KR100544655B1 - Apparatus for controlling the input of chemicals to control the ph of nickel plating solution - Google Patents

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Abstract

본 발명은 니켈 도금용액의 pH를 조정하기 위하여 투입하는 탄산니켈(NiCO3)을 pH 목표치(pH=5.5)에 정확히 조절하기 위한 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치에 관한 것이다. 이를 위하여, 본 발명은 구동모터(101) 및 이와 구동가능하도록 연결되는 메인 샤프트(307)로 이루어지는 장치 구동부(100)와, 상기 메인 샤프트(307)의 상부에 회전가능하도록 체결되는 믹싱 스커트(313) 및 계단형의 매싱 로터(312)와, 이들을 수용하는 매싱 챔버(316)의 좌우 내측면에 고정된 스크레퍼(319,321)로 이루어지는 약품 제어공급부(200)와, 상기 매싱 챔버(316)의 상부에 고정되는 저장호퍼(106)에서 상기 메인 샤프트(307)의 상단부에 고정되는 믹싱바(401)로 이루어지는 약품 혼합공급부(300)로 구성되는 것을 특징으로 하는 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치를 제공한다. 이와 같이, 본 발명은 니켈 도금용액의 pH의 영향으로 발생되는 니켈도금 밀착성 저하 및 니켈 전착방해로 도금효율이 떨어지는 문제점을 방지하여 표면품질이 우수한 니켈 플래시 도금강판을 제조함으로써 탄산니켈 투입량의 자동화 및 정합성 향상으로 도금품질 향상의 효과가 있다.The present invention relates to an automatic chemical injection device for adjusting the pH of the nickel plating solution for precisely adjusting the nickel carbonate (NiCO 3 ) to be adjusted to adjust the pH of the nickel plating solution to the pH target value (pH = 5.5). To this end, the present invention is the driving device 101 and the drive unit 100 consisting of a main shaft 307 connected to the drive and the mixing skirt 313 is rotatably fastened to the upper portion of the main shaft 307. And a stepped massing rotor 312, a chemical control supply unit 200 formed of scrapers 319 and 321 fixed to left and right inner surfaces of the massing chamber 316 for accommodating them, and an upper portion of the massing chamber 316. Chemical dosage amount automatic for adjusting the pH of the nickel plating solution, characterized in that consisting of the chemical mixing supply unit 300 consisting of a mixing bar 401 fixed to the upper end of the main shaft 307 in the storage hopper 106 is fixed Provide a regulator. As such, the present invention prevents the problem of lowering the plating efficiency due to the decrease in nickel plating adhesion caused by the effect of the pH of the nickel plating solution and the reduction of the electrodeposition of nickel. Improved matching has the effect of improving plating quality.

니켈도금, 냉연강판, pH, 매싱로터, 스크레퍼, 믹싱스커트Nickel Plating, Cold Rolled Steel, pH, Massing Rotor, Scraper, Mixing Skirt

Description

니켈도금 용액의 페하 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치{APPARATUS FOR CONTROLLING THE INPUT OF CHEMICALS TO CONTROL THE PH OF NICKEL PLATING SOLUTION}FIELD OF CONTROLLING THE INPUT OF CHEMICALS TO CONTROL THE PH OF NICKEL PLATING SOLUTION}

도 1은 종래의 약품투입장치를 개략적으로 도시한 개략도;1 is a schematic diagram schematically showing a conventional medicine injection device;

도 2는 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 사시도;Figure 2 is a perspective view of the drug dosage automatic adjustment device for pH adjustment of the nickel plating solution according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 구성을 도시한 단면도;Figure 3 is a cross-sectional view showing the configuration of the chemical injection amount automatic control device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 상세 구성도;Figure 4 is a detailed configuration of the chemical injection amount automatic control device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention;

도 5는 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 분해 사시도;Figure 5 is an exploded perspective view of the drug dosage automatic control device for pH adjustment of the nickel plating solution according to the present invention;

도 6은 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 작동 상태도;Figure 6 is an operating state diagram of the chemical dosing automatic control device for pH adjustment of the nickel plating solution according to the present invention;

도 7은 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 공정흐름도이다.Figure 7 is a process flow chart of the chemical injection amount automatic control device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention.

♣도면의 주요부분에 대한 부호의 설명♣♣ Explanation of symbols for main part of drawing ♣

301:구동 케이스, 101:구동모터, 304:모터 스프라켓, 305:구동체인301: drive case, 101: drive motor, 304: motor sprocket, 305: drive chain

306:샤프트 스프라켓, 308a:상부 볼베어링, 308b:하부 볼베어링
307:메인 샤프트, 100:장치 구동부, 307:메인 샤프트, 313:믹싱 스커트
306: shaft sprocket, 308a: upper ball bearing, 308b: lower ball bearing
307: main shaft, 100: drive unit, 307: main shaft, 313: mixing skirt

