KR100506387B1 - Method for double electro-plating a strip - Google Patents

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Abstract

본 발명은 양극과 음극으로 된 전기도금장치를 이용하여 래디알 도금장치에서 60%이상의 도금을 행하고 다시 도금층위에 나머지 도금량을 순차적으로 수직형이나 수평형의 도금장치에서 도금을 행하며, 후자의 장치에서 적어도 2g/m2이상을 도금하여 도금층의 표면외관 및 전도강대의 접촉면 흔적을 제거하여 품질을 향상 시키고 고속 전기도금을 행하여 생산성을 향상시키는 이중 전기도금방법에 관한 것으로, 스트립 도금층의 표면외관을 양호하게 하여 품질을 향상시키고, 고전류밀도 도금이 가능하여 생산성을 향상 시킬 수 있다.The present invention performs the plating of more than 60% in the radial plating apparatus using the electroplating device of the positive electrode and the negative electrode, and then performs the plating in the vertical or horizontal plating apparatus sequentially the remaining plating amount on the plating layer again, in the latter apparatus It is a double electroplating method which improves the quality by plating at least 2g / m 2 or more and removing the surface appearance of the plating layer and traces of the contact surface of the conductive steel and improving the productivity by performing high-speed electroplating. The surface appearance of the strip plating layer is good. This improves the quality and enables high current density plating to improve productivity.

Description

이중 전기도금방법{Method for double electro-plating a strip} Method for double electro-plating a strip

본 발명은 연속 전기도금을 행하는데 있어서 전기도금재의 표면 품질과, 생산성 향상을 동시에 만족시킬 수 있는 이중 전기도금방법에 관한 것으로, 특히 래디알 형태와 수직 또는 수평형태의 도금장치를 순차적으로 연결하여 전기도금재의 표면외관을 개선시킬 수 있을 뿐만 아니라 고전류 밀도도금이 가능한 이중 전기도금방법에 관한 것이다.The present invention relates to a dual electroplating method that can satisfy the surface quality and productivity improvement of the electroplating material at the time of the continuous electroplating, in particular by connecting the plating device of the radial form and the vertical or horizontal form sequentially The present invention relates to a dual electroplating method capable of improving the surface appearance of an electroplating material and capable of high current density plating.

일반적으로, 강판의 내식성 향상을 위하여 도금이 실시되고 있으며, 그 가운데 전기적 힘으로 도금이 행해지는 전기도금강판은 가전, 자동차, 건설 등의 분야에 널리 사용되고 있다. 한편, 가혹한 분위기에서의 내식성을 확보하기 위하여 아연 도금층의 두께를 증가시켜야 하므로, 비용을 저렴하게 하기 위하여 고속으로 도금하여 생산성을 높일 필요가 있다. 이를 위하여 세계 각국에서는 상이한 전기도금방식을 도입한 다양한 전기도금장치가 개발되었다. In general, plating is performed to improve corrosion resistance of steel sheets, and electroplated steel sheets, which are plated by electric force, are widely used in fields such as home appliances, automobiles, and construction. On the other hand, since the thickness of the zinc plated layer should be increased in order to ensure corrosion resistance in a harsh atmosphere, it is necessary to increase the productivity by plating at high speed in order to reduce the cost. To this end, various electroplating apparatuses have been developed in different countries, adopting different electroplating methods.

이러한 종래의 전기도금장치들은 크게 세가지 형태로 분류된다. 즉, 일본특허 제58113398호 및 제54074224호와, 유럽특허 제905228호 등에 개시되어 있는 래디알 타입의 전기도금장치(도 1 참조), 유럽특허 제904188호 및 제902951호 등에 개시되어 있는 수직형 전기도금장치(도 2 참조), 유럽특허 제242966호 등에 개시되어 있는 수평형 전기도금장치(도 3 참조)로 분류된다. 그리고, 이러한 전기도금장치들은 모두 각각의 장,단점을 지니고 있다.Such conventional electroplating apparatuses are largely classified into three types. That is, the radial type electroplating apparatus (see FIG. 1) disclosed in Japanese Patent Nos. 58113398 and 54074224, European Patent No. 905228, and the like, and the vertical type disclosed in European Patent Nos. 904188 and 90301. Electroplating apparatus (see FIG. 2), horizontal type electroplating apparatus (see FIG. 3) disclosed in European Patent No. 242966 and the like. And, these electroplating devices all have their advantages and disadvantages.

