KR100501678B1 - Multi-temperature control heat treatment device using near infrared ray - Google Patents
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Abstract
본 발명은 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 복잡한 형상 및 곡률을 갖는 부품에 근적외선을 고르게 가열하여 열처리 할 수 있도록 것이다.The present invention relates to a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays, and more particularly, to heat and heat near infrared rays evenly to a component having a complicated shape and curvature.
이를 위해, 일정한 높이를 갖는 구조물의 상부프레임 저면에 장착되는 중앙 실린더와; 상기 중앙실린더의 좌우측에 위치되면서 틸팅 가능하게 상기 상부프레임 저면에 장착되는 좌측 및 우측 실린더와; 상기 중앙 실린더 및 좌우측 실린더의 피스톤 끝단에 일체로 장착되는 좌우측 에미터 모듈과; 상기 에미터 모듈의 저면에 가로세로 등간격으로 배치 고정된 근적외선 램프와; 상기 좌측 및 우측 실린더를 틸팅시키도록 상기 상부프레임에 장착되는 틸팅수단과; 상기 근적외선 램프에 의하여 열처리를 받을 부품을 올려 놓을 수 있도록 상기 구조물의 하부프레임상에 설치되는 받침대로 구성된 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치를 제공한다.To this end, the central cylinder is mounted on the bottom of the upper frame of the structure having a constant height; Left and right cylinders positioned on the left and right sides of the center cylinder and mounted on the bottom of the upper frame to be tiltable; Left and right emitter modules integrally mounted to the piston ends of the central cylinder and the left and right cylinders; A near-infrared lamp which is fixed to the bottom of the emitter module at equal intervals horizontally and vertically; Tilting means mounted to the upper frame to tilt the left and right cylinders; It provides a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using a near infrared, characterized in that consisting of a pedestal is installed on the lower frame of the structure so that the components to be heat treated by the near infrared lamp.
Description
본 발명은 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 복잡한 형상 및 곡률을 갖는 부품에 근적외선을 고르게 가열하여 열처리 할 수 있도록 다단계 온도 제어가 가능한 근적외선을 이용한 다단계 제어 열처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays, and more particularly, to a multi-stage controlled heat treatment apparatus using near infrared rays capable of multi-step temperature control to heat and heat the near infrared rays to a component having a complex shape and curvature. will be.
최근에 근적외선을 이용하여 금속재료에 대한 열처리 강화기술의 연구 개발이 높아지고 있는 추세에 있다.Recently, the research and development of heat treatment strengthening technology for metal materials using near infrared rays has been increasing.
상기 근적외선은 본래 도장 공정중 건조 및 큐링(Curing)등의 공정을 단시간에 가능하도록 개발된 기술로서, 최근에는 금속의 열처리에도 이용되고 있다.The near-infrared ray was originally developed to enable a process such as drying and curing in a short time in a painting process, and has recently been used for heat treatment of metals.
종래에 사용되고 있는 근적외선 장치는 금속의 특성을 충분히 고려하지 못하고 있는 경우가 많고, 특히 가공된 부품의 형상이 각 부분마다 곡률반경이 다르고, 모양이 매우 다양하고 복잡하기 때문에 가공된 부품의 표면에 근적외선을 고르게 가열하지 못하는 단점이 있었다.Near-infrared devices, which are conventionally used, often do not sufficiently consider the characteristics of metals, and in particular, the shape of the machined part has a different radius of curvature for each part, and the shape is very diverse and complicated, so that the near-infrared ray on the surface of the machined part There was a disadvantage of not heating evenly.
즉, 수평상태로 배열된 근적외선 열원을 이용하여 가공된 부품에 대하여 가열 열처리를 하는 경우, 어느 부분은 근적외선 열원과 거리가 가깝고, 또 다른 부분은 근적외선 열원과 거리가 멀리 때문에 고른 열처리 효과를 얻을 수 없었다.In other words, when heat-treating parts processed using a near-infrared heat source arranged in a horizontal state, some parts may be close to the near-infrared heat source, and another part may be far from the near-infrared heat source, thereby obtaining an even heat treatment effect. There was no.
