KR100488866B1 - 제지기/판지초지기의입구헤더를통과하는지료유동과희석유동을결합하는장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 제지기/판지초지기의 입구 헤더(J₁)를 통과하는 지료 유동(L₂)과 희석유동(L₁)을 결합하는 장치에 관한 것이다. 그 장치는 희석 유동 덕트(D₁, D₂...)를 포함하며, 종이/판지 웨브의 기본중량을 소기의 레벨로 조절하도록 제지기/판지초지기의 헤드박스 나비 전반에 걸쳐 소기의 위치로 상기 희석 유동덕트(D₁, D₂...)를 통하여 희석유동(L₁)이 통과된다. 희석 유동덕트(D₁, D₂...)는 그 마지막 단부(D_1a, D_2a...)에서 그 단부를 향하여 더 협소하게 되도록 형성된다. 상기 협소부의 영역에 분기 덕트 (E_1.1, E_1.2... ; E_2.1, E_2.2...)가 배치되며, 상기 분기덕트를 벗어나 희석유동이 파이프(11,G)의 시스템 내로 통과되며, 입구 헤더(J₁)를 통과하는 지료유동(L₂)과 희석유동이 결합된다.

Description

제지기/판지초지기의 입구 헤더를 통과하는 지료유동과 희석 유동을 결합하는 장치

본 발명은 제지기/판지초지기(board machine;板紙抄紙機)의 입구헤더를 통과하는 지료유동과 희석유동을 결합하기 위한 장치에 관한 것이다.

본 출원인의 특허출원 FI901593, FI933027 및 FI942780에서 공지된, 소위 희석 헤드박스라는 것은 헤드박스 구조로서 이해되는데, 상기 헤드박스 구조에서 웨브의 기본중량은 헤드박스의 나비의 상이한 위치로 희석유동을 통화시키는 관통 밸브에 의해 또한 상기 유동의 양을 조절함으로써 웨브나비 전반에 걸쳐 조절될 수 있다. 희석유동은 헤드박스의 입구 헤더를 통과하는 지료 유동과 혼합된다. 희석유동은 순수액체 또는 섬유상 액체로 이루어질 수 있다. 따라서, 희석수는 예를 들면 웨브로부터 보류(retention)로서 취해지는 초지망(wire;종이 뜨는 망)의 물일 수 있다.

본 특허 출원에서는, 제지기/판지초지기의 입구 헤더로부터 도출된 지료 유동과 희석유동을 결합하기 위한 장치가 개시되는데, 장치의 해결수단에서 희석액, 바람직하게는 희석수는, 입구헤더로부터 통과된 지료유동과 관련하여 통과되며, 바람직하게는 입구 헤더다음에 배치된 튜브 매니폴드(tube manifold)와 관련하여 통과된다. 본 발명에 따른 헤드박스 구조에 있어서, 웨브의 기본중량은, 소기의 희석유동을 헤드박스의 전체 나비에 걸쳐 상이한 위치로 통과시키는 관통 조절 밸브(V₁,V₂...)에 의해 초지망의 나비 전반에 걸쳐 조절될 수 있다. 본 발명에 따른 해결수단에 있어서, 희석 유동은 튜브 매니폴드의 각각의 파이프열 내로 통과되며, 각각의 파이프열에서 모든 파이프들은 파이프열 내에 포개져서 배치된다. 이러한 방식으로, 입구헤더를 통과하는 지료 유동과 희석 유동의 혼합이 가능한한 효율적으로 이루어 질 수 있다. 본 발명에 따르면, 희석 유동 덕트는 밸브로부터 통과되는 탄성 파이프로 이루어지는데, 상기 파이프는 튜브 매니폴드와 연결되는 것이 바람직하며, 상기 파이프를 벗어나 유동은 경사진 벽을 구비한 덕트부를 통하여 튜브 매니폴드의 파이프 열들의 각각의 파이프 내로 균일하게 분배된다. 협소한 덕트단부가 사용되면, 유동은 튜브 매니폴드의 파이프 열들의 모든 파이프내로 균일하게 분배될 수 있으며, 또한 희석액의 유동(L₁) 방향으로 제1파이프내로 분배될 수 있다. 불충분하게 분배된 희석 유동은 종이/판지의 기본 중량의 불안정성/잔류 산란을 증가시킨다.

