KR100517967B1 - Plasma display panel and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)에 관한 것으로, 특히 PDP 상판용 유전층과 액상으로 제조된 산화마그네슘(MgO) 보호막의 접착력을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 종래 액상 산화마그네슘을 이용한 산화마그네슘 보호막 형성은 그 형성된 산화마그네슘 보호막과 상부 유전층의 접착력이 약한 문제점이 있었다. 이와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 액상 산화마그네슘 보호막을 무기바인더(Mg-O- 구조)를 첨가하여 무정형 상태의 매트릭스 층을 형성하거나, 산화마그네슘 분말에 상부 유전층용 유리 분말을 혼합하여 형성하거나, 상부 유전층에 산화마그네슘 분말을 직접 녹여서 형성함으로써, 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막 간의 접착력을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 또한, 본 발명은 결정성이 우수한 산화마그네슘 분말을 사용하므로 이차전자 방출 계수를 높일 수 있어 개시 및 유지전압을 낮출 수 있으며 수명을 늘릴 수 있는 효과가 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP), and more particularly, to a plasma display panel and a method of manufacturing the same, which can improve adhesion between a dielectric layer for a PDP top plate and a magnesium oxide (MgO) protective film prepared in a liquid phase. Conventional magnesium oxide protective film formation using the liquid magnesium oxide has a weak adhesive strength of the formed magnesium oxide protective film and the upper dielectric layer. In view of the above problems, the present invention forms an amorphous matrix layer by adding an inorganic binder (Mg-O- structure) to the liquid magnesium oxide protective film, or is formed by mixing the upper dielectric layer glass powder with magnesium oxide powder, or By directly dissolving magnesium oxide powder in the dielectric layer, the adhesion between the upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film can be improved. In addition, since the present invention uses magnesium oxide powder having excellent crystallinity, it is possible to increase the secondary electron emission coefficient, thereby lowering the starting and holding voltages and increasing the lifespan.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)에 관한 것으로, 특히 PDP 상판용 유전층과 액상으로 제조된 산화마그네슘(MgO) 보호막의 접착력을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel (PDP), and more particularly, to a plasma display panel and a method of manufacturing the same, which can improve adhesion between a dielectric layer for a PDP top plate and a magnesium oxide (MgO) protective film prepared in a liquid phase.
정보처리 시스템의 발전과 보급 증가에 따라 시각정보 전달 수단으로 디스플레이 장치의 중요성이 증대되고 있다. 특히 종래 CRT(Cathod Ray Tube)는 사이즈가 크고 동작전압이 높으며 표시 일그러짐이 발생하는 여러 가지 문제점을 가지고 있어 화면의 대형화, 평면화를 목표로 하는 최근의 추세가 적합하지 않아 최근에는 매트릭스 구조를 가지는 각종 평면 디스플레이의 연구가 활발히 진행 중이다.As the development and spread of information processing systems increase, the importance of display devices as visual information transmission means is increasing. In particular, the conventional CRT (Cathod Ray Tube) has various problems such as large size, high operating voltage, and display distortion, so that the recent trend of increasing screen size and flatness is not suitable. Research of flat panel displays is actively underway.
일반적인 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)은 He+Xe 또는 Ne+Xe 불활성 혼합가스의 방전시 발생하는 147㎚의 자외선에 의해 형광체를 발광시킴으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상을 표시하는 장치로서, 대형화가 용이할 뿐만 아니라 표시품질이 우수하고, 응답속도가 빠르다는 특징이 있다. 또한, 박형화가 가능하기 때문에 액정 디스플레이 장치(LCD) 등과 함께 벽걸이용 디스플레이 용도로도 주목받고 있다. A typical plasma display panel (PDP) is a device that displays images containing characters or graphics by emitting phosphors by 147 nm ultraviolet rays generated when the He + Xe or Ne + Xe inert mixed gas is discharged. Rather, the display quality is excellent and the response speed is fast. In addition, since it can be thinned, it is also attracting attention as a wall-mounted display with a liquid crystal display (LCD).
PDP는 전극의 배치 구조에 따라 크게 면방전형과 대향형으로 구별되며, 전극의 노출여부에 따라 교류 방전형(AC type), 직류 방전형(DC type) 또는 혼합형(hybrid type)으로 구별되고, 특히, 3전극 교류 면방전형 PDP는 방전시 표면에 벽전하가 축적되며 방전에 의해 발생되는 스퍼터링으로부터 전극들을 보호하기 때문에 저전압 구동과 장수명의 장점을 가진다.PDPs are classified into a surface discharge type and an opposite type according to the arrangement of the electrodes, and are classified into an AC discharge type, an AC discharge type, a DC discharge type, or a hybrid type according to whether the electrode is exposed. The three-electrode AC surface discharge type PDP has advantages of low voltage driving and long life because wall charges are accumulated on the surface during discharge and protect the electrodes from sputtering caused by the discharge.