즉, 래디알 타입의 전기도금장치는 편면도금이 쉽고, 도금재의 생산성이 다른 형태의 장치에 비하여 높으나 표면 외관이 양호하지 못하다는 단점이 있다. 또한, 전도롤의 전도강대와 도금면이 닿는 곳에서는 경도가 낮은 아연, 주석 도금등이 행해지면 표면에 흔적이 발생하는 결점을 가지고 있다. 수직형 전기도금장치는 도금시 전도롤과의 접촉이 없어서 표면 외관은 양호하나 도금셀이 복잡하고 고전류에 의한 고속 통판이 어렵다는 문제점이 있다. 그리고, 수평형 도금장치도 도금이 수행되는 장소에서 롤과의 접촉이 없어서 표면외관이 양호하고, 래디알 타입의 전기도금장치와는 다르게 전도에 의한 도금층의 표면에 흔적이 남지 않는다는 장점이 있지만, 편면 도금이 어렵고, 도금시 양극과 음극 사이의 균일 간격유지가 어려우며, 처짐 현상에 의하여 품질 불량이 발생하고, 이로인하여 생산성이 감소되는 결점이 있다. That is, the radial type electroplating apparatus is easy to single-side plating, the productivity of the plating material is higher than other types of apparatus, but the surface appearance is not good. In addition, where the conductive steel strip and the plated surface of the conductive roll are in contact with each other, there is a drawback that a trace occurs on the surface when zinc, tin plating, or the like having low hardness is performed. The vertical type electroplating apparatus has a problem in that the surface appearance is good because there is no contact with the conductive roll during plating, but the plating cell is complicated and high speed mailing is difficult due to high current. In addition, the horizontal plating apparatus has the advantage that the surface appearance is good because there is no contact with the roll in the place where plating is performed, and unlike the radial type electroplating apparatus, there is no trace on the surface of the plating layer by conduction. Single-sided plating is difficult, it is difficult to maintain a uniform gap between the positive electrode and the negative electrode during plating, the quality defects are caused by the deflection phenomenon, thereby reducing the productivity.

따라서, 상기된 바와 같은 종래의 문제점을 개선하기 위하여, 본 발명은 래디알 형태의 도금장치와 수직형 혹은 수평형 도금장치를 순차적으로 배열하여 각각의 장점이 적용될 수 있는 이중 전기도금방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.Therefore, in order to improve the conventional problems as described above, the present invention is to provide a dual electroplating method that can be applied to each advantage by sequentially arranging the radial type plating apparatus and the vertical or horizontal plating apparatus in sequence. Its purpose is to.

또한, 본 발명의 목적은 강판에 수행되는 목표도금량의 대부분 래디알 타입의 전기도금장치에서 행한 후, 도금층의 표면을 수직형 또는 수평형 전기도금장치에서 도금하여 전기도금의 생산성을 높일 수 있을 뿐만 아니라 표면외관이 양호한 전기도금강판을 생산할 수 있는 이중 전기도금방법을 제공하는 데 있다.In addition, the object of the present invention is to perform the most of the target plating amount to be performed on the steel plate in the radial type electroplating apparatus, and then to increase the productivity of electroplating by plating the surface of the plating layer in a vertical or horizontal electroplating apparatus In addition, the present invention provides a dual electroplating method capable of producing an electroplated steel sheet having a good surface appearance.

상기된 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 강판의 양면을 도금하기 위한 본 발명에 따른 이중 전기도금방법은 목표 도금량의 60% 정도를 편면도금처리하는 예비 도금단계와, 편면도금처리된 강판의 양면을 동시에 도금처리하는 마무리 도금단계로 이루어진 것을 특징으로 한다. In order to achieve the object as described above, the dual electroplating method according to the present invention for plating both sides of the steel sheet is a pre-plating step for one-side plating of about 60% of the target plating amount, and both sides of the one-side plated steel sheet At the same time characterized in that the plating consisting of a finishing plating step.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 이중 전기도금방법은 스트립의 편면을 목표 도금량의 60% 정도로 도금처리한 후, 스트립의 양면을 동시에 도금처리한다.In the dual electroplating method according to the present invention, after one side of the strip is plated at about 60% of the target plating amount, both sides of the strip are simultaneously plated.

먼저, 스트립의 편면은, 도 1에 도시된 래디알 타입의 전기도금장치를 이용하여 도금처리된다. 즉, 래디알 타입의 전기도금장치는 초기에 전류효율이 양호하고 고전류의 투입이 가능하다는 장점을 이용하여 스트립의 편면을 도금처리한다. First, one side of the strip is plated using the radial type electroplating apparatus shown in FIG. That is, the radial type electroplating apparatus is plated on one side of the strip by using the advantage that the current efficiency is good at the beginning and high current can be injected.

