KR100536609B1 - Controlled rock blasting method for protection of rock slope face in bench blasting - Google Patents

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KR100536609B1 KR10-2004-0038099A KR20040038099A KR100536609B1 KR 100536609 B1 KR100536609 B1 KR 100536609B1 KR 20040038099 A KR20040038099 A KR 20040038099A KR 100536609 B1 KR100536609 B1 KR 100536609B1
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Abstract

본 발명은 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법에 관한 것으로서, The present invention relates to a control blasting method for the protection of rock slopes in the bench blasting,

터널이외의 벤치발파에서 암반을 발파하는 제어 발파 방법에 있어서, 발파시 암반의 균열영역을 제어하기 위해 굴착예정선(8)을 따라서 소정 깊이의 암반 사면 보호공(1) 및 발파공(2)으로 이루어진 복수의 장약공을 암반 사면 보호공 열(3) 및 발파공 열(4)의 일렬식으로 천공하는 단계(S10)와; 상기 암반 사면 보호공(1)에는 뇌관의 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(16)을 삽입하고 상기 발파공(2)에는 일반 전기식 뇌관을 삽입하고, 상기 장약공에 폭약부를 장착하여 장약작업을 실시하는 단계(S20)와; 상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 각각의 비전기식 뇌관(16)은 시그널 튜브(17)에 연결되어 2개 이상을 한 묶음으로 하고, 상기 시그널 튜브(17)에는 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭되도록 별도로 설치된 외부의 전기식 뇌관(18)을 연결하고, 상기 비전기식 뇌관(16)에 연결된 외부의 전기식 뇌관(18)과 상기 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관을 서로 연결한 후 최종적으로 점화기에 연결하는 단계(S30)와; 상기 점화기에 의해 폭약부를 기폭시키는 단계(S40)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하며,In the controlled blasting method of blasting rock in a bench blast other than a tunnel, the rock slope protection hole 1 and the blast hole 2 having a predetermined depth along the excavation line 8 to control the crack area of the rock during blasting. Drilling a plurality of charge holes made in a row of rock slope protection hole rows 3 and blast hole rows (S10); Insert a quick non-electrical primer 16 having a delay time difference of "0ms" in the rock slope protection hole 1, and insert a general electric primer in the blasting hole 2, and install an explosive part in the charge hole. Performing the operation (S20); Each non-electrical primer 16 inserted into the rock slope protection hole 1 is connected to a signal tube 17 to bundle two or more, and the signal tube 17 has a rock slope protection hole 1 ) Connects the external electric primer 18 separately installed so as to finally detonate, and connects the external electric primer 18 connected to the non-electrical primer 16 and the general electric primer inserted into the blast hole 2. And finally connecting to the igniter (S30); It characterized in that it comprises a step (S40) to detonate the explosives by the igniter,

암반 사면 보호공 내에 삽입된 비전기식 뇌관을 2개 이상을 한 묶음으로 하여 여기에 이를 기폭시키기 위한 별도로 설치한 외부의 전기식 뇌관을 연결하여 기폭시킴으로서, 암반 사면 보호공 내에 삽입된 비전기식 뇌관의 시차가 "0ms"이고 이 경우에 비전기식 뇌관의 시그널 튜브의 폭굉속도는 경미하여 무시되므로 동시기폭에 의한 응력집중효과를 제공하게 되며, 그 결과 보호하고자 하는 암반 사면에 발파에 의한 균열영역을 제어할 수 있는 효과가 있다.Parallax of non-electric primer inserted into rock slope protector by detonating by connecting two or more non-electric primers inserted into rock slope protector and connecting them to an external electric primer installed separately to detonate them. Is "0ms" and in this case the detonation velocity of the signal tube of the non-electric primer is negligibly neglected to provide the stress concentration effect due to the simultaneous detonation. It can be effective.

Description

벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법 {Controlled rock blasting method for protection of rock slope face in bench blasting}Controlled rock blasting method for protection of rock slope face in bench blasting}

본 발명은 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 터널이외의 벤치발파(OPEN-Cut)에서 암반 사면을 보호하는 제어 발파 방법에서 전기식 뇌관과 비전기식 뇌관의 기폭시차를 서로 조합하여 새로운 기폭 시스템을 형성시킨 후 발파를 실시하여 암반 사면에 발파에 의한 균열영역을 제어하는 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a control blasting method for the protection of rock slopes in the bench blasting, and more specifically, to the electric blasting and non-electric primer of the control blasting method for protecting the rock slopes in the bench blast (OPEN-Cut) other than the tunnel The present invention relates to a control blasting method for protection of rock slopes in a bench blasting which controls a crack area by blasting by blasting after forming a new aeration system by combining a bombing parallax with each other.

통상, 노천발파는 발파 대상물체가 지표에 노출되어 있거나 가까이에 있는 경우에 시행하는 발파로서, 발파방법에 따라 벤치(계단식)발파, 트렌치발파, 도심지 발파로 구분된다.In general, open blasting is carried out when the object to be blasted is exposed to or close to the surface, and is classified into bench blasting, trench blasting, and downtown blasting according to the blasting method.

벤치발파란 2개의 자유면 발파로서 계단식 채굴을 하는 노천에서 주로 사용되고, 트렌치발파는 관로발파라고도 하며, 가스, 석유, 물 등을 공급하기 위해 지표면을 절단하여 실시하는 발파이며, 도심지의 상수도, 하수도, 전선, 가스관 등을 매립하기 위해 지표면에서 발파된다.Bench blasting is two free surface blasting and is mainly used in open-air for cascading mining. Trench blasting is also called pipeline blasting, and it is blasting by cutting the surface to supply gas, oil, water, etc. Blasts from the ground to bury electric wires, gas lines, etc.

암석의 발파에서, 발파 후 파쇄되는 부분 이외에 남아있는 암반에 균열영역을 제어하기 위해서는 특수한 제어발파가 수행되는데, 이러한 방법에 의한 종래의 제어발파법(controlled blasting)에는 스무스블라스팅(Smooth blasting), 라인드릴링(Line drilling), 프리스플리팅(Pre-splitting), 쿠션블라스팅(Cushion blasting)이 있다.In the blasting of rocks, special control blasting is performed to control the crack area in the remaining rock in addition to the crushed part after the blasting. In the conventional controlled blasting by this method, smooth blasting, lines Line drilling, pre-splitting, cushion blasting.

스무스블라스팅(Smooth blasting)은 주변공을 맨 마지막으로 기폭시키는 점에서 일반적인 발파방법과 같지만 다수의 주변공을 평행히 접근시켜 공경보다 훨씬 적은 직경의 폭약을 사용하여 약장약으로 기폭시키는 점에서 차이가 있는데 이 방법은 암반의 손상이 적고, 여굴이 적고 매끈한 굴착면을 얻을 수 있으며 부석이 적다. Smooth blasting is the same as the general blasting method in that it expels the surrounding balls last, but the difference is that the explosives using the explosives of much smaller diameter than the pore are used to detonate the medicine. This method has less rock damage, less overburden, smooth excavation surface and less pumice.

라인드릴링(Line drilling)은 굴착예정선을 따라 다수의 공을 근접, 천공하여 인공적으로 파단면을 만든 다음, 라인 드릴링공에는 장약하지 않고 자유면과 굴착예정선 사이에 천공한 발파공에 장약하여 기폭시키는 방법이다. 또한 폭발시 에너지는 일부가 라인드릴링 공으로 형성된 면에서 차단되어 그보다 더 깊숙한 암반에는 영향이 적기 때문에 매끈한 면을 얻을 수 있다. 그러나 이 방법은 천공수가 많아져 천공비가 증가되며 또 라인 드릴링공을 평행히 천공하기 위해서는 숙련된 기능이 필요하다.Line drilling is to artificially create a fracture surface by drilling and drilling a number of balls along the excavation line, and then to the blasting hole drilled between the free surface and the excavation line rather than the line drilling hole. This is how you do it. In addition, the energy in the explosion is blocked at the part formed by the line-drilling ball, so that a smooth surface can be obtained because there is less impact on the rock deeper than that. However, this method increases the drilling rate due to the large number of drillings and requires a skilled skill to drill the line drilling holes in parallel.