삭제delete

312:매싱 로터, 316:매싱 챔버, 319,321:스크레퍼, 107:슈트
200:약품 제어공급부, 106:저장호퍼, 401:믹싱바
312: mashing rotor, 316: mashing chamber, 319,321: scraper, 107: chute
200: chemical control unit, 106: storage hopper, 401: mixing bar

삭제delete

300:약품 혼합공급부300: chemical mixing supply unit

본 발명은 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 냉연강판의 길이 및 폭방향에 균일하게 니켈을 도금시킬 수 있도록 니켈 도금용액의 pH를 조정하기 위하여 투입하는 탄산니켈(NiCO3)을 pH 목표치(pH=5.5)에 정확히 조절하기 위한 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical injection amount automatic control device for adjusting the pH of the nickel plating solution, and more particularly, to adjust the pH of the nickel plating solution to uniformly plate the nickel in the length and width direction of the cold-rolled steel sheet It relates to a chemical dosage automatic control device for adjusting the pH of the nickel plating solution to accurately adjust the nickel carbonate (NiCO 3 ) to the pH target value (pH = 5.5).

특히, pH가 하락하는 경우 탄산니켈을 자동으로 투입하여 항상 일정한 pH를 유지하도록 하여 pH의 영향으로 발생되는 니켈도금 밀착성 저하 및 니켈 전착방해로 도금효율이 떨어지는 문제점을 방지하여 표면품질이 우수한 니켈 플래시 도금강판 제조하기 위한 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치이다.In particular, when the pH drops, nickel carbonate is automatically added to maintain a constant pH at all times to prevent nickel plating adhesion caused by the effect of pH and to prevent the plating efficiency from falling due to nickel electrodeposition. It is a chemical input amount automatic control device for adjusting pH of nickel plating solution for manufacturing plated steel sheet.

일반적으로, 냉연강판 제조시 높은 온도(780∼850℃)로 스트립을 가열하여 소둔작업을 행하고 스트립을 물로 냉각(수냉)을 행하게 되는데 수냉 작업시에 스트 립의 표면에는 산화 피막이 형성되어 색상이 흑색 및 암청색으로 변화하게된다.In general, in the production of cold rolled steel sheet, the strip is heated to a high temperature (780 to 850 ° C.) to perform annealing, and the strip is cooled with water (water cooling). During the water cooling operation, an oxide film is formed on the surface of the strip to make the color black. And dark blue.

따라서, 수냉작업으로 인하여 발생된 산화피막을 제거하기 위하여 소둔로 출구에 설치된 후처리공정에서 스트립표면에 발생된 산화 피막을 염산 혹은 황산 수용액을 이용하여 표면을 산세 처리를 행하여 표면의 산화 피막을 제거하며, 연속소둔 후 스트립을 산세처리하게 되면 스트립의 표면에 존재하는 인산처리 염성에 좋은 영향을 주는 인(P)이나 망간(Mn)등이 산세작업에 의하여 제거되기 때문에 스트립에 인산염 처리를 하게되면 인산염 결정이 조대해지는 문제점이 발생된다.Therefore, in order to remove the oxide film generated by the water cooling operation, the oxide film generated on the surface of the strip is pickled by hydrochloric acid or sulfuric acid solution in the post-treatment process installed at the exit of the annealing furnace to remove the surface oxide film. If the strip is pickled after continuous annealing, the phosphorus (P) or manganese (Mn), which have a good effect on the phosphate salts present on the surface of the strip, are removed by pickling, The problem of coarsening phosphate crystals arises.

따라서, 스트립을 산세 후에 스트립의 인산 염 처리성 및 도장성을 향상시킬 목적으로 스트립의 표면에 소량의 니켈도금을 실시하게 된다.Therefore, after pickling the strip, a small amount of nickel plating is applied to the surface of the strip for the purpose of improving the phosphate treatability and paintability of the strip.

강판 표면에 니켈 플래시도금을 하게 되면 냉연강판 표면에 얇은 니켈층을 형성하여 후공정인 인산염 처리공정에서 니켈 도금층이 인산염 핵생성 사이트(Site)로 작용하여 핵생성을 촉진, 인산염 결정이 미세해지며 인산염결정이 미세할수록 후공정인 도장처리시 도장 밀착성이 우수해진다.Nickel flash plating on the surface of the steel sheet forms a thin nickel layer on the surface of the cold rolled steel sheet. In the subsequent phosphate treatment process, the nickel plating layer acts as a phosphate nucleation site (Site) to promote nucleation, resulting in fine phosphate crystals. The finer the phosphate crystal, the better the coating adhesion during the post-process coating.

상기의 효과를 얻기 위해서는 니켈 도금액의 pH의 관리가 중요하며 니켈도금시 pH의 관리는 통상 5.2로 유지되도록 관리하고 있다.In order to achieve the above effect, it is important to manage the pH of the nickel plating solution, and the management of the pH during nickel plating is usually maintained at 5.2.

pH가 5.2보다 낮게되면 상대적으로 부 반응물인 수소가 발생하며 또한 전압이 감소하는 현상이 발생하여 니켈도금보다는 수소환원 반응이 증가하여 도금 밀착성이 떨어지고 pH가 높게되면 스트립 표면에 니켈 수산화물이 형성되어 니켈전착을 방해하여 도금 효율이 떨어지는 문제점이 발생된다.When the pH is lower than 5.2, hydrogen, which is a relatively negative reactant, is generated, and the voltage decreases. Therefore, the hydrogen reduction reaction is increased rather than nickel plating, resulting in poor plating adhesion. When the pH is high, nickel hydroxide is formed on the surface of the strip. Interfering with electrodeposition causes a problem of low plating efficiency.

