KR100544122B1 - Organic electro luminescence display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR100544122B1
KR100544122B1 KR1020030049545A KR20030049545A KR100544122B1 KR 100544122 B1 KR100544122 B1 KR 100544122B1 KR 1020030049545 A KR1020030049545 A KR 1020030049545A KR 20030049545 A KR20030049545 A KR 20030049545A KR 100544122 B1 KR100544122 B1 KR 100544122B1
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구재본
박지용
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Abstract

본 발명은 외부광의 반사를 방지하여 콘트라스트를 향상시킴과 동시에 휘도를 증대시키고, 간단한 공정에 의해 전극과 블랙 매트릭스를 형성하기 위한 것으로, 이를 위하여, 서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판과, 상기 제 1 기판의 상부에 소정 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층과, 상기 블랙 매트릭스층 상부 또는 상기 블랙 매트릭스층과 같은 층에 형성된 제 1 전극과, 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극과, 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치를 제공한다.The present invention improves contrast by preventing reflection of external light and increases brightness, and forms an electrode and a black matrix by a simple process. To this end, the first and second substrates facing each other, A black matrix layer formed in a predetermined pattern on the first substrate, a first electrode formed on the black matrix layer or the same layer as the black matrix layer, and a second formed on the first electrode so as to face the first electrode. An organic electroluminescent display device is provided between an electrode and the first electrode and a second electrode to emit light, and includes an organic film having at least an organic light emitting layer.

유기, EL, 블랙 매트릭스Organic, EL, black matrix

Description

유기 전계 발광 표시 장치 및 그 제조방법{Organic electro luminescence display device and manufacturing method thereof}Organic electroluminescent display device and manufacturing method thereof

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 평면도,1 is a plan view of an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention;

도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ에 대한 단면도,FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II of FIG. 1;

도 3은 박막을 이루는 도전성 물질과 유전성 물질의 농도 구배를 나타내 보인 도면,3 is a view showing a concentration gradient between a conductive material and a dielectric material forming a thin film;

도 4 내지 도 6은 도 2에 도시된 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타낸 단면도들,4 to 6 are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention shown in FIG.

도 7은 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 단면도.7 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치의 단면도.8 is a cross-sectional view of an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10: 제 1 기판 11: 버퍼층10: first substrate 11: buffer layer

12: 제 2 기판 13: 패시베이션층12: second substrate 13: passivation layer

14: 평탄화막 20: TFT층14 planarization film 20 TFT layer

21: 반도체 활성층 22: 게이트 절연막21: semiconductor active layer 22: gate insulating film

23: 게이트 전극 24: 층간 절연막23: gate electrode 24: interlayer insulating film

25: 소스 전극 26: 드레인 전극25 source electrode 26 drain electrode

30: EL소자 31: 제 1 전극30 EL element 31 First electrode

32: 유기막 33: 제 2 전극32: organic film 33: second electrode

40: 블랙 매트릭스층40: black matrix layer

본 발명은 유기 전계 발광표시장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 콘트라스트 및 휘도 특성을 향상시키고, 전면 발광형의 적용이 용이한 유기 전계 발광 표시장치 및 그 제조방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent display, and more particularly, to an organic electroluminescent display and a method of manufacturing the same, which improve contrast and luminance characteristics, and which are easy to apply a top emission type.

전계 발광 표시장치는 능동 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어 차세대 표시 소자로서 주목을 받고 있다. 이러한 전계 발광 표시 장치는 발광층을 형성하는 물질에 따라 무기 전계 발광 표시 장치와 유기 전계 발광 장치로 구분된다. Electroluminescent display devices are attracting attention as next-generation display devices because of their advantages such as wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed. The electroluminescent display is classified into an inorganic electroluminescent display and an organic electroluminescent device according to the material forming the light emitting layer.

상기 무기 전계 발광 표시 장치는 당초 녹색 발광 디스플레이로 상품화되었으나 플라즈마 표시장치와 마찬가지로 교류 바이어스 구동이고, 구동에 수백 볼트(voltage)가 필요하다. 또한 발광을 위한 재료가 무기물이므로 분자 설계에 의한 발광 파장등의 제어가 곤란하여 화상의 칼라화가 어렵다.The inorganic electroluminescent display was originally commercialized as a green light emitting display, but similarly to a plasma display, it is an AC bias drive and requires several hundred volts to drive. In addition, since the material for emitting light is an inorganic material, it is difficult to control the light emission wavelength due to the molecular design and colorization of the image is difficult.

그리고 상기 유기 전계 발광 표시장치는 형광성 유기 화합물을 전기적으로 여기시켜 발광시키는 자발광형 디스플레이로 낮은 전압에서 구동이 가능하고, 박형화가 용이하며 광시야각, 빠른 응답속도 등 액정표지 장치에 있어서 문제점으로 지적된 결점을 해결할 수 있는 차세대 디스플레이로 주목받고 있다. In addition, the organic electroluminescent display is a self-luminous display that electrically excites fluorescent organic compounds to emit light, which can be driven at a low voltage, is easy to thin, and is problematic in liquid crystal display devices such as wide viewing angle and fast response speed. It is attracting attention as the next generation display that can solve the shortcomings.

한편, 상기와 같은 유기 전계 발광 표시장치에 있어서는, 화상이 구현되는 기판의 방향으로부터 입사되는 외부광이 반사되는 것을 방지하기 위하여 발광이 이루어지는 화소 이외의 영역에 블랙 매트릭스를 사용하는 기술이 일반적으로 사용되고 있다. 이러한 블랙 매트릭스로는 흔히 흑연계 블랙 매트릭스가 많이 사용되고 있으며, Cr/CrOx의 블랙 매트릭스도 사용되고 있다. Cr/CrOx의 블랙 매트릭스로는 미국특허 US 5,976,639호에 개시되어 있다.On the other hand, in the organic electroluminescent display device as described above, in order to prevent the external light incident from the direction of the substrate on which the image is implemented, a technique of using a black matrix in a region other than the light emitting pixels is generally used. have. As such a black matrix, a graphite black matrix is often used, and a black matrix of Cr / CrOx is also used. Black matrices of Cr / CrOx are disclosed in US Pat. No. 5,976,639.

또한, 본 출원인에 의해 출원되어 등록된 미국특허 US 6,387,576호에는 투명한 유전성 물질인 SiO와 불투명한 도전성 금속이 두께에 따라 소정의 농도 구배를 갖도록 이루어져, 도전성을 갖도록 한 블랙 매트릭스가 개시되어 있다.In addition, U. S. Patent No. 6,387, 576, filed and registered by the present applicant, discloses a black matrix in which a transparent dielectric material SiO and an opaque conductive metal have a predetermined concentration gradient depending on the thickness, thereby making it conductive.

한편, 휘도를 향상시키기 위해 밀봉용 기판의 방향으로 화상이 구현되는 전면 발광형 유기 전계 발광 표시장치의 경우에는 밀봉용 기판 쪽으로 발광시키기 위해 캐소오드를 투명한 재료로 형성한다. 따라서, 캐소오드로서 ITO나 IZO 등 투명 전도성 물질을 사용할 수 있는 데, 이것이 캐소오드로서의 기능을 하기 위해서는 유기막과 접하는 쪽의 일함수가 낮아야 하므로, 먼저 일함수가 낮은 금속층을 얇게 증착하여 반투과 금속막을 형성하고, 그 위에 ITO나 IZO 등을 형성한다. 이러한 전면 발광형 유기 전계 발광 표시장치는 미국특허 USP 5,981,306호에 개시되어 있다.Meanwhile, in the case of a top emission type organic light emitting display device in which an image is embodied in a direction of a sealing substrate to improve luminance, a cathode is formed of a transparent material to emit light toward the sealing substrate. Therefore, a transparent conductive material such as ITO or IZO can be used as a cathode, and in order to function as a cathode, the work function of the side in contact with the organic film must be low. Therefore, first, a thin metal layer having a low work function is semi-transmissive. A metal film is formed and ITO, IZO, etc. are formed on it. Such a top emission type organic electroluminescent display is disclosed in US Pat. No. 5,981,306.

그런데, 이러한 전면발광형 유기 전계 발광 표시장치의 경우에는 외부광이 금속배선, 특히, 소스 또는 드레인 전극용 금속물질을 통해 반사되어 콘트라스트와 휘도를 저하시키는 문제가 있었다.However, in the top emission type organic light emitting display device, external light is reflected through a metal wiring, in particular, a metal material for a source or a drain electrode, thereby reducing contrast and brightness.

또한, 전면발광형 유기 전계 발광 표시장치의 경우에는 유기막 열화 등의 문제로 인해 유기 EL층이 형성된 후에는 패터닝 공정이 곤란하다는 한계를 갖고 있어, 전술한 바와 같은 블랙 매트릭스를 설치하기 어려운 한계가 있었다. 이러한 한계로 인하여, 종래에는 전면기판의 전면에 편광판을 부착하여 외부광의 반사에 의한 콘트라스트 저하를 방지하였으나, 이러한 편광판의 부착방법은 고가일 뿐 아니라, 유기 EL층으로부터 발광되는 광의 투과도를 저하시키기 때문에 휘도가 저하되는 문제가 있었다.In addition, in the case of the top emission type organic light emitting display device, the organic EL layer is difficult to pattern after the organic EL layer is formed due to deterioration of the organic film, and the like. there was. Due to this limitation, conventionally, a polarizing plate was attached to the front surface of the front substrate to prevent a decrease in contrast due to reflection of external light. However, the method of attaching the polarizing plate is not only expensive but also reduces the transmittance of light emitted from the organic EL layer. There was a problem that the luminance was lowered.