예를 들어, 도 1을 참조하면, 예비처리된 스트립(1)이 래디알 전기도금장치로 인입되어 도금된다. 이때, 도금욕에 침지되어 있는 양극(4)과 전도롤(3)에 일면이 접촉되어 있는 스트립 사이는, 양극(4)이 가용성인 경우, 5 - 50mm로 유지시키다. For example, referring to FIG. 1, the pretreated strip 1 is drawn into a radial electroplating apparatus and plated. At this time, between the positive electrode 4 which is immersed in the plating bath and the strip whose one surface is in contact with the conductive roll 3, the positive electrode 4 is maintained at 5 to 50 mm when the positive electrode 4 is soluble.

그러나, 이들 사이의 간격은 가급적이면 좁혀야 된다. 즉, 이들 사이의 간격이 너무 넓으면, 고전류 밀도조업일 때, 전류효율이 감소되고, 그 간격이 5mm 이하이면 양극(4)과 스트립(1)이 접촉하여 연소(burning)된 상태의 도금층이 스트립 표면에 형성된다. However, the spacing between them should be as narrow as possible. That is, if the interval between them is too wide, the current efficiency decreases during high current density operation, and if the interval is 5 mm or less, the plating layer in which the anode 4 and the strip 1 are burned in contact with each other is burned. Is formed on the strip surface.

한편, 래디알 전기도금장치에 있어서, 도금욕으로 스트립이 인입될 때, 접촉 롤을 부착시켜 고전류를 인가시킴으로써 도금량을 증대시킬 수 있다. 따라서, 이 래디알 도금욕에서 전체 목표 도금량의 적어도 60% 이상이 스트립의 편면 상에 도금되어야 하며, 가급적 많은 양의 도금이 수행되어야 도금강판의 생산성이 향상된다. On the other hand, in the radial electroplating apparatus, when the strip is drawn into the plating bath, the plating amount can be increased by attaching a contact roll and applying a high current. Therefore, in this radial plating bath, at least 60% or more of the total target plating amount should be plated on one side of the strip, and as much as possible, the plating steel sheet productivity is improved.

이 후, 상술된 바와 같이, 래디알 전기도금장치에서 편면도금처리된 스트립은, 스트립의 편/양면 도금재에 무관하게, 도 2 또는 도 3에 도시된 수직형 혹은 수평형 전기도금장치로 장입되어 양면도금이 행해진다. Thereafter, as described above, the strip plated in one side of the radial electroplating apparatus is charged into the vertical or horizontal electroplating apparatus shown in FIG. 2 or 3, irrespective of the single / duplex plating material of the strip. And double-sided plating is performed.

한편, 도 2를 참조하면, 편면도금처리된 스트립(1)이, 인입롤(2)을 통과하기 전에, 물로 스프레이되면 수직형 전기도금장치에서 수행되는 양면도금 상태가 양호하게 된다. 그리고, 수직형 전기도금장치의 도금욕으로 인입된 스트립의 양면은 도금욕 내 한 쌍의 양극 사이를 통과하면서 도금되고, 이때 행해진 도금량은 2 - 30g/m2 정도가 양호하다. 왜냐하면, 도금량이 2g/m2 미만으로 되면, 래디알 전기도금장치에서 도금된 스트립의 표면외관이나 표면흔적을 제거할 수 없기 때문이다. 또한, 스트립 표면의 도금량이 30g/m2 초과되면, 도금속도가 도금상태에 좌우되어 고전류 도금이 불가능해지기 때문이다.On the other hand, referring to Figure 2, when the one-sided strip 1 is sprayed with water before passing through the inlet roll 2, the state of the double-sided plating performed in the vertical electroplating apparatus is good. Then, both sides of the strip drawn into the plating bath of the vertical electroplating apparatus are plated while passing between a pair of anodes in the plating bath, and the plating amount performed at this time is preferably about 2-30 g / m 2 . This is because if the plating amount is less than 2 g / m 2 , the surface appearance and surface traces of the plated strip cannot be removed by the radial electroplating apparatus. In addition, when the plating amount of the strip surface exceeds 30g / m 2 , because the plating speed depends on the plating state, high current plating is impossible.

그러나, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 수직형 전기도금장치에서 실시되는 스트립 양면의 도금량은 5 - 10g/m2 정도인 경우가 바람직하다.However, according to a preferred embodiment of the present invention, it is preferable that the plating amount of both sides of the strip performed in the vertical electroplating apparatus is about 5-10 g / m 2 .

