KR100481074B1 - Semiconductor Wafer Inspection System - Google Patents

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Abstract

본 발명은 렌즈부로의 열전달을 방지하고, 위치조절이 자유로운 조명장치와, 전자식으로 조절되는 웨이퍼 육안검사기를 설치하여 웨이퍼의 정밀검사를 가능하게 하여 검사의 자동화를 이룰 수 있게 하는 반도체 웨이퍼 검사 시스템에 관한 것이다.The present invention provides a semiconductor wafer inspection system that prevents heat transfer to the lens unit, installs an illumination device that can be freely adjusted, and an electronically controlled wafer visual inspection machine to enable precise inspection of wafers, thereby enabling automated inspection. It is about.

본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 검사 시스템은, 위치이동이 자유롭고 웨이퍼에 특정파장의 빛을 조사하도록 하는 조명장치와, 카셋트에 적재된 웨이퍼를 개별이송하여 상기 조명장치에서 조사되는 빛의 조사각도를 조절하도록 웨이퍼의 경사를 조절하고, 회전시키는 웨이퍼 육안검사기 및 상기 웨이퍼 육안검사기로부터 웨이퍼를 인계받아 정밀검사하는 현미경을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The semiconductor wafer inspection system according to the present invention includes an illumination device for freely moving the position and irradiating light of a specific wavelength to the wafer, and individually controlling the irradiation angle of the light irradiated from the illumination device by transferring the wafer loaded in the cassette. And a microscope for taking over the wafer from the wafer visual inspector for adjusting and tilting the wafer and rotating the wafer.

따라서 웨이퍼 반사각도의 조절을 전자장치로 정밀하게 조절하여 미숙련자도 쉽고, 정확하게 웨이퍼 오염을 발견할 수 있으며, 조명장치의 위치조절 및 광량의 조절이 자유롭고, 발열부의 영향이 없어 미세알갱이에 의한 웨이퍼불량을 방지하며, 웨이퍼의 이송을 자동화하여 취급부주의로 인한 웨이퍼 손실을 방지하게 하는 효과를 갖는다.Therefore, precise adjustment of wafer reflection angle can be precisely controlled by electronic device, so even unskilled people can easily detect wafer contamination, freely adjust the position of lighting device and control light quantity, and there is no influence of heat generation part. And it has the effect of automating the transfer of the wafer to prevent wafer loss due to careless handling.

Description

반도체 웨이퍼 검사 시스템Semiconductor Wafer Inspection System

본 발명은 반도체 웨이퍼 검사 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 렌즈부로의 열전달을 방지하고, 위치조절이 자유로운 조명장치와, 전자식으로 조절되는 웨이퍼 육안검사기를 설치하여 웨이퍼의 정밀검사를 가능하게 하여 검사의 자동화를 이룰 수 있게 하는 반도체 웨이퍼 검사 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor wafer inspection system, and more particularly, to prevent heat transfer to the lens unit, and to provide a precise inspection of the wafer by installing an illumination device that can be freely adjusted and an electronically controlled wafer visual inspection machine. A semiconductor wafer inspection system enables automation of a system.

일반적으로, 반도체공정은 높은 정확도가 요구된다. 한번의 실수로 웨이퍼는 완전히 못쓰게 되는 경우가 많기 때문에 문제가 생기자 마자 스펙을 벗어나는 웨이퍼나 낮은 수율의 웨이퍼는 즉시 골라내야 한다. 그러므로 웨이퍼가 공정 스텝을 지날 때 여러 가지의 테스트와 평가를 받아야 한다.In general, semiconductor processes require high accuracy. Wafers are often completely out of service in a single mistake, so as soon as a problem arises, wafers that are out of spec or low yield should be picked out immediately. Therefore, as the wafer passes through the process step, it must undergo various tests and evaluations.

일반적으로 상기 테스트 중에서 웨이퍼의 오염검지는 웨이퍼의 높은 수율과 오염조절에 필수적이다. 이러한 오염은 육안이나 현미경을 통해 볼 수 있다.In general, the contamination detection of the wafer during the test is essential for high yield and contamination control of the wafer. Such contamination can be seen with the naked eye or through a microscope.

제조라인에서 가장 일반적으로 쓰이는 간단한 검사방법으로는 웨이퍼를 육안으로 검사하는 웨이퍼 육안검사방법이다.The most commonly used simple inspection method in the manufacturing line is the visual inspection method of the wafer to visually inspect the wafer.

