KR100548597B1 - Low Data Delay Variation in Column Selection - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부와 다수개의 메모리 셀 어레이가 순차적으로 위치하여 Y 디코더부에서 나온 다수개의 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하고 상기 다수개의 메모리 셀 어레이의 워드라인(WL)이 Y 디코더부에서 나온 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하도록 형성된 반도체 메모리 장치에 셀 어레이 선택신호(MAT)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호(MAT-X)를 상기 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부로 출력하는 셀 어레이 디코더부를 추가로 구비하여 Y셀 선택라인(YSEL)을 제어하도록 하여 서로 다른 워드라인(WL)이 선택될 때 스위칭 트렌지스터의 게이트 부하에 의하여 발생하는 데이터 출력의 변이를 최소화 할 수 있다.In the semiconductor memory device according to the present invention, a plurality of bit line sense amplifier units and a plurality of memory cell arrays are sequentially positioned to intersect a plurality of Y cell select lines YSEL from a Y decoder unit, and the plurality of memory cell arrays. A plurality of cell array coding signals MAT-X are received by receiving a cell array selection signal MAT from a semiconductor memory device formed such that a word line WL crosses a Y cell selection line YSEL from a Y decoder unit. Further comprising a cell array decoder for outputting to the bit line sense emulator part to control the Y cell select line (YSEL) to control the data output generated by the gate load of the switching transistor when different word lines (WL) are selected. Minimize mutations.

반도체 메모리 장치Semiconductor memory device

Description

반도체 메모리 장치{Low Data Delay Variation in Column Selection}Semiconductor memory device {Low Data Delay Variation in Column Selection}

도 1은 통상의 반도체 메모리 장치의 회로도.1 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device.

도 2는 도 1의 비트라인 연결부의 구체 회로도.FIG. 2 is a detailed circuit diagram of the bit line connection unit of FIG. 1. FIG.

도 3은 통상의 반도체 메모리 장치의 YSEL1의 동작 파형도.3 is an operation waveform diagram of YSEL1 of a conventional semiconductor memory device.

도 4는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 회로도.4 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.

도 5는 도 4의 비트라인 연결부의 구체 회로도.FIG. 5 is a detailed circuit diagram of the bit line connection unit of FIG. 4. FIG.

도 6은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 YSEL1의 동작 파형도.6 is an operation waveform diagram of YSEL1 of the semiconductor memory device according to the present invention;

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

WL : 워드라인(Word Line) WL: Word Line

10, 300 : 비트라인 센스 엠프리파이어부(BLSA)10, 300: bit line sense emulator part (BLSA)

20, 310 : 메모리 셀 어레이 30, 400 : Y 디코더부20, 310: memory cell array 30, 400: Y decoder section

100, 200 : 비트라인(BLT)연결부 BIT : 비트라인100, 200: Bit line (BLT) connection part BIT: Bit line

LIO : 데어터 라인 YSEL : Y셀 선택라인LIO: Data line YSEL: Y cell selection line

MAT : 셀 어레이 선택신호 MAT-X : 셀 어레이 코팅신호MAT: Cell Array Selection Signal MAT-X: Cell Array Coating Signal

STR1, STR2 : 슈미트 트리거 OR1 ∼ ORn-1 : OR게이트STR1, STR2: Schmitt trigger OR1 to ORn-1: OR gate

S1 ∼ Sn : 스위칭 트렌지스터 J1 ∼ Jn : NMOS 트렌지스터S1-Sn: Switching Transistor J1-Jn: NMOS Transistor

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 특히 반도체 셀의 집적도가 증가 할 때 생기는 데이터 전달의 지연을 효과적으로 줄일 수 있는 반도체 메모리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device that can effectively reduce the delay of data transfer that occurs when the degree of integration of a semiconductor cell increases.

일반적으로 반도체 셀의 집적도가 증가하게 되면 한 개의 컬럼 선택 라인의 저항과 캐패시턴스의 증가로 인하여 데이터 전달의 시간이 각각의 선택된 셀의 거리가 멀 경우 지연폭이 커서 전체적인 데이터 전달의 증가를 가져올 수 있다.In general, when the density of semiconductor cells is increased, the data transfer time is increased due to the increase in the resistance and capacitance of one column select line, and thus, the delay width is large when the distance of each selected cell is too long, resulting in an increase in overall data transfer. .