보다 상세하게는, 상기 근적외선은 0.8∼1.5㎛의 파장을 갖는 전자기파의 일종으로서, 기존의 근적외선 조사 장치는 근적외선 열원인 에미터를 포함하는 바, 상기 에미터로부터 상기 파장대의 빛이 발생되도록 고안되어 있다.More specifically, the near-infrared ray is a kind of electromagnetic wave having a wavelength of 0.8-1.5 μm, and the existing near-infrared irradiation apparatus includes an emitter which is a near-infrared heat source, and is designed to generate light in the wavelength band from the emitter. have.
그러나, 상기 에미터는 그 형상을 다양하게 만들 수 없고, 무한정 길게 만들 수도 없는 단점이 있으며, 특히 복잡하고 곡률을 가진 부품에 대하여 그 형상을 고려하지 않고 전체 면적에 걸쳐 동일한 정도로 가열하므로, 에미터로부터 가장 근접한 부분만이 과열되어, 균일한 열처리 효과를 얻을 수 없었다.However, the emitter is disadvantageous in that it cannot be made in various shapes and cannot be made indefinitely long, especially since it is heated to the same degree over the entire area without considering the shape, especially for complicated and curvature parts. Only the nearest part was overheated and a uniform heat treatment effect was not obtained.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 점을 감안하여 발명한 것으로서, 열처리 대상의 부품이 복잡하고 각 부분의 곡률이 서로 다른 형상을 갖는다 하더라도, 전체 면적에 걸쳐 근적외선을 고르게 조사시켜 고른 열처리 효과를 얻어낼 수 있도록 한 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention has been invented in view of the above. Even if the components to be heat treated are complicated and the curvatures of the respective parts have different shapes, even near-infrared rays can be irradiated evenly over the entire area to obtain an even heat treatment effect. It is an object of the present invention to provide a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은: 일정한 높이를 갖는 구조물의 상부프레임 저면에 장착되는 중앙 실린더와; 상기 중앙실린더의 좌우측에 위치되면서 틸팅 가능하게 상기 상부프레임 저면에 장착되는 좌측 및 우측 실린더와; 상기 중앙 실린더 및 좌우측 실린더의 피스톤 끝단에 일체로 장착되는 좌우측 에미터 모듈과; 상기 에미터 모듈의 저면에 가로세로 등간격으로 배치 고정된 근적외선 램프와; 상기 좌측 및 우측 실린더를 틸팅시키도록 상기 상부프레임에 장착되는 틸팅수단과; 상기 근적외선 램프에 의하여 열처리를 받을 부품을 올려 놓을 수 있도록 상기 구조물의 하부프레임상에 설치되는 받침대로 구성된 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치를 제공한다.The present invention for achieving this object comprises: a central cylinder mounted to the bottom of the upper frame of the structure having a constant height; Left and right cylinders positioned on the left and right sides of the center cylinder and mounted on the bottom of the upper frame to be tiltable; Left and right emitter modules integrally mounted to the piston ends of the central cylinder and the left and right cylinders; A near-infrared lamp which is fixed to the bottom of the emitter module at equal intervals horizontally and vertically; Tilting means mounted to the upper frame to tilt the left and right cylinders; It provides a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using a near infrared, characterized in that consisting of a pedestal is installed on the lower frame of the structure so that the components to be heat treated by the near infrared lamp.
바람직한 구현예로서, 상기 각 에미터 모듈에 배치 고정된 각각의 근적외선 램프와 매칭되는 다수의 릴레이와, 이 다수의 릴레이는 릴레이박스에 집약되어 전자제어유니트와 연결되는 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, a plurality of relays that are matched to respective near-infrared lamps disposed in and fixed to each emitter module, and the plurality of relays are integrated in a relay box and connected to an electronic control unit.