본 발명에 따르면, 중간 플레이트 부품내에 희석 유동용 협소 덕트부가 형성되는데, 그 협소 덕트부의 벽은, 지료 유동의 유동방향(L₂)으로 제1플레이트로서 배치되며 지료 유동에 대한 유동 덕트를 포함하는 플레이드로 이루어진다. 또한, 그 구조에 있어서, 유동방향으로 협소해지는 덕트부를 포함하는 플레이트의 출구측부에 분리 드로틀 플레이트가 사용되며, 상기 드로틀 플레이트는 드로틀 개구부들을 포함하며, 그와 관련하여 상기 트로틀 지점에서의 희석유동의 도입지점 다음에 결합된 유동(L₁+L₂)이 효율적으로 혼합된다. 본 특허출원에서, 드로틀 플레이트가 언급될 때, 상기 플레이트는 결합된 유동(L₁+L₂)에 대하여 대체로 유동하는 저항을 포함하는 플레이트 구조를 지칭할 수 있다. 따라서, 드로틀은 또한 유동 확장부(flow widening)에 의해 대체될 수 있다. 결합된 유동(L₁+L₂)의 안내시 상기 확장부의 효과는 드로틀 구조의 효과와 유사하다.

그 단부에서 더 협소해지는 본 발명에 따른 덕트는, 덕트를 금속 플레이트내로 기계가공, 바람직하게는 밀링가공함으로써 가장 유리하게 제작된다. 유동에서의 난류(turbulence)를 발생시키고, 계단식 확장부 또는 협소부, 바람직하게는 지료 입구 헤더 바로 다음에 배치된 튜브 매니폴드 또는 중간 챔버 다음에 배치된 난류 발생기를 포함하는 유동 파이프의 세트는, 상기 플레이트내로 상기 유동 파이프들을 드릴링 가공함으로써 하나의 블랭크 플레이트 내로 형성된다. 유사하게, 본 발명에 따른 구조에 있어서, 희석액 덕트의 단부들은, 구조내에 협소 덕트 단부를 기계가공함으로써 상기 단일 플레이트 내로 형성되며, 상기 협소 덕트 단부를 벗어나 분기 덕트들이 지료 유동을 위한 유동 파이프로 분기된다.

본 발명은 첨부될 청구의 범위에 언급된 특징을 지닌다.

본 발명의 한가지 실시예에 있어서, 바람직하게는 튜브 매니폴드 또는 난류 발생기의 유동에서의 난류를 발생시키는 계단식 확장부/확장부들을 포함하는 유동 파이프 세트의 덕트들은 모듈과 같은 유닛으로 이루어지는데, 튜브 매니폴드의 파이프들이 터닝 가공에 의해 각각의 모듈내로 제작되고, 또한 각각의 모듈내로 모듈의 전방면상으로 단부를 밀링가공함으로써 희석유동덕트의 단부가 제작된다. 드릴링 가공과 밀링 가공에 의해 상기에서 언급된 방식으로 모듈들이 형성되고, 그 모듈들이 나란히 조립되면, 용이하게 형성될 수 있는 구조의 유닛이 취득된다. 희석유체의 도입지점 바로 다음의 튜브 매니폴드에 배치된 드로틀은 윈뿔형 구멍을 금속 플레이트 구조내로 터닝 가공함으로써 제작된다.

본 발명에 따른 희석액체의 공급장치와 그것의 모듈 특성은 튜브 매니폴드와 관련하여 희석 액체의 공급에 특히 적절하다. 그러나, 본 발명은 단지 상기에서 언급된 희석액체의 공급지점에 한정되도록 기대되지 않으며, 또한 난류 발생기와 관련하여 중간 챔버의 후방측에서의 유사한 구조내로 희석액체가 도입될 수 있다.

본 발명이 첨부도면에 도시된 본 발명의 적절한 실시예와 관련하여 후술되지만, 본 발명이 단지 상기 실시예에 한정되도록 의도되지는 않는다.

