KR100515575B1 - Optical filter for plasma display panel and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터는, 투명 기판에 합판 하게 될 다수의 필름 층을 연속공정(Roll to Roll)으로 라미네이션 할 수 있게 하여, 생산성을 향상시키는 것으로, 투명 기판(11)과 이 투명 기판에 합판 되도록 다수의 층으로 형성되는 필름 층(13)을 포함하며, 이 필름 층(13)은 근적외선 차단 필름(15), 선택적 흡광 필름(17), 전자파 차폐 필름(19), 및 반사 방지 필름(21)으로 구성되고, 이 다수의 필름 중 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(導電層, 19a)에 부착되는 반사 방지 필름(21)을 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a) 접지 부분(19b)에 통전 구조로 연결하여 전자파 차폐 필름(19)의 접지 부분(19b)을 PDP 케이스에 접지 시키도록 반사 방지 필름(21)의 외곽에 형성되는 관통 홀(23), 이 관통 홀(23)을 통하여 전자파 차폐 필름(19)의 접지 부분(19B) 및 반사 방지 필름(21)의 외곽에 실버 프린팅으로 통전 구조를 형성하는 통전층(25)을 포함하고 있다.The optical filter for plasma display panel of the present invention enables lamination of a plurality of film layers to be laminated to a transparent substrate in a roll to roll, thereby improving productivity, thereby providing a transparent substrate 11 and the transparent substrate. A film layer 13 is formed of a plurality of layers to be laminated to a substrate, which film layer 13 includes a near infrared blocking film 15, an optional light absorbing film 17, an electromagnetic wave shielding film 19, and antireflection. The anti-reflection film 21 which consists of the film 21 and adheres to the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 among these many films is the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19. Through hole 23 formed in the outer side of the anti-reflection film 21 to connect the ground portion 19b of the electromagnetic shielding film 19 to the PDP case by connecting to the ground portion 19b in an energized structure, the through hole. The ground portion 19B of the electromagnetic shielding film 19 through 23 and It includes a conducting layer 25 to form the current supply structure with a silver printing the outside of the four-proof film (21).
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : PDP)용 광학 필터 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 PDP용 광학 필터의 투명 기판에 합판 하게 될 다수의 필름 층을 연속공정(Roll to Roll)으로 라미네이션 할 수 있게 하는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical filter for a plasma display panel (PDP) and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a plurality of film layers to be laminated on a transparent substrate of an optical filter for a PDP. The present invention relates to an optical filter for a plasma display panel and a method of manufacturing the same.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 다른 화상표시장치에 비하여 쉽게 대형화 할 수 있는 박형의 발광형 표시장치로서, 대형 평면 텔레비전 및 고품질 디지털 텔레비전으로 가장 적합한 시스템으로 평가받고 있다.In general, the plasma display panel is a thin light emitting display device that can be easily enlarged compared to other image display devices, and has been evaluated as the most suitable system for large flat screen televisions and high quality digital televisions.
그러나, PDP는 전자파 및 근적외선의 방출량이 많고 형광체의 표면반사가 높을 뿐만 아니라 봉입가스에서 방출되는 광으로 인하여 색 재현성이 음극선관에 미치지 못하는 단점을 가지고 있다.However, PDP has a disadvantage in that the amount of electromagnetic waves and near-infrared radiation is emitted, the surface reflection of the phosphor is high, and color reproducibility does not reach the cathode ray tube due to the light emitted from the encapsulating gas.
따라서, PDP에서 발생되는 전자파 및 근적외선에 대한 인체의 유해함과 정밀기기의 오작동을 방지할 뿐만 아니라, 표면반사를 줄이고 색 재현성을 향상시키기 위하여, 전자파 차폐, 근적외선 차단, 표면반사 방지, 및 색 재현성 향상 기능을 가지는 PDP용 광학 필터가 PDP 전면에 적용되고 있다.Therefore, in order to not only prevent the harmful effects of the human body to the electromagnetic waves and near infrared rays generated in the PDP and malfunction of precision instruments, but also to reduce surface reflection and improve color reproducibility, shielding of electromagnetic waves, blocking of near infrared rays, preventing surface reflection, and color reproducibility. An optical filter for PDP having an enhancement function is applied to the entire surface of the PDP.
이 PDP용 광학 필터는 다양한 기능 중, 특히 우수한 전자파 차폐를 위하여 에칭메쉬 전자파 차폐 필름 또는 증착 전자파 차폐 필름을 적용하고 있다.This PDP optical filter employs an etching mesh electromagnetic wave shielding film or a vapor deposition electromagnetic wave shielding film for excellent electromagnetic shielding among various functions.
이 PDP용 광학 필터는 도 1에 도시된 바와 같이, 투명 기판(1)을 기준으로 PDP(미도시) 측으로 전자파 차폐 필름(3)과 근적외선 차단 필름(5)을 구비하며, 투명기판(1)의 전면으로 선택적 흡광 필름(7)과 반사 방지 필름(9)을 구비하고 있다.As shown in FIG. 1, the optical filter for PDP includes an electromagnetic wave shielding film 3 and a near infrared ray blocking film 5 toward the PDP (not shown) with respect to the transparent substrate 1, and the transparent substrate 1. An optional light absorbing film 7 and an antireflection film 9 are provided on the front surface of the substrate.