프리스플리팅(Pre-splitting)은 다수의 공을 천공한 다음 굴착예정선을 따라 천공된 발파공을 먼저 발파시켜 파단면을 만든 다음 나머지 부분을 발파시키는 방법이다. 굴착예정선을 따라 천공된 발파공이 맨 먼저 발파되어 각 공들 사이에 균열이 발달되어 파단면이 형성되므로 후속발파로 인한 영향을 억제시키게 된다. 라인드릴링에 비하여 천공수는 적지만 마찬가지로 평행공을 천공하여야 되므로 숙련된 기능이 요구되며 또 암반의 균열이 많은 경우는 발파에너지가 인접공 사이보다 암반내 균열을 따라 전파되므로 장약량, 공간격을 암반조건에 맞도록 결정해야 한다. Pre-splitting is a method of drilling a plurality of balls and then blasting the blast holes drilled along the excavation line to make a fracture surface and then blasting the remaining parts. Since the blast hole drilled along the excavation line is first blasted and a crack is developed between each ball to form a fracture surface, the effect of subsequent blasting is suppressed. Compared to the line drilling, the number of drillings is small, but similar skills are required because the parallel holes must be drilled. Also, if there are many cracks in the rock, the blast energy propagates along the cracks in the rock rather than between adjacent holes. You must decide to meet the conditions.

쿠션블라스팅(Cushion blasting)은 스무스블라스팅과 유사한 방법으로 주변공을 맨 나중에 기폭시키지만 장약방법이 특이하다. 도 3의 (b)와 같이 발파공보다 훨씬 적은 약경의 폭약을 발파공 내에 분산시켜 양쪽 면에 장약하고 나머지 공 전부를 모래와 같은 전색물로 채운다. 이것은 발파시에 모래와 공기가 완충작용을 하여 파단면보다 더 깊숙이 작용하는 발파에너지를 약화시키며 자유면 방향으로 파괴를 유도하게 된다. Cushion blasting is similar to smooth blasting, which causes the surrounding balls to detonate last, but the charge method is unique. As shown in (b) of FIG. 3, the explosives having a much smaller diameter than the blasting holes are dispersed in the blasting holes to be charged on both sides, and the remaining balls are filled with a color material such as sand. This causes sand and air to buffer at the time of blasting, weakening the blasting energy deeper than the fracture surface and inducing fracture in the free surface direction.

이 상에서 살펴본 바와 같이 통상적인 암석발파에서 발파 후 파쇄되는 부분 이외에 남아있는 암반에 균열영역을 제어하기 위해서 터널에서는 주로 스무스블라스팅(Smooth blasting)이 사용되고, 터널이외의 암석발파에서는 라인드릴링(Line drilling), 프리스플리팅(Pre-splitting), 쿠션블라스팅(Cushion blasting)이 주로 사용되는데, 이 들 모두는 동시기폭에 의한 응력집중효과가 충분히 작용되어야만 그 효과를 십분 활용할 수가 있게 되는데, 만일 동시 기폭이 이루어지지 않는 경우에는 그 효과가 상당히 감소하게 된다. 따라서, 전술한 제어발파의 효과를 충분히 활용하기 위해서는 응력집중효과가 충분히 작용될 수 있는 효율적인 기폭방법을 선택하여 발파작업을 수행하여야 한다.As described above, smooth blasting is mainly used in tunnels to control the crack area in the remaining rock in addition to the fractured part in the conventional blasting, and line drilling in rock blasting other than the tunnel. Pre-splitting and cushion blasting are mainly used, all of which can be fully utilized when the stress concentration effect by simultaneous explosion is fully applied. If not, the effect is significantly reduced. Therefore, in order to fully utilize the effects of the above-described control blasting, an blasting operation should be performed by selecting an effective detonation method in which the stress concentration effect can be sufficiently applied.

도 1은 통상 터널이외의 벤치발파(OPEN-Cut)에서 암반 사면(7)을 보호하는 제어 발파 방법에 있어서, 굴착예정선(8)을 따라 천공된 암반 사면 보호공(1) 및 기타 발파공(2)의 배치를 개략적으로 나타낸 배치도이고, 도 5 및 도 6은 종래의 장약공 열의 기폭순서를 개략적으로 나타내는 평면도 및 단면도이고, 도 9는 종래 발파법의 일예에 의한 암반 사면 보호공을 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도이고, 도 10은 종래 발파법의 다른 예에 의한 암반 사면 보호공을 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도이고, 도 11은 종래 발파법의 또 다른 예에 의한 암반 사면 보호공을 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도이다.1 is a control blasting method for protecting a rock slope 7 in a bench blasting (OPEN-Cut) other than a tunnel in general, the rock slope protection hole (1) and other blasting holes perforated along the excavation line (8) FIG. 5 and FIG. 6 are plan and cross-sectional views schematically showing the detonation order of the conventional charge hole rows, and FIG. 9 is an enlarged view of the rock slope protection hole according to one example of the conventional blasting method. 10 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a cross section, and FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a cross section of an enlarged rock slope protection hole according to another example of the conventional blasting method, and FIG. 11 is a rock slope according to another example of the conventional blasting method. It is an enlarged sectional view which shows the cross section which expanded the protection hole.

기폭방법을 달리하는 종래의 발파방법은 크게 3 가지방법으로 구분되는데, 첫째는, 도 1에 표시된 천공패턴에 있어서, 도 9에 표시된 바와 같이 굴착예정선(8)을 따라 천공된 암반 사면 보호공(1) 및 기타 발파공(2)의 모든 장약공에 전기식 발파의 전기식 뇌관(18)이 삽입되고, 단지 장약공 내에 삽입된 전기식 발파의 전기식 뇌관(18)의 지연시간(delay time)에 의해서만 기폭시차를 조절하여 기폭시키는 방법이다.Conventional blasting methods that differ from the detonation method is largely divided into three methods, first, in the perforation pattern shown in Figure 1, as shown in Figure 9 rock slope protection hole perforated along the excavation line (8) The electrical primer 18 of the electrical blasting is inserted in all the holes of the (1) and other blasting holes (2), and only detonated by the delay time of the electrical blasting 18 of the electrical blasting inserted into the blasting hole. It is a method to detonate by controlling the parallax.

도 9에 표시된 바와 같이, 5개 장약공 모두가 동일한 지연시간을 가진 동일단수의 뇌관이 삽입되었다 할지라도 뇌관의 기폭오차에 의해 실제 기폭시에는 동시에 기폭이 이루어지지 않는다. 예를 들면, 도 9에 표시된 장약공 내에 4000ms(millisecond, 1/1000 sec)의 지연시간을 가진 뇌관이 동일하게 삽입된 후 기폭된다 하더라도 실제 기폭시에는 4200ms, 3800ms, 4100ms, 3900ms, 4000ms 등의 예로 기폭이 이루어지므로 동시 기폭에 의한 응력집중효과를 기대할 수 없어 암반의 균열제어 효과가 떨어지는 문제점이 있었다.As shown in FIG. 9, even when all five charge holes are inserted with the same number of primers having the same delay time, detonation is not simultaneously performed during actual detonation due to detonation error of the primer. For example, even if the detonator having a delay time of 4000 ms (millisecond, 1/1000 sec) is inserted in the same hole as shown in FIG. 9 and then detonated, in actual detonation, 4200 ms, 3800 ms, 4100 ms, 3900 ms, 4000 ms, etc. For example, since the detonation is made, the stress concentration effect due to the simultaneous detonation cannot be expected, and thus, the crack control effect of the rock is lowered.