도1은 일반적인 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도를 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 하부기판(1)과, 상기 하부기판(1) 상부에 형성된 어드레스 전극(2)과, 상기 어드레스 전극(2) 상부에 형성된 하부 유전층(3)과, 상기 하부 유전층(3) 상부에 형성되어 방전거리를 유지시키고 셀간의 전기적 광학적 크로스 토크를 방지하며 형광체층(5)을 수용하는 격벽(4)을 포함한다.1 is a cross-sectional view of a typical AC surface discharge plasma display panel. As shown, the lower substrate 1, the address electrode 2 formed on the lower substrate 1, the lower dielectric layer 3 formed on the address electrode 2, and the lower dielectric layer 3 It is formed on the top to maintain a discharge distance, to prevent the electro-optic crosstalk between the cells and includes a partition wall (4) for receiving the phosphor layer (5).
또한, 상부 유전층(7) 상에는 보호막(6)이 형성되는데, 보호막(6)은 방전중 가스이온에 의한 상부 유전층(7)의 스퍼터링을 방지함으로써 수명을 증대시키고 이차 전자 방출에 의해 방전 개시 전압을 저하시키는 역할을 하는데, 방전 개시 전압이 낮아지면 안정된 방전을 얻을 수 있을 뿐만 아니라 전극의 수명 또한 길어지기 된다. 상기 보호막(6)과 형광체층(5) 사이의 공간은 Ne+Xe, He+Xe 등의 불활성 가스로 충전된다. In addition, a protective film 6 is formed on the upper dielectric layer 7, which protects the sputtering of the upper dielectric layer 7 by gas ions during discharge, thereby increasing the service life and increasing the discharge start voltage by secondary electron emission. The lower the discharge start voltage, not only to obtain a stable discharge but also to increase the life of the electrode. The space between the protective film 6 and the phosphor layer 5 is filled with an inert gas such as Ne + Xe, He + Xe.
또한, PDP의 상부기판(9) 상에는 두개의 전극으로 구성된 방전유지 전극(8)이 형성되고, 그 방전유지 전극(8)은 상부기판(9)의 광투과를 저해하지 아니하도록 투명전극(8a, 8b)인 ITO(Indium-Tin-Oxide) 전극으로 구성된다. 그리고, 상기 방전유지 전극(8)의 전압강하 방지를 위해, 이보다 좁은 면적의 금속전극인 버스전극(8'a, 8'b)을 구비한다.In addition, a discharge holding electrode 8 consisting of two electrodes is formed on the upper substrate 9 of the PDP, and the discharge holding electrode 8 is a transparent electrode 8a so as not to inhibit light transmission of the upper substrate 9. 8b) and an indium-tin-oxide (ITO) electrode. In order to prevent the voltage drop of the discharge holding electrode 8, bus electrodes 8'a and 8'b, which are metal electrodes having a smaller area, are provided.
상기 방전유지 전극(8) 상에 상부 유전층(7)을 형성하는데, 그 상부 유전층(7)은 플라즈마 방전전류를 제한함과 아울러 방전시 벽전하를 축적하는 역할을 한다.The upper dielectric layer 7 is formed on the discharge sustaining electrode 8, which limits the plasma discharge current and accumulates wall charges during discharge.
그럼, 도1을 참조하여 PDP의 작동 원리를 설명하면 다음과 같다. 먼저, 방전유지 전극(8)을 구성하는 두 전극(8a, 8b) 사이에 방전유지전압에 상당하는 전압을 인가하여 상부 유전층(7)에 전하를 축적시킨다.Then, referring to Figure 1 will be described the operation principle of the PDP. First, a voltage corresponding to the discharge sustain voltage is applied between the two electrodes 8a and 8b constituting the discharge sustain electrode 8 to accumulate charge in the upper dielectric layer 7.
그 후 어드레스 전극(2)에 방전개시전압에 상당하는 전압을 인가하면 글로우 방전에 의해 불활성 가스가 전자와 이온으로 분리되어 플라즈마화 되고, 상기 전자와 이온이 재결합하는 순간에 발생하는 자외선에 의해 형광체층(5)이 발색한다.Subsequently, when a voltage corresponding to the discharge start voltage is applied to the address electrode 2, an inert gas is separated into electrons and ions by a glow discharge, and the plasma is formed, and the phosphor is emitted by ultraviolet rays generated at the moment when the electrons and ions are recombined. The layer 5 develops.