이러한 문제를 해결하기 위하여, 본 출원인에 의한 대한민국 공개특허공보 2003-54798호에는 도전성 블랙 매트릭스를 이용하여, 박막 트랜지스터의 소스/드레인 전극에 연결된 애노우드 전극 및 블랙 매트릭스를 일체로 형성한 유기 전계 발광 표시장치가 개시되어 있다. 그런데, 상기와 같은 유기 전계 발광 표시장치의 경우에는 애노우드 전극이 블랙 매트릭스를 수행하게 되므로, 이 애노우드 전극의 방향으로 방출되는 광을 흡수하게 되는 문제가 있다. 평탄화막의 개구부에 해당되는 영역에 유기 EL층이 형성되고, 이 유기 EL층으로부터 애노우드 및 캐소오드 방향으로 광이 방출되는 데, 이 때, 애노우드 전극을 광흡수층으로 형성할 경우에는 이 애노우드 전극에 의해 광이 흡수되어 전체적으로 휘도가 저하되는 문제가 발생한다. In order to solve this problem, Korean Patent Laid-Open Publication No. 2003-54798 by the present applicant uses an electroconductive black matrix, and an organic electroluminescence in which an anode electrode connected to a source / drain electrode of a thin film transistor and a black matrix are integrally formed. A display device is disclosed. However, in the organic light emitting display device as described above, since the anode electrode performs a black matrix, there is a problem of absorbing light emitted in the direction of the anode electrode. An organic EL layer is formed in a region corresponding to the opening of the planarization film, and light is emitted from the organic EL layer in the direction of the anode and the cathode. In this case, when the anode is formed as a light absorption layer, the anode The problem is that light is absorbed by the electrode and the luminance decreases as a whole.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 외부광의 반사를 방지하여 콘트라스트를 향상시킴과 동시에 휘도를 증대시킬 수 있는 유기 전계 발광 표시장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an organic light emitting display device capable of preventing the reflection of external light and improving contrast while increasing brightness.

본 발명의 다른 목적은 간단한 공정에 의해 반사막의 기능을 하는 전극과 블랙 매트릭스를 형성할 수 있는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an organic light emitting display device capable of forming a black matrix with an electrode functioning as a reflective film by a simple process.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판과, 상기 제 1 기판의 상부에 소정 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층과, 상기 블랙 매트릭스층 상부 또는 상기 블랙 매트릭스층과 같은 층에 형성된 제 1 전극과, 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극과, 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a first and second substrate facing each other, a black matrix layer formed in a predetermined pattern on the first substrate, and the same layer as the black matrix layer or the black matrix layer A first electrode formed on the second electrode, a second electrode formed on the first electrode so as to face the first electrode, and interposed between the first electrode and the second electrode to emit light, and at least an organic film having an organic light emitting layer. It provides an organic electroluminescent display comprising a.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 물질인 제 2 성분으로 구비된 것으로, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판에 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성될 수 있다. According to another feature of the invention, the black matrix layer is composed of a first component of a metal material and a second component of a transparent material, the content of the first component increases closer to the first substrate and The second component may be formed such that its content increases as the second component moves away from the first substrate.

이 때, 상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O 3, SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비되고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비될 수 있다.In this case, the first component is made of a transparent insulating material such as SiOx (x≥1), SiNx (x≥1), MgF 2 , CaF 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , and Indium tin Oxide (ITO). , IZO (Indium Zinc Oxide), ZnO, In 2 O 3 and the like, at least one transparent material selected from the group consisting of at least one of the group consisting of a transparent conductive material, the second component is Fe, Co, V It may be provided with at least one metal material selected from the group consisting of Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 Cr 및 CrOx(x≥1)로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the black matrix layer may be provided with Cr and CrOx (x≥1).

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 외광을 흡수할 수 있는 유기물질로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the black matrix layer may be provided with an organic material that can absorb external light.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극은 제 2 기판의 방향으로 빛을 반사시킬 수 있는 반사형 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the first electrode may be provided as a reflective electrode that can reflect light in the direction of the second substrate.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극은 투명 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the first electrode may be provided as a transparent electrode.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극은 투명 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the second electrode may be provided as a transparent electrode.

본 발명은 또한 전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판과, 상기 제 1 기판의 상부에 형성되고, 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층과, 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 구비된 절연층과, 상기 절연층 상부에 형성된 블랙 매트릭스층 과, 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 전기적으로 연결된 것으로, 상기 블랙 매트릭스층의 상부에 형성된 제 1 전극과, 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극과, 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치를 제공한다.The present invention also provides a thin film having first and second substrates opposed to each other, and at least one thin film transistor formed on the first substrate and having a source and a drain electrode to achieve the object as described above. A transistor layer, an insulating layer provided to cover the thin film transistor, a black matrix layer formed on the insulating layer, and electrically connected to any one of the source and drain electrodes, and formed on the black matrix layer. A first electrode, a second electrode formed on the first electrode to face the first electrode, and interposed between the first electrode and the second electrode to emit light, and including at least an organic film having an organic light emitting layer An organic electroluminescent display is provided.

이러한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 도전성 소재로 구비되고, 상기 제 1 전극과 전기적으로 연결된 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나에 접촉될 수 있다.According to another aspect of the present invention, the black matrix layer is formed of a conductive material and may be in contact with any one of the source and drain electrodes electrically connected to the first electrode.

이 때, 상기 블랙 매트릭스층은 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 도전성 물질인 제 2 성분으로 구비된 것으로, 상기 제 1 성분은 상기 절연층에 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 절연층으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성될 수 있다.In this case, the black matrix layer is formed of a first component which is a metal material and a second component which is a transparent conductive material, and the content of the first component increases as the first component is closer to the insulating layer. May be formed such that its content increases with distance from the insulating layer.

그리고, 상기 제 1 성분은 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비되고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비될 수 있다.The first component may include at least one transparent material selected from the group consisting of transparent conductive materials such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), ZnO, and In 2 O 3 . The component may be provided with at least one metal material selected from the group consisting of Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기 전계 발광 표시장치는 복수개의 화소를 구비하고, 적어도 상기 제 1 전극 및 상기 블랙 매트릭스층은 인접한 화 소간에 전기적으로 분리되어 있는 것일 수 있다.According to another feature of the present invention, the organic light emitting display device may include a plurality of pixels, and at least the first electrode and the black matrix layer may be electrically separated between adjacent pixels.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 절연성 소재로 구비되고, 상기 제 1 전극은 상기 절연층 및 블랙 매트릭스층에 형성된 컨택 홀을 통해 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나에 연결될 수 있다.According to another feature of the invention, the black matrix layer is provided with an insulating material, the first electrode may be connected to any one of the source and drain electrodes through contact holes formed in the insulating layer and the black matrix layer. .

이 때, 상기 블랙 매트릭스층은 상기 절연층과 일체로 형성될 수 있다.In this case, the black matrix layer may be integrally formed with the insulating layer.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극은 제 2 기판의 방향으로 빛을 반사시킬 수 있는 반사형 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the first electrode may be provided as a reflective electrode that can reflect light in the direction of the second substrate.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극은 투명 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the first electrode may be provided as a transparent electrode.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극은 투명 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the second electrode may be provided as a transparent electrode.

본 발명은 또한 전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판과, 상기 제 1 기판의 상부에 형성되고, 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층과, 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 구비된 절연층과, 상기 절연층 상부에 소정 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층과, 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 전기적으로 연결된 것으로, 상기 블랙 매트릭스층과 동일 층에 형성된 제 1 전극과, 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극과, 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치를 제공한다.The present invention also provides a thin film having first and second substrates opposed to each other, and at least one thin film transistor formed on the first substrate and having a source and a drain electrode to achieve the object as described above. A transistor layer, an insulating layer provided to cover the thin film transistor, a black matrix layer formed in a predetermined pattern on the insulating layer, and electrically connected to any one of the source and drain electrodes, the same as the black matrix layer A first electrode formed in the layer, a second electrode formed on the first electrode so as to face the first electrode, and interposed between the first electrode and the second electrode to emit light, and having at least an organic light emitting layer An organic electroluminescent display comprising a film is provided.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 도전성 소재로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the black matrix layer may be provided as a conductive material.

이 때, 상기 블랙 매트릭스층은 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 도전성 물질인 제 2 성분으로 구비된 것으로, 상기 제 1 성분은 상기 절연층에 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 절연층으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성될 수 있으며, 상기 제 1 성분은 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비되고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비될 수 있다.In this case, the black matrix layer is formed of a first component which is a metal material and a second component which is a transparent conductive material, and the content of the first component increases as the first component is closer to the insulating layer. May be formed to increase in distance from the insulating layer, and the first component may be formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), ZnO, or In 2 O 3 . It is provided with at least one transparent material selected from the group, the second component is a group consisting of Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt It may be provided with at least one metal material selected from.

또한, 상기 유기 전계 발광 표시장치는 복수개의 화소를 구비하고, 적어도 상기 블랙 매트릭스층은 인접한 화소간에 전기적으로 분리되어 있는 것일 수 있다.The organic light emitting display device may include a plurality of pixels, and at least the black matrix layer may be electrically separated between adjacent pixels.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 상기 제 1 전극과 전기적으로 분리될 수 있다.According to another feature of the invention, the black matrix layer may be electrically separated from the first electrode.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 절연성 소재로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the black matrix layer may be provided with an insulating material.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극은 제 2 기판의 방향으로 빛을 반사시킬 수 있는 반사형 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the first electrode may be provided as a reflective electrode that can reflect light in the direction of the second substrate.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극은 투명 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the first electrode may be provided as a transparent electrode.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극은 투명 전극으로 구비될 수 있다.According to another feature of the invention, the second electrode may be provided as a transparent electrode.

본 발명은 또한, 제 1 기판의 상부에 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계와, 상기 블랙 매트릭스 물질층의 상부에 제 1 전극 물질층을 형성하는 단계와, 상기 블랙 매트릭스 물질층 및 제 1 전극 물질층을 동시에 패터닝하여 블랙 매트릭스층 및 제 1 전극을 형성하는 단계와, 상기 제 1 전극의 상부에 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 형성하는 단계와, 상기 유기막의 상부에 상기 제 1 전극과 대향되도록 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법을 제공한다.The invention also provides a method of forming a black matrix material layer on top of a first substrate, forming a first electrode material layer on top of the black matrix material layer, the black matrix material layer and a first electrode material Simultaneously patterning the layers to form a black matrix layer and a first electrode, forming an organic film having at least an organic light emitting layer on the first electrode, and facing the first electrode on the organic film. It provides a method of manufacturing an organic electroluminescent display device comprising the step of forming two electrodes.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 도전성 소재로 형성하고, 상기 블랙 매트릭스층은 인접한 화소간에 전기적으로 분리되도록 패터닝할 수 있다.According to another feature of the present invention, the black matrix material layer may be formed of a conductive material, and the black matrix layer may be patterned to be electrically separated between adjacent pixels.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계 이전에는, 상기 제 1 기판의 상부에 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층을 형성하는 단계와, 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 절연층을 형성하는 단계가 더 포함되고, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 상기 절연층의 상부에 형성되며, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 접촉되도록 형성될 수 있다.According to another feature of the invention, prior to forming the black matrix material layer, forming a thin film transistor layer having at least one thin film transistor having a source and a drain electrode on top of the first substrate; And forming an insulating layer to cover the thin film transistor, wherein the black matrix material layer is formed on the insulating layer, and the black matrix material layer is in contact with one of the source and drain electrodes. Can be formed.