둘째는, 도 1에 표시된 천공패턴에 있어서, 도 10에 표시된 바와 같이 굴착예정선(8)을 따라 천공된 암반 사면 보호공(1) 및 기타 발파공(2)의 모든 장약공에 모두가 비전기식 발파의 비전기식 뇌관(21)을 삽입하고, 각 발파공의 영역을 4∼5개 블록으로 나눈 다음, 별도의 연결용 비전기식 뇌관(surface detonator)(20)을 사용하여 각 블록마다 외부에서 기폭시차를 조절하여 공급함으로서 기폭되는 방법으로 공내에 삽입된 비전기식 뇌관의 실제 기폭시간은 외부에서 공급되는 연결용 비전기식 뇌관(surface detonator)(20)의 시차(delay time)에 공내에 삽입된 뇌관 본연의 시차를 합한 값이 된다. Second, in the punching pattern shown in FIG. 1, all the holes of the rock slope protector 1 and the other blasting holes perforated along the excavation line 8 as shown in FIG. Insert a non-blasting primer 21 for blasting, divide the area of each blasting hole into 4-5 blocks, and then use a separate connecting surface detonator 20 to detonate the outside of each block. The actual detonation time of the non-electromagnetic primer inserted into the cavity in a manner that is detonated by controlling the supply of the detonator is inherently inserted into the cavity at the time of delay of the external non-electric primer (surface detonator) 20 supplied from the outside. It is the sum of the parallaxes of.

예를 들면, 도 10의 장약공내에 4000ms(millisecond, 1/1,000 sec)의 지연시간을 가진 비전기식 발파의 비전기식 뇌관(21)을 동일하게 삽입시킨 후, 외부에서 42ms의 지연시간(delay time)을 갖은 연결용 비전기식 뇌관(surface detonator)(20)을 이용하여 기폭시킴으로서 42ms의 지연시차의 공급이 이루어진다면, 실제 기폭시에는 4242ms, 3842ms, 4142ms, 3942ms, 4042ms 등의 예로 기폭이 이루어지므로 동시 기폭에 의한 응력집중효과를 기대할 수 없어 암반의 균열제어 효과가 떨어지는 문제점이 있었다.For example, after the same insertion of the non-electric blasting primer 21 having the delay time of 4000 ms (millisecond, 1 / 1,000 sec) in the charge hole of FIG. 10, a delay time of 42 ms from the outside If a supply of 42 ms of delay time is achieved by detonating using a non-electrical surface detonator (20) having a connection), the actual detonation may result in an example of 4242 ms, 3842 ms, 4142 ms, 3942 ms, 4042 ms, etc. There was a problem that the crack control effect of the rock was inferior because the stress concentration effect by the simultaneous detonation could not be expected.

셋째는, 도 1에 표시된 천공패턴에 있어서, 도 11에 표시된 바와 같이 굴착예정선(8)을 따라 천공된 암반 사면 보호공(1) 및 기타 발파공(2)의 모든 장약공에 전기식뇌관을 삽입하고, 각 발파공의 영역을 4∼5개 블록(block)으로 나눈 후, 순차 블라스팅 머신(Sequential blasting machine)(22) 등을 사용하여 각 블록마다 외부에서 기폭시차를 조절하여 공급함으로서 기폭되는 방법으로 공내에 삽입된 전기식뇌관의 실제 기폭시간은 외부에서 공급되는 블록간의 시차(delay time)에 공내에 삽입된 뇌관 본연의 시차를 합한 값이 된다. Third, in the drilling pattern shown in FIG. 1, an electrical primer is inserted into all the holes of the rock slope protection hole 1 and other blast holes 2 drilled along the excavation line 8 as shown in FIG. After dividing the area of each blasting hole into 4 to 5 blocks, a sequential blasting machine 22 or the like is used to detonate by controlling the parallax from the outside for each block. The actual detonation time of the electric primer inserted into the cavity is the sum of the delay time between the blocks supplied from the outside and the natural disparity of the primer inserted into the cavity.

예를 들면, 도 11의 장약공내에 4000ms(millisecond, 1/1,000 sec)의 지연시간을 가진 뇌관이 동일하게 삽입시킨 후, 외부에서 17ms의 지연시간(delay time)이 주어진다면, 실제 기폭시에는 4217ms, 3817ms, 4117ms, 3917ms, 4017ms 등의 예로 기폭이 이루어지므로 동시 기폭에 의한 응력집중효과를 기대할 수 없어 암반의 균열제어 효과가 떨어지는 문제점이 있었다. For example, if a primer having a delay time of 4000 ms (millisecond, 1 / 1,000 sec) is inserted into the charge hole of FIG. 11 and then a delay time of 17 ms is given externally, Since the detonation is made as an example of 4217ms, 3817ms, 4117ms, 3917ms, 4017ms, etc., the stress concentration effect due to simultaneous detonation cannot be expected.

또한, 종래의 기폭순서는 도 5 및 도 6에 표시된 바와 같이, 굴착예정선(8)을 따라 천공된 암반 사면 보호공 열(3)이 제일 먼저 기폭되고, 그 다음으로 자유면(5)쪽에 천공된 발파공 열(4)부터 굴착예정선(8)쪽에 천공된 발파공 열(4)쪽으로 기폭되므로, 상부 암반 사면(7)의 균열제어가 어렵다는 문제점도 있었다.In addition, in the conventional detonation order, as shown in Figs. 5 and 6, the rock slope protection hole row 3 drilled along the excavation line 8 is first detonated, and then on the free surface 5 side. Since it is detonated from the perforated blast hole 4 to the blast hole 4 perforated to the excavation line 8, there was also a problem that crack control of the upper rock slope 7 is difficult.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, 굴착예정선을 따라 천공된 암반 사면 보호공 내에 삽입된 비전기식 뇌관을 2개 이상을 한 묶음으로 하여 여기에 이를 기폭시키기 위한 별도로 설치한 외부의 전기식 뇌관을 연결하여 기폭시키되, 암반 사면 보호공 내에 삽입된 비전기식 뇌관의 시차가 "0ms"이므로 이 경우에 동시기폭에 의한 응력집중효과를 보다 효율적으로 제공하게 되어, 발파시에 암반 사면의 균열영역을 제어할 수 있는 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention has been made in order to solve the above-described conventional problems, separately to detonate two or more non-electrical primers inserted into the rock slope protection hole drilled along the excavation line as a bundle here Connect the external electric primer installed and detonate, but the parallax of the non-electric primer inserted in the rock slope protection hole is "0ms", so in this case, it provides more efficient stress concentration effect due to simultaneous detonation. It is an object of the present invention to provide a controlled blasting method for protecting rock slopes from bench blasting that can control the crack area of rock slopes.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 터널이외의 벤치발파에서 암반을 발파하는 제어 발파 방법에 있어서, 발파시 암반의 균열영역을 제어하기 위해 굴착예정선(8)을 따라서 소정 깊이의 암반 사면 보호공(1) 및 발파공(2)으로 이루어진 복수의 장약공을 암반 사면 보호공 열(3) 및 발파공 열(4)의 일렬식으로 천공하는 단계(S10)와; 상기 암반 사면 보호공(1)에는 뇌관의 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(16)을 삽입하고 상기 발파공(2)에는 일반 전기식 뇌관을 삽입하고, 상기 장약공에 폭약부를 장착하여 장약작업을 실시하는 단계(S20)와; 상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 각각의 비전기식 뇌관(16)은 시그널 튜브(17)에 연결되어 2개 이상을 한 묶음으로 하고, 상기 시그널 튜브(17)에는 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭되도록 별도로 설치된 외부의 전기식 뇌관(18)을 연결하고, 상기 비전기식 뇌관(16)에 연결된 외부의 전기식 뇌관(18)과 상기 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관을 서로 연결한 후 최종적으로 점화기에 연결하는 단계(S30)와; 상기 점화기에 의해 폭약부를 기폭시키는 단계(S40)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object, in the controlled blasting method for blasting rock in bench blasting other than the tunnel, the rock of a predetermined depth along the excavation line 8 to control the crack area of the rock during blasting Drilling a plurality of charge holes consisting of a slope protection hole 1 and a blast hole 2 in a row of rock slope protection hole rows 3 and blast hole rows S10; Insert a quick non-electrical primer 16 having a delay time difference of "0ms" in the rock slope protection hole 1, and insert a general electric primer in the blasting hole 2, and install an explosive part in the charge hole. Performing the operation (S20); Each non-electrical primer 16 inserted into the rock slope protection hole 1 is connected to a signal tube 17 to bundle two or more, and the signal tube 17 has a rock slope protection hole 1 ) Connects the external electric primer 18 separately installed so as to finally detonate, and connects the external electric primer 18 connected to the non-electrical primer 16 and the general electric primer inserted into the blast hole 2. And finally connecting to the igniter (S30); And detonating the explosive part by the igniter (S40).