이러한 PDP의 제조 과정을 도2에 도시한 블록도를 참조하여 설명한다.The manufacturing process of such a PDP will be described with reference to the block diagram shown in FIG.
도2는 종래 PDP의 상부기판(9)에서의 제조 과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 상부기판(9)인 유리를 가공하는 단계와, 그 상부기판(9) 상에 방전유지 전극(8)을 형성하는 단계와, 상기 방전유지 전극(8) 상에 상부 유전층(7)을 형성하는 단계와, 상기 상부 유전층(7) 상에 실링(sealing)을 하고, 보호막(6)을 형성하는 단계로 이루어진다.2 shows a manufacturing process of the upper substrate 9 of the conventional PDP. As shown, processing the glass, which is the upper substrate 9, forming the discharge holding electrode 8 on the upper substrate 9, and forming an upper dielectric layer on the discharge holding electrode 8; 7) and sealing on the upper dielectric layer 7 and forming a protective film (6).
상기 방전유지 전극(8)은 상부기판(9) 상에 투명전극인 두 전극(8a, 8b)을 형성하는 단계와, 상기 형성된 두 전극(8a, 8b)의 일부분 상에 보조 전극인 버스전극(8'a, 8'b)을 형성하는 단계로 이루어진다.The discharge sustaining electrode 8 includes forming two electrodes 8a and 8b as transparent electrodes on the upper substrate 9 and a bus electrode as an auxiliary electrode on a portion of the formed two electrodes 8a and 8b. 8'a, 8'b).
이러한 단계로 이루어진 상부기판(9)에서의 제조 과정을 설명하면, 상부 기판(9) 상에 투명 전극(8a, 8b)을 스퍼터링(sputtering)이나 진공증착등의 방법을 이용하여 형성하고, 그 투명전극(8a, 8b) 상에 Cr/Cu/Cr로 이루어진 버스전극(8'a, 8'b)을 스퍼터링 방식에 의해 형성한다.Referring to the manufacturing process of the upper substrate (9) consisting of these steps, the transparent electrode (8a, 8b) is formed on the upper substrate 9 by a method such as sputtering or vacuum deposition, the transparent Bus electrodes 8'a and 8'b made of Cr / Cu / Cr are formed on the electrodes 8a and 8b by sputtering.
상기 투명전극(8a, 8b)과 버스전극(8'a, 8'b)으로 형성된 방전유지 전극(8) 상에 형성된 상부 유전층(7)은 스크린 프린팅 방법에 의해 도포되고, 그 상부 유전층(7) 상에 실링을 한다.The upper dielectric layer 7 formed on the discharge holding electrode 8 formed of the transparent electrodes 8a and 8b and the bus electrodes 8'a and 8'b is applied by a screen printing method, and the upper dielectric layer 7 Seal on).
그 다음 상기 상부 유전층(7) 표면에 보호막(6)을 형성하는데, 이 보호막(6)은 통상 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지고, 이 산화마그네슘은 E-beam 또는 액상 산화마그네슘을 이용하여 약 500nm(5000Å) 정도로 증착한다.A protective film 6 is then formed on the upper dielectric layer 7 surface, which is usually made of magnesium oxide (MgO), which is about 500 nm using E-beam or liquid magnesium oxide. It deposits about (5000 Pa).
그러나, 상기와 같이 종래 액상 산화마그네슘을 이용한 보호막 형성은 그 형성된 산화마그네슘 보호막과 상부 유전층의 접착력이 약한 문제점이 있었다.However, the formation of the protective film using the conventional liquid magnesium oxide as described above has a weak adhesive strength between the formed magnesium oxide protective film and the upper dielectric layer.
따라서, 이와 같은 문제점을 감안한 본 발명은 액상 산화마그네슘 보호막을 무기바인더(Mg-O- 구조)를 첨가하여 무정형 상태의 매트릭스 층을 형성하거나, 산화마그네슘 분말에 상부 유전층용 유리 분말을 혼합하여 형성하거나, 상부 유전층에 산화마그네슘 분말을 직접 녹여서 형성함으로써, 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막 간의 접착력을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, in view of the above problems, the present invention adds an inorganic binder (Mg-O- structure) to the liquid magnesium oxide protective film to form an amorphous matrix layer, or is formed by mixing the upper dielectric layer glass powder with magnesium oxide powder or It is an object of the present invention to provide a plasma display panel and a method of manufacturing the same, which can improve the adhesion between the upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film by directly dissolving magnesium oxide powder in the upper dielectric layer.