그러므로, pH관리는 제품의 표면 품질관리에 중요한 요소로 작용하기 때문에 pH의 관리는 탄산니켈을 저수조 탱크내에 일정량을 투입하여 pH 를 관리하게 되는데, 투입 작업시 정합성의 문제가 작용하여 pH 관리불량으로 품질저하의 요인이 되어 본 발명을 고안하게 되었다.Therefore, since pH control plays an important factor in the surface quality control of the product, the pH management is to manage the pH by adding a certain amount of nickel carbonate into the tank of the reservoir tank. The factor of quality deterioration has led to the invention.

공지된 약품투입기술을 살펴보면, 1996년 대한민국 실용신안공개 제22567호에 개시된 "응집 제약품 투입장치"는 분말 형태의 응집 제약품을 부유시켜 압축공기를 이용, 용해탱크 내부로 주입시키는 장치이고, 1997년 대한민국 실용신안공개 제10651호에 개시된 "부유 밸브를 설치한 약품투입 장치" 및 1997년 실용신안출원 제21069호에 개시된 "계량 용기형 자동 약품 투입장치" 등이 개시되어 있으나, pH(산성도)에 따른 탄산니켈 투입양의 제어가 불가하다.Looking at the known drug injection technology, the "agglomeration pharmaceutical input device" disclosed in the Republic of Korea Utility Model Publication No. 22567 in 1996 is a device for injecting agglomerated pharmaceutical products in the form of powder floating in the dissolution tank using compressed air, 1997 "Drug injection device equipped with floating valve" disclosed in Korean Utility Model Publication No. 10651 and "Measurement container type automatic chemical injection device" disclosed in Utility Model Application No. 21069 in 1997, but the pH (acidity) It is not possible to control the amount of nickel carbonate input.

즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 분말약품투입장치는 분말약품을 투입하기 위하여 에어모터(1)에 의한 구동력으로 스크류(2)를 회전시켜 약품(3)을 탱크(4)에 투입하는 장치로서, 약품(3)이 탱크(4) 내에서 희석될 때까지 시간이 소요되어 정확한 약품 투입량의 제어가 불가한 문제점이 있다.That is, as shown in Figure 1, the conventional powder chemical input device to rotate the screw (2) by the driving force by the air motor (1) in order to inject the powdered chemicals 3 into the tank (4) As a device to take the medicine 3 takes a long time to be diluted in the tank 4, there is a problem that the precise control of the chemical input amount is impossible.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 냉연강판의 길이 및 폭방향에 균일하게 니켈을 도금시킬 수 있도록 니켈 도금용액의 pH를 조정하기 위하여 투입하는 탄산니켈(NiCO3)을 pH 목표치(pH=5.5)에 정확히 조절하기 위한 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치를 제공하는데 그 목적이 있다.In order to solve the above problems, the present invention is a nickel carbonate (NiCO 3 ) to be added to adjust the pH of the nickel plating solution to uniformly plate the nickel in the length and width direction of the cold rolled steel sheet pH target value (pH It is an object of the present invention to provide an automatic dose adjustment device for adjusting the pH of the nickel plating solution to precisely control the surface of the coating plate.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 구동 케이스(301)의 상부면에 하향고정된 구동모터(101)와 축결합된 모터 스프라켓(304)과, 이와 구동체인(305)으로 연결된 샤프트 스프라켓(306)에 축결합하여 회전하도록 상부 및 하부 볼베어링(308a,308b)이 삽입된 메인 샤프트(307)로 이루어지는 장치 구동부(100); 상기 장치 구동부(100)를 구성하는 상기 메인 샤프트(307)의 상부에 회전가능하도록 체결되는 믹싱 스커트(313)와, 이의 하부면에 체결되어 회전하되, 외측 직경(D1) 및 상기 외측 직경(D1) 보다 작은 내측 직경(D2)을 갖고 상기 외측 직경(D1) 및 상기 내측 직경(D2)에 의하여 회전당 약품공급량이 결정되는 계단형의 매싱 로터(312)와, 상기 믹싱 스커트(313) 및 상기 매싱 로터(312)를 수용하는 매싱 챔버(316)의 좌우 내측면에 고정된 스크레퍼(319,321)로 이루어져 일측 하방에 설치된 약품공급 슈트(107)로 약품을 공급하는 약품 제어공급부(200); 및, 상기 약품 제어공급부(200)를 구성하는 상기 매싱 챔버(316)의 상부에 고정되는 저장호퍼(106)와, 상기 장치 구동부(100)의 상기 메인 샤프트(307)의 상단부에 회전가능하도록 고정되는 믹싱바(401)로 이루어지는 약품 혼합공급부(300)로 구성되는 것을 특징으로 하는 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is a motor sprocket 304 and the shaft sprocket axially coupled with the drive motor 101 is fixed to the upper surface of the drive case 301, and the drive chain 305 An apparatus drive unit (100) comprising a main shaft (307) into which upper and lower ball bearings (308a, 308b) are inserted to axially rotate to 306; The mixing skirt 313 is rotatably fastened to the upper portion of the main shaft 307 constituting the device driving unit 100, and is coupled to the lower surface thereof to rotate, the outer diameter (D 1 ) and the outer diameter ( D 1) has an inner diameter (D 2) smaller than the outer diameter (D 1) and the inner diameter (D 2) and the rotation drug supply is maesing rotor 312 of the step-like, which is determined by the mixing skirt 313 and a chemical control supply unit for supplying medicine to the medicine supply chute 107 installed at one side consisting of scrapers 319 and 321 fixed to the left and right inner surfaces of the massing chamber 316 accommodating the massing rotor 312 ( 200); And a storage hopper 106 fixed to an upper portion of the massing chamber 316 constituting the chemical control supply unit 200 and rotatably fixed to an upper end of the main shaft 307 of the device driving unit 100. It provides a chemical input amount automatic control device for adjusting the pH of the nickel plating solution, characterized in that consisting of the chemical mixing supply unit 300 consisting of a mixing bar 401.