본 발명은 또한, 제 1 기판의 상부에 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계 와, 상기 블랙 매트릭스 물질층을 패터닝하여 블랙 매트릭스층을 형성하는 단계와, 상기 제 1 기판의 상부에 제 1 전극 물질층을 형성한 후 패터닝하여 제 1 전극을 형성하는 단계와, 상기 제 1 전극의 상부에 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 형성하는 단계와, 상기 유기막의 상부에 상기 제 1 전극과 대향되도록 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법을 제공한다.The invention also provides a method of forming a black matrix material layer on top of a first substrate, patterning the black matrix material layer to form a black matrix layer, and a first electrode material layer on top of the first substrate. Forming a first electrode by patterning and forming a first electrode, forming an organic film having at least an organic light emitting layer on the first electrode, and forming a second electrode on the organic film so as to face the first electrode. It provides a method of manufacturing an organic light emitting display device comprising the step of forming.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극을 형성하는 단계는 상기 패터닝된 블랙 매트릭스층에 인접하여 제 1 전극이 형성되도록 할 수 있다.According to another feature of the present invention, the forming of the first electrode may allow the first electrode to be formed adjacent to the patterned black matrix layer.

이 때, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 도전성 소재로 형성할 수 있으며, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 인접한 화소간의 블랙 매트릭스가 서로 전기적으로 분리되도록 패터닝할 수 있다.In this case, the black matrix material layer may be formed of a conductive material, and the black matrix material layer may be patterned such that black matrices between adjacent pixels are electrically separated from each other.

그리고, 상기 제 1 전극은 상기 블랙 매트릭스와 전기적으로 분리되도록 패터닝할 수 있다.The first electrode may be patterned to be electrically separated from the black matrix.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스층은 절연성 소재로 형성할 수 있다.According to another feature of the invention, the black matrix layer can be formed of an insulating material.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극을 형성하는 단계는 상기 패터닝된 블랙 매트릭스층에 상부에 제 1 전극이 형성되도록 하는 것일 수 있다.According to another feature of the present invention, the forming of the first electrode may be such that the first electrode is formed on the patterned black matrix layer.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계 이전에는, 상기 제 1 기판의 상부에 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층을 형성하는 단계와, 상기 박막 트 랜지스터를 덮도록 절연층을 형성하는 단계가 더 포함되고, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 상기 절연층의 상부에 형성되며, 상기 제 1 전극은 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 전기적으로 연결되도록 형성될 수 있다.According to another feature of the invention, prior to forming the black matrix material layer, forming a thin film transistor layer having at least one thin film transistor having a source and a drain electrode on top of the first substrate; And forming an insulating layer to cover the thin film transistor, wherein the black matrix material layer is formed on the insulating layer, and the first electrode is electrically connected to any one of the source and drain electrodes. It may be formed to be connected to.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 전극을 형성하는 단계는 상기 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계 이전에 구비될 수 있다.According to another feature of the present invention, the forming of the first electrode may be provided before the forming of the black matrix material layer.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다 . Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치를 나타낸 것으로, AM 타입의 유기 전계 발광 표시장치(AMOLED: Active martix organic light emitting display)를 나타내 보인 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ에 대한 단면도로, 하나의 부화소를 나타낸 단면도이다. 1 is a plan view illustrating an organic light emitting display (AMOLED) of an organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. Sectional drawing about Ⅰ-Ⅰ of sectional drawing which shows one subpixel.

도 1에서 볼 수 있는 바와 같이, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 AM 타입의 유기 전계 발광 표시장치의 각 부화소(sub-pixel)는 스위칭용인 스위칭 박막 트랜지스터(이하, "스위칭 TFT"라 함: Ts)와, 구동용인 구동 박막 트랜지스터(이하, "구동 TFT"라 함: Td)의 박막 트랜지스터(이하, "TFT"라 함)와, 캐패시터(C) 및 하나의 유기 전계 발광 소자(이하, "EL소자"라 함, 30)로 이루어질 수 있다. 그러나, 이러한 TFT 및 캐패시터의 개수는 반드시 이에 하정되는 것은 아니며, 원하는 소자의 설계에 따라 다양한 수의 TFT 및 캐패시터를 구비할 수 있음은 물론이다. 상기 TFT는 적어도 하나 이상 구비되면 무방하다.As shown in FIG. 1, each sub-pixel of an AM type organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention is a switching thin film transistor (hereinafter, referred to as a “switching TFT”) for switching. : Ts), a thin film transistor (hereinafter referred to as "driving TFT": Td) for driving, a thin film transistor (hereinafter referred to as "TFT"), a capacitor (C) and one organic electroluminescent element (hereinafter, "EL element", 30). However, the number of such TFTs and capacitors is not necessarily limited thereto, and of course, various numbers of TFTs and capacitors may be provided according to a desired device design. At least one TFT may be provided.

상기 스위칭 TFT(Ts)는 게이트 라인(34)에 인가되는 스캔(Scan) 신호에 구동 되어 데이터 라인(35)에 인가되는 데이터(data) 신호를 전달하는 역할을 한다. 상기 구동 TFT(Td)는 상기 스위칭 TFT(Ts)를 통해 전달되는 데이터 신호에 따라서, 게이트와 소오스 간의 전압차(Vgs)에 의해 EL소자(30)로 유입되는 전류량을 결정한다. 상기 캐패시터(C)는 상기 스위칭 TFT(Ts)를 통해 전달되는 데이터 신호를 한 프레임동안 저장하는 역할을 한다.The switching TFT Ts is driven by a scan signal applied to the gate line 34 to transfer a data signal applied to the data line 35. The driving TFT Td determines the amount of current flowing into the EL element 30 by the voltage difference Vgs between the gate and the source according to the data signal transmitted through the switching TFT Ts. The capacitor C stores a data signal transmitted through the switching TFT Ts for one frame.

도 2에는 이러한 유기 전계 발광 표시장치의 하나의 부화소 중 EL소자(30), 구동 TFT(Td) 및 캐패시터(C)를 도시한 단면도로, 이하에서는, 이를 중심으로 설명한다.FIG. 2 is a cross-sectional view showing an EL element 30, a driving TFT (Td), and a capacitor (C) of one subpixel of the organic light emitting display device, which will be described below.

본 발명에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 절연성 기판인 제 1 기판(10)과 제 2 기판(12)이 서로 대향되어 배치되어 있고, 제 1 기판(10)의 상부에 블랙 매트릭스층이 형성되고, 이 블랙 매트릭스층의 상부 또는 블랙 매트릭스층과 같은 층에는 EL 소자(30)의 제 1 전극(31)이 형성되어 있다.In the organic light emitting display according to the present invention, the first substrate 10 and the second substrate 12, which are insulating substrates, are disposed to face each other, and a black matrix layer is formed on the first substrate 10. The first electrode 31 of the EL element 30 is formed on the top of the black matrix layer or on the same layer as the black matrix layer.

한편, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 AM타입의 유기 전계 발광 표시장치에는 도 2에서 볼 수 있듯이, 제 1 기판(10)이 TFT층(20)을 더 구비할 수 있는 데, 이 TFT층(20)은 제 1 기판(10)의 상부에 형성된 버퍼층(11)의 상부에 형성된다. 상기 TFT층(20)은 도 2에 도시된 구동 TFT(Td) 및 캐패시터(C)를 포함하는 층으로, 도 1에 도시된 바와 같은 스위칭 TFT(Ts) 등 다양한 TFT 구조를 포함하는 층이 된다. On the other hand, in the AM type organic electroluminescent display device according to an exemplary embodiment of the present invention, as shown in FIG. 2, the first substrate 10 may further include a TFT layer 20. 20 is formed on the buffer layer 11 formed on the first substrate 10. The TFT layer 20 is a layer including a driving TFT (Td) and a capacitor (C) shown in FIG. 2, and becomes a layer including various TFT structures such as a switching TFT (Ts) as shown in FIG. 1. .

상기 TFT층(20)에 구비된 구동 TFT(Td)는 도 2에서 볼 수 있듯이, 버퍼층(11) 상에 형성된 반도체 활성층(21)과, 이 반도체 활성층(21)의 상부에 형 성된 게이트 절연막(22)과, 게이트 절연막(22) 상부의 게이트 전극(23)과, 게이트 전극(23)을 덮도록 구비된 층간 절연막(24)과, 층간 절연막(24)의 상부에 형성되고 상기 반도체 활성층(21)과 접속된 소스 전극(25) 및 드레인 전극(26)을 갖는다. 그리고, 이 TFT층(20)은 두 개의 전극(27)(28)으로 형성된 캐패시터(C)를 갖는다.As shown in FIG. 2, the driving TFT Td included in the TFT layer 20 includes a semiconductor active layer 21 formed on the buffer layer 11 and a gate insulating film formed on the semiconductor active layer 21. 22, the gate electrode 23 on the gate insulating film 22, the interlayer insulating film 24 provided to cover the gate electrode 23, and the semiconductor active layer 21 formed on the interlayer insulating film 24. ) And a source electrode 25 and a drain electrode 26. The TFT layer 20 has a capacitor C formed of two electrodes 27 and 28.

상기 반도체 활성층(21)은 비정질 실리콘 박막 또는 다결정질 실리콘 박막으로 형성될 수 있다. 이 반도체 활성층은 N형 또는 P형 불순물이 고농도로 도핑된 소스 및 드레인 영역을 갖는다.The semiconductor active layer 21 may be formed of an amorphous silicon thin film or a polycrystalline silicon thin film. This semiconductor active layer has source and drain regions doped with N-type or P-type impurities at a high concentration.

반도체 활성층(21)의 상부에는 SiO2 등에 의해 게이트 절연막(22)이 구비되고, 게이트 절연막(22) 상부의 소정 영역에는 MoW, Al/Cu 등으로 도전막으로 게이트 전극(23)이 형성된다. 상기 게이트 전극(23)은 캐패시터(30)의 하층 전극(31)과 연결되어 TFT 온/오프 신호를 공급하는 것으로, 반도체 활성층(21)의 채널 영역 상부에 형성된다.The gate insulating film 22 is provided on the upper surface of the semiconductor active layer 21 by SiO 2, etc., and the gate electrode 23 is formed on the predetermined area above the gate insulating film 22 by a conductive film of MoW, Al / Cu, or the like. The gate electrode 23 is connected to the lower electrode 31 of the capacitor 30 to supply the TFT on / off signal and is formed on the channel region of the semiconductor active layer 21.

