body 1 to adsorb fine particles to the inner surface oil film of the conical cylinder 11 to discharge the 111. Discharge to the outside through) and the clean gas is composed of a centrifugal force generating means (3) for discharging through the gas discharge pipe (13).

그리고, 상기 오일 공급수단(2)은, 점성을 가지는 오일이 채워지는 오일탱크(21)와, 이 오일탱크(12)로부터 인출되어 펌프를 통해 오일을 강제 압송하는 오일 공급관(22), 및 이 오일 공급관(22)에 연결되어 상기 원뿔통체(11)의 내면에 오일을 균등하게 투입하는 오일 공급부(23)로 구성된다. The oil supply means 2 includes an oil tank 21 filled with a viscous oil, an oil supply pipe 22 which is drawn out of the oil tank 12 and forcibly transported oil through a pump, and Is connected to the oil supply pipe 22 is composed of an oil supply unit 23 for injecting oil evenly to the inner surface of the conical cylinder (11).

특히 상기 오일 공급부(23)는, 상기 본체(1)의 둘레를 감싸며 일단은 상기 오일 공급관(22)의 끝단에 연결되어 있고 타단은 막혀있는 원형링 형상의 주 공급관(231)과, 주 공급관(231)의 내측에 등간격으로 구비되어 상기 원뿔통체(11)의 내측으로 오일을 균등하게 공급하는 다수의 분기관(232)으로 구성된다. In particular, the oil supply unit 23 is wrapped around the circumference of the main body 1 and one end is connected to the end of the oil supply pipe 22 and the other end is a circular ring-shaped main supply pipe 231 and the main supply pipe ( 231 is provided at equal intervals and is composed of a plurality of branch pipes 232 for supplying oil evenly to the inside of the conical cylinder 11.

또한, 상기 배출부(111)는, 상기 원뿔통체(11)에 수직으로 형성되어 본체(1)의 내부로부터 오일이 배출되는 배출장홀(112)과, 상기 배출장홀(112)의 외부를 감싸며 내부가 연통되어 하부에 오일이 배출되는 배출구가 구비되어 있는 배출닥트(113)로 구성된다. In addition, the discharge portion 111 is formed perpendicular to the conical cylinder 11, the discharge hole (112) for the oil discharged from the inside of the main body 1, and surrounds the outside of the discharge hole (112) inside Is communicated with the discharge duct 113 is provided with a discharge port for discharging oil in the lower portion.

또, 상기 원심력 발생수단(3)은, 상기 원뿔통체(11)의 중앙으로 수직으로 관통하며 하부가 외부로 돌출되어 구동모터(311)를 통해 회전되는 회전축(31)과, 이 회전축(31)의 둘레에 등간격으로 구비되어 외측단을 통해 상기 유막을 스크레이핑하여 유막을 구성하는 오일을 상기 배출구 측으로 배출시키고 가스에 원심력을 발생시키는 다수의 회전날개(32)로 구성된다. In addition, the centrifugal force generating means (3), the rotary shaft 31 penetrates vertically to the center of the conical cylinder (11) and protrudes to the outside to rotate through the drive motor (311), and the rotary shaft (31) It is provided at equal intervals around the scraping the oil film through the outer end is composed of a plurality of rotary blades 32 for discharging the oil constituting the oil film to the outlet side and generates centrifugal force on the gas.

그리고 상기 회전축(31)의 둘레에 등각격으로 구비되어 있는 각각의 회전날개(32)는, 회전축(31)의 상부와 중간에서 측부로 돌출되게 구비된 상부,중간 수평 지지대(321,322)와, 이 상부,중간 수평지지대(321,322)의 외측 단부에 길쭉하게 구비되어 유막을 스크레이핑하는 스크레이핑대(323), 및 상기 상부,중간 수평지지대(321,322)의 사이 중간에 경사지게 장착되어 이동되는 가스의 회전유속을 증가시키는 경사 날개판(324)으로 구성된다.In addition, each of the rotary blades 32 provided at regular intervals around the rotary shaft 31 includes upper and middle horizontal supports 321 and 322 provided to protrude laterally from the top and the middle of the rotary shaft 31. The upper and middle horizontal supporters 321 and 322 are provided at the outer end of the elongated scraping table 323 for scraping the oil film, and between the upper and middle horizontal supporters 321 and 322 inclined mounted in the middle of the gas It is composed of an inclined vane plate 324 to increase the rotation speed.