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 구성을 도시한 단면도이며, 도 4는 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 상세 구성도이며, 도 5는 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 분해 사시도이다.Figure 2 is a perspective view of the chemical dosage automatic adjustment device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention, Figure 3 is a cross-sectional view showing the configuration of the automatic chemical dosage input device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention 4 is a detailed configuration diagram of a chemical dosage automatic adjustment device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention, Figure 5 is a decomposition of the automatic chemical dosage input device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention Perspective view.

본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 장치 구동부(100)는 주 베이스(102)가 작업장 바닥에 볼트로 고정되고 주 베이스(102) 상부에 구동 케이스(301)와 본체 받침대(302)가 주 베이스(102)에 볼트로 고정되어 안착되고 구동모터(101)가 구동 케이스(301)에 모터베이스(103)에 안착되어 볼트로 고정되며 모터 베이스(103)의 이동을 위해 이동용 볼트(303)가 구동 케이스(301)에 장착되며, 이의 내부로 구동모터(101)의 샤프트가 삽입되어 모터 스프라켓(304)이 연결되어진다.Apparatus driving unit 100 of the automatic chemical dosing device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention is the main base 102 is bolted to the floor of the workplace and the drive case 301 and the main base 102 above The main body support 302 is bolted to the main base 102 and seated, and the drive motor 101 is seated on the motor base 103 to the drive case 301 to be bolted to fix the movement of the motor base 103. The moving bolt 303 is mounted to the driving case 301, and the shaft of the driving motor 101 is inserted into the driving bolt 303 so that the motor sprocket 304 is connected thereto.

상기 모터 스프라켓(304)에는 구동체인(305)이 연결되어 설비본체의 사프트 스프라켓(306)이 연결되어 회전력을 전달하며, 샤프트 스프라켓(306)은 메인 샤프트(307) 하부에 볼트로 고정되어 연결되어지며, 상기 메인 샤프트(307)의 중간에는 상부 볼베어링(308a)과 하부 볼베어링(308b)이 삽입되며, 이의 상하부에는 실링 패킹재(309)가 안착된다.The drive sprocket 305 is connected to the motor sprocket 304 so that the shaft sprocket 306 of the facility body is connected to transmit the rotational force, and the shaft sprocket 306 is fixed to the lower part of the main shaft 307 by bolts. An upper ball bearing 308a and a lower ball bearing 308b are inserted in the middle of the main shaft 307, and a sealing packing material 309 is mounted on upper and lower portions thereof.

상기 볼베어링들(308a,308b)은 베어링 케이스(310)에 장착되고, 하부 볼베어링(308b)의 하부 원통지지대(311)가 설치되어 베어링 케이스(310)를 지지하게 되며, 상기 볼베어링들(308a,308b) 중앙으로 메인 샤프트(307)가 삽입되고, 원통모양의 메인 샤프트(307)의 하부 보호커버(104)가 주 베이스(102)의 상부면에 안착되어 볼트고정된다.The ball bearings 308a and 308b are mounted to the bearing case 310, and the lower cylindrical support 311 of the lower ball bearing 308b is installed to support the bearing case 310, and the ball bearings 308a and 308b are provided. The main shaft 307 is inserted into the center, and the lower protective cover 104 of the cylindrical main shaft 307 is seated on the upper surface of the main base 102 and bolted thereto.