상기 웨이퍼 육안검사는 먼지입자가 평행 백색광에서 특정한 각도일 때 특히 빛나는 성질을 이용하거나, 빛의 짧은 파장과, 단색특성을 이용하여 아주 작은 조각의 오염을 확인할 수 있다.The visual inspection of the wafer can check the contamination of very small fragments by using a particularly shiny property when the dust particles are at a certain angle in parallel white light, or by using a short wavelength of light and a single color characteristic.

상기 육안검사로 확인할 수 없는 웨이퍼의 오염은 금속현미경이나 전자현미경을 통하여 더욱 정확하게 확인하여 더 많은 정보를 얻을 수 있다.The contamination of the wafer, which cannot be confirmed by the visual inspection, can be confirmed more accurately through a metal microscope or an electron microscope, thereby obtaining more information.

이러한 종래의 반도체 웨이퍼 검사 시스템은, 작업자가 카셋트에 적재된 웨이퍼를 수동식 진공 튀져(Vacuum Tweezer)로 진공흡착한 후 꺼내 클린룸의 천장에 설치된 형광등 불빛이나 일반적인 스탠드 조명에 비추어 육안으로 확인했었다.Such a conventional semiconductor wafer inspection system has been visually checked by a worker in the light of a fluorescent lamp installed on the ceiling of a clean room or a general stand lighting, after a wafer is vacuum-adsorbed by a manual vacuum tweezer.

그러나, 웨이퍼 반사각도의 조절을 작업자가 수동으로 직접조절하므로, 작업자의 숙련도에 따라 웨이퍼 오염검사의 결과가 크게 차이가 나고, 형광등 불빛이나 스탠드 조명의 낮은 조도로 인하여 미세한 오염정도를 발견하기 어려우며, 특히 스탠드 조명의 경우 램프에서 발생하는 열대류 때문에 미세한 먼지알갱이가 램프주위로 모여들어 웨이퍼를 오염시키는 등의 문제점이 있었다.However, since the operator manually adjusts the wafer reflection angle, the results of the wafer contamination test vary greatly according to the skill of the operator, and it is difficult to detect the minute contamination level due to the low illumination of the fluorescent light or the stand light. Particularly, in the case of the stand lighting, due to the tropical current generated from the lamp, fine particles of dust gather around the lamp to contaminate the wafer.

또한, 작업자가 웨이퍼를 취급할 때 과실로 웨이퍼를 떨어뜨려 깨뜨리거나 웨이퍼가 카셋트에 부딪쳐서 흡집이 발생하는 등의 불량이 발생하는 문제점이 있었다.In addition, when the worker handles the wafer, there is a problem in that defects such as dropping the wafer by mistake or breaking the wafer or hitting the cassette cause the collection.

본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 웨이퍼 반사각도의 조절을 전자장치로 정밀하게 조절하여 미숙련자도 쉽고, 정확하게 웨이퍼 오염을 발견할 수 있으며, 조명장치의 위치조절 및 광량의 조절이 자유롭고, 발열부의 영향이 없어 미세알갱이에 의한 웨이퍼불량을 방지하는 반도체 웨이퍼 검사 시스템을 제공함에 있다.The present invention is to solve the conventional problems as described above, its purpose is to precisely adjust the wafer reflection angle by the electronic device, even the unskilled person can easily and accurately find the wafer contamination, the position control of the lighting device and The present invention provides a semiconductor wafer inspection system that can freely control the amount of light and does not have an influence of a heat generating unit, thereby preventing wafer defects caused by fine grains.

본 발명의 다른 목적은 웨이퍼의 이송을 자동화하여 취급부주의로 인한 웨이퍼 손실을 방지하게 하는 반도체 웨이퍼 검사 시스템을 제공함에 있다.It is another object of the present invention to provide a semiconductor wafer inspection system that automates wafer transfer to prevent wafer loss due to mishandling.