상기 전자파 차폐 필름(3)은 PDP에서 발생되는 전자파의 차폐 효과를 얻기 위하여, PDP에 접지 되어야 하며, 이로 인하여 PDP용 광학 필터의 전(全) 테두리에 걸쳐 전도성을 가지도록 노출된 접지 부분(3a)을 구비하고 있다.The electromagnetic wave shielding film 3 should be grounded to the PDP in order to obtain the shielding effect of the electromagnetic waves generated from the PDP, and thus the exposed ground portion 3a to have conductivity over the entire edge of the optical filter for the PDP. ).
그러나, 이 PDP용 광학 필터에서 전자파 차폐 필름(3)은 가장자리에 접지 부분(3a)을 남겨둔 상태로 PDP용 필터의 가장자리보다 내측에 위치하기 때문에, 전자파 차폐 필름(3)의 도전층에 라미네이션 되는 다른 필름을 전자파 차폐 필름(3)보다 작은 크기로 재단되어 라미네이션 되게 한다.However, in the optical filter for PDP, the electromagnetic wave shielding film 3 is located inside the edge of the PDP filter with the ground portion 3a at the edge, so that it is laminated on the conductive layer of the electromagnetic shielding film 3. The other film is cut to a size smaller than that of the electromagnetic shielding film 3 to be laminated.
이러한 PDP용 광학 필터를 제조하기 위하여, 여러 가지 필름들을 라미네이션 하게 되는 데, 전자파 차폐 필름(3)에 라미네이션 되는 다른 필름은 전자파 차폐 필름(3)보다 작은 크기로 재단되기 때문에 이 필터를 형성하는 다수의 필름 층을 연속공정(Roll to Roll)으로 제조하기 어렵게 한다.In order to manufacture such an optical filter for PDP, various films are laminated. Since the other film laminated to the electromagnetic shielding film 3 is cut to a size smaller than that of the electromagnetic shielding film 3, many of the filters are formed. Makes the film layer difficult to manufacture in a roll to roll process.
즉, 이 PDP용 광학 필터의 제조 방법은 상기와 같은 연속공정의 불가능으로 인하여, 투명 기판(1)의 PDP 측에 전자파 차폐 필름(3)과 근적외선 차단 필름(5)을 순차적으로 라미네이션 하고, 투명 기판(1)의 전면에 선택적 흡광 필름(7)과 반사 방지 필름(9)을 순차적으로 라미네이션 하는 단계로 진행되므로 생산성을 저하시키게 된다.That is, in this method of manufacturing the optical filter for PDP, due to the impossibility of the continuous process as described above, the electromagnetic shielding film 3 and the near-infrared blocking film 5 are sequentially laminated on the PDP side of the transparent substrate 1 to be transparent. Since the selective light absorbing film 7 and the anti-reflection film 9 are sequentially laminated on the entire surface of the substrate 1, productivity is reduced.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 PDP용 광학 필터의 투명 기판에 합판 하게 될 다수의 필름 층을 연속공정(Roll to Roll)으로 라미네이션 할 수 있게 하여, 생산성을 향상시키는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to enable the lamination of a plurality of film layers to be laminated on a transparent substrate of the optical filter for PDP in a continuous process (Roll to Roll), thereby improving productivity There is provided an optical filter for a plasma display panel to be improved and a method of manufacturing the same.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터는, 투명 기판과 이 투명 기판의 양 면 중 어느 일 면 이상에 합판 되도록 다수의 층으로 형성되는 필름 층을 포함하며,The optical filter for plasma display panel according to the present invention includes a transparent substrate and a film layer formed of a plurality of layers to be laminated on at least one of both surfaces of the transparent substrate,
상기 필름 층은 근적외선 차단 필름, 선택적 흡광 필름, 전자파 차폐 필름, 및 반사 방지 필름을 포함하며,The film layer comprises a near infrared blocking film, a selective absorbing film, an electromagnetic shielding film, and an antireflection film,
상기 필름 중 전자파 차폐 필름의 도전층(導電層)에 부착되는 필름을 전자파 차폐 필름의 도전층 접지 부분에 통전 구조로 연결하여, 전자파 차폐 필름의 접지 부분을 PDP 케이스에 접지 시키는 통전수단을 포함하고 있다.A conduction means for connecting the film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film of the film to the conductive layer grounding portion of the electromagnetic wave shielding film in a conducting structure to ground the grounding portion of the electromagnetic shielding film to the PDP case; have.
상기 통전수단은 상기한 필름들과 동일한 크기의 사각형으로 재단된 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되는 필름의 네 변 가장자리를 따라 형성되는 관통 홀, 및The energization means is a through hole formed along the edges of the four sides of the film attached to the conductive layer of the electromagnetic shielding film cut into a square having the same size as the film, and
상기 관통 홀이 형성된 필름의 가장자리와 이 관통 홀을 통하여 전자파 차폐 필름의 접지 부분에 프린팅 되어, 전자파 차폐 필름의 접지 부분을 도전층에 부착된 필름의 네 변 가장자리에 형성되는 접지 부분에 전기적으로 연결하는 통전층으로 구성되는 것이 바람직하다.The through hole is formed at the edge of the film and the through hole is printed on the ground portion of the electromagnetic shielding film, and electrically connects the ground portion of the electromagnetic shielding film to the ground portion formed at the four edges of the film attached to the conductive layer. It is preferable that it is comprised by the electricity supply layer to make.