더욱 바람직한 구현예로서, 상기 틸팅수단은 구조체의 상부프레임 저면 양쪽에 힌지로 장착되는 한 쌍의 보조실린더와, 이 보조실린더의 피스톤 끝단과 힌지로 체결되는 좌측 보조판 및 우측 보조판과, 이 좌측 및 우측 보조판의 안쪽측면에 소정의 깊이로 형성된 슬롯홀에 일측단이 인출 가능하게 삽입되고 그 바깥쪽 끝단은 상기 중앙실린더의 상단에 장착되는 중앙 보조판의 일끝단과 힌지로 체결되는 한 쌍의 링크바로 구성된 것을 특징으로 한다.In a further preferred embodiment, the tilting means comprises a pair of auxiliary cylinders hinged to both sides of the bottom of the upper frame of the structure, a left auxiliary plate and a right auxiliary plate which are hinged to the piston end of the auxiliary cylinder, and left and right sides thereof. One end is inserted in the slot hole formed at a predetermined depth in the inner side of the auxiliary plate to be pulled out, and the outer end thereof is composed of a pair of link bars fastened to one end of the central auxiliary plate mounted on the top of the center cylinder by a hinge. It is characterized by.
이때, 상기 좌측 및 우측 보조판의 저면에 상기 좌측 및 우측 실린더가 각각 장착되고, 상기 중앙 보조판의 상면은 상기 구조물의 상부프레임에 일체로 고정되는 것을 특징으로 한다.At this time, the left and right cylinders are mounted on the bottom surfaces of the left and right auxiliary plates, respectively, and the upper surface of the central auxiliary plate is fixed to the upper frame of the structure.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조로 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, preferred embodiments of the present invention will be described.
도 1a는 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 일실시예를 나타내는 정면도이고, 도 1b는 그 작동예를 보여주는 정면도이다.Figure 1a is a front view showing an embodiment of a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using a near infrared ray according to the present invention, Figure 1b is a front view showing an operation example.
본 발명의 장치는 일정한 높이를 갖는 구조물에 장착되는 바, 구조물의 상부프레임(40) 저면 중앙 위치에 중앙 실린더(10)가 장착되고, 이 중앙실린더(10)의 좌우측 위치에 좌측 및 우측 실린더(12,14)가 장착되어진다.The device of the present invention is mounted on a structure having a constant height, the center cylinder 10 is mounted at the center of the bottom surface of the upper frame 40 of the structure, the left and right cylinders ( 12, 14) are mounted.
물론, 상기 각각의 실린더(10,12,14)는 피스톤이 하방향으로 수직 이동 가능하게 장착된다.Of course, each of the cylinders (10, 12, 14) is mounted so that the piston can be moved vertically downward.
이때, 상기 중앙실린더(10) 및 좌우측 실린더(12,14)의 피스톤(16) 끝단에는 각각 중앙 및 좌우측 에미터 모듈(20,22,24)이 일체로 장착되는 바, 이 에미터 모듈(20,22,24)의 저면에는 가로세로 등간격을 이루며 근적외선 램프(30)가 장착되어진다.At this time, the center and the left and right emitter modules 20, 22 and 24 are integrally mounted to the ends of the piston 16 of the central cylinder 10 and the left and right cylinders 12 and 14, respectively. On the bottom of the 22 and 24, the near-infrared lamp 30 is mounted at equal intervals in the horizontal and vertical directions.
한편, 상기 구조물의 하부프레임(42)에는 열처리 대상 물품(50)이 올려지는 받침대(26)가 위치된다.On the other hand, the lower frame 42 of the structure is a pedestal 26 is placed on which the heat treatment object 50 is placed.
따라서, 상기 받침대(26)에 열처리 대상 물품(50)을 올려놓은 후, 상기 각 에미터 모듈(20,22,24)의 근적외선 램프를 가동시키게 되면, 근적외선 램프(30)로부터 근적외선이 열처리 대상 물품(50)에 가해지게 되어, 해당 물품의 열처리가 이루어지는 것이다.Accordingly, when the near-infrared lamps of the emitter modules 20, 22, and 24 are operated after placing the heat-treated object 50 on the pedestal 26, the near-infrared rays from the near-infrared lamp 30 are subjected to the heat-treated article. It is added to 50, the heat treatment of the article is performed.