도 1은 통상의 반도체 메모리 장치의 회로도이고, 도 2는 도 1의 비트라인 연결부의 구체 회로도이며, 도 3은 종래 반도체 메모리 장치의 YSEL1의 동작 파형도이다. 1 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device, FIG. 2 is a detailed circuit diagram of the bit line connection unit of FIG. 1, and FIG. 3 is an operation waveform diagram of YSEL1 of a conventional semiconductor memory device.

통상의 반도체 메모리 장치는 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부(10)와 다수개의 메모리 셀 어레이(20)가 순차적으로 위치하여 Y 디코더부(30)에서 나온 다수개의 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하도록 형성되며, 또한 상기 다수개의 메모리 셀 어레이(20)이 각각의 워드라인(WL)이 Y 디코더부(30)에서 나온 다수개의 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하도록 형성된다. 이때 각각의 Y셀 선택라인(YSEL)이 담당하는 비트라인 센스 엠프리파이어부(10)의 수는 반도체 메모리 장치의 크기에 의하여 결정된다.In a conventional semiconductor memory device, a plurality of bit line sense amplifier units 10 and a plurality of memory cell arrays 20 are sequentially positioned to cross a plurality of Y cell select lines YSEL from the Y decoder unit 30. The plurality of memory cell arrays 20 are formed such that each word line WL intersects a plurality of Y cell select lines YSEL from the Y decoder unit 30. In this case, the number of bit line sense amplifier units 10 that each Y cell select line YSEL is responsible for is determined by the size of the semiconductor memory device.

상기 비트라인 센스 엠프리파이어부(10)와 Y셀 선택라인1(YSEL1)이 만나는 비트라인(BLT)연결부(100)에 위치한 다수개의 스위칭 트렌지스터(S1)는 게이트에는 Y셀 선택라인1(YSEL1)이 연결되고 소오스에는 비트라인 센스 엠프리파이어부(10)내의 각 비트라인 센스 엠프리파이어(BLSA)와 비트라인(BIT)을 통하여 연결되며 드레인은 데어터 라인(LIO)과 연결된다.A plurality of switching transistors S1 positioned at the bit line BLT connection portion 100 where the bit line sense amplifier unit 10 and the Y cell select line 1 YSEL1 meet each other may have a Y cell select line 1 (YSEL1) at a gate thereof. The bit line is connected to the source through each bit line sense amplifier (BLSA) and bit line (BIT) in the bit line sense amplifier unit 10, and the drain is connected to the data line (LIO).

상기 통상의 반도체 메모리 장치의 동작과정을 살펴보면 워드라인1(WL1)에 의하여 선택된 메모리 셀 어레이(20)의 데이터가 비트라인(BIT)에 실리게 되면 워드라인1(WL1)이 있는 메모리 셀 어레이(20)을 기준으로 위쪽과 아래쪽의 비트라인 센스 엠프리파이어부(10)에 셀 데이터가 실리게 된다. 이를 증폭하여 비트라인1(BIT-1)과 반전된 비트라인1(BITb-1)이 벌어지게 되면 센스 엠프리파이어부(10)에 있는 데이터를 데이터라인(LIO)으로 읽어 내기 위한 읽기 동작을 수행하게 된다. 이때 외부에서 읽기 신호가 들어오면 Y 디코더부(30)에서 코딩되어 Y셀 선택라인(YSELn)이 인에이블 되어 비트라인1(BIT-1)에 실린 데이터를 데이터라인(LIO)으로 읽어 내어 출력하게 된다. 즉 Y셀 선택라인1(YSEL1)이 선택되면 비트라인(BLT)연결부(100)에 위치한 다수개의 스위칭 트렌지스터(S1)를 '턴온'시켜 데이터라인1(LIO-1)에 비트라인1(BIT-1)의 데이타를 전달하게 된다. 또한 워드라인2(WL2)나 워드라인n(WLn)이 선택되어도 Y셀 선택라인1(YSEL1)에 의하여 선택된 다수개의 스위칭 트렌지스터2(S2) 또는 스위칭 트렌지스터n(Sn)를 '턴온'시켜 데이터라인2(LIO-2)에 비트라인2(BIT-2)의 데이타를 전달하거나, 데이터라인n(LIO-n)에 비트라인n(BIT-n)의 데이타를 전달하여 츨력한다. Referring to the operation of the conventional semiconductor memory device, when the data of the memory cell array 20 selected by the word line 1 WL1 is loaded on the bit line BIT, the memory cell array having the word line 1 WL1 ( Based on the reference numeral 20), cell data is loaded on the upper and lower bit line sense amplifier units 10. When the bit line 1 (BIT-1) and the inverted bit line 1 (BITb-1) are opened, the read operation is performed to read the data in the sense amplifier unit 10 to the data line LIO. Done. At this time, when a read signal is input from the outside, the Y decoder unit 30 is coded to enable the Y cell select line YSELn to read and output data contained in the bit line 1 (BIT-1) to the data line LIO. do. That is, when the Y cell select line 1 (YSEL1) is selected, the plurality of switching transistors S1 positioned at the bit line BLT connection unit 100 are 'turned on' and the bit line 1 (BIT−) is applied to the data line 1 (LIO-1). Pass the data of 1). In addition, even if word line 2 (WL2) or word line n (WLn) is selected, the plurality of switching transistors 2 (S2) or switching transistors n (Sn) selected by the Y-cell selection line 1 (YSEL1) are 'turned on' to thereby turn on the data line. The data of bit line 2 (BIT-2) is transferred to 2 (LIO-2) or the data of bit line n (BIT-n) is transferred to data line n (LIO-n).