또한, 본 발명은 결정성이 우수한 산화마그네슘 분말을 사용하므로 이차전자 방출 계수를 높일 수 있어 개시 및 유지전압을 낮출 수 있으며 수명을 늘릴 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a plasma display panel and a method for manufacturing the same, which can increase the secondary electron emission coefficient and lower the start-up and holding voltage and increase the lifespan by using magnesium oxide powder having excellent crystallinity. .
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널은 상부 유전층 상부에 액상 산화마그네슘(MgO) 보호막을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 산화마그네슘 분말에 무기바인더(Mg-O- 구조)가 첨가되어 매트릭스층으로 형성된 산화마그네슘 보호막을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.Plasma display panel of the present invention for achieving the above object is in the plasma display panel forming a liquid magnesium oxide (MgO) protective film on the upper dielectric layer, the inorganic binder (Mg-O- structure) is added to the magnesium oxide powder It is characterized by including a magnesium oxide protective film formed of a matrix layer.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널은 상부 유전층 상부에 액상 산화마그네슘(MgO) 보호막을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 산화마그네슘 분말에 상기 상부 유전층용 유리 분말이 소정 비율로 혼합되어 형성된 산화마그네슘 보호막을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.In the plasma display panel of the present invention for achieving the above object, in the plasma display panel forming a liquid magnesium oxide (MgO) protective film on the upper dielectric layer, the glass powder for the upper dielectric layer is mixed with magnesium oxide powder in a predetermined ratio. Characterized in that it comprises a magnesium oxide protective film formed.
또한, 상기 산화마그네슘 분말에 혼합되는 상기 상부 유전층용 유리 분말의 비율은 10wt%(중량퍼센트) 이하인 것을 특징으로 한다.In addition, the ratio of the glass powder for the upper dielectric layer mixed with the magnesium oxide powder is characterized in that less than 10wt% (wt%).
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널은 상부 유전층 상부에 액상 산화마그네슘(MgO) 보호막을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 상기 상부 유전층 상부에 산화마그네슘 분말이 직접 녹아(melt-in) 형성된 산화마그네슘 보호막을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.In the plasma display panel of the present invention for achieving the above object, in the plasma display panel forming a liquid magnesium oxide (MgO) protective film on the upper dielectric layer, the magnesium oxide powder directly melted on the upper dielectric layer (melt-in) Characterized in that it comprises a magnesium oxide protective film formed.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법은 상부 기판 상에 방전유지 전극(투명전극+버스전극)과 상부 유전층을 형성하고, 그 상부 유전층을 건조하는 단계와, 상기 상부 유전층 상부에 접착력을 강화시킨 액상 산화마그네슘(MgO) 보호막을 코팅하고 건조하는 단계와, 상기 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막을 동시에 소성하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention provides a plasma display panel manufacturing method for forming the discharge sustaining electrode (transparent electrode + bus electrode) and the upper dielectric layer on the upper substrate, drying the upper dielectric layer, and the upper dielectric layer Coating and drying the liquid magnesium oxide (MgO) protective film having enhanced adhesion to the; and sintering the upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film at the same time.
또한, 상기 액상 산화마그네슘 보호막은 산화마그네슘 분말에 무기바인더(Mg-O- 구조)를 첨가한 매트릭스층으로 형성되거나, 산화마그네슘 분말에 소정 비율(10%이하)의 상기 상부 유전층용 유리 분말이 혼합되어 형성되거나, 산화마그네슘 분말이 상기 상부 유전층에 직접 녹아 형성된 것을 특징으로 한다.In addition, the liquid magnesium oxide protective film is formed of a matrix layer in which an inorganic binder (Mg-O- structure) is added to magnesium oxide powder, or a predetermined ratio (10% or less) of the upper dielectric layer glass powder is mixed with magnesium oxide powder. Or magnesium oxide powder is directly dissolved in the upper dielectric layer.
또한, 상기 액상 산화마그네슘 보호막은 나노 분말 산화마그네슘을 용제 및 고분자 분산제와 혼합한 혼합물을 밀링기를 이용하여 밀링하고, 상기 상부 유전층 상에 코팅하여 형성된 것을 특징으로 한다.The liquid magnesium oxide protective film may be formed by milling a mixture of nanopowdered magnesium oxide with a solvent and a polymer dispersant using a milling machine and coating the upper dielectric layer.