특히 상기 경사 날개판(324)은, 법선방향에 둔각으로 설치되어 가스 입구의 원통에 따라 유입된 가스의 와류(사이클론 : Cyclone)의 유속을 더욱 빠르게 하여 가스에 포함되어 있는 미세입자의 원심력을 증가시킴으로써 유막이 형성된 내부 벽면으로 충돌의 빈도를 촉진할 수 있게 되는 것이다. In particular, the inclined vane plate 324 is installed at an obtuse angle in the normal direction to increase the flow rate of the vortex (cyclone: cyclone) of the gas introduced along the cylinder of the gas inlet to further increase the centrifugal force of the fine particles contained in the gas. By doing so, the frequency of collision can be promoted to the inner wall where the oil film is formed.

따라서, 상기와 같이 구성된 제거장치를 통해 반도체 공정에서 배출되는 이물질을 제거하는 과정을 설명하면, 도 2에 도시된 바와같이, 먼저, 본체(1)의 내부에 구비되어 있는 구동모터(311)를 작동시켜 회전축(31)과 회전날개(32)를 원뿔통체(11)의 내부에서 회전시킨다. Therefore, the process of removing the foreign matter discharged from the semiconductor process through the removal device configured as described above, as shown in Figure 2, first, the drive motor 311 provided in the interior of the main body 1 By operating the rotary shaft 31 and the rotary blades 32 to rotate inside the conical cylinder (11).

다음 상기 오일 공급수단(2)을 구성하는 펌프를 작동시켜 오일탱크(21)에 채워진 오일을 오일공급부(23)를 통해 원뿔통체(11)의 내면에 균등하게 공급함으로서, 원뿔통체(11)의 내면에 유막이 연속적으로 형성되게 한다. Next, by operating the pump constituting the oil supply means (2) by supplying the oil filled in the oil tank 21 evenly to the inner surface of the conical cylinder 11 through the oil supply unit 23, The oil film is continuously formed on the inner surface.

다음 상기 본체(1)의 상부둘레의 일측에 구비되어 있는 가스 공급관(12)을 통해 반도체 공정에서 발생되는 가스를 공급하게 되면, 상기 원심력 발생수단(3)의 회전력을 통해 유입된 가스에 함유된 미세입자가 외측으로 확산이 촉진됨으로써 원뿔통체(11)의 내면에 형성되는 유막에 흡착되게 된다. Next, when the gas generated in the semiconductor process is supplied through the gas supply pipe 12 provided on one side of the upper circumference of the main body 1, the gas contained in the gas introduced through the rotational force of the centrifugal force generating means 3 As the fine particles are diffused to the outside, they are adsorbed to the oil film formed on the inner surface of the conical cylinder 11.

그리고 미세입자가 흡착된 유막은 상기 원심력 발생수단(3)을 구성하는 회전 날개(32)를 구성하는 스크래이핑대(323)이 회전되면서 스크레이핑을 시킴에 따라서, 원뿔통체(11)의 일측에 하나 이상으로 형성된 배출장홀(112)을 통해 상기 미세입자가 흡착된 유막인 오일이 외부로 배출되게 된다.In addition, the oil film to which the fine particles are adsorbed is scraped while the scraping table 323 constituting the rotary vane 32 constituting the centrifugal force generating means 3 rotates, thereby being disposed on one side of the conical cylinder 11. The oil, which is an oil film to which the fine particles are adsorbed, is discharged to the outside through the discharge hole 112 formed in at least one.

한편 본체 내부에 채워진 미세입자가 제거된 청정가스는 중앙으로 상승되어 본체(1)의 상부 중앙에 구비되어 있는 가스 배출관(13)을 통과하여 외부로 배출되게 되는 것이다. On the other hand, the clean gas from which the fine particles filled in the main body is removed is lifted to the center and is discharged to the outside through the gas discharge pipe 13 provided in the upper center of the main body (1).