상기 통전수단은 상기한 필름들과 폭이 동일하고 상기한 필름들보다 너비가 작은 크기의 사각형으로 재단된 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되는 필름의 동일 크기 부분의 두 변 가장자리를 따라 형성되는 관통 홀, 및The energizing means is formed through two edges of the same size portion of the film attached to the conductive layer of the electromagnetic shielding film cut into squares having the same width as the above films and having a smaller width than the above films. Hall, and
상기 관통 홀이 형성된 필름의 가장자리와 이 관통 홀을 통하여 전자파 차폐 필름의 접지 부분에 프린팅 되어, 전자파 차폐 필름의 접지 부분을 도전층에 부착된 필름의 두 변 가장자리에 형성되는 접지 부분에 전기적으로 연결하는 통전층으로 구성되는 것이 바람직하다.The through hole is formed at the edge of the film and the through hole is printed on the ground portion of the electromagnetic shielding film, and electrically connects the ground portion of the electromagnetic shielding film to the ground portion formed at the two side edges of the film attached to the conductive layer. It is preferable that it is comprised by the electricity supply layer to make.
상기 관통 홀은 등 간격으로 배치되는 원형으로 이루어지는 것이 바람직하다.The through hole is preferably made of a circle arranged at equal intervals.
상기 통전층은 실버층으로 형성되는 것이 바람직하다.The conductive layer is preferably formed of a silver layer.
상기 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되는 필름은 반사 방지 필름인 것이 바람직하다.The film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film is preferably an antireflection film.
상기 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되는 필름은 근적외선 차단 필름인 것이 바람직하다.The film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film is preferably a near infrared ray blocking film.
상기 전자파 차폐 필름은 에칭메쉬 전자파 차폐 필름 또는 증착 전자파 차폐 필름으로 구성되는 것이 바람직하다.The electromagnetic shielding film is preferably composed of an etching mesh electromagnetic shielding film or a deposition electromagnetic shielding film.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터는,The optical filter for plasma display panel according to the present invention,
투명 기판,Transparent substrate,
상기 투명 기판의 전면에 부착되는 근적외선 차단 필름,A near infrared ray blocking film attached to the front surface of the transparent substrate,
상기 근적외선 차단 필름의 전면에 부착되는 선택적 흡광 필름,Selective light absorption film attached to the front of the near infrared ray blocking film,
상기 선택적 흡광 필름의 전면에 부착되는 전자파 차폐 필름,Electromagnetic shielding film attached to the front of the selective light absorbing film,
상기 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되고, 상호 마주하는 두 변 가장자리 및 네 변 가장자리 중 어느 하나에 다수의 관통 홀을 형성하고 있는 반사 방지 필름, 및An anti-reflection film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film and forming a plurality of through holes in any one of two side edges and four side edges facing each other, and
상기 반사 방지 필름의 전면에 프린팅 되어, 관통 홀을 통하여 전자파 차폐 필름의 도전층 접지 부분을 반사 방지 필름의 상기 가장자리의 접지 부분으로 유도하여, PDP 케이스에 접지 시키는 실버층을 포함하고 있다.It is printed on the front surface of the anti-reflection film, and guides the conductive layer ground portion of the electromagnetic shielding film through the through hole to the ground portion of the edge of the anti-reflection film, and includes a silver layer to ground to the PDP case.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터는,The optical filter for plasma display panel according to the present invention,
투명 기판,Transparent substrate,
상기 투명 기판의 전면에 부착되는 선택적 흡광 필름,A selective light absorbing film attached to the front surface of the transparent substrate,
상기 선택적 흡광 필름의 전면에 부착되는 반사 방지 필름,Anti-reflection film attached to the front of the selective light absorbing film,
상기 반사 방지 필름 반대측인 투명 기판의 후면에 부착되는 전자파 차폐 필름,An electromagnetic shielding film attached to a rear surface of the transparent substrate opposite to the anti-reflection film,
상기 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되고 상호 마주하는 두 변 가장자리 및 네 변 가장자리 중 어느 하나에 다수의 관통 홀을 형성하고 있는 근적외선 차단 필름, 및A near infrared ray blocking film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film and forming a plurality of through holes in any one of two side edges and four side edges facing each other, and
상기 근적외선 차단 필름의 후면에 프린팅 되어, 관통 홀을 통하여 전자파 차폐 필름의 도전층 접지 부분을 근적외선 차단 필름의 상기 가장자리의 접지 부분으로 유도하여, PDP 케이스에 접지 시키는 실버층을 포함하고 있다.It is printed on the back of the near-infrared blocking film, and guides the conductive layer ground portion of the electromagnetic shielding film through the through hole to the ground portion of the edge of the near-infrared shielding film, and includes a silver layer to ground to the PDP case.
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터 제조방법은,In addition, the optical filter manufacturing method for a plasma display panel according to the present invention,
전자파 차폐 필름의 도전층에 부착될 필름의 마주하는 두 변 가장자리 및 네 변 가장자리 중 어느 하나에 관통 홀을 형성하는 펀칭 단계,A punching step of forming a through hole in any one of two opposite and four side edges of the film to be attached to the conductive layer of the electromagnetic shielding film,
상기 펀칭 단계에서 관통 홀을 형성한 필름을 근적외선 차단 필름, 선택적 흡광 필름, 전자파 차폐 필름, 및 반사 방지 필름과 1회 이상 연속공정(Roll-to-Roll)으로 라미네에션 하여 다수의 필름 층을 형성하는 라미네이션 단계,The film forming the through-holes in the punching step is laminated with a near-infrared blocking film, a selective absorbing film, an electromagnetic wave shielding film, and an antireflection film in one or more continuous process (roll-to-roll) to form a plurality of film layers. Lamination step forming,
상기 라미네이션 단계에서 형성된 필름 층의 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착된 필름에 도전성 물질을 프린팅 하여, 관통 홀을 통하여 전자파 차폐 필름의 접지 부분을 도전층에 부착된 필름의 상기 가장자리의 접지 부분으로 유도하는 프린팅 단계, 및Printing a conductive material on the film attached to the conductive layer of the electromagnetic shielding film of the film layer formed in the lamination step, to guide the ground portion of the electromagnetic shielding film to the ground portion of the edge of the film attached to the conductive layer through the through hole Printing step, and
상기 프린팅 단계에서 형성된 다수의 필름 층을 재단하여 투명 기판에 합판 하는 합판 단계를 포함한다.And a plywood step of cutting the plurality of film layers formed in the printing step and plywood the transparent substrate.