이때, 상기 열처리 대상 물품(50)이 도 1a에 도시한 바와 같이, 평평한 물품의 경우에는 중앙실린더(10) 및 좌우측 실린더(12,14)를 구동시켜, 각각의 에미터 모듈(20,22,24)을 평행하게 위치시킨 후, 근적외선을 방사시킴에 따라, 열처리 대상 물품(50)에 대한 고른 가열이 이루어져, 균일한 열처리 효과를 얻어낼 수 있다.In this case, as shown in FIG. 1A, the heat treatment target article 50 drives the center cylinder 10 and the left and right cylinders 12 and 14 in the case of a flat article, respectively. After placing 24) in parallel, by radiating near-infrared light, even heating of the object 50 to be heat-treated can be achieved, thereby obtaining a uniform heat treatment effect.
특히, 열처리 대상 물품(50)이 도 1b에 도시한 바와 같이, 중앙이 볼록하게 단차진 형상의 경우에는 중앙실린더(10)는 구동시키지 않고, 좌우측 실린더(12,14)를 구동시켜 해당 피스톤(16)을 하방향으로 이동시킨다.In particular, in the case where the heat treatment object 50 has a convex stepped shape in the center, the center cylinder 10 is not driven, but the left and right cylinders 12 and 14 are driven to drive the corresponding piston ( Move 16) downward.
따라서, 좌우측은 낮고 중앙은 높은 단차진 열처리 대상 물품(50)에 대한 고른 열처리 효과를 얻어낼 수 있다.Accordingly, even heat treatment effect on the stepped heat treatment target object 50 having a low left and right and a high center can be obtained.
즉, 좌우측 실린더(12,14)의 구동으로 좌우측 에미터(22,24)가 하방향으로 이동하면서 상기 열처리 대상 물품(50)의 좌우측 상면과의 거리가 좁혀지게 됨에 따라, 전체적으로 각각의 에미터(20,22,24)와 열처리 대상 물품(50)의 표면간의 거리가 균일하게 맞추어진 상태가 되어, 결국 열처리 대상 물품(50)은 각각의 에미터(20,22,24)의 근적외선 램프(30)로부터의 근적외선을 고르게 받아, 고른 열처리 효과를 얻을 수 있게 되는 것이다.That is, as the left and right emitters 22 and 24 move downward by the driving of the left and right cylinders 12 and 14, the distance from the upper and left upper surfaces of the object 50 to be heat-treated is narrowed, so that each emitter as a whole The distance between the surfaces 20, 22 and 24 and the surface of the heat-treatment object 50 is uniformly aligned, and thus, the heat-treatment object 50 becomes a near infrared lamp (of each emitter 20, 22, 24). By receiving the near-infrared rays from 30) evenly, an even heat treatment effect can be obtained.
여기서 본 발명의 다른 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, another embodiment of the present invention will be described.
첨부한 도 2a는 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 다른 실시예를 나타내는 정면도이고, 도 2b는 그 작동예를 나타내는 정면도이다.2A is a front view showing another embodiment of a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays according to the present invention, and FIG. 2B is a front view showing an operation example thereof.
본 발명의 다른 실시예의 특징은 상기 구조물의 상부프레임(40)에 좌우측 실린더(22,24)가 소정의 각도로 틸팅되게 장착된 점에 그 특징이 있다.Another embodiment of the present invention is characterized in that the left and right cylinders 22 and 24 are mounted to the upper frame 40 of the structure so as to be tilted at a predetermined angle.
상기 구조물의 상부프레임(40) 저면 중앙에 중앙 보조판(32)을 일체로 장착하고, 이 중앙보조판(32)의 저면에 중앙실린더(10)가 장착되며, 이 중앙실린더(10)의 피스톤(16) 끝단에는 에미터 모듈(20)이 장착되는 바, 상기 중앙 보조판(32)의 양끝단에는 링크바(34)의 일끝단이 힌지로 장착되어진다.The central auxiliary plate 32 is integrally mounted at the center of the bottom surface of the upper frame 40 of the structure, and the central cylinder 10 is mounted on the bottom of the central auxiliary plate 32, and the piston 16 of the central cylinder 10 is mounted. At the end, the emitter module 20 is mounted, and at both ends of the central auxiliary plate 32, one end of the link bar 34 is hinged.