이 게이트 전극(23)의 상부로 층간 절연막(inter-insulator: 24)이 형성되고, 컨택 홀을 통해 소스 전극(25)과 드레인 전극(26)이 각각 반도체 활성층(21)의 소스 영역 및 드레인 영역에 접하도록 형성된다. 상기 소스 전극(25)은 도 1의 구동 라인(36)과 연결되어 반도체 활성층(21)에 구동을 위한 레퍼런스 공통전압을 공급하고, 상기 드레인 전극(26)은 구동 TFT(Td)와 EL 소자(30)를 연결시켜 EL 소자(30)에 구동 전원을 인가해 준다. 상기 구동 라인(36)은 캐패시터(C)의 상층 전극(27)에 연결되어 있다. 이상 설명한 바와 같은 구동 TFT(Td)의 구조는 그대로 스위칭 TFT(Ts)에도 적용될 수 있음은 물론이다.An inter-insulator 24 is formed on the gate electrode 23, and the source and drain regions of the semiconductor active layer 21 are respectively formed by the source electrode 25 and the drain electrode 26 through contact holes. It is formed to be in contact with. The source electrode 25 is connected to the driving line 36 of FIG. 1 to supply a reference common voltage for driving the semiconductor active layer 21, and the drain electrode 26 is a driving TFT (Td) and an EL element ( 30 is connected to apply driving power to the EL element 30. The drive line 36 is connected to the upper electrode 27 of the capacitor C. It goes without saying that the structure of the driving TFT Td as described above can be applied to the switching TFT Ts as it is.

한편, 상기 캐패시터(C)는 도 1 및 도 2에서 볼 수 있듯이, 스위칭 TFT(Ts)와 구동 TFT(Td) 사이에 위치되어 한 프레임 동안 구동 TFT(Td)를 구동시키는 데 필요한 구동전압을 저장하는 것으로, 스위칭 TFT(Ts)의 드레인 전극과 접속되는 하층 전극(27)과, 구동라인(36)과 연결되는 상층 전극(28) 및 하층 전극(27)과 상층 전극(28)의 사이에 형성되어 유전체로서 사용되는 층간 절연막(24)으로 구비될 수 있다. 물론 이러한 충전용 캐패시터(C)의 구조는 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, TFT의 실리콘 박막과 게이트 전극의 도전층이 하층 및 상층 전극으로 사용되고, 게이트 절연막이 유전층으로 사용될 수도 있으며, 이 외에도 다양한 방법에 의해 형성 가능하다.Meanwhile, as shown in FIGS. 1 and 2, the capacitor C is positioned between the switching TFT Ts and the driving TFT Td to store driving voltages required to drive the driving TFT Td for one frame. The lower electrode 27 connected to the drain electrode of the switching TFT Ts and the upper electrode 28 connected to the driving line 36 and the lower electrode 27 and the upper electrode 28 are formed. And an interlayer insulating film 24 used as a dielectric. Of course, the structure of the charging capacitor C is not necessarily limited thereto, and the silicon thin film of the TFT and the conductive layer of the gate electrode may be used as the lower and upper electrodes, and the gate insulating film may be used as the dielectric layer. It can be formed by.

본 명세서에 있어서, TFT층(20)은 소스 및 드레인 전극(25)(26)까지 형성된 TFT와 캐패시터(C)까지를 의미하는 것으로 한다. In the present specification, the TFT layer 20 means the TFT and the capacitor C formed up to the source and drain electrodes 25 and 26.

한편, 상기 TFT층(20)의 소스 및 드레인 전극(25)(26)은 절연층에 의해 덮여지는 데, 이 절연층으로는 SiO2 등으로 이루어진 패시베이션막(13)이 될 수 있다. 이 패시베이션 막(13)의 상부로는 후술하는 바와 같이, 블랙 매트릭스층(40)이 형성되고, 이 블랙 매트릭스층(40)의 상부로는 컨택홀에 의해 상기 드레인 전극(26)과 연결되는 EL 소자(30)의 제 1 전극(31)이 형성된다.Meanwhile, the source and drain electrodes 25 and 26 of the TFT layer 20 are covered by an insulating layer, which may be a passivation film 13 made of SiO 2 or the like. As described later, a black matrix layer 40 is formed on the passivation film 13, and an EL is connected to the drain electrode 26 by a contact hole on the black matrix layer 40. The first electrode 31 of the element 30 is formed.

EL 소자(30)는 전류의 흐름에 따라 적, 녹, 청색의 빛을 발광하여 소정의 화상 정보를 표시하는 것으로, 도 2에서 볼 수 있듯이, 구동 TFT(Td)의 드레인 전극(26)에 연결되어 애노우드 전극의 기능을 하는 제 1 전극(31)과, 전체 화소를 덮도록 구비되어 캐소오드 전극의 기능을 하는 제 2 전극(33)과, 이들 제 1 전극(31) 및 제 2 전극(33)의 사이에 배치되어 발광하는 유기막(32)으로 구성된다. 이 때, 제 1 전극(31)과 제 2 전극(33)의 극성은 서로 반대로 되어도 무방하다.The EL element 30 emits red, green, and blue light in accordance with the flow of current to display predetermined image information. As shown in FIG. 2, the EL element 30 is connected to the drain electrode 26 of the driving TFT (Td). A first electrode 31 serving as an anode electrode, a second electrode 33 provided to cover the entire pixel, and serving as a cathode electrode, these first electrodes 31 and a second electrode ( It consists of the organic film 32 arrange | positioned between 33 and emits light. At this time, the polarities of the first electrode 31 and the second electrode 33 may be reversed to each other.

애노우드 전극으로서 사용되는 제 1 전극(31)은 유기막(32)으로 정공(hole)을 공급하는 기능을 하고, 캐소오드 전극으로서 사용되는 제 2 전극(33)은 유기막(32)으로 전자(electron)를 공급하는 기능을 하는 데, 이렇게 공급된 정공 및 전자는 유기막(33)의 유기 발광층(미도시)에서 전자와 정공이 재결합하여 여기자(exiton)를 생성하고, 이 여기자가 여기상태에서 기저상태로 변화함에 따라, 발광층의 형광성 분자가 발광함으로써 화상이 형성된다. 따라서, 제 1 전극(31) 및 제 2 전극(33)으로부터 각각 정공과 전자의 공급이 이루어질 수 있도록 제 2 전극(33)은 제 1 전극(31)보다 일함수가 낮은 재료를 사용하여 형성하는 것이 바람직하다. 이에 대한 보다 상세한 설명은 후술한다.The first electrode 31 used as the anode electrode functions to supply holes to the organic film 32, and the second electrode 33 used as the cathode electrode uses electrons as the organic film 32. electrons and holes recombine in an organic light emitting layer (not shown) of the organic layer 33 to generate excitons, and the excitons are excited. As it changes from to the ground state, the fluorescent molecules in the light emitting layer emit light to form an image. Therefore, the second electrode 33 is formed using a material having a lower work function than the first electrode 31 so that holes and electrons can be supplied from the first electrode 31 and the second electrode 33, respectively. It is preferable. A more detailed description thereof will be described later.

도 2에서 볼 수 있듯이, 상기 제 1 전극(31)의 상부로는 아크릴 등으로 평탄화막(14)이 형성되고, 이 평탄화막(14)에 소정의 개구부(14a)를 형성한 후, 이 개구부(14a)에 유기막(32)을 형성한다. 그리고, 캐소오드 전극인 제 2 전극(33)은 소자 전체를 덮도록 형성한다. 물론 제 2 전극(33)은 이를 패터닝하여 소정 패턴으로 형성시킬 수도 있음은 물론이다.As shown in FIG. 2, a planarization film 14 is formed on the first electrode 31 by acryl or the like, and after the predetermined opening 14a is formed in the planarization film 14, the opening is formed. The organic film 32 is formed in 14a. The second electrode 33, which is a cathode electrode, is formed to cover the entire device. Of course, the second electrode 33 may be patterned to form a predetermined pattern.

한편, 유기막(32)은 저분자 또는 고분자 유기막이 사용될 수 있는 데, 저분자 유기막을 사용할 경우 홀 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 홀 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 유기 발광층(EML: Emission Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있으며, 사용 가능한 유기 재료도 구리 프탈로시아닌(CuPc: copper phthalocyanine), N,N-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘 (N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine: NPB) , 트리스-8-하이드록시퀴놀린 알루미늄(tris-8-hydroxyquinoline aluminum)(Alq3) 등을 비롯해 다양하게 적용 가능하다. 이들 저분자 유기막은 진공증착의 방법으로 형성된다.On the other hand, the organic film 32 may be a low molecular or polymer organic film, when using a low molecular organic film, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an organic emission layer (EML: Emission) Layer, Electron Transport Layer (ETL), Electron Injection Layer (EIL), etc. can be formed by stacking single or complex structure. Usable organic materials are also copper phthalocyanine (CuPc) ), N, N-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine (N, N'-Di (naphthalene-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine: NPB) And tris-8-hydroxyquinoline aluminum (Alq3). These low molecular weight organic films are formed by the vacuum deposition method.

고분자 유기막의 경우에는 대개 홀 수송층(HTL) 및 발광층(EML)으로 구비된 구조를 가질 수 있으며, 이 때, 상기 홀 수송층으로 PEDOT를 사용하고, 발광층으로 PPV(Poly-Phenylenevinylene)계 및 폴리플루오렌(Polyfluorene)계 등 고분자 유기물질을 사용하며, 이를 스크린 인쇄나 잉크젯 인쇄방법으로 형성할 수 있다.In the case of the polymer organic film, the structure may include a hole transporting layer (HTL) and a light emitting layer (EML). In this case, PEDOT is used as the hole transporting layer, and polyvinylvinylene (PPV) and polyfluorene are used as the light emitting layer. Polymer organic materials such as (polyfluorene) are used and can be formed by screen printing or inkjet printing.