상기 펀칭 단계는 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되는 필름의 크기가 상기한 필름들과 동일한 사각형으로 재단될 것이면 도전층에 부착되는 필름의 가장자리 네 변에 관통 홀을 형성하는 것이 바람직하다.In the punching step, if the size of the film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film is cut to the same rectangle as the above-described films, it is preferable to form through holes at four edges of the film attached to the conductive layer.
상기 펀칭 단계는 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되는 필름의 폭이 상기한 필름들과 동일하고 너비가 작은 사각형으로 재단될 것이면 도전층에 부착되는 필름의 동일 크기 두 변의 가장자리에만 관통 홀을 형성하는 것이 바람직하다.In the punching step, if the width of the film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film is equal to the above-described films and the width of the film is to be cut into small squares, the through holes are formed only at the edges of two sides of the same size of the film attached to the conductive layer. It is preferable.
본 발명의 이점과 장점은 이하의 바람직한 실시 예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명함으로서 보다 명확하게 될 것이다.Advantages and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description based on the accompanying drawings.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터의 제1 실시 예의 단면도로서, 이 필터는 PDP 전면에 장착될 수 있도록 투명 기판(11)과 이 투명 기판(11)에 합판 되어 각각의 기능을 원활히 수행하도록 다층 구조의 필름 층(13)으로 구성되어 있다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a first embodiment of an optical filter for plasma display panel according to the present invention, which is laminated on a transparent substrate 11 and the transparent substrate 11 so as to be mounted on the front surface of the PDP to perform respective functions. It is composed of a film layer 13 of a multilayer structure to perform smoothly.
이 필름 층(13)은 투명 기판(11)의 양면 중 어느 일면에만 합판 되거나 적절히 나누어져 양면에 합판 될 수도 있다. 도 2는 투명 기판(11)의 일면에 필름 층(13)이 합판 된 것을 도시하고 있다.The film layer 13 may be laminated on only one of both surfaces of the transparent substrate 11 or may be appropriately divided and laminated on both surfaces. 2 illustrates that the film layer 13 is laminated on one surface of the transparent substrate 11.
이 필름 층(13)은 PDP에서 발생되는 근적외선을 차단하는 근적외선 차단 필름(15), PDP 봉입가스에서 방출되는 광을 흡수하여 색 재현성 및 색 순도를 향상시키는 선택적 흡광 필름(17), 전자파를 차폐하는 전자파 차폐 필름(19), 및 표면반사를 줄이는 반사 방지 필름(21)을 포함하는 것이 바람직하다.This film layer 13 shields near infrared rays blocking film 15 which blocks near infrared rays generated from PDP, selective absorbing film 17 which absorbs light emitted from PDP encapsulation gas and improves color reproducibility and color purity, and shields electromagnetic waves. It is preferable to include the electromagnetic wave shielding film 19, and the antireflection film 21 which reduces surface reflection.
상기 필름(15, 17, 19, 21) 중 한 필름은 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(導電層, 19a)에 부착된다. 이렇게 부착되는 필름은 통전수단(A)을 개재하여 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a) 접지 부분(19b)에 통전 구조로 연결되어 있다.One of the films 15, 17, 19, 21 is attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19. The film thus attached is connected to the ground portion 19b of the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 via an energization means A in an energized structure.
이 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착되는 필름은 다양하게 선택될 수 있으며, 도 2는 반사 방지 필름(21)이 부착된 예를 도시하고, 도 6은 근적외선 차단 필름(15)이 부착된 예를 도시하고 있다.The film attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 may be variously selected. FIG. 2 shows an example in which the antireflection film 21 is attached, and FIG. 6 shows a near-infrared blocking film 15. ) Shows an example attached.
상기 통전수단(A)은 전자파 차폐 필름(19)의 접지 부분(19b)을 PDP 케이스(미도시)에 접지 시키도록 구성되는 것이 바람직하다. 이 통전수단(A)은 다양하게 형성될 수 있으며, 다만, 본 실시 예에는 관통 홀(23)과 통전층(25)으로 구성된 것이 예시되어 있다.Preferably, the energizing means A is configured to ground the ground portion 19b of the electromagnetic shielding film 19 to a PDP case (not shown). The energization means (A) may be formed in various ways, but in this embodiment, the through hole 23 and the energization layer 25 is illustrated.
이 관통 홀(23)은 상기 필름(15, 17, 21)에 대한 전자파 차폐 필름(19)의 크기에 따라 그 형성 위치가 달라질 수 있다.The through holes 23 may be formed at different positions depending on the size of the electromagnetic shielding film 19 with respect to the films 15, 17, and 21.
도 3에 도시된 바와 같이, 전자파 차폐 필름(19)의 폭 방향(X) 및 너비 방향(Y)의 크기가 근적외선 차단 필름(15), 선택적 흡광 필름(17), 및 반사 방지 필름(21)과 동일한 경우, 관통 홀(23)은 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착되는 필름의 네 변 가장자리에 형성되는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 3, the sizes of the width direction X and the width direction Y of the electromagnetic wave shielding film 19 are the near-infrared blocking film 15, the selective light absorbing film 17, and the antireflection film 21. In this case, the through hole 23 is preferably formed at four edges of the film attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic shielding film 19.