특히, 상기 구조물의 상부프레임(40)의 저면 양쪽에 보조실린더(36)가 힌지로 장착되고, 상기 보조실린더(36)의 피스톤 하단끝에는 좌측 및 우측 보조판(38,39)이 힌지로 장착되어진다.In particular, the auxiliary cylinder 36 is hinged to both sides of the bottom of the upper frame 40 of the structure, and the left and right auxiliary plates 38 and 39 are hinged to the lower end of the piston of the auxiliary cylinder 36. .
이때, 상기 좌측 및 우측 보조판(38,39)의 안쪽 측면에는 각각 소정의 깊이로 슬롯홀(44)에 형성되어, 상기 중앙 보조판(32)에 힌지로 장착된 링크바(34)가 인출 가능하게 삽입되어진다.At this time, the inner side surfaces of the left and right auxiliary plates 38 and 39 are formed in the slot holes 44 at predetermined depths, respectively, so that the link bar 34 hinged to the central auxiliary plate 32 can be pulled out. Is inserted.
물론, 상기 좌측 및 우측 보조판(38,39)의 저면에는 각각 좌측 및 우측 실린더(12,14)가 장착되고, 이 좌우측 실린더(12,14)의 피스톤(16) 끝단에는 좌측 및 우측 에미터 모듈(22,24)이 장착되어진다.Of course, left and right cylinders 12 and 14 are mounted on the bottoms of the left and right auxiliary plates 38 and 39, respectively, and left and right emitter modules at the ends of the pistons 16 of the left and right cylinders 12 and 14, respectively. (22, 24) are mounted.
한편, 상기 좌우측 보조판(38,39)의 슬롯홀(44)의 입구에는 스토퍼단(46)이 일체로 형성되고, 상기 슬롯홀(44)이 삽입된 링크바(34)의 일끝단에는 상기 스토퍼단(46)에 걸리게 되는 걸림단(48)이 일체로 형성되어, 링크바(34)가 슬롯홀(44)로부터 이탈됨을 방지할 수 있도록 하였다.Meanwhile, a stopper end 46 is integrally formed at an inlet of the slot holes 44 of the left and right auxiliary plates 38 and 39, and at one end of the link bar 34 into which the slot hole 44 is inserted, the stopper is formed. The locking end 48 to be caught by the end 46 is integrally formed to prevent the link bar 34 from being separated from the slot hole 44.
따라서, 상기 구조물의 하부프레임(42)에 위치한 받침대(26)에 중앙이 볼록한 타원형의 곡률반경을 갖는 열처리 대상 물품(50)을 올려 놓으면, 도 2a에 도시한 바와 같이 중앙실린더(10)는 열처리 대상 물품(50)과의 거리가 가깝고, 좌우측 실린더(12,14)는 열처리 대상 물품(50)과의 거리가 멀게 되어 균일한 열처리 효과를 얻어낼 수 없다.Therefore, when the heat treatment object 50 having an elliptical curvature radius of the center is placed on the pedestal 26 located in the lower frame 42 of the structure, the central cylinder 10 is heat-treated as shown in Figure 2a The distance from the object 50 is close, and the left and right cylinders 12 and 14 are far from the object 50 to be heat-treated, so that a uniform heat treatment effect cannot be obtained.
이에따라, 상기 보조실린더(36)를 구동시키게 되면, 보조실린더(36)의 피스톤이 하방향으로 이동하는 동시에 좌우측 보조판(38,39)을 밑으로 밀게 되는 바, 이때 보조판(38,39)의 바깥쪽 부분이 밑으로 회동하는 동시에 링크바(34)가 상기 슬롯홀(44)로부터 빠져나오게 되어, 결국 좌우측 보조판(38,39)과, 좌우측 실린더(12,14)와, 좌우측 에미터(22,24)는 소정의 각도로 틸팅되어, 열처리 대상 물품(50)과의 거리가 가까워지게 된다.Accordingly, when the auxiliary cylinder 36 is driven, the piston of the auxiliary cylinder 36 moves downward and simultaneously pushes the left and right auxiliary plates 38 and 39 downward, and at this time, the outside of the auxiliary plates 38 and 39. The side portion rotates downward, and at the same time, the link bar 34 comes out of the slot hole 44. As a result, the left and right auxiliary plates 38 and 39, the left and right cylinders 12 and 14, and the left and right emitters 22, 24 is tilted at a predetermined angle, so that the distance to the heat treatment target article 50 is close.