다른 본 발명은 터널이외의 벤치발파에서 암반을 발파하는 제어 발파 방법에 있어서, 발파시 암반의 균열영역을 제어하기 위해 굴착예정선(8)을 따라서 소정 깊이의 암반 사면 보호공(1) 및 발파공(2)으로 이루어진 복수의 장약공을 암반 사면 보호공 열(3) 및 발파공 열(4)의 일렬식으로 천공하는 단계와; 상기 장약공중 암반 사면 보호공(1)을 복수 개의 묶음으로 하여 외부의 제어부에서 지연시차를 부여하여 동시기폭에 의한 응력집중효과를 이용하도록 상기 암반 사면 보호공(1)에는 뇌관의 지연시차가 "0ms"인 비전기식 뇌관 또는 전기식 뇌관을 삽입하고 상기 발파공(2)에는 일반 전기식 뇌관 또는 일반 비전기식 뇌관을 삽입하고, 상기 장약공에 폭약부를 장착하여 장약작업을 실시하는 단계와; 상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 지연시차가 "0ms"인 비전기식 뇌관 또는 전기식 뇌관과 상기 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관 또는 비전기식 뇌관을 외부의 제어부에 연결하는 단계와: 상기 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭되도록 제어부에 의해 폭약부를 기폭시키는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.Another invention is a controlled blasting method for blasting a rock in a bench blast other than a tunnel, the rock slope protection hole (1) and the blasting hole of a predetermined depth along the excavation line (8) to control the crack area of the rock during blasting Perforating a plurality of charge holes consisting of (2) in a row of rock slope protecting hole rows 3 and blasting hole rows 4; The rock slope slope protection hole (1) has a delay time difference of the rock slope slope protection hole (1) in order to use the stress concentration effect by the simultaneous control by giving a delay time in the external control unit by combining a plurality of rock slope protection holes (1). Inserting a non-electric primer or an electric primer of 0 ms "and inserting a general electric primer or a general non-electric primer into the blasting hole (2), and carrying out a charging operation by attaching an explosive part to the hole; Connecting a non-electrical primer or electric primer having a delay time difference of "0ms" inserted into the rock slope protector 1 and a general electric primer or non-electrical primer inserted into the blast hole 2 to an external control unit; And detonating the explosives by the control unit so that the rock slope protector 1 is finally detonated.

바람직하게, 본 발명은 상기 발명에 있어서, 상기 제어부는 상기 장약공에 삽입되는 뇌관에 지연시차를 부여할 수 있는 순차 블라스팅 머신 또는 연결용 비전기식 뇌관인 것을 특징으로 한다.Preferably, in the present invention, the control unit is characterized in that the sequential blasting machine or a non-electric primer for the connection that can give a delay time difference to the primer inserted into the charge hole.

바람직하게, 본 발명은 상기 발명에 있어서, 상기 암반 사면 보호공 열(3)은 암석의 연경도에 따라 2열 이상으로 천공되는 것을 특징으로 한다.Preferably, in the present invention, the rock slope protection hole row (3) is perforated in two or more rows according to the hardness of the rock.

바람직하게, 본 발명은 상기 발명에 있어서, 상기 장약공에 장착되는 폭약부는 폭약 및 도폭선(10)중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the present invention is characterized in that the explosives mounted on the charge hole includes at least one of the explosives and the dopant line (10).

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 통상 암반 사면의 제어발파 방법의 장약공의 배치형태를 개략적으로 나타낸 배치도이고, 도 2는 도 1의 절단선 A-A′에 따른 암반의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 암반 사면 보호공의 장약 형태를 개략적으로 나타내는 단면도이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 암반 사면 보호를 위한 제어 발파 방법의 장약공 열의 기폭순서를 개략적으로 나타내는 평면도이고, 도 8은 도 7의 절단선 C-C′에 따른 암반의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이고, 도 12는 본 발명에 의한 일실시예에 의한 도 7의 암반 사면 보호공의 D부를 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도이고, 도 13은 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파 방법의 응력집중효과를 개략적으로 나타낸 설명도이고, 도 14는 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파 방법의 응력집중효과의 여부를 비교하기 위해 개략적으로 나타낸 비교설명도이고, 도 15는 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파 방법의 작업공정을 개략적으로 나타낸 흐름도이다.FIG. 1 is a layout view schematically showing a configuration of a charge hole in a control blasting method of a rock slope, FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a rock along the cutting line AA ′ of FIG. 1, and FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing the form of the rock slope protection hole according to an embodiment of the present invention, Figure 7 is a plan view schematically showing the detonation sequence of the column of the charge hole of the controlled blasting method for rock slope protection according to an embodiment of the present invention FIG. 8 is a cross-sectional view schematically illustrating a cross section of the rock according to the cutting line CC ′ of FIG. 7, and FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view of a portion D of the rock slope protection hole of FIG. 7 according to an embodiment of the present invention. 13 is an enlarged cross-sectional view schematically illustrating the stress concentration effect of the control blasting method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 14 is an illustration of the present invention. FIG. 15 is a comparative explanatory diagram schematically for comparing the stress concentration effect of the control blasting method according to an embodiment, and FIG. 15 is a flowchart schematically showing a working process of the control blasting method according to an embodiment of the present invention.

도 1, 도 2 및 도 15에 표시된 바와 같이, 본 실시예에 의하면 파쇄하고자 하는 암반 사면의 평탄면에 즉, 상부 암반 사면(7)과 자유면(5) 사이의 하부 암반 사면에 암반 사면 보호공(1) 및 발파공(2)과 같은 장약공을 굴착예정선(8)을 따라서 암반 사면 보호공 열(3) 및 발파공 열(4)의 일렬식으로 천공한다(S10).As shown in Figs. 1, 2 and 15, according to this embodiment the rock slope is protected on the flat surface of the rock slope to be fractured, i.e. on the lower rock slope between the upper rock slope 7 and the free surface 5 Charge holes such as balls 1 and blasting holes 2 are drilled along the excavation line 8 in a row of rock slope protecting hole rows 3 and blasting holes row 4 (S10).

또한, 본 실시예에서 암반 사면 보호공(1) 및 발파공(2)은 일렬로 천공되어 도 1에 나타난 바와 같이 암반 사면 보호공 열(3) 및 복수의 발파공 열(4)을 형성하여 순차적으로 발파될 수 있고, 암반의 연경도의 차이를 고려하여 굴착예정선(8)을 따라 암반 사면 보호공 열(3)을 2열 이상으로 천공하여 기폭시킬 수도 있다. In addition, in this embodiment, the rock slope protection hole 1 and the blasting hole 2 are drilled in a line to sequentially form the rock slope protection hole row 3 and the plurality of blasting hole rows 4 as shown in FIG. It may be blasted, and in consideration of the difference in the hardness of the rock, the rock slope protection hole rows 3 may be drilled in two or more rows along the excavation line 8 to detonate.

상기 암반 사면 보호공(1)에는 비전기식 뇌관(16)을 삽입하고 상기 발파공(2)에는 일반 전기식 뇌관을 삽입하고, 장약공에 폭약부를 장착하여 장약작업을 실시한다(S20).The rock slope protection hole (1) is inserted into the non-electric primer (16), and the blast hole (2) is inserted into the general electric primer, and the explosives mounted on the charge hole to perform the charging operation (S20).