즉, 관통 홀(23)은 반사 방지 필름(21)의 폭 방향(X)과 너비 방향(Y)의 네 변 가장자리에 형성되어 있다. 전자파 차폐 필름(19)은 상기 도전층(19a)과 함께 폴리에틸렌수지층(19c)을 구비하여 선택적 흡광 필름(17)에 부착되어 있다. 또한 이 관통 홀(23)은 전자파 차폐 필름(19)의 전도층(19a)에 형성되는 접지 부분(19b)의 전 범위를 PDP 케이스에 안정적으로 연결할 수 있도록 반사 방지 필름(21)의 네 변 가장자리에 등 간격으로 배치되는 원형으로 이루어지는 것이 바람직하다.That is, the through hole 23 is formed in the four edges of the width direction X and the width direction Y of the antireflection film 21. The electromagnetic wave shielding film 19 is provided with the polyethylene resin layer 19c together with the said conductive layer 19a, and is attached to the selective light absorption film 17. As shown in FIG. In addition, the through hole 23 has four edges of the antireflection film 21 so as to stably connect the entire range of the ground portion 19b formed in the conductive layer 19a of the electromagnetic shielding film 19 to the PDP case. It is preferable that the circular shape is arranged at equal intervals.
이와 같이 전자파 차폐 필름(19)이 상기 필름(15, 17, 21)들과 동일한 크기로 형성됨으로서, 이 필름(15, 17, 19, 21)들을 수회에 걸쳐 다층으로 라미네이션 하는 단계는 연속공정으로 진행될 수 있고, 이로 인하여 필름 층(13)의 생산성이 높아지게 된다. 도 4는 상기와 같은 라미네이팅 단계를 거쳐 완성된 필름 층(13)을 도시하고 있다.As such, the electromagnetic wave shielding film 19 is formed to have the same size as the films 15, 17, and 21, so that the lamination of the films 15, 17, 19, and 21 into multiple layers may be performed in a continuous process. This can be done, resulting in higher productivity of the film layer 13. 4 shows the film layer 13 completed through the laminating step as described above.
또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 통전층(25)은 반사 방지 필름(21)의 네 변 가장자리와 이 반사 방지 필름(21)에 형성된 관통 홀(23) 및 이 관통 홀(23)을 통하여 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a) 접지 부분(19b)에 프린팅 되어, 전자파 차폐 필름(19)의 접지 부분(19b)을 반사 방지 필름(21)의 네 변 가장자리에 형성되는 접지 부분(25a)에 전기적으로 연결하게 된다. 이 통전층(25)은 다양한 재질로 형성될 수 있으며, 표면 저항을 소정 치 이하로 낮출 수 있도록 실버 스크린으로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, as shown in FIG. 5, the conductive layer 25 is formed through the four edges of the antireflection film 21, the through holes 23 formed in the antireflection film 21, and the through holes 23. The ground portion 19 is printed on the conductive layer 19a of the electromagnetic shielding film 19 and the ground portion 19b of the electromagnetic shielding film 19 forms the ground portion 19b of the electromagnetic shielding film 19 at the four side edges of the antireflection film 21. Electrical connection to 25a). The conductive layer 25 may be formed of a variety of materials, it is preferably formed of a silver screen to lower the surface resistance to a predetermined value or less.
상기 통전층(25)으로 형성되는 반사 방지 필름(21)의 접지 부분(25a)은 종래와 달리 전자파 차폐 필름(19)이 다른 필름(15, 17, 21)들과 동일 크기로 재단됨에도 불구하고, 전자파 차폐 필름(19)의 접지 부분(19b)을 PDP 케이스(미도시)에 안정적으로 접지 시키는 구조를 형성하게 된다.Although the ground portion 25a of the anti-reflection film 21 formed of the conductive layer 25 is cut to the same size as the other films 15, 17, and 21, unlike the conventional art, the electromagnetic shielding film 19 is cut. In this case, the ground portion 19b of the electromagnetic shielding film 19 is formed to stably ground the PDP case (not shown).
결국, 도 2 내지 도 5의 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 패널은, 강화 유리로 형성되어 외부 충격으로부터 PDP를 보호하는 투명 기판(11), 이 투명 기판(11)의 전면에 부착되는 근적외선 차단 필름(15), 이 근적외선 차단 필름(15)의 전면에 부착되는 선택적 흡광 필름(17), 이 선택적 흡광 필름(17)의 전면에 부착되는 전자파 차폐 필름(19), 이 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착되는 반사 방지 필름(21)으로 구성되어 있다.As a result, the optical panel for plasma display panel of FIGS. 2 to 5 is a transparent substrate 11 formed of tempered glass to protect the PDP from external impact, and the near-infrared blocking film 15 attached to the front surface of the transparent substrate 11. ), An optional light absorption film 17 attached to the front surface of the near infrared ray blocking film 15, an electromagnetic wave shielding film 19 attached to the front surface of the selective light absorption film 17, and a conductive layer of the electromagnetic wave shielding film 19. It consists of the antireflection film 21 affixed to 19a.