상술된 바와 같이, 2개의 다른 형태의 도금장치를 사용하여 스트립의 표면을 도금처리하여 양호한 도금층과 생산성 향상을 얻을 수 있었지만, 이러한 도금효과는 스트립의 표면에 동일 금속의 도금층을 형성하거나 또는 2가지 이상의 상이한 금속의 도금층을 형성하여도 도금품질이 양호한 도금층과 생산성 향상을 얻을 수 있다. As described above, although the surface of the strip was plated using two different types of plating apparatuses, a good plating layer and a productivity improvement could be obtained. However, such a plating effect may be achieved by forming a plating layer of the same metal on the surface of the strip, Even when the plating layers of the above different metals are formed, a plating layer with good plating quality and an improvement in productivity can be obtained.

< 실시예 ><Example>

냉연 강판을 소지 금속으로 하여 하기 표 1에 나타낸 도금액 조성에서 도금조건에 따라서 아연 도금량이 40g/m2 되게 도금하였을 때 도금층의 표면 외관 (줄무늬와 표면 오염), 표면 흔적 (전도롤 자국) 및 전류밀도를 나타낸 것으로 이것은 생산성과 같은 의미를 나타낸다.Surface appearance (stripes and surface contamination), surface traces (conduction roll marks), and current of the coating layer when the zinc plating amount is 40 g / m 2 according to the plating conditions in the plating solution composition shown in Table 1 below using the cold rolled steel sheet as the base metal. Density is the same as productivity.

한편, 하기 표 1의 도금용액은 래디알 도금욕의 경우 염화물 아연도금욕으로서, 아연 : 100g/L, 염소 : 250g/L, pH = 4, 온도 = 60℃로 조정하였다. 그러나, 본 발명에 따른 이중 전기도금방법을 수행하기 위한 수직형 및 수평형 전기도금장치에서는 모두 래디알 도금욕에서와 동일한 도금용액을 사용하였고, 황산 아연 도금욕에서 아연 : 120g/L, 황화물 : 240g/L인 도금액에서 온도 70℃를 유지하고 , 황산 나트륨이 35g/L로 구성된 도금욕을 이용하였다.On the other hand, the plating solution of Table 1 as a zinc plating bath of chloride in the case of a radial plating bath, it was adjusted to zinc: 100g / L, chlorine: 250g / L, pH = 4, temperature = 60 ℃. However, in the vertical and horizontal electroplating apparatuses for carrying out the double electroplating method according to the present invention, the same plating solution was used as in the radial plating bath, and zinc: 120 g / L and sulfide: The plating bath which maintained the temperature of 70 degreeC in the plating liquid which is 240 g / L, and consisted of sodium sulfate 35g / L was used.

번 호Number 래디알 도금장치Radial Plating Equipment 수직/수평 도금장치Vertical / Horizontal Plating Equipment 도금욕 종류Plating bath type 도금량Plating amount 표면외관Surface appearance 표면홈Surface groove 고전류 밀도도금High Current Density Plating 래디알Radial 수직/수평Vertical / horizontal 1One 사용use 미사용unused 염산욕Hydrochloric acid bath 4040 00 XX XX OO 22 사용use 사용use 염산욕Hydrochloric acid bath 3939 1One XX XX OO 33 사용use 사용use 염산욕Hydrochloric acid bath 3838 22 OO OO OO 44 사용use 사용use 염산욕Hydrochloric acid bath 3535 55 OO OO OO 55 사용use 사용use 염산욕Hydrochloric acid bath 3030 1010 OO OO OO 66 사용use 사용use 염산욕Hydrochloric acid bath 2525 1515 OO OO OO 77 사용use 사용use 염산욕Hydrochloric acid bath 2020 2020 OO OO XX 88 사용use 사용use 황산욕Sulfuric acid bath 3939 1One XX XX OO 99 사용use 사용use 황산욕Sulfuric acid bath 3838 22 OO OO OO 1010 사용use 사용use 황산욕Sulfuric acid bath 3535 55 OO OO OO 1111 사용use 사용use 황산욕Sulfuric acid bath 3030 1010 OO OO OO 1212 사용use 사용use 황산욕Sulfuric acid bath 2525 1515 OO OO OO 1313 사용use 사용use 황산욕Sulfuric acid bath 2020 2020 OO OO XX

상기 표 1에 나타낸 바와 같이 본 발명에 부합되는 조건에서는 도금층 표면외관이 양호하고, 표면 흠 발생이 없으며, 고전류 밀도 도금이 가능하지만 발명의 범위를 벗어난 도금조건에서는 불량함을 알 수 있다. As shown in Table 1, the surface appearance of the plating layer is good under the conditions consistent with the present invention, there is no surface flaw, and high current density plating is possible, but it is poor in the plating conditions outside the scope of the invention.