상기 폭약부는 폭약과 도폭선(10)을 포함하여 구성하거나, 폭약 또는 도폭선(10)만으로 구성할 수 있으므로 본 실시예에서는 제한 없이 구성이 가능하다. 또한 폭약으로는 제한이 없으나 일반폭약(9) 또는 정밀폭약(12)을 사용하는 것이 바람직하다.The explosives may be configured to include explosives and the dopant line 10, or may be composed only of the explosives or the dopant line 10 can be configured without limitation in the present embodiment. In addition, the explosive is not limited, but it is preferable to use a general explosive (9) or precision explosive (12).

예를 들면, 상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입되는 비전기식 뇌관(16)은 뇌관의 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(Instantaneous non-electric detonator)을 사용하는 것이 바람직하다. For example, it is preferable to use an instantaneous non-electric detonator whose non-electrical primer 16 is inserted into the rock slope protecting hole 1 with a delay delay of the primer "0ms".

상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 각각의 비전기식 뇌관(16)에는 외부로 연결가능한 시그널 튜브(17)를 연결하여 2개 이상을 한 묶음으로 하고, 상기 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭되도록 별도로 설치된 외부의 전기식 뇌관(18)을 상기 비전기식 뇌관(16)의 시그널 튜브(17)에 연결하고, 상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 비전기식 뇌관(16)의 시그널 튜브(17)에 연결된 외부의 전기식 뇌관(18)과 상기 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관을 서로 연결한 후 최종적으로 점화기에 연결한다(S30). Each non-electrical primer 16 inserted into the rock slope protection hole 1 is connected to an externally connectable signal tube 17 to a bundle of two or more, and the rock slope protection hole 1 is Finally, the external electric primer 18 separately installed to be detonated is connected to the signal tube 17 of the non-electric primer 16 and the signal of the non-electric primer 16 inserted into the rock slope protector 1. The external electric primer 18 connected to the tube 17 and the general electric primer inserted into the blast hole 2 are connected to each other and finally connected to the igniter (S30).

따라서, 본 실시예의 기폭순서는 도 7 및 도 8에 표시된 바와 같이, 자유면(5)쪽에 천공된 발파공 열(4)로부터 굴착예정선(8)쪽에 천공된 발파공 열(4)쪽으로 기폭된 다음, 굴착예정선(8)을 따라 천공된 암반 사면 보호공 열(3)이 제일 마지막으로 기폭되므로, 상부 암반 사면(7)의 균열제어가 용이하게 된다.Therefore, the detonation sequence of the present embodiment is detonated from the blast hole row 4 drilled toward the free surface 5 toward the blast hole row 4 drilled toward the excavation line 8, as shown in FIGS. 7 and 8. Since the rock slope protection hole rows 3 drilled along the excavation schedule 8 are finally detonated, crack control of the upper rock slope 7 is facilitated.

마지막으로 점화기에 위해 장약공에 장착된 폭약부를 기폭시킨다(S40).Finally, to explode the explosives mounted on the loader for the igniter (S40).

따라서, 상기 암반 사면 보호공(1)을 2개 이상으로 묶은 다음 여기에 삽입된 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(16)에 별도로 설치되는 외부의 전기식 뇌관(18)을 연결한 후 이 전기식 뇌관(18)과 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관을 서로 연결한 후 최종적으로 점화기(도시안함)에 연결하여 기폭시키면, 기타의 발파공(2)의 경우는 오로지 장약공 내에 삽입된 일반 전기식 뇌관의 지연시간(delay time)에 의해서만 기폭시차가 조절되어 기폭이 이루어지고, 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(16)의 경우에는 외부의 전기식 뇌관(18)에 의해 기폭시차를 조절하여 기폭됨으로서, 외부의 전기식 뇌관(18)이 갖는 지연시간 만큼의 지연시차를 공급받게 된다.Therefore, after tying the rock slope protector 1 into two or more, and then connecting the external electric primer 18 separately installed in the instantaneous electro-optic primer 16 having a delay time of "0ms" inserted therein When the electrical primer 18 and the general electrical primer inserted in the blasting hole 2 are connected to each other and finally connected to the igniter (not shown) to detonate, the other blasting holes 2 are inserted only in the pharmacy. Detonation is controlled only by the delay time of the general electric primer, so that the detonation is achieved, and in the case of a quick non-electrical primer 16 having a delay time of "0ms" inserted into the rock slope protector 1, By controlling the detonation by the electric primer 18 of the detonation, the delayed time as much as the delay time of the external electric primer 18 is supplied.

암반 사면 보호공(1) 내에 삽입된 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(16)의 실제 기폭시간은 외부에서 별도로 설치된 외부의 전기식 뇌관(18)의 시차(delay time)와 암반 사면 보호공(1)내에 삽입된 비전기식 뇌관(16) 본연의 시차를 합한 값이 되는데, 이 경우에 암반 사면 보호공(1)내에 삽입된 비전기식 뇌관(16)의 본연의 지연시차는 "0ms"가 되므로, 결국 외부의 전기식 뇌관(18)에 의해 공급된 지연시차와 동일한 순간에 기폭된다. The actual detonation time of the instantaneous non-electrical primer 16 having a delay time of "0ms" inserted into the rock slope protector 1 is the delay time and rock slope protection of the external electric primer 18 separately installed from the outside. The natural disparity of the non-electric primer 16 inserted into the ball 1 is the sum of the natural parallax. In this case, the natural delay time of the non-electric primer 16 inserted into the rock slope protection hole 1 is "0ms". In the end, it is triggered at the same moment as the delay time difference supplied by the external electric primer 18.

도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 암반 사면 보호공의 장약 형태를 개략적으로 나타내는 단면도로서, 도 4의 (a)는 도폭선(10)에 여러 개의 일반폭약(9)을 일정한 간격으로 매달고 이 도폭선(10)에 뇌관의 지연시간이 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(16)을 연결한 후 이 들 뇌관(16)에 시그널 튜브(17)를 통하여 외부의 전기식 뇌관(18)을 연결하여 기폭시킨다. Figure 4 is a cross-sectional view schematically showing the form of the charge of the rock slope protection hole according to an embodiment of the present invention, Figure 4 (a) is a plurality of general explosives (9) hanging on the depot line 10 at regular intervals After connecting the instantaneous non-electrical primer 16 having a delay time of 0 ms to the detonator 10, the external electrical primer 18 was connected to the primer 16 through a signal tube 17 to detonate the detonator. Let's do it.

도 4의 (b)는 도 4의 (a)의 방법과 동일하나 다른 점은 모래와 같은 전색물(11)을 보호하고자 하는 암반 사면 쪽에 완전히 채운 다음 기폭시킨다는 점이다. 종래의 쿠션블라스팅법과 장약방법에서는 동일하나 기폭방법에 차이가 있다.4 (b) is the same as the method of FIG. 4 (a) except that the filling material 11 such as sand is completely filled on the rock slope to be protected and then detonated. The conventional cushion blasting method and the charging method are the same, but there is a difference in the detonation method.

도 4의 (c)는 종래 터널에서 사용되는 스무스블라스팅법과 같은 장약방법이 이루어지지만, 도4의 (a), (b)와는 기폭방법에 있어서, 장약공의 하부에 상기 순발 비전기식 뇌관(16)을 설치하고 일반폭약(9) 대신에 정밀폭약(12)을 장약하여 기폭하는 점에 차이가 있다.Figure 4 (c) is a method of filling the same as the smooth blasting method used in the conventional tunnel, but in the method of detonation in Figure 4 (a), (b), the instantaneous non-electric primer 16 ) And install the precision explosive (12) instead of the general explosive (9), there is a difference.