도 1A는 입구헤더 다음에 배치된 튜브 매니폴드와 관련하여 희석액의 공급장치를 도시하는 제지기/판지초지기의 헤드박스의 단면도.

도1B는 도1A의 구조의 부분도.

도1C는 도1A의 화살표K₁ 방향에서 본 희석액의 조절을 위한 밸브세트(V₁,V₂...)의 도면.

도2는 튜브매니폴드와 관련하여 희석액의 공급이 도시된, 도1B의 선Ⅰ-Ⅰ을 따라 취해진 단면도.

도3은 모듈 구조 구성요소(M₁ 및 M₂)의 입체도.

도4A는 도3의 화살표(K₂) 방향으로 튜브 매니폴드의 영역에서 본 도3에 도시된 모듈(M₁)의 부분도.

도4B는 도4A의 선Ⅱ-Ⅱ 를 따라 취해진 단면도.

도4C는 도4A의 선Ⅲ-Ⅲ 을 따라 취해진 단면도.

도4D는 (지료의 유동방향으로) 튜브 매니폴드의 출구측에 배치된 드로틀 플레이트를 제시하는, 도 4B에 도시된 단면도와 실질적으로 유사한 도면.

도5는 유동이 지료유동(L₁)에 대하여 반대편으로 향하도록 구조내로 분기덕트(E_1.1, E_1.2, E_1.3)들이 밀링 가공되어, 유동의 혼합이 효과적으로 이루어질 수 있는 것을 제외하고는 도4C의 단면도에 유사한 본 발명의 한가지 실시예를 제시하는 도면.

도6A는 희석액 공급장치의 제 2 실시예를 도시하는 도면.

도6B는 도6A의 선Ⅳ-Ⅳ를 따라 취해진 단면도.

도7A는 인접 모듈의 측벽에 의해 원추형으로 좁아지는 덕트(D₁)의 하나의 구조벽이 형성되는 본 발명의 한가지 실시예를 제시하는 도면.

도7B는 도7A의 선Ⅴ-Ⅴ 를 따라 취해진 단면도.

도8A는 중간챔버 다음의 난류발생기에서 지료 유동으로의 희석액 공급이 이루어지는 본 발명의 한가지 실시예를 제시하는 도면.

도8B는 상부에서 본 도8A의 구조를 제시하는 도면.

도9는 기계가공함으로써 헤드박스의 전체 나비에 걸쳐 연장하는 하나의 단일 플레이트내로 지료 덕트와 희석액 덕트가 제작되는 본 발명에 따른 구조의 한가지 실시예를 제시하는 도면.

도1A에 도시된 바와 같이, 제지기/판지초지기의 헤드박스(10)는 입구헤더(J), 입구헤더(J) 다음의 파이프 시스템, 즉 지료 유동에서 난류를 발생시키는, 튜브 매니폴드의 파이프(11)세트 및 정수(stilling;靜水)챔버(13)내로 개방되는, 상기 파이프세트 다음의 중간챔버(12)를 포함한다. 상기 중간챔버(12) 다음에는 지료유동에서 난류를 발생시키는 제2세트의 파이프들, 즉 난류발생기(G)가 배치된다. 난류 발생기(G)의 파이프(G_1.1,G_1.2...)들은 슬라이스 코운(16;slice cone)내로 더 개방되며, 상기 슬라이스 코운은 도면에 제시된 방식의 박막(17a₁,17a₂,17a₃; lamella)들을 포함한다. 지료는 슬라이스 코운(16)을 벗어나 유출 간극을 통하여 성형 초지망(H;forming wire)상으로 통과된다. 도면에 제시된 바와 같이, 슬라이스 코운(16)다음의 유출 개구부는 톱 슬라이스 바(n; top slice bar)와 그것의 조절을 위한 기구(18)를 포함한다. 톱 슬라이스 바(n)의 위치는 조절기구(18)에 포함된 조절 스핀들(19)과 조절 모터(20)에 의해 조절될 수 있다. 희석액의 유동(L₁)은 밸브(V₁, V₂...)에 의해 조절된다. 본 발명에 따른 장치는 헤드박스의 나비 전반에 걸친 희석 유동을 위한 다수의 분배 덕트(D₁, D_2...)를 포함하며, 그와 관련하여 헤드박스 전반에 걸친 나비의 상이한 위치로 소기의 희석유동이 도입될 수 있으며, 밸브(V₁, V₂...)를 조절함으로써 나비의 각각의 위치에서 상기 유동이 조절될 수 있다. 도1A에 제시된 바와 같이, 희석액, 바람직하게는 희석수가 제지기의 헤드박스 전반에 걸친 나비의 상이한 위치로 통과되어, 희석수는 튜브 매니폴드(11)의 각각의 수직열에 있는 파이프(11a_1.1,11a_1.2,11a_1.3 ; 11a_2.1,11a_2.2,11a_2.3 ; 11a_3.1,11a_3.2,11a_3.3...)내로 통과된다.