또한, 상기 상부 유전층을 건조시키고, 소정의 온도(350℃)에서 반소성시키는 단계를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.The method may further include drying the upper dielectric layer and semi-firing at a predetermined temperature (350 ° C.).
상기와 같은 특징을 갖는 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법에 대한 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참고하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of a plasma display panel of the present invention having a feature as described above and a method of manufacturing the same will be described with reference to the accompanying drawings.
도3은 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널에서 상부 기판 상에 보호막을 형성하기까지의 제조 과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 상부기판(예를 들어, 유리)을 가공하는 단계와, 그 상부기판 상에 투명전극인 두 전극과 그 두 전극의 일부분 상에 보조 전극인 버스전극을 순차적으로 증착하여 방전유지 전극을 형성하는 단계와, 상기 방전유지 전극 상에 상부 유전층을 형성하고, 그 형성된 상부 유전층을 건조시키는 단계와, 상기 건조된 상부 유전층 상에 액상 산화마그네슘(MgO)을 코팅하고, 건조시키는 단계와, 상기 건조된 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막을 동시에 소성하는 단계로 이루어진다.FIG. 3 illustrates a manufacturing process up to forming a protective film on an upper substrate in the plasma display panel of the present invention. As shown, processing the upper substrate (eg, glass), and sequentially depositing two electrodes as transparent electrodes on the upper substrate and a bus electrode as an auxiliary electrode on a portion of the two electrodes to maintain discharge Forming an electrode, forming an upper dielectric layer on the discharge sustaining electrode, drying the formed upper dielectric layer, coating and drying liquid magnesium oxide (MgO) on the dried upper dielectric layer; And simultaneously firing the dried upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film.
도4는 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널에서 상부 기판 상에 보호막을 형성하기까지의 제조 과정에 대한 또 다른 일 실시예를 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 상기 도3에 도시한 제조 과정에서 상부 유전층을 형성하여 건조시킨 다음 그 건조된 상부 유전층을 소정 온도(약350℃)에서 반소성시키는 단계를 더 포함하여 이루어진다.FIG. 4 illustrates another embodiment of a manufacturing process up to forming a protective film on an upper substrate in the plasma display panel of the present invention. As illustrated, the method further includes forming and drying the upper dielectric layer in the manufacturing process illustrated in FIG. 3 and then semi-firing the dried upper dielectric layer at a predetermined temperature (about 350 ° C.).
여기서, 도3과 도4의 상부 유전층을 상층 유전층과 하층 유전층으로 2회에 걸쳐 소성 공정을 하게 될 경우, 하층 유전층은 건조와 소성 과정을 모두 수행하고, 상층 유전층만 건조 과정을 거친 후 액상 산화마그네슘 보호막을 코팅하게 된다.3 and 4, when the upper dielectric layer and the lower dielectric layer are fired twice, the lower dielectric layer performs both drying and firing processes, and only the upper dielectric layer is dried, and then liquid phase oxidation. Magnesium protective coating.
또한, 본 발명은 액상 산화마그네슘을 상부 유전층 상에 코팅하고, 건조/소성 공정을 하기 위해서 실링(sealing) 공정이 상부기판 상이 아닌 하부기판 상에서 이루어져 상부기판과 하부기판을 흡착하도록 한다.In addition, in the present invention, the liquid magnesium oxide is coated on the upper dielectric layer, and a sealing process is performed on the lower substrate instead of the upper substrate to adsorb the upper substrate and the lower substrate in order to perform a drying / firing process.
그럼, 이러한 단계로 이루어진 본 발명에 대해 설명하면 다음과 같다. 먼저, 상부 기판 상에 투명 전극을 스퍼터링(sputtering)이나 진공증착등의 방법을 이용하여 형성하고, 그 투명전극 상에 Cr/Cu/Cr로 이루어진 버스전극을 스퍼터링 방식에 의해 형성한다.Then, the present invention consisting of these steps will be described. First, a transparent electrode is formed on the upper substrate by a method such as sputtering or vacuum deposition, and a bus electrode made of Cr / Cu / Cr is formed on the transparent electrode by a sputtering method.