즉, 상기와 같이 본체(1)의 내부로 공급된 가스 중에 포함되어 있는 미세입자는 본체(1)의 내면에 연속적으로 형성된 유막에 흡착되어 분리 배출되고, 청정가스만이 본체(1)의 상부에 구비된 가스 배출관(13)을 통해 대기중으로 배출됨으로서 대기오염을 예방함은 물론, 또는 다음의 화학적 세정공정으로 청정가스가 배출되어 세정 효과를 증폭시킬 수 있는 것이다. That is, the fine particles contained in the gas supplied to the inside of the main body 1 as described above is adsorbed by the oil film continuously formed on the inner surface of the main body 1 and separated and discharged, and only the clean gas is disposed above the main body 1. By being discharged into the atmosphere through the gas discharge pipe 13 provided in the air pollution prevention, or clean gas is discharged by the following chemical cleaning process to amplify the cleaning effect.

좀더 상세하게는, 상기 가스가 본체(1)의 내부에 공급되는 순간에는, 미세입자를 구성하는 PFC등의 극소 미세입자인 비점성 이물질 및 점성을 가진 액적이물질 모두가 원심력을 가지게 됨으로서, 외측으로 확산되면서 하강되는 현상이 발생된다.More specifically, at the moment when the gas is supplied to the inside of the main body 1, both non-viscous foreign matters, which are very fine particles such as PFC constituting the fine particles, and droplets having viscous droplets have a centrifugal force. As it diffuses downward, a phenomenon occurs.

이와 같이 확산 하강되는 상기 비점성 및 점성을 가지는 미세입자가, 원뿔통체(11)의 내면에 연속적으로 형성되는 유막에 흡착된 후 상술한 바와 같이 본체(1)의 외부로 분리 배출될 수 있는 것이다. The non-viscous and viscous fine particles diffused in this way are adsorbed by an oil film that is continuously formed on the inner surface of the conical cylinder 11 and then discharged to the outside of the main body 1 as described above. .

그러므로 가스에 포함되는 미세입자가 종류에 관계없이 거의가 원뿔통체(11)의 내면에 형성된 유막에 흡착됨으로서, 본체(1)를 통과하여 배출되는 배출가스의 청정도를 극대화시킬 수 있는 것이다. Therefore, almost all of the fine particles contained in the gas are adsorbed to the oil film formed on the inner surface of the conical cylinder 11, thereby maximizing the cleanliness of the exhaust gas discharged through the main body 1.

다시말해 배출가스에 포함되어 있는 미세입자 중 입자가 매우작은 약 10㎛이하의 극소 미세입자를 제거할 수 있는 목적을 달성할 수 있는 것이다. In other words, it is possible to achieve the purpose of removing very small particles of about 10 ㎛ or less of the very small particles contained in the exhaust gas.

또한 미세입자를 제거함에 있어서 원심력을 통해 미세입자를 제거함에 따라서, 본체(1)를 통과하는 가스의 이송압력이 저감되는 것을 예방할 수 있는 목적을 달성할 수 있는 것이다. In addition, by removing the fine particles through centrifugal force in removing the fine particles, it is possible to achieve the purpose of preventing the transfer pressure of the gas passing through the main body (1) is reduced.

이하, 상기와 같이 구성되고 작동되는 본 발명을 좀더 구체적으로 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, the present invention configured and operated as described above will be described in more detail.

도 4는 본 발명에 따른 원심력 발생수단과 배출부를 확대 도시한 것으로서, 상기 원뿔통체(11)에 구비된 배출부(11)를 구성하는 배출장홀(112)은, 오일의 배출속도를 조절할 수 있도록 경사지게 형성된다. 4 is an enlarged view of the centrifugal force generating means and the discharge part according to the present invention, the discharge hole (112) constituting the discharge part 11 provided in the conical cylinder 11, so that the discharge speed of the oil can be adjusted It is formed to be inclined.

그러므로 상기 원심력 발생수단(3)을 구성하는 회전날개(32)가 회전되는 순간에는, 회전날개(32)을 구성하는 외측의 스크레이핑대(323)가 수직으로 구성되어 있고 상기 배출장홀(112)이 경사지게 형성되어 있음에 따라서 유막을 스크레이핑 할 경우에 상기 배출장홀(112)의 상부에서 하부로 오일이 배출닥트(113)로 유입된 다음 배출되게 되는 것이다. Therefore, when the rotary blade 32 constituting the centrifugal force generating means 3 is rotated, the outer scraping table 323 constituting the rotary blade 32 is vertically formed and the discharge hole 112 is formed. As it is formed to be inclined, when the oil film is scraped, the oil is introduced into the discharge duct 113 from the upper portion to the lower portion of the discharge hole hole 112 and then discharged.