그러나 종래의 기술에서는 워드라인1(WL1)이 선택될 때와 워드라인n(WLn)이 선택될 때의 데이터 출력의 차이는 스위칭 트렌지스터의 게이트 부하의 크기에 비례하여 늘어나게 된다. 즉, 메모리 셀의 어레이가 점점 커질수록 데이터라인(LIO)을 통하 여 출력되는 데이터를 컨트롤하기가 어려워지는 힘들게 하는 문제점을 가진다.However, in the related art, the difference between the data output when the word line 1 WL1 is selected and the word line n WLn is increased in proportion to the size of the gate load of the switching transistor. That is, as the array of memory cells grows larger, it becomes difficult to control data output through the data line LIO.

본 발명은 상술한 종래 장치의 문제점을 해결하기 위하여 안출 된 것으로서, 메모리 셀의 어레이가 점점 커지고 집적도가 높아져도 데이터라인(LIO)을 통하여 출력되는 데이터를 효과적으로 컨트롤 할 수 있는 반도체 메모리 장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the conventional device, and provides a semiconductor memory device capable of effectively controlling data output through a data line (LIO) even when an array of memory cells becomes larger and more integrated. have.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부와, 다수개의 메모리 셀 어레이와, 상기 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부 및 다수개의 메모리 셀 어레이가 순차적으로 위치하여 Y 디코더부의 출력인 다수개의 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하고 상기 다수개의 메모리 셀 어레이의 워드라인(WL)이 Y 디코더부에서 나온 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하도록 형성된 반도체 메모리 장치에 셀 어레이 선택신호(MAT)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호(MAT-X)를 상기 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부로 출력하는 셀 어레이 디코더부를 추가로 구비하여 Y셀 선택라인(YSEL)을 제어하도록 하여 서로다른 워드라인(WL)이 선택될 때 스위칭 트렌지스터의 게이트 부하에 의하여 발생하는 데이터 출력의 변이를 최소화 할 수 있는 따른 반도체 메모리 장치를 제공하는데 있다.A semiconductor memory device according to the present invention for achieving the above object is a plurality of bit line sense amplifier unit, a plurality of memory cell array, the plurality of bit line sense amplifier unit and a plurality of memory cell array are sequentially positioned To cross the plurality of Y cell selection lines YSEL that are outputs of the Y decoder unit, and the word lines WL of the plurality of memory cell arrays cross the Y cell selection line YSEL of the Y decoder unit. And a cell array decoder configured to receive a cell array selection signal MAT and output a cell array coding signal MAT-X to the plurality of bit line sense amplifier units to control the Y cell selection line YSEL. To change the output of the data generated by the gate load of the switching transistor when different word lines WL are selected. There is provided a semiconductor memory device according to digestion.