상기 투명전극과 버스전극으로 형성된 방전유지 전극 상에 스크린 프린팅 방법 등을 이용하여 상부 유전층을 형성하고, 그 형성된 상부 유전층을 건조시킨다. 이때, 상부 유전층이 상층 유전층과 하층 유전층의 두층으로 이루어진 경우에는 하층 유전층을 형성하여 건조/소성 공정을 수행하고, 그 다음 상층 유전층을 형성하여 건조 공정만을 수행하게 된다. 또한, 상기 건조된 상층 유전층을 소정 온도(350℃)에서 반소성시키는 과정을 수행할 수도 있다.An upper dielectric layer is formed on the discharge sustaining electrode formed of the transparent electrode and the bus electrode by using a screen printing method, and the formed upper dielectric layer is dried. In this case, when the upper dielectric layer is formed of two layers, an upper dielectric layer and a lower dielectric layer, a lower dielectric layer is formed to perform a drying / firing process, and then an upper dielectric layer is formed to perform only a drying process. In addition, a process of semi-baking the dried upper dielectric layer at a predetermined temperature (350 ° C.) may be performed.
상기 형성된 상부 유전층 상에 액상 산화마그네슘 보호막을 코팅하고, 그 코팅된 산화마그네슘 보호막을 건조시킨다.A liquid magnesium oxide protective film is coated on the formed upper dielectric layer, and the coated magnesium oxide protective film is dried.
그 다음 상기 건조된 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막을 동시에 소성하여 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막 형성 과정을 완료한다.Then, the dried upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film are fired at the same time to complete the formation of the upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film.
여기서, 상기 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막의 접착력을 향상하기 위한 액상 산화마그네슘을 제조하고, 보호막을 형성하는 일 실시예 방안들을 도5 내지 도8에 도시하였다.Here, an exemplary method of manufacturing liquid magnesium oxide for improving adhesion between the upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film and forming the protective film is illustrated in FIGS. 5 to 8.
도5는 본 발명에 적용되는 나노 분말 산화마그네슘을 이용한 액상 산화마그네슘을 형성하는 과정을 도시한 것이다. 도시된 바와 같이, 용제와 고분자 분산제 그리고 나노 분말 산화마그네슘을 혼합하고(Pre-mixing), 상기 혼합물을 밀링기를 이용하여 밀링하고, 상부 유전층 상에 코팅하여 액상 산화마그네슘 보호막을 형성한다.Figure 5 illustrates a process of forming a liquid magnesium oxide using nano-powder magnesium oxide applied to the present invention. As shown, a solvent, a polymer dispersant, and nano powdered magnesium oxide are mixed (pre-mixed), and the mixture is milled using a milling machine and coated on the upper dielectric layer to form a liquid magnesium oxide protective film.
이때, 상기 혼합물은 소정 크기(예를 들어, 50nm) 또는 그 이하의 균일한 크기의 산화마그네슘 분말을 1~20wt%(weight%, 중량퍼센트), 용제 및 고분자 분사제를 0.5~10wt%에 의해 형성된다.At this time, the mixture is a uniform size of magnesium oxide powder of a predetermined size (for example 50nm) or less by 1 to 20wt% (weight%, weight percent), solvent and polymer propellant by 0.5 to 10wt% Is formed.
그리고, 이러한 용제와 고분자 분산제 그리고 나노 분말 산화마그네슘이 일정 비율로 혼합된 혼합물은 소정 시간(1시간) 동안의 휘저음(stirring)과 초음파 분산기를 이용한 초음파 분산을 통해 형성된다.In addition, the mixture of the solvent, the polymer dispersant, and the nano-powder magnesium oxide in a predetermined ratio is formed through stirring for a predetermined time (1 hour) and ultrasonic dispersion using an ultrasonic disperser.
이렇게 생성된 혼합물을 밀링(milling)기를 통해 밀링하고, 스크린 프린팅(screen printing), 딥핑(dipping), 다이 코팅(dye coating), 스핀 코팅(spin coating), 그린 시트 코팅(green sheet coating), 잉크젯(ink-jet) 등의 코팅 방법을 이용하여 상부 유전층 상에 코팅하여 형성한다. 여기서, 상기 과정을 통해 형성된 액상 산화마그네슘은 코팅 방법에 따라 그 비율이 달라지는데, 예를 들어, 다이 코팅과 딥핑의 경우에는 2wt% 이하가 좋으며 잉크젯의 경우에는 10wt% 정도 그리고 그린 시트 코팅과 스핀 코팅의 경우에는 10~20wt%가 적당하다.The resulting mixture is milled using a milling machine, screen printing, dipping, die coating, spin coating, green sheet coating, inkjet It is formed by coating on the upper dielectric layer using a coating method such as (ink-jet). Here, the ratio of the liquid magnesium oxide formed through the process is different depending on the coating method, for example, 2wt% or less in the case of die coating and dipping, 10wt% in the case of inkjet and green sheet coating and spin coating In the case of 10 ~ 20wt% is suitable.
