KR100558542B1 - Dry scrubber for manufacturing semiconductor - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 제조용 드라이 스크러버에 관한 것으로서, 특히 횡방향으로 설치된 본체(20)와, 상기 본체(20)의 측방에 형성된 가스 유입구(21) 및 하측에 형성된 분진 배출구(22)와, 상기 본체(20)의 내부 일측 선단에 부분적으로 장착된 필터(23)와, 상기 본체(20)의 일측 선단에 분리 가능케 결합되며 내측에는 레진(24)이 저장되고 선단에는 배기구(28)가 형성된 레진 저장부(25)를 포함한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dry scrubber for semiconductor manufacturing, and in particular, a main body 20 installed in the lateral direction, a gas inlet 21 formed on the side of the main body 20, a dust exhaust port 22 formed on the lower side, and the main body ( A resin storage part having a filter 23 partially mounted at one end of the inner side of the 20 and a detachable coupling to one end of the main body 20 and having a resin 24 stored inside and an exhaust port 28 formed at the end thereof. (25).
따라서, 본 발명에서는 모터, 브러시 등의 구성을 필요로 하지 않으므로 구성이 간략화 되고 코스트가 현저하게 절감될 뿐만 아니라 필터의 손상을 방지하여 필터의 수명이 현저하게 연장되며, 필터의 필터링 효과가 향상된다.Therefore, the present invention does not require the configuration of a motor, a brush, etc., so that the configuration is simplified, the cost is notably reduced, and the filter life is significantly extended by preventing the filter from being damaged, and the filtering effect of the filter is improved. .
화학기상증착, 화학 가스, 드라이 스크러버, 필터Chemical Vapor Deposition, Chemical Gas, Dry Scrubber, Filter
Description
도 1 은 종래의 반도체 제조용 드라이 스크러버를 나타내는 일부 절개 상태의 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure of the partially cut | disconnected state which shows the conventional dry scrubber for semiconductor manufacture.
도 2 는 본 발명에 의한 반도체 제조용 드라이 스크러버의 일부 절개 상태의 도면이다.2 is a view of a partially cut-away state of a dry scrubber for semiconductor production according to the present invention.
도 3 은 본 발명의 요부를 나타내는 도면이다.It is a figure which shows the principal part of this invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 * Explanation of symbols on the main parts of the drawings
20: 본체 21: 가스 유입구20: main body 21: gas inlet
22: 분진 배출구 23: 필터22: dust outlet 23: filter
24: 레진 25: 레진 저장부24: resin 25: resin reservoir
28: 배기구28: exhaust vent
본 발명은 반도체 제조용 드라이 스크러버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 저압 화학기상증착 공정에 적용된 가스중의 분진을 분리하기 위한 반도체 제조용 드라이 스크러버에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dry scrubber for semiconductor manufacturing, and more particularly, to a dry scrubber for semiconductor manufacturing for separating dust in a gas applied to a low pressure chemical vapor deposition process.
일반적으로 저압 화학기상증착 공정에 적용되는 장치는 진공을 이용하여 화학 가스를 반응시켜 웨이퍼의 표면에 막질을 형성시키는 장치로서, 반응되고 남은 가스와 반응에 따른 생성물이 다량 발생되며, 이러한 가스나 생성물들을 이루는 분진이 덕트 내에 쌓이는 것을 방지하기 위해 진공 펌프의 배면 측에 드라이 스크러버(Dry scrubber)가 장착된다.In general, a device applied to a low pressure chemical vapor deposition process is a device for forming a film on the surface of a wafer by reacting a chemical gas using a vacuum, a large amount of the reaction product with the remaining gas is generated, such a gas or product Dry scrubbers are mounted on the back side of the vacuum pump to prevent dust from forming in the ducts.