즉 상기 배출장홀(112)이 경사져 있음에 따라서 본체(1)로부터 배출되는 오일의 배출속도를 조절함으로서, 배출장홀(112)이 급격히 막혀 오일의 배출 성능이 저하되는 것을 예방할 수 있는 효과를 가지는 것이다. That is, by adjusting the discharge speed of the oil discharged from the main body 1 as the discharge hole hole 112 is inclined, the discharge hole hole 112 is rapidly blocked, thereby preventing the oil discharge performance from being lowered. .

그리고 상기 회전날개(32)를 구성하는 스크레이핑대(32)의 외측단부에는, 상 기 원통뿔체(11)의 내면과 저항력을 감소할 수 있도록 회전날개(32)의 회전방향 쪽으로 경사면(326)이 포함되는 돌기(325)가 구비됨으로서, 원통뿔체(11)의 내면과 밀착되면서 회전시 저항력을 감소할 수 있는 효과가 있는 것이다.And the outer end of the scraping table 32 constituting the rotary blade 32, the inclined surface 326 toward the rotation direction of the rotary blade 32 so as to reduce the inner surface and the resistance of the cylindrical cone (11). By being provided with the included projections 325, while being in close contact with the inner surface of the cylindrical cone 11 has the effect of reducing the resistance during rotation.

도 5는 본 발명에 따른 다른 실시예의 처리장치를 나타낸 것으로서, 상기와 같이 구성된 처리장치에 있어서, 상기 오일탱크(21)에는 하부에 드레인관(211)과 내부에 냉각관(212)을 더 구비하고, 상기 오일탱크와 상기 배출닥트(113)의 사이를 상호 연결하는 오일 회수관(24)을 더 구비함을 특징으로 한다. Figure 5 shows a processing apparatus of another embodiment according to the present invention, in the processing apparatus configured as described above, the oil tank 21 is further provided with a drain tube 211 and a cooling tube 212 in the lower portion. And, it is characterized in that it further comprises an oil recovery pipe 24 for interconnecting between the oil tank and the discharge duct (113).

그리고 상기 오일탱크(21)의 측벽 상부에는 내부에서 부상되는 부유물을 외부로 배출하는 부유물 배출관(213)이 더 구비되어 있는 것이다. And the upper side wall of the oil tank 21 is further provided with a float discharge pipe 213 for discharging the float floating from the inside to the outside.

따라서, 상기 본체(1)의 배출닥트(113)로부터 배출되는 미세입자가 포함되는 오일이 오일탱크로 재회수하여 이를 다시 본체(1)에 투입한 다음, 연속적으로 재 사용을 할 수 있는 것이다. Therefore, the oil containing the fine particles discharged from the discharge duct 113 of the main body 1 is re-collected into the oil tank and put it back into the main body 1, and can be reused continuously.

왜냐하면 오일은, 특성상 물성을 가지고 있는 한 흡착성을 유지하는 반면에 흡착하고 있는 미세입자는 오일에서 이탈이 되지 않음에 따라서, 상술한 바와같이 재사용이 가능한 것이다. Because oil maintains adsorption as long as it has properties, the fine particles adsorbed are not released from the oil, and thus can be reused as described above.

그리고 상기 오일탱크(21)의 하부에는 드레인관(211)이 구비됨에 따라서, 연속적으로 사용하는 과정에서 물성이 없어진 오일을 배출하여 새 오일로 교체할 수 있는 것이다. And as the drain pipe 211 is provided in the lower portion of the oil tank 21, it is possible to replace the new oil by discharging the oil is lost in the process of continuous use.

또한 상기 오일탱크(21)의 내부에는 냉각관(212)이 구비되어 있음에 따라서 본체에서 열기를 가진 가스와 밀착되어 온도가 상승된 오일의 온도를 저하시킨 다 음. 온도가 저하된 오일을 본체(1)로 재투입하여 사용할 수 있는 것이다. In addition, since the cooling tube 212 is provided inside the oil tank 21, the temperature of the oil which is in close contact with the gas having heat in the main body and the temperature thereof is lowered. The oil whose temperature has been reduced can be reinserted into the main body 1 to be used.