이러한 과정으로 형성된 액상 산화마그네슘 보호막이 도3 또는 도4의 제조 과정을 거치면 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막의 접착력을 강화시킬 수 있다.When the liquid magnesium oxide protective film formed by this process passes through the manufacturing process of FIG. 3 or 4, the adhesion between the upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film may be enhanced.
도6은 상부 유전층(7)과 산화마그네슘 보호막(6)의 접착력을 강화할 수 있는 또 다른 방안으로, 산화마그네슘과 비슷한 물질을 지닌 조막제를 사용하여 보호막을 형성함과 동시에 접착력을 강화할 수 있는 방안이다. 예를 들어, 마그네슘-산소(Mg-O-) 구조를 포함하는 바인더를 산화마그네슘 분말, 용제, 분산제와 혼합하여 액상 산화마그네슘을 형성하고, 이렇게 형성된 액상 산화마그네슘을 상부 유전층(7) 상에 코팅하여 건조/소성하게 되면 산소가 제거되면서 바인더는 무정형(amorphous) 상태의 매트릭스형 무기바인더가 된다. 여기서, 조막제는 점도가 뛰어나며 소성 후에는 투명막이 된다. 따라서, 산화마그네슘 보호막(6)의 강도를 높이는 동시에 유전체와의 접착력을 강화시킬 수 있다.6 is another method for enhancing the adhesion between the upper dielectric layer 7 and the magnesium oxide protective film 6, a method of forming a protective film using a film forming agent having a material similar to that of magnesium oxide and at the same time strengthening the adhesive force. to be. For example, a binder containing a magnesium-oxygen (Mg-O-) structure is mixed with magnesium oxide powder, a solvent, and a dispersant to form liquid magnesium oxide, and the liquid magnesium oxide thus formed is coated on the upper dielectric layer 7. When dried / baked, oxygen is removed and the binder becomes an amorphous (mamorphous) inorganic binder. Here, the film forming agent is excellent in viscosity and becomes a transparent film after firing. Therefore, the strength of the magnesium oxide protective film 6 can be increased and the adhesion to the dielectric can be enhanced.
도7 또한 상부 유전층(7)과 산화마그네슘 보호막(6)의 접착력을 강화할 수 있는 또 다른 방안으로, 산화마그네슘(MgO) 분말에 상부 유전층(7)에 사용되는 유리 분말을 10wt%(중량 퍼센트) 이하로 혼합하여 액상 산화마그네슘을 형성함으로서, 상부 유전층(7)과 산화마그네슘 보호막(6)의 접착력을 강화시킬 수 있는 방안이다.Fig. 7 also shows another method for enhancing the adhesion between the upper dielectric layer 7 and the magnesium oxide protective film 6, wherein the magnesium oxide (MgO) powder is 10 wt% (weight percent) of the glass powder used for the upper dielectric layer 7. By mixing below to form a liquid magnesium oxide, it is possible to enhance the adhesion between the upper dielectric layer 7 and the magnesium oxide protective film (6).
예를 들어, 산화마그네슘 분말을 10wt% 이하의 상부 유전층용 유리 분말(예를 들어, Non-PbO 유리 분말)과 용제, 분산제와 혼합하여 액상 산화마그네슘을 형성하고, 그 형성된 액상 산화마그네슘을 상부 유전층(7) 상부에 코팅하여 건조/소성하면 그 액상 산화마그네슘에 포함된 유리 분말이 상부 유전층(7) 내부에 침투하고, 일부는 산화마그네슘 보호막에 남아 접착력을 강화시킬 수 있다.For example, the magnesium oxide powder is mixed with the glass powder for the upper dielectric layer (eg, Non-PbO glass powder) of 10 wt% or less with a solvent and a dispersant to form liquid magnesium oxide, and the formed liquid magnesium oxide is added to the upper dielectric layer. (7) When it is coated on the top and dried / baked, the glass powder contained in the liquid magnesium oxide penetrates into the upper dielectric layer 7, and some may remain in the magnesium oxide protective film to enhance adhesion.