상기와 같이 구성된 장치 구동부(100)에 의해서 구동하는 본 발명에 따른 약품 제어공급부(200)는 상기 하부 보호커버(104) 상부에 중간 보호커버(105)가 볼트로 연결되어 안착되며, 상기 메인 샤프트(307) 상부에 매싱 로터(Mashing Rotor; 312)가 볼트로 메인 샤프트(307)와 연결되며, 상기 매싱 로터(312)의 상부에는 판형 믹싱스커트(Mixing Skirt; 313)가 상기 매싱 로터(312)의 상부면에 볼트로 연결되어지며, 상기 메인 샤프트(307)보다 원통의 지름을 적정 크기로 크게 하여 회전수를 달리하도록 구성된다.The drug control supply unit 200 according to the present invention driven by the apparatus driving unit 100 configured as described above is seated by connecting the intermediate protective cover 105 to the upper portion of the lower protective cover 104, the main shaft A mashing rotor 312 is connected to the main shaft 307 with bolts, and a plate-shaped mixing skirt 313 is provided on the mashing rotor 312. It is connected to the upper surface of the bolt, it is configured to vary the number of revolutions by increasing the diameter of the cylinder to an appropriate size than the main shaft 307.

상기 상부 볼베어링(308a)의 상부에는 상부 원통지지대(314)를 연결하여 상부에 원판모양의 매싱 로터(312)의 지지판(315)을 용접하여 연결하며, 상기 상부 원통지지대(314) 상부에 매싱 로터(312)를 안착하고, 메인 샤프트(307)의 상부면에 볼트체결하며, 중간 보호커버(105)의 상부면에 매싱 챔버(316)를 볼트고정하여 연결 후, 상기 매싱 챔버(316)의 상부면에 약품 저장호퍼(106)를 볼트연결하여 고정시킨다.An upper cylindrical support 314 is connected to an upper portion of the upper ball bearing 308a to connect and weld a support plate 315 of a disk-shaped massing rotor 312 to the upper portion, and an upper mass support rotor to the upper cylindrical support 314. 312 is seated, bolted to the upper surface of the main shaft 307, and bolted to connect the massing chamber 316 to the upper surface of the intermediate protective cover 105, the upper portion of the massing chamber 316 The chemical storage hopper 106 is bolted to the surface and fixed.

상기와 같이 구성되는 약품 제어공급부(200)의 상부면에는 약품 혼합공급부(300)가 구성되는데, 이를 구성하는 상기 약품 저장호퍼(106)의 중앙부는 홀이 가공되어 있으며, 홀에는 믹싱 샤프트(317)가 삽입되며, 상기 약품 저장호퍼(106) 상부에는 상부 플레이트(318)가 볼트체결되어 안착되며, 저장호퍼(106)의 중앙부는 믹싱 샤프트(317)가 관통될 수 있도록 홀이 가공되어 있으며, 상기 믹싱 샤프트(317) 상부면에 고깔모양의 콘(320)이 장착되어져 있다.The upper surface of the chemical control supply unit 200 is configured as described above, the chemical mixing supply unit 300 is configured, the central portion of the chemical storage hopper 106 constituting the hole is processed, the mixing shaft 317 in the hole ) Is inserted into the upper portion of the chemical storage hopper 106, the upper plate 318 is bolted to be seated, the central portion of the storage hopper 106 is a hole is processed so that the mixing shaft 317 can pass through, The cone-shaped cone 320 is mounted on the upper surface of the mixing shaft 317.

상기와 같이 구성된 약품 혼합공급부(300)의 약품 저장호퍼(106)로부터 약품이 배출되면 약품 제어공급부(200)를 구성하는 매싱 챔버(316)의 일측의 내부에 고정된 스크레퍼(319)가 매싱 로터(312)의 회전에 의해서 매싱 챔버(316) 내에 약품이 일정량의 레벨이 되도록 약품을 깎아낸다.When the drug is discharged from the chemical storage hopper 106 of the chemical mixing supply unit 300 configured as described above, a scraper 319 fixed inside one side of the massing chamber 316 constituting the chemical control supply unit 200 is a massing rotor. By rotating the 312, the chemical is scraped off so that the chemical is in a certain amount of level in the massing chamber 316.

또한, 상기 매싱 챔버(316)의 한쪽 면에 다른 하나의 스크레퍼(321)가 설치되어, 매싱 로터(312)가 회전하여 운반한 약품을 슈트(107)로 운반하는 역할을 행한다.In addition, another scraper 321 is provided on one surface of the massing chamber 316, and the massing rotor 312 rotates to transport the chemicals transported to the chute 107.

상기와 같이 구성된 본 발명의 작용에 관하여 상세하게 설명한다.The operation of the present invention configured as described above will be described in detail.

도 6은 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 작동 상태도이고, 도 7은 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치의 공정흐름도이다.Figure 6 is an operating state diagram of the chemical dosing amount automatic adjustment device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention, Figure 7 is a process flow diagram of the automatic chemical dosing amount adjustment device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the invention.

도 6 내지 도 7에 도시된 바와 같이, pH 검출기(601)에서 pH를 검출하여 항상 일정한 pH 치로 유지되도록 본 약품 투입장치를 통하여 제어된다.As shown in FIGS. 6 to 7, the pH is detected by the pH detector 601 and controlled through the medicine input device so that the pH is always maintained at a constant pH value.