또한, 이 광학 패널의 반사 방지 필름(21)은 두 변 또는 네 변 가장자리에 형성되는 다수의 관통 홀(23)을 구비하며, 이 반사 방지 필름(21)의 전면에 프린팅 되어 관통 홀(23)을 통하여 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a) 접지 부분(19b)을 반사 방지 필름(21)의 네 변 가장자리로 유도하도록 실버층으로 형성되는 통전층(25)을 더 구비하고 있다.In addition, the anti-reflection film 21 of the optical panel has a plurality of through holes 23 formed on two side or four edges, and is printed on the front surface of the anti-reflection film 21 so that the through holes 23 are provided. A conductive layer 25 formed of a silver layer is further provided to guide the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 to the four edges of the anti-reflection film 21.
이 관통 홀(23)은 전자파 차폐 필름(19)이 다른 필름(15, 17, 21)들과 동일한 크기일 경우, 도 7a 내지 도 7b에 도시된 바와 같이 반사 방지 필름(21)의 네 변 가장자리에 형성되는 것이 바람직하다.The through holes 23 have four edges of the antireflection film 21 as shown in FIGS. 7A to 7B when the electromagnetic shielding film 19 is the same size as the other films 15, 17, and 21. It is preferably formed in.
또한, 관통 홀(23)은 전자파 차폐 필름(19)의 폭 방향(X) 또는 너비 방향(Y) 크기가 다른 필름(15, 17, 21)의 폭 방향(X) 또는 너비 방향(Y)의 크기 보다 작은 경우에는, 도 8a 내지 도 8b에 도시된 바와 같이, 작은 부분(S)을 제외하고, 동일한 부분의 가장자리에만 형성되는 것이 바람직하다. 이와 같이 다른 필름(15, 17, 21) 보다 크기가 작은 부분(S)은 관통 홀(23)을 형성하지 않아도 전자파 차폐 필름(19)의 접지 부분(19b)이 PDP 케이스에 직접 접지 연결된다.In addition, the through hole 23 is formed in the width direction X or the width direction Y of the films 15, 17 and 21 having different sizes in the width direction X or the width direction Y of the electromagnetic shielding film 19. When smaller than the size, as shown in Figs. 8A to 8B, except for the small portion S, it is preferably formed only at the edge of the same portion. As described above, in the portion S having a smaller size than the other films 15, 17, and 21, the ground portion 19b of the electromagnetic shielding film 19 is directly connected to the PDP case without forming the through hole 23.
한편, 도 6의 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 패널은, 강화 유리로 형성되어 외부 충격으로부터 PDP를 보호하는 투명 기판(11), 이 투명 기판(11)의 전면에 부착되는 선택적 흡광 필름(17), 이 투명 기판(11)의 전면에 부착되는 반사 방지 필름(21), 투명 기판(11)의 후면에 부착되는 전자파 차폐 필름(19), 이 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착되는 근적외선 차단 필름(15)으로 구성되어 있다.On the other hand, the optical panel for plasma display panel of FIG. 6 includes a transparent substrate 11 formed of tempered glass to protect the PDP from external impact, an optional light absorbing film 17 attached to the front surface of the transparent substrate 11, and The antireflection film 21 attached to the front surface of the transparent substrate 11, the electromagnetic wave shielding film 19 attached to the rear surface of the transparent substrate 11, and the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 attached thereto. It is comprised by the near-infrared cut off film 15. FIG.
이와 같이 도 6의 실시 예는 도 2의 실시 예와 전체적인 구성이 유사하고 필름의 배치 순서가 다른 차이점을 가지고 있다.As described above, the embodiment of FIG. 6 has a similar configuration to that of the embodiment of FIG. 2 and a different arrangement order of films.
이 차이점으로 인하여, 통전수단(A)의 관통 홀(23)은 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착되는 근적외선 차단 필름(15)에 상기와 같은 구조로 배치 및 형성되어 있다.Due to this difference, the through hole 23 of the energizing means A is disposed and formed in the structure as described above in the near-infrared blocking film 15 attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic shielding film 19.
또한, 통전층(25)을 형성하는 실버층은 근적외선 차단 필름(15)의 후면에 프린팅 되어, 관통 홀(23)을 통하여 전자파 차폐 필름(19)의 통전층(19a) 접지부(19b)를 근적외선 차단 필름(15)의 네 변 가장자리 부분에 형성되는 접지 부분(25a)으로 유도하여, PDP 케이스에 접지 연결하게 된다.In addition, the silver layer forming the conductive layer 25 is printed on the rear surface of the near-infrared blocking film 15, and the near-infrared portion of the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 through the through-holes 23 is near-infrared. Guided to the ground portion (25a) formed on the four edges of the blocking film 15, it is connected to the ground to the PDP case.
상술한 바와 같이 구성되는 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터의 제조방법은 도 9a, 9b, 9c 및 도 10a, 10b에 도시된 바와 같다.The manufacturing method of the optical filter for plasma display panel configured as described above is as shown in Figs. 9A, 9B, 9C and 10A, 10B.
도 9a에 도시된 바와 같이 본 발명의 제조방법은 근적외선 차단 필름(15), 선택적 흡광 필름(17), 전자파 차폐 필름(19), 및 반사 방지 필름(21) 중 2가지 필름을 언와인딩 롤(27, 29)에서 연속적으로 공급하고, 이렇게 공급되는 2가지 필름을 라미네이션 롤(31, 33) 사이로 통과시켜 연속적으로 라미네이션 할 수 있게 한다.As shown in FIG. 9A, in the manufacturing method of the present invention, unwinding rolls of two films, such as a near infrared ray blocking film 15, an optional light absorbing film 17, an electromagnetic wave shielding film 19, and an anti-reflection film 21, may be used. 27, 29 continuously, and the two films thus supplied are passed between the lamination rolls 31, 33 to enable continuous lamination.