보다 상세하게는, 상기 보조실린더(36)의 구동과 함께, 보조실린더(36)의 상단과 상부프레임(40)간의 힌지점, 보조실린더(36)의 피스톤과 좌우측 보조판(38,39)간의 힌지점, 상기 링크바(34)와 중앙보조판(32)간의 힌지점이 동시에 연동되어, 상기 좌우측 보조판(38,39)과, 좌우측 실린더(12,14)와, 좌우측 에미터(22,24)가 동시에 소정의 각도로 틸팅되는 것이다.More specifically, with the driving of the auxiliary cylinder 36, the hinge point between the upper end of the auxiliary cylinder 36 and the upper frame 40, the hinge between the piston of the auxiliary cylinder 36 and the left and right auxiliary plates 38, 39 Dot and the hinge point between the link bar 34 and the central subsidiary plate 32 are interlocked at the same time so that the left and right subsidiary plates 38 and 39, the left and right cylinders 12 and 14, and the left and right emitters 22 and 24 are simultaneously It is tilted at a predetermined angle.
따라서, 곡률반경을 갖는 열처리 대상 물품이라도 중앙 및 좌우측 에미터 모듈(20,22,24)로부터 동일한 근적외선을 받게 됨에 따라, 곡률반경을 갖는 열처리 대상 물품에 대해서도 균일한 열처리 효과를 얻을 수 있게 된다.Therefore, even if the heat treatment target article having a radius of curvature receives the same near infrared rays from the center and left and right emitter modules 20, 22, 24, even heat treatment target article having a radius of curvature can obtain a uniform heat treatment effect.
한편, 상기 좌우측 실린더(12,14)를 틸팅시키는 수단은 어떠한 수단을 사용하여도 무방하다.On the other hand, the means for tilting the left and right cylinders 12, 14 may be any means.
여기서 본 발명의 또 다른 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, another embodiment of the present invention will be described.
첨부한 도 3은 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 또 다른 실시예를 보여주는 정면도이다.3 is a front view showing another embodiment of a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays according to the present invention.
본 발명의 또 다른 실시예를 상술한 일실시예와 그 구성에서 유사하고, 단지 각각의 에미터 모듈의 근적외선 램프들의 근적외선 방사량을 조절할 수 있는 점에 그 특징이 있다.Another embodiment of the invention is similar in its construction to the embodiment described above, and is characterized in that it can only adjust the near infrared radiation dose of the near infrared lamps of each emitter module.
즉, 상기 각 에미터 모듈(20,22,24)에 배치 고정된 각각의 근적외선 램프와 매칭되는 다수의 릴레이(미도시됨)를 구비하고, 이 다수의 릴레이를 릴레이박스에 집약시킨 후, 전자제어유니트(52)와 연결시킨 점에 그 특징이 있다.That is, a plurality of relays (not shown) matching each of the near-infrared lamps disposed in and fixed to the emitter modules 20, 22, and 24, and the plurality of relays are concentrated in a relay box, The feature is that it is connected to the control unit 52.
따라서, 상기 구조물의 하부프레임(42)에 위치한 받침대(26)에 중앙이 볼록한 타원형의 곡률반경을 갖는 열처리 대상 물품(50)을 올려 놓으면, 도 3에 도시한 바와 같이 중앙에미터(20)는 열처리 대상 물품과의 거리가 가깝고, 좌우측 에미터(12,14)는 열처리 대상 물품과의 거리가 멀게 되어 균일한 열처리 효과를 얻어낼 수 없다.Accordingly, when the heat treatment target article 50 having the radius of curvature of the convex center is placed on the pedestal 26 located in the lower frame 42 of the structure, as shown in FIG. The distance from the heat-treatment object is close, and the left and right emitters 12, 14 are far from the heat-treatment object, and thus a uniform heat treatment effect cannot be obtained.