애노우드 전극인 제 1 전극(31)은 전술한 바와 같이 일함수를 맞추기 위해 ITO를 사용할 수 있는 데, 상기 유기 전계 발광 표시장치가 유기막(32)으로부터 제 1 기판(10)의 방향으로 화상을 구현하는 배면발광형인 경우에는 투명한 도전체인 ITO만으로 충분하나, 제 2 기판(12)의 방향으로 화상을 구현하는 전면발광형인 경우에는 휘도를 높이기 위하여 반사형 전극으로 형성할 수 있다. 즉, 전면발광형의 경우, 유기막(32)으로부터 제 1 기판(10)의 방향으로 발광하는 빛을 제 2 기판(12)의 방향으로 반사시켜 고휘도를 달성하도록 하기 위한 것이다. 이를 위하여, 상기 제 1 전극(31)은 제 1 기판(10)의 방향으로 반사율이 좋은 Al, Ni, Cr 및 Pt 등으로 금속층을 형성한 후, 그 상부로 일함수를 맞추기 위해 ITO 또는 IZO 등을 형성 하여 반사형 전극을 형성할 수 있다. 물론 이러한 전면발광형의 경우에도 화소가 구동되지 않을 경우의 반사를 방지하기 위해 비반사형 전극, 즉, 전술한 바와 같이 애노우드 전극으로서의 일함수를 맞출 수 있는 것이면 어떠한 물질도 사용할 수 있음은 물론이다.The first electrode 31, which is an anode electrode, may use ITO to match the work function as described above, wherein the organic electroluminescent display is imaged in the direction of the first substrate 10 from the organic film 32. In the case of the bottom emission type for implementing the above, only ITO, which is a transparent conductor, is sufficient. In the case of the top emission type for implementing the image in the direction of the second substrate 12, it may be formed as a reflective electrode to increase the luminance. That is, in the case of the top emission type, the light emitted from the organic film 32 in the direction of the first substrate 10 is reflected in the direction of the second substrate 12 to achieve high luminance. To this end, the first electrode 31 is formed of a metal layer made of Al, Ni, Cr, Pt and the like having good reflectance in the direction of the first substrate 10, and then ITO or IZO, etc., to adjust the work function thereon. By forming a reflective electrode can be formed. Of course, even in the case of the front emission type, any material may be used as long as the work function as the non-reflective electrode, that is, the anode electrode as described above, can be used to prevent reflection when the pixel is not driven. .

캐소오드 전극인 제 2 전극(33)은 배면발광형인 경우 일함수가 낮은 Al, Ca, Mo 등으로 형성하고, 전면발광형인 경우에는 투명 전극으로 형성한다. 제 2 전극(33)을 투명 전극으로 형성하는 방법은 다양하게 존재하는 데, 그 일 예로, Mg-Ag 이나, Al과 같은 금속에 의해 얇은 반투과성 박막을 형성한 후, 그 위로 투명한 ITO를 형성한다.The second electrode 33, which is a cathode electrode, is formed of Al, Ca, Mo, etc. having a low work function in the case of the bottom emission type, and is formed of a transparent electrode in the case of the top emission type. There are various methods of forming the second electrode 33 as a transparent electrode. For example, a thin semi-permeable thin film is formed by a metal such as Mg-Ag or Al, and then transparent ITO is formed thereon. .

이렇게, 제 2 전극(33)을 형성한 후에는 그 상부로 제 2 기판(12)이 접합되어 밀봉된다.  In this manner, after the second electrode 33 is formed, the second substrate 12 is bonded and sealed thereon.

한편, 도 2에서 볼 수 있는 바와 같은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 절연층인 패시베이션층(13) 위로 블랙 매트릭스층(40)이 형성되고, 이 블랙 매트릭스층(40)의 상부로 제 1 전극(31)이 형성된다. Meanwhile, in the organic light emitting display according to the exemplary embodiment of the present invention as shown in FIG. 2, a black matrix layer 40 is formed on the passivation layer 13, which is an insulating layer, and the black matrix layer 40 is formed. The first electrode 31 is formed on the top of the.

상기 블랙 매트릭스층(40)은 외광을 흡수해 반사를 방지하여 콘트라스트를 향상시키기 위한 것으로, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 도전성 소재로 형성할 수 있다. The black matrix layer 40 is to improve contrast by absorbing external light and preventing reflection. According to an exemplary embodiment of the present invention, the black matrix layer 40 may be formed of a conductive material.

이렇게 도전성 소재로 형성된 블랙 매트릭스층(40)은 패시베이션층(13)의 컨택홀(13a)에 의해 드레인 전극(26)과 접촉되고, 이에 따라, 제 1 전극(31)과 드레인 전극(26)이 전기적으로 연결되도록 한다.The black matrix layer 40 formed of the conductive material is in contact with the drain electrode 26 by the contact hole 13a of the passivation layer 13, whereby the first electrode 31 and the drain electrode 26 are Make electrical connections.

본 발명의 바람직한 일 실시예에 있어, 이러한 블랙 매트릭스층(40)으로는 도전성을 띠고, 외부광을 흡수할 수 있는 물질이면 어떠한 것이든 사용 가능하다.In a preferred embodiment of the present invention, any material can be used as the black matrix layer 40 as long as it is conductive and can absorb external light.

이러한 도전성 블랙 매트릭스층(40)의 일 예로서, 본 발명의 바람직한 일 실시예에 의하면, 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 도전성 물질인 제 2 성분으로 구비할 수 있다. 이 때, 상기 제 1 성분은 도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 절연층인 패시베이션층(13)에 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 제 2 성분은 패시베이션층(13)으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성된다.As an example of the conductive black matrix layer 40, according to a preferred embodiment of the present invention, the conductive black matrix layer 40 may include a first component that is a metal material and a second component that is a transparent conductive material. In this case, as shown in FIG. 3, the content increases as the first component approaches the passivation layer 13, which is an insulating layer, and the content increases as the second component moves away from the passivation layer 13. It is formed to increase.

상기 제 1 성분은 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비될 수 있으며, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비될 수 있다.The first component may be provided with at least one transparent material selected from the group consisting of transparent conductive materials such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), ZnO, In 2 O 3, and the like. The component may be provided with at least one metal material selected from the group consisting of Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt.

한편, 상기와 같은 도전성 블랙 매트릭스층(40)은 도 1에서 볼 수 있듯이, 인접한 화소의 블랙 매트릭스층과 전기적으로 분리되도록 하는 것이 바람직하다. 이는 상기 블랙 매트릭스층(40)이 도전성을 띠기 때문에, 화소간에 전기적인 단락이 일어날 수 있기 때문이다. Meanwhile, as shown in FIG. 1, the conductive black matrix layer 40 may be electrically separated from the black matrix layer of adjacent pixels. This is because the black matrix layer 40 is conductive, and thus an electrical short may occur between the pixels.

이처럼 블랙 매트릭스층(40)을 도전성으로 형성하게 되면, 블랙 매트릭스층(40)의 상부에 제 1 전극(31)을 형성하고, 이들 블랙 매트릭스층(40) 및 제 1 전극(31)을 단일의 패터닝 공정에 의해 패터닝할 수 있어 공정이 단축될 수 있다.As such, when the black matrix layer 40 is formed conductively, the first electrode 31 is formed on the black matrix layer 40, and the black matrix layer 40 and the first electrode 31 are formed as a single layer. Patterning can be performed by the patterning process, so that the process can be shortened.

또한, 상기 제 1 전극(31)의 하부에 블랙 매트릭스층(40)을 형성하기 때문에, 반사형 전극으로 제 1 전극을 사용할 수 있으며, 이 때, 화소에서의 반사효율을 높이고 그 이외의 부분에서는 반사를 억제할 수 있어 화상의 품위를 향상시킬 수 있다.In addition, since the black matrix layer 40 is formed below the first electrode 31, the first electrode can be used as a reflective electrode, and in this case, the reflection efficiency in the pixel is increased, Reflection can be suppressed and the image quality can be improved.

상기와 같은 구조의 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치는 도 4 내지 도 6에서 볼 수 있는 바와 같은 방법에 의해 제조될 수 있다.The organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention having the above structure may be manufactured by a method as shown in FIGS. 4 to 6.

먼저, 도 4에서 볼 수 있는 바와 같이, 제 1 기판(10)의 상부에 블랙 매트릭스 물질층(41)과, 제 1 전극 물질층(37)을 순차로 형성한다. 이 때, 상기 제 1 기판(10)은 전술한 바와 같이, TFT층(20)이 포함된 것으로, 이 TFT층(20)을 덮도록 패시베이션층(13)이 형성되어 있다. First, as shown in FIG. 4, the black matrix material layer 41 and the first electrode material layer 37 are sequentially formed on the first substrate 10. At this time, the first substrate 10 includes the TFT layer 20 as described above, and the passivation layer 13 is formed to cover the TFT layer 20.

상기 TFT층(20)은 다음과 같이 제조될 수 있다.The TFT layer 20 may be manufactured as follows.

즉, 글라스(Glass)재의 제 1 기판(10) 상에 버퍼층(11)을 형성한다. 상기 버퍼층(11)은 SiO2로 형성할 수 있으며, PECVD법, APCVD법, LPCVD법, ECR법 등에 의해 증착될 수 있다. 그리고, 이 버퍼층(11)은 대략 3000Å 정도로 증착 가능하다.That is, the buffer layer 11 is formed on the first substrate 10 of glass material. The buffer layer 11 may be formed of SiO 2, and may be deposited by PECVD, APCVD, LPCVD, ECR, or the like. The buffer layer 11 can be deposited to about 3000 mW.

상기 버퍼층(11)의 상부에는 다결정질 실리콘 박막에 의해 활성층(21)이 형성되는 데, 이는 먼저, 비정질 실리콘 박막을 증착한 후 결정화시켜 형성할 수 있다.The active layer 21 is formed on the buffer layer 11 by a polycrystalline silicon thin film, which may be formed by first depositing an amorphous silicon thin film and then crystallizing it.

다결정질 실리콘 박막을 형성한 수에는 이를 패터닝하여 활성층(21)을 만들 고, 그 위로 SiO2 등에 의해 게이트 절연막을 PECVD법, APCVD법, LPCVD법, ECR법 등에 의해 증착하여 형성하고, MoW, Al/Cu 등으로 도전막을 성막한 후 패터닝하여 게이트 전극을 형성한다. 상기 활성층, 게이트 절연막, 게이트 전극은 다양한 순서 및 방법에 의해 패터닝이 가능하다. The number of polycrystalline silicon thin films formed is patterned to form an active layer 21, and then a gate insulating film is formed by SiO2 or the like by PECVD, APCVD, LPCVD, ECR, etc., to form MoW, Al /. After forming a conductive film with Cu or the like, patterning is performed to form a gate electrode. The active layer, the gate insulating film, and the gate electrode can be patterned by various procedures and methods.