도1B는 도1A를 상부에서 본 구조를 도시한다.

도1C는 희석액의 조절에 사용된 밸브(V_1, V_2, V₃...)의 시스템을 도시한다. 희석액은 희석액 입구 헤더(J₂)로부터 밸브(V_1, V₂...)를 통하여 희석액 공급덕트(D₁, D₂...)내로 통과된다. 각각의 덕트(D_1, D₂...)에서 희석액(L₁)의 유동은 밸브에 의해 다른 덕트와 무관하게 조절된다.

도2는 도1B의 선Ⅰ-Ⅰ을 따라 취해진 단면도이다. 도면에 도시된 바와 같이, 입구헤더(J₁)로부터 지료유동(L₁)이 튜브 매니폴드(11)의 각각의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3, ; 11a_2.1, 11a_2.2, 11a_2.3, ; 11a_3.1, 11a_3.2, 11a_3.3...)내로 통과된다. 희석액은 희석유동(L₂)으로서 튜브 매니폴드의 수직열의 각각의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3)내로 통과된다. 그 유동은 분배덕트(D₁) 또는 분배파이프의 등가물을 통하여 튜브 매니폴드(11)의 수직열내로 통과되며, 또한 각각의 수직열의 각각의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3)내로 통과된다. 마찬가지로, 튜브 매니폴드의 나비와 수직 섹션의 다른 상이한 위치에서도, 희석유동은 분배덕트(D₂, D₃...)를 벗어나 튜브 매니폴드(11)의 상응하는 위치에서의 수직열들의 파이프(11a_2.1, 11a_2.2, 11a_2.3 ; 11a_3.1, 11a_3.2, 11a_3.3...)내로 통과된다.

도2에 도시된 바와 같이, 희석유동을 위한 분배덕트(D₁, D₂)는 튜브 매니폴드(11)의 최저 파이프(11a_1.3)를 향해 덕트(D₁)의 협소화가 이루어지도록 그 단부에서 더 좁아진다. 도2에서 점선으로 도시된 바와 같이, 파이프 시스템의 파이프 열들 사이에 형성된 덕트(D₁)의 덕트부(D_1a)는 또한 그 벽부(S₁)가 수직 평면에 관하여 경사지게 배체되도록 형성된다. 분기 덕트들이 덕트부(D_1a)의 벽(S₂)으로부터 파이프(11)세트의 수직열의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2...)내로 개방된다.

상기 덕트의 협소 배치에 의해, 덕트(D₁)의 모든 출구(E_1.1, E_1.2, E_1.3)에서의 압력은 일정하게 유지될 수 있다. 도면에 도시된 바와 같이, 희석유동덕트(D₁)로부터 분기된 분배 덕트(E_1.1, E_1.2, E_1.3)의 횡단면 형상은 직사각형이다.

마찬가지로, 덕트(D₁)의 단부(D_1a)의 횡단면 형상은 직사각형이며, 상기 협소 덕트 형상은 단부벽(S₁)을 밀링가공함으로써 형성되며, 상기 단부벽은 덕트(D₁)의 단부영역에서 수직평면에 관하여 경사지게 배치된다. 덕트(D₁)의 덕트부(D_1a)는 탄성 가요성 덕트부(D_1b)와 연결되며, 그것은 그 단부에 조절 밸브(V₁)를 포함한다. 희석액은 희석액 입구 헤더(J₁)를 벗어나 덕트(D₁)내로 통과된다.