도 4의 (d)는 상기 언급한 바와 같이 폭약부로 폭약과 도폭선을 사용하는 대신에 도폭선(10)만을 사용하는 예를 나타낸 것으로 도폭선(10)에 포함된 장약을 이용하여 기폭이 가능하게 된다. As shown in FIG. 4 (d), instead of using the explosives and the explosives as explosives as described above, an example of using only the explosives 10 may be performed by using the charge included in the dopant 10.

즉, 도 4의 (a), (b), (c), (d)의 장약방법은 도 3의 (a),(b),(c)의 종래의 장약방법과 거의 동일하나, 이 들 암반 사면 보호공(1) 내에는 일반 전기식 뇌관 및 비전기식 뇌관(14)과 시그널 튜브(15) 대신에 뇌관의 지연시간이 0ms인 순발 비전기식 뇌관(16) 및 시그널 튜브(17)가 사용되어 기폭된다는 점에 차이가 있으며, 이러한 기폭방법에 의해 상기 각 암반 사면 보호공(1)의 응력집중효과가 매우 좋은 형태로 작용하게 되어 궁극적으로는 보호하고자 하는 대상 암반에 여굴의 발생을 줄이게 된다.That is, the charging method of Figs. 4A, 4B, and 3D is almost the same as the conventional charging method of Figs. 3A, 3B, and 3C. In the rock slope protector 1, a quick non-electric primer 16 and a signal tube 17 having a delay time of 0 ms are used instead of the general electric and non-electric primer 14 and the signal tube 15. There is a difference in that the detonation method, and by the detonation method, the stress concentration effect of each rock slope protection hole (1) acts in a very good form and ultimately reduces the occurrence of overbreak in the target rock to be protected.

다음은 각종 뇌관중 MS(milli-second)뇌관과 LP(long-period)뇌관의 기폭초시의 발생오차를 표 1에 나타낸다.Next, Table 1 shows the occurrence errors of detonation of MS (milli-second) primer and LP (long-period) primer among various primers.

구분 division 뇌관번호 Primer number 기폭초시(ms, millisecond, 1/1000sec)Detonation time (ms, millisecond, 1 / 1000sec) 제조시 At the time of manufacture 실제발파시 발생오차(%)Occurrence error at actual blasting (%) ±5%± 5% ±10%± 10% ±15%± 15% MS 뇌관 MS primer 00 00 00 00 00 1One 2020 1One 22 44 22 4040 22 44 88 33 6060 33 66 1212 44 8080 44 88 1616 55 100100 55 1010 2020 66 120120 66 1212 2424 77 140140 77 1414 2828 88 160160 88 1616 3232 99 180180 99 1818 3636 1010 200200 1010 2020 4040 1111 220220 1111 2222 4444 1212 240240 1212 2424 4848 1313 260260 1313 2626 5252 1414 280280 1414 2828 5656 1515 300300 1515 3030 6060 1616 320320 1616 3232 6464 1717 340340 1717 3434 6868 1818 360360 1818 3636 7272 1919 380380 1919 3838 7676 LP 뇌관 LP primer 1One 100100 55 1010 2020 22 200200 1010 2020 4040 33 300300 1515 3030 6060 44 400400 2020 4040 8080 55 500500 2525 5050 100100 66 600600 3030 6060 120120 77 700700 3535 7070 140140 88 800800 4040 8080 160160 99 900900 4545 9090 180180 1010 10001000 5050 100100 200200 1111 12001200 6060 120120 240240 1212 14001400 7070 140140 280280 1313 16001600 8080 160160 320320 1414 18001800 9090 180180 360360 1515 20002000 100100 200200 400400 1616 25002500 125125 250250 500500 1717 30003000 150150 300300 600600 1818 35003500 175175 350350 700700 1919 40004000 200200 400400 800800 2020 45004500 225225 450450 900900 2121 50005000 250250 500500 10001000 2222 55005500 275275 550550 11001100 2323 60006000 300300 600600 12001200 2424 65006500 325325 650650 13001300 2525 70007000 350350 700700 14001400

전술한 종래의 방법의 경우는 장약공 내에 삽입된 뇌관의 기폭오차에 의해 실제 기폭시간과는 많은 기폭오차가 발생되나, 본 실시예의 경우는 암반 사면 보호공(1) 내에 삽입된 순발 비전기식 뇌관(16)의 시차가 "0ms"이므로 동시에 기폭이 이루어지는 것이 가능하다. 이 때 암반 사면 보호공(1)의 기폭방법의 일실시예는 도 12에 나타낸 바와 같다. In the case of the conventional method described above, a large number of detonation errors occur from the detonation time due to detonation errors of the detonators inserted into the charge hole, but in the present embodiment, a non-explosive detonator inserted into the rock slope protector 1 Since the parallax of (16) is "0ms", it is possible to start a detonation at the same time. At this time, one embodiment of the detonation method of the rock slope protection hole (1) is as shown in FIG.

도 12에 나타낸 바와 같이 5개의 암반 사면 보호공(1)을 하나의 묶음으로 하고 모두가 지연시차가 "0ms"인 비전기식 뇌관(16)으로서 비전기식 순발뇌관이 삽입되어, 외부에서 4000ms(millisecond, 1/1000sec)의 지연시간을 가진 외부의 전기식 뇌관(18)이 기폭되어 지연시차를 공급하게 되더라도, 실제 기폭시간은 4000ms, 4000ms, 4000ms, 4000ms, 4000ms 등의 예로 기폭오차가 발생되지 않고 동시기폭이 가능하게 된다.As shown in Fig. 12, a non-electrical rapid primer was inserted as a non-electrical primer 16 having five bundles of rock slopes 1 as a bundle and all having a delay time of "0 ms", and the external 4000 ms (millisecond) was inserted from the outside. Even if the external electric primer 18 having a delay time of 1 / 1000sec) is detonated to supply a delay time, the actual detonation time is 4000ms, 4000ms, 4000ms, 4000ms, 4000ms, etc. Detonation is possible.

따라서, 동시기폭에 의한 효율적인 응력집중효과(stress concentration effect)가 작용되어 암반의 균열제어 효과가 높아지게 된다.Therefore, the effective stress concentration effect due to the simultaneous explosion is applied to increase the crack control effect of the rock.

도 13은 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파방법의 응력집중효과를 개략적으로 나타낸 설명도이고, 도 14는 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파방법의 응력집중효과의 여부를 비교하기 위해 개략적으로 나타낸 비교설명도로서 터널에서 적용한 결과를 예시하였다.13 is an explanatory view schematically showing the stress concentration effect of the control blasting method according to an embodiment of the present invention, Figure 14 is to compare the stress concentration effect of the control blasting method according to an embodiment of the present invention As a comparative explanatory diagram schematically illustrating the results of the application in the tunnel.

도 13에서는 본 실시예에 의한 응력집중효과(stress concentration effect)가 일방향으로만 진행하는 것을 나타내고, 도 14에서는 동시기폭에 의한 응력집중효과가 작용된 상태(26)와 그렇지 않은 상태(27)를 비교하기 위한 나타낸다. 즉, 응력집중효과가 나타난 상태(26)에서는 발파된 후 면이 발파예정면과 거의 일치하게 되지만 그렇지 않은 상태(27)에서는 발파예정면과 일치하지 않고 굴곡이 심한 형태를 나타내게 된다.FIG. 13 shows that the stress concentration effect according to the present embodiment proceeds in only one direction, and FIG. 14 shows the state 26 and the state 27 in which the stress concentration effect due to simultaneous aeration is applied. Indicates for comparison. That is, in the state in which the stress concentration effect is shown (26), the surface after the blasting almost coincides with the blasting expected surface, but in the state (27), the surface does not coincide with the blasting expected surface and exhibits a severe curved shape.