그러나, 도 3에 도시한 바와 같이, 조작부에서 각 근적외선 램프(30)에 대한 출력량을 선택한 후, 이를 전자제어유니트(52)에 입력하게 되면, 전자제어유니트에서는 각각의 근적외선 램프(30)에 서로 다른 출력을 위한 전류를 흘려보내게 된다.However, as shown in FIG. 3, when an output amount for each near infrared lamp 30 is selected by the operation unit and inputted to the electronic control unit 52, the electronic control unit mutually inputs to each near infrared lamp 30. It will flow the current for the other output.
즉, 도 3에 도시한 바와 같이, 중앙에미터(20)의 근적외선 램프(30)는 저출력이 되게, 좌우측 에미터(22,24)의 근적외선 램프(30)중 안쪽에 위치한 것은 중출력이 되게, 좌우측 에미터(22,24)의 근적외선 램프(30)중 바깥쪽에 위치한 것은 고출력이 되게 함으로써, 도 3에 도시한 바와 같이 곡률을 갖는 열처리 대상 물품이라도 균일한 근적외선을 조사해줌으로써, 균일한 열처리 효과를 얻을 수 있게 된다.That is, as shown in Figure 3, the near-infrared lamp 30 of the center emitter 20 is to be a low output, the one located inside the near-infrared lamp 30 of the left and right emitters 22, 24 to be a medium output In the near-infrared lamps 30 of the left and right emitters 22 and 24, the outer portion of the near-infrared lamp 30 has a high output, so that even a heat-treatment object having a curvature as shown in FIG. Will be obtained.
이상에서 본 바와 같이, 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치에 의하면, 열처리 대상의 부품이 복잡하고 각 부분의 곡률이 서로 다른 형상을 갖는다 하더라도, 전체 면적에 걸쳐 근적외선을 고르게 조사시켜 고른 열처리 효과를 얻어낼 수 있는 장점을 제공한다.As described above, according to the multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using the near infrared rays according to the present invention, even if the components to be heat treated are complicated and the curvatures of the respective portions have different shapes, the near infrared rays are uniformly irradiated over the entire area. It provides the advantage that the heat treatment effect can be obtained.
도 1a는 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 일실시예로서, 그 작동예를 보여주는 정면도,Figure 1a is an embodiment of a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using a near infrared ray according to the present invention, a front view showing an operation example,
도 1b는 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 일실시예로서, 열처리 대상 물품이 다른 경우의 작동예를 보여주는 정면도,1B is a front view showing an operation example when the article to be heat treated is an embodiment of a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays according to the present invention;
도 2a는 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 다른 실시예를 나타내는 정면도,Figure 2a is a front view showing another embodiment of a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays according to the present invention,
도 2b는 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 다른 실시예로서, 그 작동예를 나타내는 정면도,Figure 2b is another embodiment of a multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using near infrared rays according to the present invention, a front view showing an operation example thereof,
도 3은 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 다단계 온도 제어 열처리 장치의 또 다른 실시예로서, 좌우측 및 중앙 에미터 모듈의 각 근적외선 램프에 제어수단이 연결된 상태를 보여주는 정면도.3 is a front view showing a state in which a control means is connected to each near-infrared lamp of the left and right and the center emitter module as another embodiment of the multi-stage temperature controlled heat treatment apparatus using the near infrared ray according to the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10 : 중앙실린더 12 : 좌측실린더10: center cylinder 12: left cylinder
14 : 우측실린더 16 : 피스톤14: right cylinder 16: piston
20 : 중앙 에미터 모듈 22 : 좌측 에미터 모듈20: center emitter module 22: left emitter module
24 : 우측 에미터 모듈 26 : 받침대24: right emitter module 26: pedestal
30 : 근적외선 램프 32 : 중앙보조판30: near infrared lamp 32: central auxiliary plate
36 : 보조실린더 38 : 좌측 보조판36: auxiliary cylinder 38: left auxiliary plate
39 : 우측 보조판 40 : 상부프레임39: right auxiliary plate 40: upper frame
42 : 하부프레임 50 : 열처리 대상 물품42: lower frame 50: heat treatment target
52 : 전자제어유니트52: electronic control unit
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