튜브 매니폴드(11)의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3)내로의 분기덕트(E_1.1, E_1.2, E_1.3)의 출구들은 유동 방향(L₁)에 관하여 드로틀(21a_1.1, 21a_1.2, 21a_1.3)의 전방 측부에 배치된다. 상기 드로틀(21a_1.1, 21a_1.2, 21a_1.3)은 직선 덕트부(22a_1.1, 22a_1.2, 22a_1.3 ;도 4D 참조)로 종결되는 덕트의 원뿔형 수축부이다. 대부분의 통상 실시예는, 튜브 매니폴드(11)의 상기 플레이트 내로 형성된 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3... ; 11a_2.1, 11a_2.2, 11a_2.3...)들이 기계가공에 의해 그 내부에 제작되는 하나의 단일 플레이트의 구조이며, 기계가공에 의해 분기 덕트(E_1.1, E_1.2, E_1.3)들이 상기 플레이트의 전방면(T')내로 만들어진다.

튜브 매니폴드(11)의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3... ; 11a_2.1, 11a_2.2, 11a_2.3...)들은 2부분의 파이프세트, 다시 말하면 분리 플레이트 내로 기계가공된, 바람직하게는 드릴링 가공된 파이프와 상기 파이프들과 연결된 분리 파이프구성요소로 이루어진다.

도3은 튜브 매니폴드(11)의 혼합부의 모듈 구조 구성요소(M₁,및 M₂)를 도시한다. 그 구조 구성요소 또는 모듈(M₁, M₂...)들은 금속 플레이트(T)로 되는 것이 바람직하며, 프레이트(T)내로 드릴링가공함으로써 튜브 매니폴드(11)의 초기 부분의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3)들이 만들어진다. 각각의 모듈(M₁, M₂)이 분리구조 구성요소로 만들어지기 때문에, 덕트(D₁, D₂...)가 밀링 가공에 의해 용이하게 모듈(M₁, M₂...)의 전방면(T')상으로 만들어질 수 있다. 마찬가지로, 덕트의 단부 부분(D_1a, D_2a...)을 향해 좁아지는 형상의 덕트(D₁, D₂)는 덕트(D₁, D₂...)의 단부벽(S₁)을 형성함으로써 이루어질 수 있으며, 그 횡단면 형상은 단부(D_1a, D_2a...)영역에서 경사진 직사각형이다. 마찬가지로, 분기덕트(E_1.1, E_1.2, E_1.3...; E_2.1, E_2.2, E_2.3...; E_3.1, E_3.2, E_3.3...)는 각각의 모듈(M₁, M₂...)의 플레이트(T)의 전방벽(T')내로 밀링가공함으로써 용이하게 만들어질 수 있다.

도면에 도시된 실시예에 있어서, 덕트(E_1.1, E_1.2, E_1.3)들은 튜브 매니폴드의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3)의 중심축(X_1.1, X_1.2, X_1.3)에 수직하게 배치된다. 이 경우 유동(L₁ 및 L₂)은 서로 직각으로 이루어진다.

도4A는 도3의 화살표(K₂) 방향에서 본 모듈(M₁)을 제시한다.

도4B는 도4A의 선Ⅱ-Ⅱ 를 따라 취해진 단면도이다.

도4C는 도4A의 선Ⅲ-Ⅲ 을 따라 취해진 단면도이다.

도4B및 도4C의 도면은 드로틀 플레이트(20)를 제시하지 않지만, 구조와 관련하여 상기 플레이트의 조립이 도4D에 도시되어 있다.

도4D는 튜브 매니폴드(11)의 전방부, 즉 플레이트(T)와 관련하여 드로틀 플레이트(20)를 제시한다. 드로틀 플레이트(20)의 출구 측부에서, 튜브 매니폴드(11)의 마지막 부분의 분리 파이프들은 도2에 지시된 바와 같이 배치된다.

도5는, 덕트(D₁)를 벗어나는 유동(L₁)의 유동방향이 입구헤더(J₁)으로부터의 유동(L₂)에 대하여 반대편으로 경사지게 향할 수 있도록 구조내로 상기 실시예의 분기덕트(E_1.1, E_1.2, E_1.3)들이 밀링가공되는 점만 제외하고, 다른점에서는 도4C의 단면도와 유사한 본 발명의 제1 실시예를 제시한다. 이 경우, 희석 유동(L₁)과 지료유동(L₂)의 혼합이 효율적으로 이루어질 수 있다.