이하, 도면을 참고하여 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, a semiconductor memory device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 회로도이다.4 is a circuit diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.

본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 n개의 비트라인 센스 엠프리파이어부(300)와, n-1개의 메모리 셀 어레이(310)와, 상기 n개의 비트라인 센스 엠프리파이어부(300)와 n-1개의 메모리 셀 어레이(310)가 순차적으로 위치하여 출력되는 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하도록 한 Y 디코더부(400)와, 상기 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부(210)에 셀 어레이 선택신호(MAT)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호(MAT-X)를 상기 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부(300)로 각각 출력하는 셀 어레이 디코더부(210)를 포함한다.In the semiconductor memory device according to the present invention, n bit line sense amplifier units 300, n-1 memory cell arrays 310, and n bit line sense amplifier units 300 and n-1 units are provided. The Y decoder unit 400 having the memory cell array 310 sequentially intersects and outputs the Y cell selection line YSEL, and the plurality of bit line sense amplifier units 210 to the cell array selection signal ( And a cell array decoder 210 which receives a MAT and outputs cell array coding signals MAT-X to the plurality of bit line sense amplifier units 300, respectively.

상기 셀 어레이 디코더부(210)는 셀 어레이 선택신호1(MAT1)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호1(MAT-X1)를 출력하는 제1슈미트 트리거(STR1)와, 셀 어레이 선택신호1(MAT1)에서 셀 어레이 선택신호n(MATn)을 순차적으로 2개씩 입력받아 셀 어레이 코딩 신호2(MAT-X2)에서 셀 어레이 코딩 신호n-1(MAT-Xn-1)까지를 출력하는 제 1 OR게이트(OR1)∼제n-1 OR게이트(ORn-1)와, 셀 어레이 선택신호n (MATn)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호n(MAT-Xn)를 출력하는 제2슈미트 트리거(STR2)로 구성된다.The cell array decoder 210 receives a cell array selection signal 1 MAT1 and outputs a first Schmitt trigger STR1 for outputting a cell array coding signal 1 MAT-X1, and a cell array selection signal 1 MAT1. A first OR gate for receiving two cell array selection signals n (MATn) sequentially and outputting the cell array coding signals n-1 (MAT-Xn-1) to the cell array coding signals n-1 (MAT-Xn-1). OR1) to n-1 OR gates ORn-1 and a second Schmitt trigger STR2 that receives the cell array selection signal n (MATn) and outputs the cell array coding signal n (MAT-Xn). .

도 5는 도 4의 비트라인(BLT)연결부의 구체 회로도이다.FIG. 5 is a detailed circuit diagram illustrating the bit line (BLT) connection of FIG. 4.

상기 비트라인 센스 엠프리파이어부(300)의 비트라인(BLT)과의 연결부(200) 는 소오스는 데어터 라인(LIO) 및 Y셀 선택라인1(YSEL1)과 교차이 연결되고 드레인은 비트라인(BIT)하여 연결된 다수개의 스위칭 트렌지스터(S1)와, The source 200 is connected to the bit line BLT of the bit line sense amplifier unit 300 by crossing the data line with the data line LIO and the Y cell select line 1 YSEL1, and the drain is the bit line BIT. A plurality of switching transistors S1 connected to each other,

소오스에는 Y셀 선택라인1(YSEL1)이 연결되고 게이트에는 셀 어레이 코딩 신호1(MAT-X1)가 인가되고 드레인은 상기 다수개의 스위칭 트렌지스터(S1)의 게이 트와 각각 연결한 다수개의 NMOS트렌지스터1(J1)를 포함한다.Y cell select line 1 (YSEL1) is connected to the source, cell array coding signal 1 (MAT-X1) is applied to the gate, and a plurality of NMOS transistors 1 are respectively connected to the gates of the plurality of switching transistors S1. (J1).

또한 셀 어레이 코딩 신호1(MAT-X1)의 전압레벨은 Y셀 선택라인1(YSEL1)보다 높은 NMOS트렌지스터의 Threshold 전압 이상의 레벨로 인가하고, NMOS트렌지스터1(J1)의 크기는 스위칭 트렌지스터(S1)의 1/3정도의 크기로 형성한다.In addition, the voltage level of the cell array coding signal 1 (MAT-X1) is applied at a level equal to or higher than the threshold voltage of the NMOS transistor higher than the Y cell select line 1 (YSEL1), and the size of the NMOS transistor 1 (J1) is the switching transistor S1. Form about 1/3 of the size.