따라서, 본 실시예에서 비전기식 뇌관으로서 순발 비전기식 뇌관(16)이 삽입된 암반 사면 보호공(1)이 이와 연결되어 기폭되는 전기식 뇌관(18)의 시차와 동일한 순간에 도 12에 표시된 바와 같은 여러 개의 암반 사면 보호공(1)이 동시에 기폭되고 인접공과의 사이에 충격파와 가스압에 의한 준정적압력(Quasi-static pressure)(23)의 작용으로 응력집중효과면(stress concentration effect area)(24)이 발생되어 이후의 발파공의 열(Raw)과 동일 선상(Raw)으로 균열선(Crack line)(25)이 형성되므로 잔류암반(remaining rock)쪽에 형성되는 균열(Crack)의 길이(Length) 및 발생빈도(Frequency)를 줄일 수 있게 된다.Therefore, in this embodiment, the rock slope protector 1 into which the instantaneous non-electrical primer 16 is inserted as the non-electrical primer is connected to this, and at the same time as the parallax of the electric primer 18 to be detonated as shown in FIG. 12. Several rock slope protection holes (1) are simultaneously detonated and stress concentration effect areas (24) are acted upon by quasi-static pressures (23) by shock waves and gas pressures between adjacent holes (24). ) Is generated so that the crack line 25 is formed in the same line as the row of the blasting hole, so the length of the crack formed on the remaining rock side and Frequency can be reduced.

본 발명의 다른 실시예에서는 복수의 장약공중 암반 사면 보호공(1)을 복수 개의 묶음으로 하여 외부의 제어부에서 지연시차(delay time)를 부여하여 동시기폭에 의한 응력집중효과(stress concentration effect)를 이용하도록 기폭순서를 설정하되, 전체 장약공의 기폭순서 중에서 이들 복수 개의 묶음으로 이루어진 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭하게 된다.In another embodiment of the present invention, a plurality of rock slope slope protection holes 1 are provided in a plurality of bundles, and a delay time is given by an external control unit, thereby providing a stress concentration effect due to simultaneous aeration. Set the detonation order to use, but the rock slope protector (1) consisting of a plurality of these bundles of the detonation order of the entire charge is finally detonated.

상기 천공된 복수의 장약공중 암반 사면 보호공(1)에는 뇌관의 지연시차가 "0ms"인 비전기식 뇌관 또는 전기식 뇌관을 삽입하고, 상기 장약공중 암반 사면 보호공(1)을 제외한 기타의 발파공(2)에는 일반 전기식 뇌관 또는 일반 비전기식 뇌관을 삽입한 후 폭약부를 장착하는 장약작업을 실시하는 함으로 동시기폭과 발파면의 제어가 가능하게 된다. The rock slope protection hole (1) of the plurality of drilled holes are inserted into the non-electrical primer or electric primer having a delay time difference of "0ms", and other blasting hole except the rock slope protection hole (1) In 2), a general electric primer or a non-electrical primer is inserted and the charge operation is carried out to install the explosives, so that the control of the simultaneous explosion and the blasting surface is possible.

상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 지연시차가 "0ms"인 비전기식 뇌관 또는 전기식 뇌관과 상기 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관 또는 일반 비전기식 뇌관을 외부의 제어부에 연결하여 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭되도록 폭약부를 기폭시킨다.Rock slopes by connecting a non-electrical primer or electric primer having a delay time difference of "0ms" inserted into the rock slope protection hole 1 and a general electric primer or a general non-electrical primer inserted into the blast hole 2 to an external control unit The explosives are detonated so that the protective hole 1 finally detonates.

예를 들면, 상기 제어부로는 장약공 내에 삽입되는 뇌관에 지연시차를 부여할 수 있는 순차 블라스팅 머신 또는 연결용 비전기식 뇌관을 사용하는 것이 바람직하다.For example, as the control unit, it is preferable to use a sequential blasting machine or a non-electric primer for connection that can impart a delay time to the primer inserted into the charge hole.

따라서 본 실시예에 의하면, 암반의 발파시에 동시기폭 및 발파면의 제어가 가능하게 된다. Therefore, according to the present embodiment, simultaneous blasting and blasting plane can be controlled at the time of rock blasting.

이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다. The present invention described above can be embodied in many other forms without departing from the spirit or main features thereof. Therefore, the above embodiments are merely examples in all respects and should not be interpreted limitedly.

이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 암반 사면 보호공 내에 삽입된 비전기식 뇌관을 2개 이상을 한 묶음으로 하여 여기에 이를 기폭시키기 위한 별도로 설치한 외부의 전기식 뇌관을 연결하여 기폭시킴으로서, 암반 사면 보호공 내에 삽입된 비전기식 뇌관의 시차가 "0ms"이고 이 경우에 비전기식 뇌관의 시그널 튜브의 폭굉속도는 경미하여 무시되므로 동시기폭에 의한 응력집중효과를 제공하게 되며, 그 결과 보호하고자 하는 암반 사면에 발파에 의한 균열영역을 제어할 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention is to protect the rock slopes by connecting two or more non-electrical primers inserted into the rock slope protection hole in one bundle to connect and detonate an external electric primer installed separately to detonate them. The parallax of the non-electromagnetic primer inserted in the ball is "0ms" and in this case, the detonation velocity of the signal tube of the non-electric primer is negligibly neglected to provide the stress concentration effect by the simultaneous detonation. There is an effect that can control the crack area by blasting.

도 1은 통상 암반 사면의 제어 발파 방법의 장약공의 배치형태를 개략적으로 나타낸 배치도.1 is a layout view schematically showing the arrangement of the charge hole of the control blasting method of the rock slope.

도 2는 도 1의 절단선 A-A′에 따른 암반의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도.2 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the rock according to the cutting line A-A 'of FIG.

도 3은 종래의 암반 사면 보호공에 대한 장약 형태를 개략적으로 나타내는 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view schematically showing the form of the charge for the conventional rock slope protector.

도 4는 본 발명의 일실시예에 의한 암반 사면 보호공의 장약 형태를 개략적으로 나타내는 단면도.Figure 4 is a schematic cross-sectional view showing the charge form of the rock slope protection hole according to an embodiment of the present invention.

도 5는 종래의 암반 사면 보호를 위한 제어 발파 방법의 장약공 열의 기폭순서를 개략적으로 나타내는 평면도 Figure 5 is a plan view schematically showing the detonation sequence of the charge hole row of the control blasting method for the conventional rock slope protection

도 6은 도 5의 절단선 B-B′에 따른 암반의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도.FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the rock along the cutting line B-B 'of FIG. 5; FIG.

도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 암반 사면 보호를 위한 제어 발파 방법의 장약공 열의 기폭순서를 개략적으로 나타내는 평면도.7 is a plan view schematically illustrating the detonation order of the charge hole sequence of the control blasting method for rock slope protection according to an embodiment of the present invention.

도 8은 도 7의 절단선 C-C′에 따른 암반의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도.8 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the rock according to the cutting line C-C 'of FIG.

도 9는 종래 발파법의 일예에 의한 암반 사면 보호공을 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도.9 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a cross section in which a rock slope protection hole is enlarged according to an example of a conventional blasting method;

도 10은 종래 발파법의 다른 예에 의한 암반 사면 보호공을 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도.10 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a cross-sectional view of an enlarged rock slope protecting hole according to another example of the conventional blasting method.

도 11은 종래 발파법의 또 다른 예에 의한 암반 사면 보호공을 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도.11 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a cross section in which a rock slope protection hole according to still another example of the conventional blasting method is enlarged.

도 12는 본 발명에 의한 일실시예에 의한 도 7의 암반 사면 보호공의 D부를 확대한 단면을 개략적으로 나타내는 확대 단면도.12 is an enlarged cross-sectional view schematically illustrating a cross-sectional view of an enlarged portion D of the rock slope protection hole of FIG. 7 according to an embodiment of the present disclosure.

도 13은 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파 방법의 응력집중효과를 개략적으로 나타낸 설명도.Figure 13 is an explanatory diagram schematically showing the stress concentration effect of the control blasting method according to an embodiment of the present invention.