도5의 실시예는 도4C의 단면도와 대체로 유사하다.

도6A는 덕트(D₁, D₂...)의 덕트부(D_1a, D_2a...)들이, 드로틀 플레이트(20)에 나란히 배치되는 구조 플레이트(50)내로 형성되는 본 발명의 한가지 실시예를 제시하는데, 분리 플레이트(60)를 분리함으로써 덕트 시스템(D_1a, D_2a...)의 청소가 행해질 수 있도록 플레이트(50)의 전방면(T")으로부터 개방되도록 협소 덕트부(D_1a, D_2a...)가 끼워지며, 상기 분리 플레이트(60)는 입구헤더(J₁)로부터의 유동(L₂)을 위한 유동 덕트(11a_1.1, 11a_1.2...; 11a_2.1, 11a_2.2...; G_1.1, G_1.2...; G_2.1, G_2.2...) 시스템의 초기 부분을 포함한다. 따라서, 플레이트(60)가 분리되면, 협소 덕트(D_1a, D_2a...) 및 연결된 분기 덕트(E_1.1, E_1.2...)들이 청소를 위해 개방되며, 협소 덕트(D_1a, D_2a...)와 연결된 연장부(D_1b, D_2b...)는 덕트시스템의 세척과 간섭하지 않지만, 상기 세척은 플레이트(60)를 분리함으로써 실시될 수 있다.

도6B는 도6A의 선Ⅳ-Ⅳ 를 따라 취해진 단면도이다.

도7A는 본 발명에 따른 플레이트형 모듈(M₁, M₂)을 도시한다. 도7A의 도면은 대체로 도3의 화살표(K₂) 방향에서 취해진다. 도7A의 실시예는, 인접 모듈 구조 구성요소, 즉 모듈(M₁, M₂)의 하나의 측벽이 덕트(D₁, D₂...)에 의해 형성된다는 점에서 대체로 도3의 실시예와 상이하다. 도시된 것은, 덕트(D₁, D₂...)의 원뿔형 부분(D_1a, D_2a...)의 하나의 벽(S₄)이 상기 모듈(M₁)에 인접한 모듈(M₂)의 하나의 측벽(F₁)에 의해 형성되는 실시예이다. 제지기/판지초지기의 헤드박스의 나비 방향으로 상기 모듈(M₁, M₂, M₃...)을 상호 연결함으로써 튜브 매니폴드(11)의 초기부분이 플레이트형 모듈(M₁, M₂, M₃...)로부터 형성된다.

도7B는 도7A의 선Ⅴ-Ⅴ를 따라 취해진 단면도이다.

도8A는, 상기의 해결수단과 유사한 방식으로 그 파이프(G_1.1, G_1.2, G_1.3...; G_2.1, G_2.2, G_2.3...)의 전방단부에서의 난류발생기(G)의 중간 챔버(12) 다음에 희석유동과 지료 유동의 혼합이 이루어지는 본 발명의 한가지 실시예를 제시한다.

도8B는 난류발생기(G)의 전방단부 영역의 상부에서 본 도8A의 구조를 제시한다.

도9는 단일의 플레이트형 구조 구성요소(T)로 이루어진 튜브 매니폴드(11)와 관련하여 희석액에 대한 협소 덕트(D₁, D₂...)를 포함하는 본 발명의 한가지 실시예의 부분도이다. 튜브 매니폴드(11)의 파이프들이, 통상적 기계가공, 바람직하게는 드릴링 가공에 의해 금속 플레이트 구조내로 제작될 수 있다. 전술된 실시예의 경우와 마찬가지로, 밀링가공 또는 다른 기계가공법에 의해, 희석액을 공급하는 덕트(D₁, D₂...)들이 플레이트구조(T)의 전방면내로 제작된다. 플레이트(T)는 헤드박스의 전체 나비에 걸쳐 연장한다. 그 구조는 또한 중간 챔버 다음의 난류 발생기와 관련하여 사용될 수 있는데, 다시 말하면, 출구 헤더(J₁)뒤에서 난류를 발생시키는 단지 하나의 파이프 시스템 및 그 다음에 슬라이스 코운을 포함하는 헤드박스 구조에 사용될 수 있다.