상기와 같은 라미네이션 단계는 통상적으로 2가지의 필름을 사용하여 라미네이션 하므로 다수의 필름 층(13)을 형성하기 위해서는 상기와 같은 라미네이션 단계는 수회에 걸쳐 진행되는 것이 바람직하다.Since the lamination step is typically performed using two films, the lamination step as described above is preferably performed several times in order to form a plurality of film layers 13.
이 라미네이션 단계에서 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착될 필름은 관통 홀(23)을 형성하기 위한 펀칭 단계가 선행되어야 한다.The film to be attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic shielding film 19 in this lamination step must be preceded by a punching step for forming the through hole 23.
즉, 이 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착될 필름이 반사 방지 필름(21)인 경우 또는 근적외선 차단 필름(25)인 경우, 각각 반사 방지 필름(21) 또는 근적외선 차단 필름(25)은 펀칭 단계를 경유하여 라미네이션 단계로 투입되어야 한다. 이하에서는 반사 방지 필름(21)만을 예시하고, 근적외선 차단 필름(25)에 대해서는 반사 방지 필름(21)의 경우와 동일하므로 그 상세 설명을 생략하고 있다.That is, when the film to be attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 is the antireflection film 21 or the near infrared blocking film 25, the antireflection film 21 or the near infrared blocking film ( 25) should be introduced into the lamination step via the punching step. Hereinafter, only the antireflection film 21 is illustrated, and since the near-infrared cut off film 25 is the same as that of the antireflection film 21, the detailed description is abbreviate | omitted.
이 편칭 단계 및 상기 라미네이션 단계에 이어 프린팅 단계가 진행된다. 이 프린팅 단계는 도 9b 및 도 10a에 도시된 바와 같이, 라미네이션 단계에서 형성된 필름 층(13)의 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착된 반사 방지 필름(21)의 네 변 및 두 변 가장자리에 도전성 물질을 프린팅 하여, 관통 홀(23)을 통하여 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a) 접지 부분(19b)을 반사 방지 필름(21)의 네 변 가장자리의 접지 부분(25a)에 통전 구조로 유도한다.This printing step is followed by the stitching step and the lamination step. This printing step comprises four sides of the antireflection film 21 attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 of the film layer 13 formed in the lamination step, as shown in FIGS. 9B and 10A. The conductive material is printed on two edges, and the conductive layer 19a of the electromagnetic shielding film 19 is grounded through the through hole 23. The grounding portion 25a of the four edges of the antireflection film 21 is formed. Leads to a current-carrying structure.
상기 펀칭 단계 및 프린팅 단계는 필름 층(13)을 상기와 같은 연속공정으로 라미네이션 할 수 있게 한다.The punching step and the printing step allow the film layer 13 to be laminated in a continuous process as described above.
이 프린팅 단계에 이어 합판 단계가 진행된다. 이 합판 단계는 도 9c 및 10b에 도시된 바와 같이, 프린팅 단계에서 형성된 다수의 필름 층(13)을 투명 기판(11)에 합판 한다.This printing step is followed by the plywood step. This plywood step laminates the plurality of film layers 13 formed in the printing step onto the transparent substrate 11, as shown in FIGS. 9C and 10B.
이 도 9c 및 도 10b의 합판 단계에 의하여 PDP용 광학 필터가 완성된다.By the plywood step of Figs. 9C and 10B, the optical filter for PDP is completed.
도 9c는 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착되는 반사 방지 필름(21)과 상기 필름(15, 17, 19)을 동일한 크기의 사각형으로 재단하도록 펀칭 단계에서 반사 방지 필름(21)의 네 변 가장자리에 관통 홀(23)을 형성한 것을 도시하고 있다.9C shows the anti-reflection film 21 in the punching step to cut the anti-reflection film 21 and the films 15, 17, 19 attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic wave shielding film 19 into squares of the same size. The through hole 23 is formed in the edge of four sides of the figure.
이에 비하여, 도 10b는 전자파 차폐 필름(19)의 도전층(19a)에 부착되는 반사 방지 필름(21)을 동일하게 재단된 다른 필름(15, 17, 19)과 비교하여 폭 방향(X)의 크기가 동일하고 너비 방향(Y)의 크기가 작은 사각형으로 재단하도록 펀칭 단계에서 근적외선 차단 필름(15)의 작은 부분(S)을 제외한 동일 부분의 두 변 가장자리에만 관통 홀(23)을 형성한 것을 도시하고 있다.In contrast, FIG. 10B shows the anti-reflection film 21 attached to the conductive layer 19a of the electromagnetic shielding film 19 in the width direction X in comparison with the other films 15, 17, 19 which are equally cut. In the punching step, the through-holes 23 are formed only at the edges of two sides of the same portion except for the small portion S of the near-infrared blocking film 15 in the punching step so that the same size and the width direction (Y) are cut into small squares. It is shown.
이와 같이 도 10b의 반사 방지 필름(21)은 도 9c의 반사 방지 필름(21)에 비하여, 너비 방향(Y)의 크기가 상대적으로 작기 때문에 프린팅 단계를 편리하게 하고, 프린팅 되는 재료를 저감시킬 수 있다.As described above, the anti-reflective film 21 of FIG. 10B has a relatively smaller size in the width direction Y than the anti-reflective film 21 of FIG. 9C, thus making the printing step convenient and reducing the material to be printed. have.