활성층, 게이트 절연막, 게이트 전극의 패터닝이 끝난 후에는 그 소스 및 드레인 영역에 N형 또는 P형 불순물을 도핑한다.After patterning of the active layer, gate insulating film, and gate electrode, N-type or P-type impurities are doped into the source and drain regions.

이렇게 도핑 공정이 끝난 후에는 층간 절연막(24)을 형성한 후 컨택 홀을 통해 소스 전극(25) 및 드레인 전극(26)을 활성층(21)에 접속시켜 TFT층(20)을 형성한다. After the doping process is completed, the interlayer insulating film 24 is formed, and then the TFT electrode 20 is formed by connecting the source electrode 25 and the drain electrode 26 to the active layer 21 through contact holes.

그리고, 이 TFT층(20) 위로 패시베이션층(13)을 형성한 후, 패시베이션층(13)에 제 1 전극과 드레인 전극의 전기적 연결을 위한 컨택홀(13a)을 형성한다. 이러한 막 구조는 소자 설계에 따라 다양한 구조를 채용할 수 있음은 물론이다.After the passivation layer 13 is formed over the TFT layer 20, a contact hole 13a is formed in the passivation layer 13 for electrical connection between the first electrode and the drain electrode. Such a film structure can of course employ various structures depending on the device design.

상기 패시베이션층(13)의 상부에 형성되는 블랙 매트릭스 물질층(41)은 전술한 바와 같이, 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 도전성 물질인 제 2 성분이 농도구배를 갖도록 동시에 증착시켜 형성한다. As described above, the black matrix material layer 41 formed on the passivation layer 13 is formed by simultaneously depositing a first component, which is a metal material, and a second component, which is a transparent conductive material, to have a concentration gradient.

그리고, 이 블랙 매트릭스 물질층(41)의 상부로 제 1 전극 물질층(37)을 증착한다. 이 제 1 전극 물질층(37)은 제 1 전극을 반사형 전극으로 형성할 경우에는 하부에 금속층과 상부에 ITO 또는 IZO가 형성되도록 증착할 수 있다. 이러한 블랙 매트릭스 물질층(41)과 제 1 전극 물질층(37)은 스퍼터링 등의 증착방법에 있어, 동시에 증착시킬 수 있음은 물론이다.Then, the first electrode material layer 37 is deposited on the black matrix material layer 41. When forming the first electrode as a reflective electrode, the first electrode material layer 37 may be deposited such that a metal layer is formed on the bottom and ITO or IZO is formed on the top. The black matrix material layer 41 and the first electrode material layer 37 may be deposited at the same time in a deposition method such as sputtering.

이렇게 제 1 전극 물질층(37)까지 형성한 후에는 그 위로 포토 레지스트와 같은 감광막(50)을 도포한 후, 도 5에서 볼 수 있는 바와 같이, 하프 톤(half-tone) 마스크를 이용해 패터닝한다. 하프 톤 마스크는 감광막의 노광 시 투광량을 조절하여 서로 두께가 다른 막의 패터닝이 가능하도록 하는 것으로, 도 5에서 볼 수 있듯이, 제 1 전극이 형성되는 부분(51)은 감광막이 식각되지 않고, 모두 남도록 노광시키고, 블랙 매트릭스층만이 형성되는 부분(52)은 감광막이 조금 남도록 하며, 그 이외의 부분은 감광막이 모두 식각되도록 한 것이다.After forming the first electrode material layer 37, a photoresist film 50 such as a photoresist is applied thereon, and then patterned using a half-tone mask, as shown in FIG. . The half-tone mask allows the patterning of films having different thicknesses by controlling the amount of light emitted when the photosensitive film is exposed. As shown in FIG. 5, the portion 51 where the first electrode is formed is not etched. The portions 52 where only the black matrix layer is formed are exposed to remain, and the photoresist film is left slightly. Otherwise, the photoresist films are all etched.

이러한 하프톤 마스크에 의한 노광이 있은 후에 이를 현상 및 에칭시킬 경우에는 도 6과 같이, 소정 영역에 블랙 매트릭스층(40)이 형성되고, 그 상부로 이보다 작은 영역으로 제 1 전극(31)이 형성된다. In the case of developing and etching after exposure by the halftone mask, as illustrated in FIG. 6, the black matrix layer 40 is formed in a predetermined region, and the first electrode 31 is formed in a smaller region thereon. do.

이처럼, 본 발명에 따른 제조방법에 의하면, 블랙 매트릭스층(40)과 제 1 전극(31)을 단일의 패터닝 공정에 의해 형성하므로, 추가 공정이 필요없게 된다.As described above, according to the manufacturing method according to the present invention, since the black matrix layer 40 and the first electrode 31 are formed by a single patterning process, no additional process is required.

상기와 같이, 제 1 전극(31)을 형성한 후에는 그 위로 평탄화막(14)을 형성한 후, 패터닝하여 개구부(14a)를 형성한다. 그리고, 이 개구부(14a)에 유기막(32)을 형성하는 데, 이 유기막(32)은 전술한 바와 같이 다양한 층상 구조를 갖도록 하며, 풀 칼라의 경우 유기 발광층이 적, 녹, 청색의 화소별로 서로 다르게 되도록 형성한다. 이러한 유기막(32)의 상부로는 제 2 전극(33)을 증착하는 데, 이 제 2 전극(33)은 통상 전면 증착될 수 있다. 제 2 전극(33)이 증착된 후에는 제 2 기판(12)에 의해 밀봉된다.As described above, after the first electrode 31 is formed, the planarization film 14 is formed thereon, and then patterned to form the opening 14a. The organic film 32 is formed in the opening 14a. The organic film 32 has various layered structures as described above. In the full color, the organic light emitting layer has red, green, and blue pixels. Form so different from each other. The second electrode 33 is deposited on the organic layer 32. The second electrode 33 may be generally deposited on the entire surface. After the second electrode 33 is deposited, it is sealed by the second substrate 12.

상기와 같은 블랙 매트릭스층은 도 7에서 볼 수 있는 바와 같은 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 표시장치와 같이, 제 1 전극과 동일층에 형성될 수도 있다.As described above, the black matrix layer may be formed on the same layer as the first electrode, as in the organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention as shown in FIG. 7.

즉, 도 7에서 볼 수 있듯이, 절연층인 패시베이션층(13)의 상부에 제 1 전극(31)과 블랙 매트릭스층(41)이 나란히 형성되며, TFT층(20)의 드레인 전극(26)에 제 1 전극(31)이 직접 연결되도록 한다. 그 이외의 구조는 전술한 도 2에 따른 실시예와 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.That is, as shown in FIG. 7, the first electrode 31 and the black matrix layer 41 are formed side by side on the passivation layer 13, which is an insulating layer, and the drain electrode 26 of the TFT layer 20. The first electrode 31 is directly connected. The other structure is the same as the embodiment according to FIG. 2 described above, and thus a detailed description thereof will be omitted.

상기와 같은 구조의 유기 전계 발광 표시장치에 있어서는, 상기 블랙 매트릭스층(40)이 도전성 소재이건, 절연성 소재이건 무방하다. 다만, 상기 블랙 매트릭스층(40)을 도전성 소재로 형성할 경우에는 도 7에서 볼 수 있듯이, 인접 화소의 블랙 매트릭스층과 전기적으로 분리될 수 있도록 패턴되는 것이 바람직하다. 또한, 이 경우에는 상기 블랙 매트릭스층(40)이 제 1 전극(31)과 전기적으로 분리되도록 할 수도 있다.In the organic light emitting display device having the above structure, the black matrix layer 40 may be a conductive material or an insulating material. However, when the black matrix layer 40 is formed of a conductive material, as shown in FIG. 7, the black matrix layer 40 is preferably patterned to be electrically separated from the black matrix layer of the adjacent pixel. In this case, the black matrix layer 40 may be electrically separated from the first electrode 31.

상기 블랙 매트릭스층(40)을 절연성 소재로 형성할 경우에는 이렇게 인접 화소의 블랙 매트릭스층과 전기적으로 분리되도록 할 필요는 없다.When the black matrix layer 40 is formed of an insulating material, it is not necessary to be electrically separated from the black matrix layer of the adjacent pixels.

도전성 블랙 매트릭스층은 전술한 바와 같이, 금속 물질인 제 1 성분과 투명한 도전성 물질인 제 2 성분이 도 3과 같은 농도구배를 갖도록 형성할 수 있는 데, 이 때, 상기 제 1 성분은 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비될 수 있으며, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비될 수 있다.As described above, the conductive black matrix layer may be formed such that the first component, which is a metal material, and the second component, which is a transparent conductive material, have a concentration gradient as shown in FIG. 3, wherein the first component is ITO (Indium). tin oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ZnO, In 2 O 3 It may be provided with at least one transparent material selected from the group consisting of a transparent conductive material, the second component is Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt may be provided with at least one metal material selected from the group consisting of.

절연성 블랙 매트릭스층도 매우 다양한 재질로 형성될 수 있는 데, Cr 및 CrOx(x≥1)로 구비된 블랙 매트릭스, 카바이드와 같은 유기물질로 구비된 블랙 매트릭스 등을 사용할 수 있다. 뿐만 아니라, 금속 물질인 제 1 성분과 투명한 절연성 물질인 제 2 성분이 도 3과 같은 농도구배를 갖도록 형성할 수 있는 데, 이 때, 상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3 , SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비될 수 있으며, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비될 수 있다.The insulating black matrix layer may also be formed of a wide variety of materials, such as a black matrix provided with Cr and CrOx (x ≧ 1), a black matrix provided with an organic material such as carbide, and the like. In addition, the first component, which is a metallic material, and the second component, which is a transparent insulating material, may be formed to have a concentration gradient as shown in FIG. 3, wherein the first component is SiOx (x ≧ 1), SiNx (x ≧ 1), MgF 2 , CaF 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 It may be provided with at least one transparent material selected from the group consisting of a transparent insulating material, the second component is Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt may be provided with at least one metal material selected from the group consisting of.