Claims (15)

1. 희석 유동덕트(D₁, D₂)를 포함하며, 종이/판지 웨브의 기본 중량을 소기의 레벨로 조절하도록 제지기/판지초지기의 헤드박스 나비 전반에 걸쳐 소기의 위치로 상기 희석유동덕트(D₁, D₂)를 통하여 희석 유동(L₁)이 통과되는 제지기/판지초지기의 입구헤더(J₁)를 통과하는 지료유동(L₂)과 희석유동(L₁)을 결합하는 장치에 있어서, 상기 희석유동덕트(D₁, D₂...)는 그 마지막 단부에서 그 단부를 향해 더 협소하게 되도록 형성되며, 상기 협소해지는 영역에 분기 덕트 (E_1.1, E_1.2...; E_2.1, E_2.2...)가 배치되며, 상기 분기덕트로부터의 희석유동이 파이프(11,G)의 시스템 내로 통과되며, 상기 파이프 시스템에서 희석 유동은 입구 헤더(J₁)를 통과하는 지료 유동(L₂)과 결합되는 것을 특징으로 하는 제지기/판지초지기의 입구헤더를 통과하는 지료유동과 희석유동을 결합하는 장치.
2. 제 1항에 있어서, 상기 희석 유동덕트(D₁, D₂...)는 그 마지막 단부에서 그 단부(D_1a, D_2a...)를 향해 원뿔형으로 더 협소하게 되도록 형성되며, 상기 희석유동은 상기 협소 덕트로부터 분기 덕트(E_1.1, E_1.2...; E_2.1, E_2.2...)를 통하여, 유동에서의 난류를 발생시키는 파이프(11,G) 시스템의 수직열에 포개져서 배치되는 파이프(11a_1.1, 11a_1.2...; 11a_2.1, 11a_2.2...; G_1.1, G_1.2...; G_2.1, G_2.2...)내로 통과되는 것을 특징으로 하는 장치.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석 유동은 유동의 난류를 발생시키는 파이프(11,G) 시스템의 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3...; 11a_2.1, 11a_2.2, 11a_2.3...; G_1.1, G_1.2...; G_2.1, G_2.2...)내로 통과되어, 각각의 파이프 열의 모든 파이프(11a_1.1, 11a_1.2, 11a_1.3...; 11a_2.1, 11a_2.2, 11a_2.3...; G_1.1, G_1.2...; G_2.1, G_2.2...)내로 유동의 난류를 발생시키는 파이프(11,G) 시스템의 각각의 파이프열 내로 희석유동이 통과되며, 희석유동(L₁)은 유동의 난류를 발생시키는 파이프(11,G) 시스템의 파이프 세트의 모든 수직열들내로 통과되며, 유동의 난류를 발생시키는 파이프(11,G) 시스템은 횡단면유동 면적을 변화시는 적어도 한 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석 유동 덕트(D_1, D₂)의 단부(D_1a, D_2a...)는 그것의 벽(S₁)들중 하나가 수직평면에 관하여 경사지도록 형성되며, 상기 벽(S₁)에 인접한 벽(S₂)으로부터 난류를 발생시키는 파이프(11.G) 시스템의 파이프내로 분기 덕트(E_1.1, E_1.2...; E_2.1, E_2.2...)들이 개방되는 것을 특징으로 하는 장치.
5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 유동의 난류를 발생시키는 파이프(11_,G) 시스템의 초기 단부의 파이프들이 기계가공에 의해 플레이트(T)내로 형성되며, 희석덕트(D₁, D₂...)의 마지막 단부(D_1a, D_2a...)가 상기 플레이트(T)의 전방면(T')내로 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석 유동덕트(D₁, D₂...)의 마지막 단부(D_1a, D_2a...)가 기계가공에 의해 플레이트(T)의 전방면(T')내로 형성되며, 분기 덕트(E_1.1, E_1.2...; E_2.1, E_2.2...)가 기계가공에 의해 상기 전방면(T')내로 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석 유동의 도입지점 다음에 드로틀 플레이트(20)가 제공되며, 헤더(J₁)로부터 벗어나 통과되는 지료유동의 유동방향(L₂)에서 볼 때 상기 드로틀 플레이트에서 드로틀 구멍의 원뿔형 부분(21a_1.1, 21a_1.2...; 21a_2.1, 21a_2.2)이 희석 유동을 위한 분기 덕트(E_1.1, E_1.2...; E_2.1, E_2.2...)의 출구에지에서 바로 시작되는 것을 특징으로 하는 장치.