또 상기 오일탱크(21)의 상부에는 부유물 배출관(213)이 구비되어 있음으로서, 오일탱크(21)로 회수된 오일의 상부로 부상되는 수분 등을 제거한 다음, 수분이 제거된 오일을 본체(1)로 재투입하여 사용할 수 있는 것이다.In addition, the upper portion of the oil tank 21 is provided with a float discharge pipe 213, to remove the water, such as floating to the top of the oil recovered in the oil tank 21, and then remove the oil from the body (1) It can be used again by re-input.

도 6은 본 발명에 따른 또 다른 실시예의 처리장치를 나타낸 것으로서, 상기 본체(1)를 복수로 구성하여 각 본체(1)의 가스 배출관(13)을 단일의 배기관(4)으로 연결하며 각 본체의 가스 공급관(12)을 단일의 가스 공급관(5)으로 연결 구성함으로서, 가스의 처리용량을 극대화시킬 수 도 있는 것이다. Figure 6 shows a processing apparatus of another embodiment according to the present invention, comprising a plurality of the main body 1 to connect the gas discharge pipe 13 of each main body 1 to a single exhaust pipe 4 each body By connecting the gas supply pipe 12 of the configuration to a single gas supply pipe 5, it is possible to maximize the processing capacity of the gas.

상술한 바와 같이 본 발명은, 배출가스에 포함되어 있는 점성 및 비점성의 미세입자를 모두 제거할 수 있도록 함으로서, 반도체 공정에서 발생되는 폐가스에 포함되는 이물질을 거의 모두를 제거할 수 있는 대기 오염물질의 제거장치를 제공할 수 있는 효과가 있다. As described above, the present invention allows the removal of both viscous and non-viscous microparticles contained in the exhaust gas, thereby removing almost all of the foreign substances contained in the waste gas generated in the semiconductor process. There is an effect that can provide a removal device.

특히. 배출가스에 포함되어 있는 미세입자 중 입자가 매우작은 약 10㎛이하인 PFC등의 극소 미세입자도 용이하게 제거함으로서, 대기 오염물질의 제거 효율을 최대로 향상시킬 수 있는 효과도 있다. Especially. Among the microparticles contained in the exhaust gas, the microparticles such as PFCs having a very small particle size of about 10 μm or less can be easily removed, thereby further improving the efficiency of removing air pollutants.

또 미세입자를 제거함에 있어서 배출가스의 이송압력이 저감되는 것을 예방함으로서, 장치의 작동 중 배출가스를 이송시키는 송풍팬에 부하가 걸려 손상되는 것을 예방할 수 있는 효과도 있다. In addition, by preventing the transport pressure of the exhaust gas is reduced in removing the fine particles, there is an effect that can be prevented from being damaged by the load on the blower fan for transporting the exhaust gas during operation of the device.

또 본체로 배출되는 미세입자가 포함되는 오일을 오일탱크로 재회수하여 이 를 다시 본체에 투입함에 따라 오일을 연속적으로 재사용할 수 있도록 함으로서, 제거장치에 투입되는 오일의 낭비를 방지하는 효과도 있다. In addition, the oil containing the fine particles discharged to the main body is re-recovered into the oil tank so that the oil can be reused continuously as the oil is re-injected into the main body, thereby preventing waste of oil introduced into the removal device. .

또 본체를 복수로 연결하여 가스의 처리용량을 극대화함으로서 대용량의 대기 오염물질 제거장치를 제공하는 효과도 있다. In addition, it is also effective to provide a large amount of air pollutant removal device by connecting a plurality of the body to maximize the processing capacity of the gas.

본 발명은 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 중심으로 기술되었지만 당업자라면 이러한 기재로부터 본 발명의 범주를 벗어남이 없이 많은 다양한 자명한 변형이 가능하다는 것은 명백하다. 따라서 본 발명의 범주는 이러한 많은 변형 예들을 포함하도록 기술된 청구범위에 의해서 해석되어져야 한다.While the present invention has been described with reference to the accompanying drawings, it will be apparent to those skilled in the art that many various obvious modifications are possible without departing from the scope of the invention from this description. Therefore, the scope of the invention should be construed by the claims described to include many such variations.