도8 또한 상부 유전층(7)과 산화마그네슘 보호막의 접착력을 강화할 수 있는 또 다른 방안으로, 산화마그네슘 분말을 상부 유전층(7)에 직접 녹이고(melt-in), 그 상부에 액상 산화마그네슘으로 보호막을 형성하여 상부 유전층(7)과 산화마그네슘 보호막의 접착력을 강화시킬 수 있는 방안이다. 즉, 상부 유전층(7) 상에 분말 상태의 산화마그네슘(MgO)을 직접 녹이고, 그 상부에 액상 산화마그네슘을 일정 두께로 도포시킨 후 건조/소성하면 상부 유전층(7)에 녹아든 산화마그네슘 분말에 의해 접착력을 강화시킬 수 있다.FIG. 8 also shows another method of enhancing adhesion between the upper dielectric layer 7 and the magnesium oxide protective film, in which magnesium oxide powder is directly melted in the upper dielectric layer 7 (melt-in), and the protective film is formed of liquid magnesium oxide thereon. It can be formed to strengthen the adhesion between the upper dielectric layer 7 and the magnesium oxide protective film. That is, magnesium oxide (MgO) in powder form is directly melted on the upper dielectric layer 7, and the liquid magnesium oxide is applied to a predetermined thickness thereon, and then dried / baked to the magnesium oxide powder dissolved in the upper dielectric layer 7. By this, the adhesive force can be strengthened.
여기서, 상기 도6 내지 도8에 대한 방안들은 상기 도3과 도4에 의한 제조 방법 뿐만 아니라 종래 기술 방법인 상부 유전체를 건조/소성하고, 액상 산화마그네슘을 코팅하여, 건조/소성하여 산화마그네슘 보호막을 형성하는 과정으로도 적용 가능하다.6 to 8 are not only the manufacturing method according to FIGS. 3 and 4, but also the prior art method of drying / firing an upper dielectric, coating liquid magnesium oxide, and drying / firing a magnesium oxide protective film. It is also applicable to the process of forming a.
상기에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명은 액상 산화마그네슘 보호막을 무기바인더(Mg-O- 구조)를 첨가하여 무정형 상태의 매트릭스 층을 형성하거나, 산화마그네슘 분말에 상부 유전층용 유리 분말을 혼합하여 형성하거나, 상부 유전층에 산화마그네슘 분말을 직접 녹여서 형성함으로써, 상부 유전층과 산화마그네슘 보호막 간의 접착력을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.As described in detail above, the present invention is formed by adding an inorganic binder (Mg-O- structure) to the liquid magnesium oxide protective film to form an amorphous matrix layer, or by mixing glass oxide powder for the upper dielectric layer with magnesium oxide powder, By directly melting and forming magnesium oxide powder in the upper dielectric layer, the adhesion between the upper dielectric layer and the magnesium oxide protective film can be improved.
또한, 본 발명은 결정성이 우수한 산화마그네슘 분말을 사용하므로 이차전자 방출 계수를 높일 수 있어 개시 및 유지전압을 낮출 수 있으며 수명을 늘릴 수 있는 효과가 있다.In addition, since the present invention uses magnesium oxide powder having excellent crystallinity, it is possible to increase the secondary electron emission coefficient, thereby lowering the starting and holding voltages and increasing the lifespan.
도1은 일반적인 교류 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널의 단면도.1 is a cross-sectional view of a typical AC surface discharge plasma display panel.
도2는 종래 플라즈마 디스플레이 패널 상부기판 상에서의 제조 과정 순서도.2 is a flowchart of a manufacturing process on a conventional plasma display panel upper substrate.
도3은 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널 상부기판 상에서의 제조 과정 순서도.3 is a flowchart of a manufacturing process on the upper substrate of the present invention plasma display panel.
도4는 본 발명 플라즈마 디스플레이 패널 상부기판 상에서의 또 다른 제조 과정 순서도.Figure 4 is another flow chart of the manufacturing process on the upper substrate of the plasma display panel of the present invention.
도5는 본 발명에서 액상 산화마그네슘 보호막을 형성하는 일 실시예 과정을 도시한 순서도.Figure 5 is a flow chart showing an embodiment process of forming a liquid magnesium oxide protective film in the present invention.
도6은 본 발명에서 상부 유전층과 보호막의 접착력을 강화하기 위한 일 실시예도.Figure 6 is an embodiment for enhancing the adhesion of the upper dielectric layer and the protective film in the present invention.
도7은 본 발명에서 상부 유전층과 보호막의 접착력을 강화하기 위한 또 다른 일 실시예도.Figure 7 is another embodiment for enhancing the adhesion of the upper dielectric layer and the protective film in the present invention.
도8은 본 발명에서 상부 유전층과 보호막의 접착력을 강화하기 위한 또 다른 일 실시예도.Figure 8 is another embodiment for enhancing the adhesion of the upper dielectric layer and the protective film in the present invention.
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