이렇게 블랙 매트릭스층(40)과 제 1 전극(31)이 동일한 층에 형성되도록 하는 유기 전계 발광 표시장치는 도 4에서 볼 수 있는 바와 같은 TFT층(20) 및 패시베이션층(13)이 형성되어 있는 제 1 기판(10) 상에 블랙 매트릭스 물질층을 증착시킨 후, 이를 패터닝하여 도 7에서 볼 수 있는 소정 패턴의 블랙 매트릭스층을 형성한다. 그리고, 이렇게 형성된 블랙 매트릭스층(40)의 상부에 제 1 전극 물질층을 형성하고, 이를 패터닝하여 상기 블랙 매트릭스층(40)에 인접하여 제 1 전극(31)이 형성되도록 한다. In such an organic light emitting display device in which the black matrix layer 40 and the first electrode 31 are formed on the same layer, the TFT layer 20 and the passivation layer 13 as shown in FIG. 4 are formed. After depositing a black matrix material layer on the first substrate 10, it is patterned to form a black matrix layer having a predetermined pattern as shown in FIG. In addition, a first electrode material layer is formed on the black matrix layer 40 thus formed and patterned so that the first electrode 31 is formed adjacent to the black matrix layer 40.

상기 블랙 매트릭스 물질층은 전술한 바와 같이 블랙 매트릭스층을 형성할 수 있는 물질로 이루어진 것을 말하며, 상기 제 1 전극 물질층은 전술한 제 1 전극을 형성할 수 있는 물질로 이루어진 것을 말한다. 이에 대한 상세한 설명은 앞서 기술했으므로, 생략한다.As described above, the black matrix material layer is made of a material capable of forming a black matrix layer, and the first electrode material layer is made of a material capable of forming the aforementioned first electrode. Detailed description thereof has been described above, and thus will be omitted.

한편, 상기 블랙 매트릭스층(40)과 제 1 전극(31)은 그 순서를 바꿔서도 형성이 가능한 데, 즉, 제 1 전극(31)을 먼저 형성한 후, 블랙 매트릭스층(40)을 패터닝할 수도 있다.On the other hand, the black matrix layer 40 and the first electrode 31 can be formed by changing their order, that is, the first electrode 31 is formed first, and then the black matrix layer 40 is patterned. It may be.

제 1 전극까지 형성된 후에 유기막 및 제 2 전극을 형성하고, 제 2 기판을 밀봉하는 방법은 전술한 바와 동일하므로 그 설명은 생략한다.Since the method of forming an organic film and a 2nd electrode, and sealing a 2nd board | substrate after forming even the 1st electrode is the same as that mentioned above, the description is abbreviate | omitted.

한편, 도 8은 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예를 나타낸 것인 데, 이 때의 블랙 매트릭스층(40)은 절연성 소재로 이루어져 있으며, 제 1 전극(31)은 이 블랙 매트릭스층(40)의 상부에 형성될 수 있다. 이 때, 제 1 전극(31)은 TFT층(20)의 드레인 전극(26)과 전기적으로 연결되어야 하므로, 패시베이션층(13)에 형성된 컨택홀(13a)에 대응되도록 상기 블랙 매트릭스층(40)에도 컨택홀(40a)을 형성하여, 이 컨택홀들(13a)(40a)을 통해 제 1 전극(31)이 드레인 전극(26)에 접속되도록 한다. 8 illustrates another preferred embodiment of the present invention, wherein the black matrix layer 40 is made of an insulating material, and the first electrode 31 is the black matrix layer 40. It can be formed on top of. In this case, since the first electrode 31 must be electrically connected to the drain electrode 26 of the TFT layer 20, the black matrix layer 40 corresponds to the contact hole 13a formed in the passivation layer 13. Also, a contact hole 40a is formed so that the first electrode 31 is connected to the drain electrode 26 through the contact holes 13a and 40a.

그리고, 전면 발광형의 경우 상기 블랙 매트릭스층(40)은 패시베이션층(13)과 일체로 형성될 수 있다. 즉, 패시베이션층을 절연성 블랙 매트릭스층으로 형성할 수 있는 것이다. 다만, 이 경우에는 제 1 전극이 반사형 전극으로 사용되는 것이 바람직하다.In the case of the top emission type, the black matrix layer 40 may be integrally formed with the passivation layer 13. That is, the passivation layer can be formed into an insulating black matrix layer. In this case, however, the first electrode is preferably used as the reflective electrode.

상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 의하면 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.According to the present invention made as described above can obtain the following effects.

첫째, 전면 발광형에의 적용이 용이하고, 제 1 전극을 반사형 전극으로 사용할 수 있다.First, application to the top emission type is easy, and the first electrode can be used as the reflective electrode.

둘째, 제 1 전극을 반사형 전극으로 사용할 경우에 화상이 구현되는 영역에서는 반사효율을 높이고, 그 외의 부분에서는 반사를 억제할 수 있어 화상의 품위를 향상시킬 수 있다.Second, when the first electrode is used as the reflective electrode, the reflection efficiency can be increased in the region where the image is realized, and reflection can be suppressed in the other parts, thereby improving the image quality.

셋째, 간단하게 블랙 매트릭스층을 형성할 수 있어 콘트라스트를 향상시킬 수 있다.Third, the black matrix layer can be formed simply, and the contrast can be improved.

넷째, 블랙 매트릭스층이 TFT층 상부에 배치되어 전면발광형의 경우에도 TFT 쪽으로 빛이 들어가는 것을 막아줄 수 있으며, 이에 따라 TFT의 광신뢰성을 향상시킬 수 있다.Fourth, the black matrix layer is disposed on the TFT layer to prevent light from entering the TFT even in the case of the top emission type, thereby improving the light reliability of the TFT.

다섯째, 블랙 매트릭스층과 제 1 전극을 동시에 형성할 수 있어 추가 공정이 필요없이 제조 공정을 간단하게 할 수 있고, 이에 따라 생산성을 향상시킬 수 있다.Fifth, since the black matrix layer and the first electrode can be formed at the same time, the manufacturing process can be simplified without the need for an additional process, and thus productivity can be improved.

여섯째, 편광판을 사용하지 않아도 됨으로써 제품 가격을 낮출 수 있으며, 휘도를 증대시킬 수 있다.Sixth, by not using a polarizing plate can lower the product price, it is possible to increase the brightness.

본 발명에 따르면, 상기와 같은 기능성 박막에 의해 캐소오드 전극의 전압 강하를 방지함과 동시에, 이 기능성 박막을 블랙 매트릭스로서도 사용할 수 있어 외광의 반사율을 대폭 줄이고, 구현되는 화상의 콘트라스트와 휘도를 향상시킬 수 있다. According to the present invention, the functional thin film as described above prevents the voltage drop of the cathode electrode, and can also be used as a black matrix, significantly reducing the reflectance of external light and improving the contrast and brightness of the image to be realized. You can.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Could be. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

Claims (39)