즉, 본 발명에 따른 약품투입장치의 장치구조의 작용에 대하여 설명하면 도금액 저수조(603)에 설치되어 있는 pH 검출기(601)에서의 pH 하한치(5.0 이하)에서 작동되며, pH제어 스타트 신호에 의하여 본 발명에 따른 약품투입장치의 구동모터(101)가 작동되고 샤프트에 연결된 모터 스프라켓(304)에 동력이 전달되어 구동체인(305)에 의하여 약품투입장치의 본체에 연결된 샤프트 스프라켓(306)에 전달된다.In other words, the operation of the device structure of the chemical injection device according to the present invention will be described at the pH lower limit (5.0 or less) in the pH detector 601 installed in the plating liquid reservoir 603, by the pH control start signal The drive motor 101 of the drug injection device according to the present invention is operated and the power is transmitted to the motor sprocket 304 connected to the shaft is transmitted to the shaft sprocket 306 connected to the main body of the drug injection device by the drive chain 305. do.

상기 전달된 동력은 메인 샤프트(307)를 회전시키며, 메인 샤프트(307)에 연결된 믹싱 샤프트(317)가 동시에 회전하여 저장호퍼(106)에 저장되어있는 약품을 믹싱바(401)가 회전하여 저장호퍼(106) 하부에 설치된 원형의 홀(402)을 통하여 약품이 하부의 매싱 로터(312)에 공급된다.The transmitted power rotates the main shaft 307, and the mixing bar 401 rotates and stores the medicine stored in the storage hopper 106 by simultaneously rotating the mixing shaft 317 connected to the main shaft 307. The medicine is supplied to the lower massing rotor 312 through a circular hole 402 installed below the hopper 106.

상기 공급된 약품은 믹싱 샤프트(317)와 매싱 챔버(316)의 측면에 설치된 스크레퍼(319) 및 매싱 로터(312)에 일정량으로 유지된다.The supplied medicine is held in a fixed amount in the scraper 319 and the massing rotor 312 provided on the side of the mixing shaft 317 and the massing chamber 316.

상기 매싱 로터(312)에 일정레벨의 양으로 조정되어 공급된 약품은 매싱 로터(312)의 회전으로 약품이 슈트(107)로 이송되며 이송된 약품은 스크레퍼(321)에 의하여 슈트(107)로 약품이 공급되며, 슈트(107)에 공급된 약품(탄산니켈)은 저장탱크에 투입되어 pH를 일정 값으로 제어하게 된다.The chemicals supplied to the massing rotor 312 by being adjusted to a predetermined level are supplied to the chute 107 by the rotation of the massing rotor 312, and the chemicals transferred to the chute 107 by the scraper 321. The medicine is supplied, the medicine (nickel carbonate) supplied to the chute 107 is put into the storage tank to control the pH to a certain value.

보다 상세하게 상기 매싱 로터(312) 및 약품 공급량의 결정에 대하여 살펴보면, pH를 원하는 수치로 제어하기 위해서는 매싱 로터(312)에 공급되는 량을 항상 일정하게 유지할 필요가 있으므로 매싱 로터(312)의 직경의 결정과 구동모터(101)의 회전에 의한 약품의 공급량의 결정이 선행되어야한다.Looking at the determination of the massing rotor 312 and the chemical supply amount in more detail, in order to control the pH to a desired value it is necessary to constantly maintain the amount supplied to the massing rotor 312 diameter of the massing rotor 312 Determination of the supply amount of the chemical by the determination of the rotation of the drive motor 101 should be preceded.

즉, 본 발명은 설비 특성상 pH를 5.0에서 5.5로 관리하여 스트립에 니켈도금층을 형성하는 설비로써 매싱 로터(312)의 직경의 결정은 매싱 로터(312)의 회전당 약품(탄산니켈)이 0.5m3가 공급될 수 있도록 다음의 계산에 의하여 결정하였으며, 이러한 결정과정은 다음 수학식에 의하여 결정되었다.That is, the present invention is a facility for forming a nickel plated layer on the strip by managing the pH from 5.0 to 5.5 due to the characteristics of the equipment, the determination of the diameter of the mashing rotor 312 is 0.5m chemical per rotation of the mashing rotor 312 (nickel carbonate) 3 was determined by the following calculation, and this decision process was determined by the following equation.

Figure 112005040747135-pat00011

여기서, t=스크레퍼의 두께,
D1=매싱 로터의 외측직경
D2=매싱 로터의 내측직경
또한, 구동모터(101)의 결정은 모터의 감속비, 회전수, 모터측 스프라켓의 기어수 및 메인 샤프트측의 스프라켓의 기어수에 의해서 결정되며, 본 발명에 따라 결정된 구동모터(101) 및 스프라켓의 조건은 표 1과 같다.
Figure 112005040747135-pat00011

Where t = scraper thickness,
D 1 = outside diameter of mass rotor
D 2 = inside diameter of mass rotor
In addition, the determination of the drive motor 101 is determined by the reduction ratio of the motor, the number of revolutions, the number of gears of the sprocket on the motor side and the number of gears of the sprocket on the main shaft side, and the determination of the drive motor 101 and the sprocket determined according to the present invention. The conditions are shown in Table 1.