8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 드로틀 플레이트(20)는, 우선 원뿔형 부분(21a_1.1, 21a_1.2)이 제공되고 그후 직선 유동 덕트부(21a_1.1, 22a_1.2...)가 제공되는 구멍, 개구부 또는 그 등가물을 포함하고, 그 구조에 있어서 나란히 배치되어 파이프 세트를 형성하는 모듈(M₁, M₂...)의 전방면 상에, 또는 파이프 세트를 형성하는 플레이트(T)의 전방면(T')상에 드로틀 플레이트가 끼워지는 것을 특징으로 하는 장치.
9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석 덕트(D₁, D₂...)는 난류를 발생시키는 파이프(11,G) 시스템과 관련하여 배치된 협소 덕트부(D_1a, D_2a...)와 연결된 탄성 호스형 덕트부(D_1b, D_2b...)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
10. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 난류 발생기의 파이프가 모듈(M₁, M₂...) 구조 구성요소내로 형성되고, 상기 모듈 구조 구성요소는 제지기의 헤드박스의 나비방향으로 상호 연결되어, 모듈에서 협소 덕트(D_1a, D_2a...)의 하나의 벽(S₂)이 상기 모듈에 인접한 측벽에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
11. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석액은 헤더(J₁) 다음에 배치된 튜브 매니폴드(11)내로 통과되는 것을 특징으로 하는 장치.
12. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석액(L₁)은 중간 챔버(12) 다음에 배치된 난류 발생기(G)내로 통과되는 것을 특징으로 하는 장치.
13. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 분기 덕트(E_1.1, E_1.2...; E_2.1, E_2.2...)는 파이프 시스템의 중심축에 관하여 경사지도록 제작되어, 희석유동(L₁)이 입구 헤더(J₁)를 벗어나 통과되는 지료 유동(L₂)에 대하여 충돌하며, 상기 분기 덕트(E_1.1, E_1.2...; E_2.1, E_2.2...)는 지료 유동 파이프(L₂)의 중심축(X_1.1, X_1.2...)에 관하여 기울어진 각도로 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.
14. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희석 유동 덕트(D₁, D₂...)의 협소부(D_1a, D_2a...)는, 덕트(D₁, D₂...)의 벽(S₁, S₂, S₃, S₄)들중 하나가 수직 평면에 관하여 경사지게 제작되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
15. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 협소 덕트(D_1a, D_2a...)는, 플레이트(60)가 상기 협소 덕트(D_1a, D_2a...)의 하나의 벽을 형성하도록 형성되며, 상기 덕트는 분리 플레이트 부분(50)내로 형성되는 것이 바람직하며, 상기 분리 플레이트 부분은 유동 방향(L₂)에서 보면 드로틀 구멍(21a_1.1, 21a_1.2...)을 포함하는 플레이트(20)의 입구 측부에 배치되며, 상기 협소 덕트(D_1a, D_2a...)는 벽(S₃)을 포함하며, 상기 벽은 분리된 개방가능한 또는 제거가능한 플레이트(60)로 이루어지며, 따라서 상기 플레이트(60)가 제거되면, 상기 덕트의 세척을 위한 덕트 (D_1a, D_2a, D_3a...; E_1.1, E_1.2 ; E_2.1, E_2.2)시스템에 대한 접근이 허여되며, 유동방향(L₂)에서 보면 드로틀 플레이트(20)의 전방측부와 상기 드로틀 플레이트(도6A 및 도6B 참조)와 관련하여 배치된 플레이트(50)의 전방측부에 상기 플레이트(60)가 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.