도 14는 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파 방법의 응력집중효과의 여부를 비교하기 위해 개략적으로 나타낸 비교설명도.Figure 14 is a comparative explanatory diagram schematically shown for comparing the stress concentration effect of the control blasting method according to an embodiment of the present invention.

도 15는 본 발명의 일실시예에 의한 제어 발파 방법의 작업공정을 개략적으로 나타낸 흐름도.15 is a flow chart schematically showing the working process of the control blasting method according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 암반 사면 보호공 2 : 발파공1: rock slope protector 2: blast hole

3 : 암반 사면 보호공 열 4 : 발파공 열3: rock slope protector row 4: blast hole row

5 : 자유면 6 : 장약공 열의 기폭순서5: free side 6: detonation sequence of the charge column

7 : 상부 암반 사면 8 : 굴착예정선7: upper rock slope 8: prospective ship

9 : 일반 폭약 10 : 도폭선9: general explosive 10: detonation line

11 : 전색물 12 : 정밀폭약11: full color 12: precision explosive

14 : 일반 전기식 뇌관 또는 일반 비전기식 뇌관14: general electric primer or general non-electric primer

15 : 일반 전기식 뇌관 또는 일반 비전기식 뇌관의 시그널 튜브15: Signal tube of general electric primer or non-electric electric primer

16 : 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관16: quick non-electric primer with a delay of "0ms"

17 : 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관의 시그널 튜브17: Signal tube of a quick non-electric primer with a delay time of "0ms"

18 : 전기식 뇌관 19 : 전기식 뇌관의 시그널 튜브18: electric primer 19: signal tube of the electrical primer

20 : 연결용 비전기식 뇌관 21 : 비전기식 뇌관20: non-electric primer for connection 21: non-electric primer

22 : 순차 블라스팅 머신22: sequential blasting machine

23 : 준정적압력의 작용선 24 : 응력집중 효과면23: working line of quasi-static pressure 24: stress concentration effect surface

25 : 발파공의 균열선25: crack line of the blast hole

26 : 응력집중 효과가 작용된 상태26: Stress concentration effect applied

27 : 응력집중 효과가 작용되지 않은 상태27: Stress concentration effect is not applied

Claims (5)

터널이외의 벤치발파에서 암반을 발파하는 제어 발파 방법에 있어서, In the controlled blasting method of blasting rock in bench blasting other than the tunnel, 발파시 암반의 균열영역을 제어하기 위해 굴착예정선(8)을 따라서 소정 깊이의 암반 사면 보호공(1) 및 발파공(2)으로 이루어진 복수의 장약공을 암반 사면 보호공 열(3) 및 발파공 열(4)의 일렬식으로 천공하는 단계(S10)와; In order to control the crack area of the rock at the time of blasting, a plurality of charge holes consisting of a rock slope protection hole 1 and a blast hole 2 having a predetermined depth along the excavation line 8 may be formed. Perforating the rows 4 in a row (S10); 상기 암반 사면 보호공(1)에는 뇌관의 지연시차가 "0ms"인 순발 비전기식 뇌관(16)을 삽입하고 상기 발파공(2)에는 일반 전기식 뇌관을 삽입하고, 상기 장약공에 폭약부를 장착하여 장약작업을 실시하는 단계(S20)와; Insert a quick non-electrical primer 16 having a delay time difference of "0ms" in the rock slope protection hole 1, and insert a general electric primer in the blasting hole 2, and install an explosive part in the charge hole. Performing the operation (S20); 상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 각각의 비전기식 뇌관(16)은 시그널 튜브(17)에 연결되어 2개 이상을 한 묶음으로 하고, 상기 시그널 튜브(17)에는 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭되도록 별도로 설치된 외부의 전기식 뇌관(18)을 연결하고, 상기 비전기식 뇌관(16)에 연결된 외부의 전기식 뇌관(18)과 상기 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관을 서로 연결한 후 최종적으로 점화기에 연결하는 단계(S30)와; Each non-electrical primer 16 inserted into the rock slope protection hole 1 is connected to a signal tube 17 to bundle two or more, and the signal tube 17 has a rock slope protection hole 1 ) Connects the external electric primer 18 separately installed so as to finally detonate, and connects the external electric primer 18 connected to the non-electrical primer 16 and the general electric primer inserted into the blast hole 2. And finally connecting to the igniter (S30); 상기 점화기에 의해 폭약부를 기폭시키는 단계(S40)를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법.Control blasting method for the protection of rock slopes in the bench blasting, characterized in that it comprises a step (S40) to detonate the explosives by the igniter. 터널이외의 벤치발파에서 암반을 발파하는 제어 발파 방법에 있어서, In the controlled blasting method of blasting rock in bench blasting other than the tunnel, 발파시 암반의 균열영역을 제어하기 위해 굴착예정선(8)을 따라서 소정 깊이의 암반 사면 보호공(1) 및 발파공(2)으로 이루어진 복수의 장약공을 암반 사면 보호공 열(3) 및 발파공 열(4)의 일렬식으로 천공하는 단계와; In order to control the crack area of the rock at the time of blasting, a plurality of charge holes consisting of a rock slope protection hole 1 and a blast hole 2 having a predetermined depth along the excavation line 8 may be formed. Perforating the rows 4 in series; 상기 장약공중 암반 사면 보호공(1)을 복수 개의 묶음으로 하여 외부의 제어부에서 지연시차를 부여하여 동시기폭에 의한 응력집중효과를 이용하도록 상기 암반 사면 보호공(1)에는 뇌관의 지연시차가 "0ms"인 비전기식 뇌관 또는 전기식 뇌관을 삽입하고 상기 발파공(2)에는 일반 전기식 뇌관 또는 일반 비전기식 뇌관을 삽입하고, 상기 장약공에 폭약부를 장착하여 장약작업을 실시하는 단계와; The rock slope slope protection hole (1) has a delay time difference of the rock slope slope protection hole (1) in order to use the stress concentration effect by the simultaneous control by giving a delay time in the external control unit by combining a plurality of rock slope protection holes (1). Inserting a non-electric primer or an electric primer of 0 ms "and inserting a general electric primer or a general non-electric primer into the blasting hole (2), and carrying out a charging operation by attaching an explosive part to the hole; 상기 암반 사면 보호공(1)에 삽입된 지연시차가 "0ms"인 비전기식 뇌관 또는 전기식 뇌관과 상기 발파공(2)에 삽입된 일반 전기식 뇌관 또는 비전기식 뇌관을 외부의 제어부에 연결하는 단계와:Connecting a non-electrical primer or electric primer having a delay time difference of "0ms" inserted into the rock slope protector 1 and a general electric primer or non-electrical primer inserted into the blast hole 2 to an external control unit; 상기 암반 사면 보호공(1)이 마지막으로 기폭되도록 제어부에 의해 폭약부를 기폭시키는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법.Controlling blasting method for the protection of the rock slopes in the bench blasting, characterized in that the rock slope protection hole (1) to the last explosion by the control unit so that the explosives. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 제어부는 상기 장약공에 삽입되는 뇌관에 지연시차를 부여할 수 있는 순차 블라스팅 머신 또는 연결용 비전기식 뇌관인 것을 특징으로 하는 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법.The control unit is a control blasting method for the protection of rock slopes in the bench blasting, characterized in that the sequential blasting machine or a non-electrical primer for the connection that can give a delay time difference to the primer inserted into the charge hole. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 암반 사면 보호공 열(3)은 암석의 연경도에 따라 2열 이상으로 천공되는 것을 특징으로 하는 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법.The rock slope protection hole row (3) is controlled blasting method for the protection of rock slopes in the bench blasting, characterized in that perforated in two or more rows according to the hardness of the rock. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 장약공에 장착되는 폭약부는 폭약 및 도폭선(10)중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 벤치발파에서 암반 사면의 보호를 위한 제어 발파 방법.Control blasting method for the protection of the rock slopes in the bench blasting, characterized in that the explosives mounted to the charge hole comprises at least one of explosives and dopyeong line (10).
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