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Figure 112001031740550-pat00002
Figure 112001031740550-pat00002

상기 표 1과 같은 구동모터(101) 및 스프라켓의 조건에 의하여 약품 공급량을 결정하면 하기 수학식 2와 같다.When the chemical supply amount is determined according to the conditions of the driving motor 101 and the sprocket as shown in Table 1, Equation 2 below.

Figure 112001031740550-pat00003
Figure 112001031740550-pat00003

상기와 같은 계산에 의하여 모터의 사양의 결정 및 공급량의 결정이 되므로 탄산니켈의 투입은 하기의 플로어에 의하여 pH의 제어를 행한다. Since the specification of the motor and the amount of supply are determined by the above calculation, the nickel carbonate is controlled by the following floor.

즉, 니켈 저수조의 탄산니켈의 제어는 믹싱탱크에 설치되어있는 pH 검출기(601)의 검출치를 송신 받아 니켈 저수조의 레벨에 따라 탄산니켈의 투입량을 제어하며, 니켈 저수조의 pH 농도는 니켈 부착량이 가장 적정한 5.0∼5.5로 관리되므로 pH 하한치인 5.0 이하에서 관리된다.That is, the control of the nickel carbonate in the nickel reservoir receives the detection value of the pH detector 601 installed in the mixing tank to control the amount of nickel carbonate in accordance with the level of the nickel reservoir, and the nickel concentration of the nickel reservoir is the most. Since it is managed by appropriate 5.0-5.5, it is managed by 5.0 or less which is a pH lower limit.

pH검출기(601)에서 pH 기준 하한치 5.0 이하가 검출되면 저수조(603) 내의 레벨을 레벨검출기(602)에서의 레벨을 검출 받아 니켈 투입량이 결정되며 비례 적분기(계장컴퓨터)에서 니켈투입량이 결정되며, 니켈 믹싱 저수조의 탱크레벨 관리는 13∼20m3로 관리되며 pH가 하한치로 떨어진 시점의 믹싱 저수조의 레벨을 기준으로 탄산니켈의 투입량이 비례 적분기에서 투입량이 결정되어 레벨에 관계없이 탄산니켈이 투입되어 pH치를 제어한다.When the pH detector 601 detects a pH lower limit value of 5.0 or less, the level in the reservoir 603 is detected by the level detector 602, and the nickel input amount is determined, and the nickel input amount is determined by the proportional integrator (instrument computer). tank level management of nickel mixing reservoir is managed by 13~20m 3, and pH is the amount of nickel carbonate, based on the level of the water storage tank of the mixing point away from a lower limit of the dose is determined by the proportional integrator is nickel carbonate added, regardless of the level pH value is controlled.

탄산니켈의 투입량은 상기의 계산에 의하여 결정된 바와 같이 매싱로터(312)를 회전시켜 1회전당 투입되는 니켈의 투입은 0.5m3으로써 분당 투입되는 탄산니켈의 투입량은 2.5㎏이 되고 분당 투입되는 양은 2.0㎏으로써 타이머에 의한 모터제어를 통하여 투입량이 제어된다.As the amount of nickel carbonate is determined by the above calculation, the amount of nickel carbonate added per minute is 2.5 kg and the amount of nickel carbonate added per minute is 0.5 m 3 , and the amount of nickel carbonate injected per minute is rotated by the massing rotor 312. The feeding amount is controlled by motor control by a timer at 2.0 kg.

예를 들면, 1m3의 pH치를 0.5 높이기 위해서는 1㎏의 탄산니켈의 투입이 필요하므로 구동모터(101)를 30초간 회전시키면 1㎏의 탄산니켈이 투입되어 pH치를 제어할 수 있다는 결론이다.For example, in order to increase the pH value of 1 m 3 by 0.5, it is necessary to add 1 kg of nickel carbonate, and thus, when the driving motor 101 is rotated for 30 seconds, 1 kg of nickel carbonate is added to control the pH value.

또한, 30초간 구동모터(101)가 회전하여 정지 후 pH검출기(601)에서 검출된 검출 값을 비교 연산하여 재차 제어를 실시한다.In addition, the drive motor 101 rotates for 30 seconds, and after stopping, compares and detects the detected value detected by the pH detector 601 to perform control again.