이 도 10a의 펀칭 단계는 두 변 가장자리 부분에만 관통 홀(23)을 형성하게 되므로 도 9b의 펀칭 단계에 비하여 간단한 장비를 적용할 수 있게 한다.The punching step of FIG. 10A forms a through hole 23 only at the edges of the two sides, thereby allowing simple equipment to be applied as compared to the punching step of FIG. 9B.
한편, 상기 전자파 차폐 필름(19)은 에칭메쉬 전자파 차폐 필름 또는 증착 전자파 차폐 필름으로 구성될 수 있다.On the other hand, the electromagnetic shielding film 19 may be composed of an etching mesh electromagnetic shielding film or a deposition electromagnetic shielding film.
즉, 에칭메쉬 타입의 전자파 차폐 필름은 PET 필름 위에 약 10㎛ 두께의동박 필름을 라미네이팅한 후 에칭하여 메쉬 패턴을 형성한 필름이다.That is, the etching mesh electromagnetic wave shielding film is a film in which a mesh pattern is formed by laminating a copper foil film having a thickness of about 10 μm on a PET film and then etching.
그리고, 증착 타입의 전자파 차폐 필름은 PET 필름 위에 ITO와 실버 층을 수십 ㎚단위로 반복 증착하여 가시광선을 투과하면서 표면 저항을 낮춘 필름이다.In addition, the evaporation type electromagnetic shielding film is a film having a low surface resistance while transmitting visible light by repeatedly depositing an ITO and a silver layer on a PET film in tens of nm units.
이와 같이 본 발명은 PDP용 광학 필터를 형성하는 필름 층에서 전자파 차폐 필름의 도전층에 부착되는 필름의 두 변 또는 네 변의 가장자리에 관통 홀을 형성하여 다른 필름들과 연속공정으로 라미네이션 하고, 이 관통 홀 및 부착된 필름의 가장자리에 실버 프린팅으로 통전층을 형성함으로서, 전자파 차폐 필름의 도전층 접지 부분을 이에 부착되는 필름의 관통 홀을 통하여 부착되는 필름의 가장자리에 접지 부분을 형성하여, 이 접지 부분으로 PDP 케이스에 연결 접지 시키게 하므로 필름 층을 연속공정으로 제작할 수 있게 하며, 이로 인하여 필름 층의 제작 및 광학 필터의 제작 시 생산성을 향상시키게 된다.As described above, the present invention forms through-holes at the edges of two or four sides of the film attached to the conductive layer of the electromagnetic wave shielding film in the film layer forming the optical filter for PDP, laminating with other films in a continuous process. By forming a conductive layer by silver printing at the edge of the hole and the attached film, the ground portion is formed at the edge of the film which is attached to the conductive layer ground portion of the electromagnetic shielding film through the through hole of the film attached thereto. Since the grounding is connected to the PDP case, the film layer can be manufactured in a continuous process, thereby improving productivity during the production of the film layer and the manufacture of the optical filter.
도 1은 종래기술에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터의 단면도.1 is a cross-sectional view of an optical filter for a plasma display panel according to the prior art.
도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터의 제1 실시 예의 단면도.2 is a cross-sectional view of a first embodiment of an optical filter for plasma display panel according to the present invention;
도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터의 분해 사시도.3 is an exploded perspective view of an optical filter for plasma display panel according to the present invention;
도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터의 평면도.4 is a plan view of an optical filter for a plasma display panel according to the present invention;
도 5는 도 4의 A-A선에 따른 단면도.5 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터의 제2 실시 예의 단면도.6 is a sectional view of a second embodiment of an optical filter for plasma display panel according to the present invention;
도 7a, 및 7b는 전자파 차폐 필름이 다른 필름과 크기가 동일하고, 반사 방지 필름의 네 변의 가장 자리에 관통 홀이 형성된 사시도.7A and 7B are perspective views in which an electromagnetic wave shielding film is the same size as another film, and through holes are formed at edges of four sides of the antireflection film.
도 8a, 및 8b는 전자파 차폐 필름이 다른 필름보다 크기가 작고, 반사 방지 필름의 동일 부분의 가장 자리에 관통 홀이 형성된 사시도.8A and 8B are perspective views in which the electromagnetic shielding film is smaller in size than other films, and a through hole is formed at the edge of the same portion of the antireflection film.
도 9a, 9b, 및 9c는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터 제조방법의 제1 실시 예의 연속공정도.9A, 9B, and 9C are continuous process diagrams of a first embodiment of an optical filter manufacturing method for a plasma display panel according to the present invention;
도 10a, 10b는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널용 광학 필터 제조방법의 제2 실시 예의 연속공정도.10A and 10B are a continuous process diagram of a second embodiment of an optical filter manufacturing method for a plasma display panel according to the present invention;
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
11 : 투명 기판 13 : 필름 층11: transparent substrate 13: film layer
15 : 근적외선 차단 필름 17 : 선택적 흡광 필름15: near infrared ray blocking film 17: selective light absorption film
19 : 전자파 차폐 필름 19a : 도전층(導電層)19: electromagnetic wave shielding film 19a: conductive layer
19b, 25a : 접지 부분 19c : 폴리에틸렌수지층19b, 25a: ground portion 19c: polyethylene resin layer
21 : 반사 방지 필름 23 : 관통 홀21: antireflection film 23: through hole
25 : 통전층 27, 29 : 언와인딩 롤25: energized layer 27, 29: unwinding roll
31, 33 : 라미네이션 롤 35 : 와인딩 롤31, 33: lamination roll 35: winding roll
A : 통전수단 S : 작은 부분A: energization means S: small portion
X : 폭 방향 Y : 너비 방향X: Width direction Y: Width direction
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