즉, 도금액과 양극 및 음극으로 구성되어 스트립을 연속적으로 도금하는 방법에 있어서 초기 도금은 래디알 형태의 도금셀로 도금하고, 이 후 수직형이나, 수평형으로 된 도금셀로 도금하며, 래디알 형태의 도금량이 전체 도금량의 60% 이상이 되도록 하고, 수직형이나 수평형에서 도금되는 최소의 량은 2g/m2 이상이 되도록 한다.In other words, in the method of plating the strip continuously consisting of a plating solution, a positive electrode and a negative electrode, initial plating is performed by using a plating cell in the form of a radical, followed by plating by a plating cell in a vertical or horizontal manner. The plating amount of the form is to be 60% or more of the total plating amount, and the minimum amount to be plated in the vertical or horizontal type is to be 2g / m 2 or more.

그리고, 상기된 바와 같은 도금방법에 의해 도금되는 스트립이 수직형 또는 수평형 도금장치에서 도금될 때, 그 도금량이 2 - 30g/m2 정도로 되며, 이때 도금완료된 제품들은 인산염 처리, 크롬 처리, 수지 처리 등의 후처리된다.When the strip to be plated by the plating method as described above is plated in a vertical or horizontal plating apparatus, the plating amount is about 2-30 g / m 2 , wherein the plated products are phosphate treated, chrome treated, resin Post-treatment such as treatment.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 스트립을 연속 전기도금 할 수 있는 전기도금 장치를 연속으로 래디알 형태의 장치로 먼저 도금을 행하여 적정 도금량을 스트립의 편면에 확보시킨 후 수직형 또는 수평형 전기도금장치로 스트립의 양면을 도금함으로써, 스트립 도금층의 표면외관을 양호하게 하여 품질을 향상시키고, 고전류밀도 도금이 가능하여 생산성을 향상 시킬 수 있다. As described above, according to the present invention, the electroplating apparatus capable of continuously electroplating the strip is first plated continuously with a device in the form of a radial to ensure an appropriate plating amount on one side of the strip, and then vertical or horizontal electroplating. By plating both sides of the strip with a plating apparatus, the surface appearance of the strip plating layer can be improved to improve quality, and high current density plating can be performed to improve productivity.

이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명이 속하는 분야의 당업자는 첨부된 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 요지로부터 벗어나지 않고 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있다는 것을 인식하여야 한다.The foregoing is merely illustrative of the preferred embodiments of the present invention and those skilled in the art to which the present invention pertains may make modifications and changes to the present invention without departing from the spirit and gist of the invention as set forth in the appended claims. It should be recognized.

도 1은 래디알 ( 카로젤) 타입의 전기도금장치.1 is a radial (carousel) type electroplating apparatus.

도 2는 수직형 전기도금장치.2 is a vertical electroplating apparatus.

도 3은 수평형 전기도금장치.3 is a horizontal electroplating apparatus.

< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Major Parts of Drawings>

1 : 연속강대 1: continuous steel strip

2 : 인입 강대지지 롤2: incoming steel support roll

3 : 배출 강대 지지 롤3: discharge steel strip support roll

4 : 양극 4: anode

Claims (4)

삭제delete 도금액과 양극 및 음극으로 구성되어 스트립의 양면을 연속적으로 도금하는 이중 전기도금방법에 있어서,In the double electroplating method consisting of a plating solution and a positive electrode and a negative electrode to continuously plate both sides of the strip, 상기 스트립의 편면을 래디알 도금장치로 목표 도금량의 60% 이상으로 도금처리하는 예비 도금단계와, A pre-plating step of plating one side of the strip to at least 60% of a target plating amount with a radical plating apparatus; 상기 편면 도금처리되고 물이 살수된 스트립의 양면이 수직형 전기도금장치에 의해 도금량 2∼30g/m2으로 동시에 도금처리하는 마무리 도금단계로 이루어진 것을 특징으로 이중 전기도금방법.Double-plating electroplating method characterized in that the one-side plating and both sides of the strip of water is made of a plating finish at the same time the plating amount by 2 ~ 30g / m 2 by a vertical electroplating device. 제2항에 있어서, 상기 예비 도금단계에서 상기 스트립의 양면은 순차적으로 편면 도금처리되는 것을 특징으로 하는 이중 전기도금방법.The method of claim 2, wherein both sides of the strip are sequentially single-sided plating in the pre-plating step. 제3항에 있어서, 상기 예비 도금단계와 상기 마무리 도금단계에 사용되는 도금욕의 도금용액은 동일 용액으로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 이중 전기도금방법. The method of claim 3, wherein the plating solution of the plating bath used in the pre-plating step and the finish plating step is made of the same solution.
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