도 6은 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 YSEL1의 동작 파형도이다.6 is an operational waveform diagram of YSEL1 of the semiconductor memory device according to the present invention.

본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 동작과정을 살펴보면 다음과 같다. 워드라인1(WL1)에 의하여 선택된 메모리 셀 어레이(310)의 데이터가 비트라인(BIT)에 실리게 되면 워드라인1(WL1)이 있는 메모리 셀 어레이(310)을 기준으로 위쪽과 아래쪽의 비트라인 센스 엠프리파이어부(300)에 셀 데이터가 실려 증폭되어 저장된다. 그리고 비트라인1(BIT-1)과 반전된 비트라인1(BITb-1)이 벌어지게 되면 센스 엠프리파이어부(300)에 있는 데이터를 데이터라인(LIO)으로 읽어 내기 위한 읽기 동작을 수행하게 된다. 이때, 하나의 메모리 셀 어레이(310)를 선택하는 셀 어레이 선택신호1(MAT1)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호1(MAT-X1)과 셀 어레이 코딩 신호2 (MAT-X2)만이 인에이블된다. 상기 셀 어레이 코딩 신호1(MAT-X1)와 셀 어레이 코딩 신호2(MAT-X2)에 의하여 다수개의 NMOS트렌지스터1(J1)과, 다수개의 NMOS트렌지스터2(J2)는 '턴온'된다. An operation process of the semiconductor memory device according to the present invention is as follows. When data of the memory cell array 310 selected by the word line 1 WL1 is loaded on the bit line BIT, the upper and lower bit lines based on the memory cell array 310 having the word line 1 WL1. Cell data is loaded onto the sense amplifier unit 300 to be amplified and stored. When the bit line 1 (BIT-1) and the inverted bit line 1 (BITb-1) are opened, a read operation for reading data in the sense amplifier unit 300 to the data line LIO is performed. . In this case, only the cell array coding signal 1 MAT-X1 and the cell array coding signal 2 MAT-X2 are enabled by receiving the cell array selection signal 1 MAT1 for selecting one memory cell array 310. The NMOS transistors 1 J1 and the NMOS transistors 2 J2 are 'turned on' by the cell array coding signal 1 (MAT-X1) and the cell array coding signal 2 (MAT-X2).

다음 외부에서 읽기 신호가 들어와 Y셀 선택라인1(YSEL1)이 선택되면 비트라인(BLT)연결부(200)에 위치한 다수개의 스위칭 트렌지스터(S1)를 '턴온'시켜 데이터라인1(LIO-1)에 비트라인1(BIT-1)의 데이타를 전달하게 된다. Y셀 선택라인1(YSEL1)은 다수개의 NMOS트렌지스터3(J3)에서 다수개의 NMOS트렌지스터n(Jn)까지의 부하만을 가지게 된다. 즉 스위칭트렌지스터(S)보다 NMOS트렌지스터(J)는 크기가 1/3만큼 작게 형성되어 크기의 제곱에 비례하는 만큼(1/9)의 부하가 줄어들게 되어 부하증가에 의해 발생되는 Y셀 선택라인(YSEL)의 지연에 의한 데이터의 변이가 줄어들게 된다.Next, when a read signal is input from the outside and the Y cell selection line 1 (YSEL1) is selected, the plurality of switching transistors S1 positioned at the bit line BLT connection unit 200 are 'turned on' to the data line 1 (LIO-1). The data of bit line 1 (BIT-1) is transferred. The Y cell select line 1 (YSEL1) has only a load from the plurality of NMOS transistors 3 J3 to the plurality of NMOS transistors n (Jn). That is, the NMOS transistor J is smaller than the switching transistor S by one-third in size, so that the load of the NMOS transistor is reduced as much as (1/9) in proportion to the square of the size. The variation of data due to the delay of YSEL) is reduced.

따라서, 본 발명은 컬럼 쪽으로 셀 어레이가 증가하여도 Y셀 선택라인(YSEL)의 지연에 의한 데이터 변이를 최소화하고 출력속도를 개선하는 효과를 갖는다.Therefore, the present invention has the effect of minimizing data variation due to delay of the Y cell select line YSEL and improving the output speed even when the cell array increases toward the column.