서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판; First and second substrates opposed to each other; 상기 제 1 기판의 상부에 소정 패턴으로 형성되고, 도전성 소재로 이루어진 블랙 매트릭스층;A black matrix layer formed in a predetermined pattern on the first substrate and made of a conductive material; 상기 블랙 매트릭스층 상부 또는 상기 블랙 매트릭스층과 같은 층에 형성된 제 1 전극;A first electrode formed on the black matrix layer or on the same layer as the black matrix layer; 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극; 및A second electrode formed on the first electrode so as to face the first electrode; And 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And an organic film interposed between the first electrode and the second electrode to emit light, the organic layer having at least an organic light emitting layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 블랙 매트릭스층은 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 물질인 제 2 성분으로 구비된 것으로, 상기 제 1 성분은 상기 제 1 기판에 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 제 1 기판으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치. The black matrix layer is formed of a first component which is a metallic material and a second component which is a transparent material. The organic light emitting display device of claim 1, wherein the organic light emitting display device is formed such that its content increases as the distance from the substrate increases. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제 1 성분은 SiOx(x≥1), SiNx(x≥1), MgF2, CaF2, Al2O3 , SnO2 등과 같은 투명한 절연물질로 이루어진 군 및 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군 중 적어도 어느 하나의 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비되고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치. The first component is composed of a transparent insulating material such as SiOx (x≥1), SiNx (x≥1), MgF 2 , CaF 2 , Al 2 O 3 , SnO 2 , Indium tin Oxide (ITO), IZO ( Indium Zinc Oxide), ZnO, In 2 O 3 It is provided with at least one transparent material selected from at least one of the group consisting of a transparent conductive material, the second component is Fe, Co, V, Ti, An organic light emitting display device comprising at least one metal material selected from the group consisting of Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, and Pt. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 블랙 매트릭스층은 Cr 및 CrOx(x≥1)로 구비된 것을 유기 전계 발광 표시장치.And the black matrix layer is formed of Cr and CrOx (x ≧ 1). 서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판; First and second substrates opposed to each other; 상기 제 1 기판의 상부에 소정 패턴으로 형성되고, 외광을 흡수할 수 있는 유기물질로 구비된 블랙 매트릭스층;A black matrix layer formed in a predetermined pattern on the first substrate and made of an organic material capable of absorbing external light; 상기 블랙 매트릭스층과 같은 층에 형성된 제 1 전극;A first electrode formed on the same layer as the black matrix layer; 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극; 및A second electrode formed on the first electrode so as to face the first electrode; And 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And an organic film interposed between the first electrode and the second electrode to emit light, the organic layer having at least an organic light emitting layer. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 제 1 전극은 제 2 기판의 방향으로 빛을 반사시킬 수 있는 반사형 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the first electrode is a reflective electrode capable of reflecting light in a direction of a second substrate. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 제 1 전극은 투명 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the first electrode is a transparent electrode. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 제 2 전극은 투명 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the second electrode is a transparent electrode. 서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판; First and second substrates opposed to each other; 상기 제 1 기판의 상부에 형성되고, 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층;A thin film transistor layer formed on the first substrate and having at least one thin film transistor having a source and a drain electrode; 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 구비된 절연층;An insulation layer provided to cover the thin film transistor; 상기 절연층 상부에 형성된 블랙 매트릭스층;A black matrix layer formed on the insulating layer; 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 전기적으로 연결된 것으로, 상기 블랙 매트릭스층의 상부에 형성된 제 1 전극;A first electrode electrically connected to any one of the source and drain electrodes and formed on the black matrix layer; 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극; 및A second electrode formed on the first electrode so as to face the first electrode; And 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막;을 포함하고,Interposed between the first electrode and the second electrode to emit light, the organic film having at least an organic light emitting layer; 상기 블랙 매트릭스층은 도전성 소재로 구비되고, 상기 제 1 전극과 전기적으로 연결된 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나에 접촉된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.The black matrix layer is formed of a conductive material and is in contact with any one of the source and drain electrodes electrically connected to the first electrode. 삭제delete 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 블랙 매트릭스층은 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 도전성 물질인 제 2 성분으로 구비된 것으로, 상기 제 1 성분은 상기 절연층에 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 절연층으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치. The black matrix layer is formed of a first component which is a metal material and a second component which is a transparent conductive material. The organic electroluminescent display device is formed so that its content increases as it moves away from the layer. 제 11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제 1 성분은 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비되고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.The first component is provided with at least one transparent material selected from the group consisting of transparent conductive materials such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), ZnO, In 2 O 3, and the like. Organic electroluminescent display comprising at least one metallic material selected from the group consisting of Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt Device. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 유기 전계 발광 표시장치는 복수개의 화소를 구비하고, 적어도 상기 제 1 전극 및 상기 블랙 매트릭스층은 인접한 화소간에 전기적으로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.The organic light emitting display device includes a plurality of pixels, and at least the first electrode and the black matrix layer are electrically separated between adjacent pixels. 삭제delete 제9항, 및 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 and 11 to 13, 상기 제 1 전극은 제 2 기판의 방향으로 빛을 반사시킬 수 있는 반사형 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the first electrode is a reflective electrode capable of reflecting light in a direction of a second substrate. 제9항, 및 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 and 11 to 13, 상기 제 1 전극은 투명 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the first electrode is a transparent electrode. 제9항, 및 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 9 and 11 to 13, 상기 제 2 전극은 투명 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치. And the second electrode is a transparent electrode. 서로 대향되는 제 1 및 제 2 기판; First and second substrates opposed to each other; 상기 제 1 기판의 상부에 형성되고, 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층;A thin film transistor layer formed on the first substrate and having at least one thin film transistor having a source and a drain electrode; 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 구비된 절연층;An insulation layer provided to cover the thin film transistor; 상기 절연층 상부에 소정 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층;A black matrix layer formed in a predetermined pattern on the insulating layer; 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 전기적으로 연결된 것으로, 상기 블랙 매트릭스층과 동일 층에 형성된 제 1 전극;A first electrode electrically connected to any one of the source and drain electrodes and formed on the same layer as the black matrix layer; 상기 제 1 전극의 상부에 제 1 전극과 대향되도록 형성된 제 2 전극; 및A second electrode formed on the first electrode so as to face the first electrode; And 상기 제 1 전극과 제 2 전극의 사이에 개재되어 발광하는 것으로, 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And an organic film interposed between the first electrode and the second electrode to emit light, the organic layer having at least an organic light emitting layer. 제18항에 있어서,The method of claim 18, 상기 블랙 매트릭스층은 도전성 소재로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전 계 발광 표시장치.And the black matrix layer is formed of a conductive material. 제19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 블랙 매트릭스층은 금속 물질인 제 1 성분과, 투명한 도전성 물질인 제 2 성분으로 구비된 것으로, 상기 제 1 성분은 상기 절연층에 가까워질수록 그 함량이 증가하고, 상기 제 2 성분은 상기 절연층으로부터 멀어질수록 그 함량이 증가하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치. The black matrix layer is formed of a first component which is a metal material and a second component which is a transparent conductive material. The organic electroluminescent display device is formed so that its content increases as it moves away from the layer. 제 20항에 있어서,The method of claim 20, 상기 제 1 성분은 ITO(Indium tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO, In2O3 등과 같은 투명한 도전물질로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 투명한 물질로 구비되고, 상기 제 2 성분은 Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나 이상의 금속 물질로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.The first component is provided with at least one transparent material selected from the group consisting of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), ZnO, In 2 O 3 and the like, the second component is Organic electroluminescent display comprising at least one metal material selected from the group consisting of Fe, Co, V, Ti, Al, Ag, Si, Ge, Y, Zn, Zr, W, Ta, Cu, Pt Device. 제19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 유기 전계 발광 표시장치는 복수개의 화소를 구비하고, 적어도 상기 블랙 매트릭스층은 인접한 화소간에 전기적으로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.The organic light emitting display device includes a plurality of pixels, and at least the black matrix layer is electrically separated between adjacent pixels. 제19항에 있어서,The method of claim 19, 상기 블랙 매트릭스층은 상기 제 1 전극과 전기적으로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치. And the black matrix layer is electrically separated from the first electrode. 제18항에 있어서,The method of claim 18, 상기 블랙 매트릭스층은 절연성 소재로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the black matrix layer is formed of an insulating material. 제18항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 18 to 24, 상기 제 1 전극은 제 2 기판의 방향으로 빛을 반사시킬 수 있는 반사형 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the first electrode is a reflective electrode capable of reflecting light in a direction of a second substrate. 제18항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 18 to 24, 상기 제 1 전극은 투명 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치.And the first electrode is a transparent electrode. 제18항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 18 to 24, 상기 제 2 전극은 투명 전극으로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치. And the second electrode is a transparent electrode. 제 1 기판의 상부에 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계;Forming a black matrix material layer on top of the first substrate; 상기 블랙 매트릭스 물질층의 상부에 제 1 전극 물질층을 형성하는 단계;Forming a first electrode material layer on top of the black matrix material layer; 상기 블랙 매트릭스 물질층 및 제 1 전극 물질층을 동시에 패터닝하여 블랙 매트릭스층 및 제 1 전극을 형성하는 단계;Simultaneously patterning the black matrix material layer and the first electrode material layer to form a black matrix layer and a first electrode; 상기 제 1 전극의 상부에 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 형성하는 단계; 및Forming an organic film having at least an organic light emitting layer on the first electrode; And 상기 유기막의 상부에 상기 제 1 전극과 대향되도록 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하고,And forming a second electrode on the organic layer so as to face the first electrode. 상기 블랙 매트릭스 물질층은 도전성 소재로 형성하고, 상기 블랙 매트릭스층은 인접한 화소간에 전기적으로 분리되도록 패터닝하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법.The black matrix material layer is formed of a conductive material, and the black matrix layer is patterned to be electrically separated between adjacent pixels. 삭제delete 제28항에 있어서,The method of claim 28, 상기 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계 이전에는,Prior to forming the black matrix material layer, 상기 제 1 기판의 상부에 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층을 형성하는 단계; 및Forming a thin film transistor layer having at least one thin film transistor having a source and a drain electrode on the first substrate; And 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 절연층을 형성하는 단계;가 더 포함되고, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 상기 절연층의 상부에 형성되며, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 접촉되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법. And forming an insulating layer to cover the thin film transistor, wherein the black matrix material layer is formed on the insulating layer, and the black matrix material layer is in contact with one of the source and drain electrodes. A method of manufacturing an organic light emitting display, characterized in that formed. 제 1 기판의 상부에 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계;Forming a black matrix material layer on top of the first substrate; 상기 블랙 매트릭스 물질층을 패터닝하여 블랙 매트릭스층을 형성하는 단계;Patterning the black matrix material layer to form a black matrix layer; 상기 제 1 기판의 상부에 제 1 전극 물질층을 형성한 후 패터닝하여 제 1 전극을 형성하는 단계;Forming a first electrode by forming a first electrode material layer on the first substrate and then patterning the first electrode; 상기 제 1 전극의 상부에 적어도 유기 발광층을 갖는 유기막을 형성하는 단계; 및Forming an organic film having at least an organic light emitting layer on the first electrode; And 상기 유기막의 상부에 상기 제 1 전극과 대향되도록 제 2 전극을 형성하는 단계;를 포함하고,And forming a second electrode on the organic layer so as to face the first electrode. 상기 제 1 전극을 형성하는 단계는 상기 패터닝된 블랙 매트릭스층에 인접하여 제 1 전극이 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법.The forming of the first electrode may include forming a first electrode adjacent to the patterned black matrix layer. 삭제delete 제31항에 있어서,The method of claim 31, wherein 상기 블랙 매트릭스 물질층은 도전성 소재로 형성하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법.The black matrix material layer is formed of a conductive material. 제33항에 있어서,The method of claim 33, wherein 상기 블랙 매트릭스 물질층은 인접한 화소간의 블랙 매트릭스가 서로 전기적으로 분리되도록 패터닝하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법.And the black matrix material layer is patterned such that black matrices between adjacent pixels are electrically separated from each other. 제33항에 있어서,The method of claim 33, wherein 상기 제 1 전극은 상기 블랙 매트릭스와 전기적으로 분리되도록 패터닝하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법. The first electrode is patterned to be electrically separated from the black matrix. 제31항에 있어서,The method of claim 31, wherein 상기 블랙 매트릭스층은 절연성 소재로 형성하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법.The black matrix layer is formed of an insulating material. 제33항에 있어서,The method of claim 33, wherein 상기 제 1 전극을 형성하는 단계는 상기 패터닝된 블랙 매트릭스층에 상부에 제 1 전극이 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법.The forming of the first electrode may include forming a first electrode on an upper portion of the patterned black matrix layer. 제31항 및 제33항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서,38. The method of any of claims 31 and 33-37, 상기 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계 이전에는,Prior to forming the black matrix material layer, 상기 제 1 기판의 상부에 소스 및 드레인 전극을 구비한 적어도 하나의 박막 트랜지스터를 갖는 박막 트랜지스터층을 형성하는 단계; 및Forming a thin film transistor layer having at least one thin film transistor having a source and a drain electrode on the first substrate; And 상기 박막 트랜지스터를 덮도록 절연층을 형성하는 단계;가 더 포함되고, 상기 블랙 매트릭스 물질층은 상기 절연층의 상부에 형성되며, 상기 제 1 전극은 상기 소스 및 드레인 전극 중 어느 하나와 전기적으로 연결되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법. And forming an insulating layer to cover the thin film transistor, wherein the black matrix material layer is formed on the insulating layer, and the first electrode is electrically connected to any one of the source and drain electrodes. A method of manufacturing an organic light emitting display, characterized in that formed so as to. 제31항 및 제33항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서,38. The method of any of claims 31 and 33-37, 상기 제 1 전극을 형성하는 단계는 상기 블랙 매트릭스 물질층을 형성하는 단계 이전에 구비되는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법.The forming of the first electrode may be performed before forming the black matrix material layer.
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