Claims

The lower part is composed of a cone cylinder 11 of the upper and lower narrow beams having one or more discharge parts 111 on the side, and the gas supply pipe 12 is provided on the upper part and the gas discharge pipe 13 is provided on the upper center. With the body (1). Oil supply means (2) for continuously supplying oil to the upper inner surface of the conical cylinder (11) from the outside to form an oil film on the inner surface, and the inside of the conical cylinder (11) is rotatably provided to the main body (1) The centrifugal force is applied to the gas introduced into the inside) to adsorb the fine particles to the inner surface oil film of the conical cylinder 11 to be discharged to the outside through the discharge portion 111 and the clean gas is discharged through the gas discharge pipe 13. Consisting of centrifugal force generating means (3);

The discharge part 111, the discharge duct 113 is formed in the lower portion of the discharge hole (112) perpendicular to the conical cylindrical body 11, the outer circumference of the discharge hole (112) is in communication with the inner discharge port 113 is provided Apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process, characterized in that consisting of.

The method of claim 1, wherein the oil supply means 2,

It is connected to the oil supply pipe 22 and the oil supply pipe 22 which draws out from the oil tank 21 and this oil tank 21 and forcibly pumps oil through a pump, and equalizes oil on the inner surface of the conical cylinder 11. Apparatus for removing air pollutants generated in the semiconductor process, characterized in that consisting of the oil supply unit 23 to be injected.

The oil supply unit 23 of claim 2,

Wrapped around the main body 1 and one end is connected to the end of the oil supply pipe 22 and the other end is provided with equal intervals inside the main supply pipe 231, the main supply pipe 231 and the conical cylinder Apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process, characterized in that it consists of a plurality of branch pipes (232) for equally supplying oil to the inner upper portion of (11).

The method of claim 1, wherein the outlet hole 112,

Apparatus for removing air pollutants generated in the semiconductor process, characterized in that the inclined to control the discharge rate of the oil.

The oil tank 21 further comprises a drain pipe 211 and a cooling pipe 212 therein, and between the oil tank 21 and the discharge duct 113 to each other. An apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process, further comprising an oil return pipe (24) for connecting.

6. The apparatus of claim 5, further comprising a float discharge pipe (213) for discharging the float floating therein to the outside at an upper portion of the side wall of the oil tank (21).

The centrifugal force generating means (3) according to any one of claims 1 to 6,

The rotary shaft 31 penetrates vertically to the center of the conical cylinder 11 and the lower portion protrudes outward and is rotated through the driving motor 311, and is provided at equal intervals around the rotary shaft 31 to provide an outer end. Apparatus for removing air pollutants generated in the semiconductor process, characterized in that consisting of a plurality of rotary blades (32) for scraping the oil film to discharge the oil constituting the oil film to the outlet side and to generate a centrifugal force to the gas.

According to claim 7, wherein the rotary blades 32, the upper and middle horizontal supporters 321 and 322 provided to protrude laterally from the upper and middle of the rotary shaft 31 and the outer ends of the upper and middle horizontal supporters (321 and 322). It is provided with an elongated scraping table 323 to scrape the oil film, and the inclined wing plate 324 to increase the rotational flow rate to the gas to be moved inclined in the middle between the upper, middle horizontal support (321,322) Apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process, characterized in that consisting of.

The method of claim 8, wherein the outer end of the scraping table 323,

Apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process, characterized in that the projection 325 is further provided with an inclined surface 326 in the direction of rotation of the rotary blade 32 to reduce the resistance and the inner surface of the cylindrical cone.

The method of claim 7, wherein the gas discharge pipe 13,

Apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process, characterized in that the protruding from the upper portion of the main body (1) to be inserted into the main body (1) to prevent the gas flowing into the main body and the discharged gas to be mixed with each other.

8. The gas supply pipe (12) according to claim 7, wherein the gas discharge pipe (13) of each body is connected to a single exhaust pipe (4) so that the main body (1) can be configured in plural to increase the processing capacity of the gas. Apparatus for removing air pollutants generated in a semiconductor process, characterized in that the connection to a single gas supply pipe (5).

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