Claims (4)

다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부와 다수개의 메모리 셀 어레이가 순차적으로 위치하여 Y 디코더부에서 나온 다수개의 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하고 상기 다수개의 메모리 셀 어레이의 워드라인(WL)이 Y 디코더부에서 나온 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차하도록 형성된 반도체 메모리 장치에 있어서,A plurality of bit line sense amplifier units and a plurality of memory cell arrays are sequentially positioned to cross the plurality of Y cell select lines YSEL from the Y decoder unit, and the word lines WL of the plurality of memory cell arrays are Y. In the semiconductor memory device formed to intersect the Y cell select line (YSEL) from the decoder unit, 셀 어레이 선택신호(MAT)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호(MAT-X)를 비트라인 연결부를 통해 상기 다수개의 비트라인 센스 엠프리파이어부로 출력하는 셀 어레이 디코더부를 추가로 구비하여 Y셀 선택라인(YSEL)을 제어하도록 한 것이 특징인 반도체 메모리 장치.A cell array decoder unit for receiving a cell array selection signal MAT and outputting a cell array coding signal MAT-X to the plurality of bit line sense amplifiers through a bit line connection unit is further provided. Semiconductor memory device characterized in that the control. 청구항 1에 있어서, 상기 셀 어레이 디코더부는 The method of claim 1, wherein the cell array decoder unit 셀 어레이 선택신호1(MAT1)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호1(MAT-X1)를 출력하는 제1슈미트 트리거(STR1)과, A first Schmitt trigger STR1 for receiving the cell array selection signal 1 MAT1 and outputting the cell array coding signal 1 MAT-X1; 셀 어레이 선택신호1(MAT1)에서 셀 어레이 선택신호n(MATn)을 순차적으로 2개씩 입력받아 셀 어레이 코딩 신호2(MAT-X2)에서 셀 어레이 코딩 신호n-1(MAT-Xn-1)까지를 출력하는 제 1 OR게이트(OR1)∼제n-1 OR게이트(ORn-1)와, Two cell array selection signals n (MATn) are sequentially input from the cell array selection signal 1 (MAT1) to the cell array coding signals 2 (MAT-X2) to cell array coding signals n-1 (MAT-Xn-1). First OR gate OR1 to n-1 OR gates ORn-1 for outputting 셀 어레이 선택신호n(MATn)를 입력받아 셀 어레이 코딩 신호n(MAT-Xn)를 출력하는 제2슈미트 트리거(STR2)로 구성된 것이 특징인 반도체 메모리 장치.And a second Schmitt trigger (STR2) for receiving the cell array selection signal n (MATn) and outputting the cell array coding signal n (MAT-Xn). 청구항 1에 있어서, 상기 비트라인 연결부는 The method of claim 1, wherein the bit line connection unit 소오스는 데어터 라인(LIO) 및 Y셀 선택라인(YSEL)과 교차이 연결되고 드레인은 비트라인(BIT)하여 연결된 다수개의 스위칭 트렌지스터와,The source is connected to the data line (LIO) and the Y cell select line (YSEL) cross-connected, the drain is a bit line (BIT) and a plurality of switching transistors, 소오스에는 Y셀 선택라인(YSE1)이 연결되고 게이트에는 셀 어레이 코딩 신호(MAT-X)가 인가되고 드레인은 상기 다수개의 스위칭 트렌지스터의 게이트와 각각 연결한 다수개의 NMOS트렌지스터를 포함하여 구성된 것이 특징인 반도체 메모리 장치.The Y cell select line YSE1 is connected to the source, the cell array coding signal MAT-X is applied to the gate, and the drain includes a plurality of NMOS transistors connected to the gates of the plurality of switching transistors, respectively. Semiconductor memory device. 청구항 3에 있어서, 상기 다수개의 NMOS트렌지스터는The method of claim 3, wherein the plurality of NMOS transistors 스위칭 트렌지스터의 1/3정도의 크기로 형성하는 것이 특징인 반도체 메모리 장치.A semiconductor memory device characterized in that formed about one third the size of the switching transistor.
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