종래에 이와 같은 드라이 스크러버는 종형으로 설치되는데, 이는 도 1 에 도시한 바와 같이 본체(10)의 일측에는 가스가 유입되는 가스 유입구(11)가 형성되어 있고, 그 내측에는 모터(12)의 구동에 따라 회전되는 브러시(13)가 결합되어 있으며, 상기 본체(10)의 내측에는 분진 등을 필터링하는 필터(14)가 설치되어 있다.Conventionally, such a dry scrubber is installed in a vertical type, and as shown in FIG. 1, a
그리고, 상기 본체(10)의 하측에는 가스 중의 화학적인 성분을 중화시키는 레진(15)이 저장되어 있으며, 그 일측에는 정화된 가스가 배출되는 배기구(16)가 형성된 구성으로 이루어진다.In addition, a
따라서, 분진 등이 포함된 가스가 가스 유입구(11)를 통하여 본체(10)의 내측으로 유입되면, 분진(D)은 필터(14)에 의해 필터링되어 본체(10)의 내측에 저장되고, 가스는 하측으로 배출된 후 레진(15)에 의해 중화된 후 배기구(16)를 통하여 배출됨으로써 가스 중의 분진(D)을 분리하게 되며, 상기 필터(14)에 흡착된 분진(D)은 모터(12)의 구동에 따라 회전되는 브러시(13)에 의해 필터(14)로부터 분 리되어 본체(10)의 하측에 저장되는 것이다.Therefore, when a gas containing dust or the like flows into the
그러나, 이와 같은 종래의 기술은 브러시의 회전 작동에 의해 필터가 손상됨으로써 필터의 수명을 단축시킬 뿐만 아니라 필터의 손상에 의해 분진을 필터링하지 못하게 되고, 구조적으로 매우 복잡하게 되는 등의 여러 가지 문제점들이 내재되어 있었다.However, such a conventional technique not only shortens the life of the filter by damaging the filter by the rotational operation of the brush, but also prevents filtering of the dust due to the damage of the filter, and becomes very complicated in structure. It was inherent.
따라서, 본 발명은 상술한 종래 기술의 문제점들을 해결하기 위하여 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 필터의 손상을 방지하고 분진의 필터링 효과를 향상시키며, 구조를 간략화 하여 코스트를 절감할 수 있는 반도체 제조용 드라이 스크러버를 제공하는데 있다.
Therefore, the present invention has been invented to solve the above-mentioned problems of the prior art, an object of the present invention is to prevent the damage of the filter, improve the filtering effect of dust, and to simplify the structure for semiconductor manufacturing that can reduce the cost To provide a dry scrubber.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조용 드라이 스크러버는, 횡방향으로 설치된 본체와, 상기 본체의 측방에 형성된 가스 유입구 및 하측에 형성된 분진 배출구와, 상기 본체의 내부 일측 선단에 부분적으로 장착된 필터와, 상기 본체의 일측 선단에 분리 가능케 결합되며 내측에는 레진이 저장되고 선단에는 배기구가 형성된 레진 저장부를 포함한다.The dry scrubber for manufacturing a semiconductor according to the present invention for achieving the above object is partially mounted to the main body installed in the transverse direction, the gas inlet formed on the side of the main body and the dust discharge port formed on the lower side, and the inner one end of the main body. And a resin storage part detachably coupled to one end of the main body and having a resin stored inside and an exhaust port formed at the front end thereof.
따라서, 본 발명에서는 모터, 브러시 등의 구성을 필요로 하지 않으므로 구성이 간략화 되고 코스트가 현저하게 절감될 뿐만 아니라 필터의 손상을 방지하여 필터의 수명이 현저하게 연장되며, 필터의 필터링 효과가 향상되는 것이다.Therefore, the present invention does not require the configuration of a motor, a brush, etc., so that the configuration is simplified, the cost is notably reduced, and the filter life is significantly extended by preventing the filter from being damaged, and the filtering effect of the filter is improved. will be.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.