이러한 일련의 작용을 통하여 최적의 pH관리를 통한 최상의 품질을 생산한다.This series of actions produces the best quality through optimal pH control.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치는 니켈 도금용액의 pH가 하락하는 경우 탄산니켈을 자동으로 투입하여 항상 일정한 pH를 유지하도록 하여 pH의 영향으로 발생되는 니켈도금 밀 착성 저하 및 니켈 전착방해로 도금효율이 떨어지는 문제점을 방지하여 표면품질이 우수한 니켈 플래시 도금강판을 제조함으로써 탄산니켈 투입량의 자동화 및 정합성 향상으로 도금품질 향상의 효과가 있다.As described above, the chemical input amount automatic control device for adjusting the pH of the nickel plating solution according to the present invention is automatically added to the nickel carbonate when the pH of the nickel plating solution drops to maintain a constant pH at all times by the effect of pH It prevents the problem of lowering the plating efficiency due to nickel plating adhesion degradation and nickel electrodeposition disturbance that is generated, thereby producing a nickel flash plated steel sheet having excellent surface quality, thereby improving plating quality by automating nickel carbonate input and improving consistency.

Claims (2)

구동 케이스(301)의 상부면에 하향고정된 구동모터(101)와 축결합된 모터 스프라켓(304)과, 이와 구동체인(305)으로 연결된 샤프트 스프라켓(306)에 축결합하여 회전하도록 상부 및 하부 볼베어링(308a,308b)이 삽입된 메인 샤프트(307)로 이루어지는 장치 구동부(100)와;The upper and lower parts of the drive case 301 are axially coupled to the motor sprocket 304 and the shaft sprocket 306 connected to the drive chain 305 and axially coupled to the drive motor 101 fixed downward. An apparatus driving unit (100) comprising a main shaft (307) into which ball bearings (308a, 308b) are inserted; 상기 장치 구동부(100)를 구성하는 상기 메인 샤프트(307)의 상부에 회전가능하도록 체결되는 믹싱 스커트(313)와, 이의 하부면에 체결되어 회전하되, 외측 직경(D1) 및 상기 외측 직경(D1) 보다 작은 내측 직경(D2)을 갖고 상기 외측 직경(D1) 및 상기 내측 직경(D2)에 의하여 회전당 약품공급량이 결정되는 계단형의 매싱 로터(312)와, 상기 믹싱 스커트(313) 및 상기 매싱 로터(312)를 수용하는 매싱 챔버(316)의 좌우 내측면에 고정된 스크레퍼(319,321)로 이루어져 일측 하방에 설치된 약품공급 슈트(107)로 약품을 공급하는 약품 제어공급부(200)와;The mixing skirt 313 is rotatably fastened to the upper portion of the main shaft 307 constituting the device driving unit 100, and is coupled to the lower surface thereof to rotate, the outer diameter (D 1 ) and the outer diameter ( D 1) has an inner diameter (D 2) smaller than the outer diameter (D 1) and the inner diameter (D 2) and the rotation drug supply is maesing rotor 312 of the step-like, which is determined by the mixing skirt 313 and a chemical control supply unit for supplying medicine to the medicine supply chute 107 installed at one side consisting of scrapers 319 and 321 fixed to the left and right inner surfaces of the massing chamber 316 accommodating the massing rotor 312 ( 200); 상기 약품 제어공급부(200)를 구성하는 상기 매싱 챔버(316)의 상부에 고정되는 저장호퍼(106)와, 상기 장치 구동부(100)의 상기 메인 샤프트(307)의 상단부에 회전가능하도록 고정되는 믹싱바(401)로 이루어지는 약품 혼합공급부(300)로 구성되는 것을 특징으로 하는 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치.A mixing hopper rotatably fixed to an upper end of the main hopper 307 of the device driving unit 100 and a storage hopper 106 fixed to an upper portion of the massing chamber 316 constituting the chemical control supply unit 200. Chemical input amount automatic adjustment device for adjusting the pH of the nickel plating solution, characterized in that consisting of the drug mixture supply unit 300 consisting of a bar (401). 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 약품 혼합공급부(300)는 상기 메인 샤프트(307)의 상단부에 회전가능하도록 고정되는 상기 믹싱바(401)의 중앙부에 고정되어 공급되는 약품을 좌우측으로 분산시키는 고깔형 콘(320)을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 니켈도금 용액의 pH 조정을 위한 약품투입량 자동 조절장치.The drug mixture supply unit 300 includes a solid cone 320 for dispersing the drug supplied to the left and right fixed to the center portion of the mixing bar 401 is rotatably fixed to the upper end of the main shaft 307 Chemical dosage automatic control device for pH adjustment of the nickel plating solution, characterized in that the configuration.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03201956A (en) * 1989-12-28 1991-09-03 Sanyo Electric Co Ltd Device for feeding powder in constant amount
JPH0491713A (en) * 1990-08-03 1992-03-25 Iseki & Co Ltd Regulator for delivery amount of powdery or granular substance feeder
JPH057469A (en) * 1991-07-03 1993-01-19 Sanyo Electric Co Ltd Powder quantitative feeder

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03201956A (en) * 1989-12-28 1991-09-03 Sanyo Electric Co Ltd Device for feeding powder in constant amount
JPH0491713A (en) * 1990-08-03 1992-03-25 Iseki & Co Ltd Regulator for delivery amount of powdery or granular substance feeder
JPH057469A (en) * 1991-07-03 1993-01-19 Sanyo Electric Co Ltd Powder quantitative feeder

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