도 2 는 본 발명에 의한 반도체 제조용 드라이 스크러버의 일부 절개 상태의 단면도로서, 본체(20)의 일측에는 가스 유입구(21)가 형성되어 있고, 그 하측에는 분진 등이 배출되는 분진 배출구(22)가 형성되어 있다.2 is a cross-sectional view of a partially cut state of a dry scrubber for manufacturing a semiconductor according to the present invention, wherein a
상기 본체(20)는 횡방향으로 설치되며, 상기 본체(20)의 내측에는 가스 중의 분진을 분리하는 필터(23)가 장착되어 있다.The
상기 본체(20)의 일측에는 내부에 레진(24)을 저장한 레진 저장부(25)가 볼트(26) 등의 체결 수단에 의해 체결되는데, 상기 본체(20) 및 레진 저장부(25)의 마주하는 플랜지에는 도 3 에 도시한 바와 같이 볼트(26)가 결합되는 나사 구멍(27)을 형성하고 있다.One side of the
상기 필터(23)는 삼각뿔 모양으로 형성됨이 바람직하며, 교체 시에는 본체(20)와 레진 저장부(25)를 결합시킨 볼트(26)를 해체한 후 교체하는 것이 가능케 된다.The
그리고, 상기 레진 저장부(25)에는 레진(24)과 반응하여 정화된 가스가 배출되는 배기구(28)가 형성되어 있다.The
상기 필터(23)는 본체(20)의 내부 전체에 걸쳐서 형성되는 것이 아니고 레진 저장부(25)에 가까운 측에 부분적으로 형성되어 장착됨이 바람직하다.The
이와 같이 구성된 본 발명에 의한 반도체 제조용 드라이 스크러버는 분진 등 이 포함된 가스가 가스 유입구(21)를 통하여 본체(20)의 내측으로 유입되면, 분진은 필터(23)에 의해 필터링되어 본체(20)를 통과하지 못하고 분진 배출구(22)를 통하여 선택적으로 배출이 이루어지게 된다.In the dry scrubber for manufacturing a semiconductor according to the present invention configured as described above, when a gas containing dust is introduced into the
이어서, 상기 필터(23)를 통과한 가스는 레진 저장부(25) 내로 유입된 후 레진(24)과 반응하여 화학적인 성분이 중화되어진다.Subsequently, the gas passing through the
그리고, 상기 레진 저장부(25)에서 중화된 가스는 배기구(28)를 통하여 배기가 이루어지게 됨으로써 가스 중의 분진 등이 분리되는 것이다.In addition, the gas neutralized in the
한편, 상기 필터(23)를 교체하는 경우에는 볼트(26)를 해체한 후 레진 저장부(25)를 본체(20)로부터 분리하면 필터(23)의 교체가 가능케 된다.In the case of replacing the
상술한 바와 같이 본 발명에 의하면, 모터, 브러시 등의 구성을 필요로 하지 않으므로 구성이 간략화 되고 코스트가 현저하게 절감될 뿐만 아니라 필터의 손상을 방지하여 필터의 수명이 현저하게 연장되며, 필터의 필터링 효과가 향상되는 등의 여러 가지 효과가 있다.
As described above, according to the present invention, since the configuration of the motor, brush, etc. is not required, the configuration is simplified, the cost is significantly reduced, and the filter life is significantly extended by preventing the filter from being damaged. There are various effects, such as the effect being improved.
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990040059A KR100558542B1 (en) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | Dry scrubber for manufacturing semiconductor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990040059A KR100558542B1 (en) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | Dry scrubber for manufacturing semiconductor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20010028022A KR20010028022A (en) | 2001-04-06 |
KR100558542B1 true KR100558542B1 (en) | 2006-03-10 |
Family
ID=19612003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019990040059A KR100558542B1 (en) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | Dry scrubber for manufacturing semiconductor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100558542B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100905292B1 (en) * | 2002-10-16 | 2009-07-02 | 삼성전자주식회사 | Purging line of dry scrubber |
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1999
- 1999-09-17 KR KR1019990040059A patent/KR100558542B1/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20010028022A (en) | 2001-04-06 |
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