상기의 목적은 위치이동이 자유롭고 웨이퍼에 특정파장의 빛을 조사하도록 하는 조명장치와, 카셋트에 적재된 웨이퍼를 개별이송하여 상기 조명장치에서 조사되는 빛의 조사각도를 조절하도록 웨이퍼의 경사를 조절하고, 회전시키는 웨이퍼 육안검사기 및 상기 웨이퍼 육안검사기로부터 웨이퍼를 인계받아 정밀검사하는 현미경을 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 검사 시스템에 의해 달성될 수 있다.The purpose of the above is to adjust the inclination of the wafer to adjust the irradiation angle of the light irradiated from the illumination device by individually transporting the wafer loaded in the cassette, and the illumination device to irradiate light of a specific wavelength to the wafer freely move the position It can be achieved by a semiconductor wafer inspection system, characterized in that it comprises a rotating wafer visual inspection and a microscope for taking over the wafer from the wafer visual inspection.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 검사 시스템을 나타낸 개략도이고, 도2는 도1의 웨이퍼 육안검사기를 나타낸 사시도이다.1 is a schematic view showing a semiconductor wafer inspection system according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 2 is a perspective view showing the wafer visual inspection machine of FIG.

도3은 도1의 조명장치를 나타낸 측단면도이다.3 is a side sectional view showing the lighting apparatus of FIG.

먼저, 도1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 반도체 웨이퍼 검사 시스템은 위치이동이 자유롭고 웨이퍼에 특정파장의 빛을 조사하도록 하는 조명장치(10)와, 카셋트(31)에 적재된 웨이퍼를 개별이송하여 상기 조명장치(10)에서 조사되는 빛의 조사각도를 조절하도록 웨이퍼의 경사를 조절하고, 회전시키는 웨이퍼 육안검사기(30) 및 상기 웨이퍼 육안검사기(30)로부터 웨이퍼를 인계받아 정밀검사하는 현미경(40)을 포함하여 이루어진다.First, referring to Figure 1, the semiconductor wafer inspection system of the present invention is free to move the position of the illumination device 10 to irradiate the light of a specific wavelength to the wafer and the wafer loaded on the cassette 31 separately transported By adjusting the inclination of the wafer to adjust the irradiation angle of the light irradiated from the illumination device 10, the microscope to take over the wafer from the wafer visual inspector 30 and the wafer visual inspector 30 for precision inspection ( 40).

또한, 도3에서와 같이, 상기 조명장치(10)는 본체(18)와, 상기 본체(18)의 내부에 설치되고, 전원공급부(21)로부터 전원을 공급받아 빛을 발생하는 램프(23)와, 상기 램프(22)에서 발생된 빛을 단일파장으로 변환하는 색필터(11)와, 상기 램프(22)에서 발생된 빛의 열선을 차단하는 단열필터(24)와, 상기 색필터(23)와 상기 단열필터(24)를 통과한 빛을 광섬유를 이용하여 이송하며 굽힘이 자유로운 플렉시블관 타입의 광케이블(13)과, 상기 광케이블(13)로부터 이송된 빛의 초점을 조절하는 렌즈부(12) 및 상기 램프(22)의 광량을 조절하고, 상기 전원을 단속하는 콘트롤부(16)를 포함하여 이루어진다.In addition, as shown in FIG. 3, the lighting device 10 is installed inside the main body 18 and the main body 18, and receives a power from the power supply 21 to generate a lamp 23. And a color filter 11 for converting the light generated by the lamp 22 into a single wavelength, an adiabatic filter 24 for blocking the hot wire of the light generated by the lamp 22, and the color filter 23. ) And a flexible tube type optical cable 13 which transfers the light passing through the insulating filter 24 using an optical fiber and is free to bend, and a lens unit 12 for adjusting the focus of the light transferred from the optical cable 13. And a control unit 16 for adjusting the amount of light of the lamp 22 and controlling the power.

상기 콘트롤부(16)는 광량조절노브(15)와 전원스위치(14)를 포함한다.The control unit 16 includes a light amount adjusting knob 15 and a power switch 14.

상기 조명장치(10)에는 상기 본체(18) 내부를 공냉시키는 쿨링팬(19)을 설치하는 것이 바람직하다.The lighting device 10 is preferably provided with a cooling fan 19 for cooling the inside of the main body 18.

또한, 상기 렌즈부(12)에 빛을 단일파장으로 변환시키는 색필터(11)와, 조사영역의 넓이를 조절하는 조리개(28)를 설치한다.In addition, the lens unit 12 is provided with a color filter 11 for converting light into a single wavelength, and an aperture 28 for adjusting the width of the irradiation area.

이러한 상기 조명장치(10)는 상기 램프(22)에서 발생하는 빛을 상기 광케이블(13)의 광섬유에 이송되도록 변환하여 전달하는 광필터(25)를 상기 광케이블(13)과 상기 램프(22)의 사이에 설치한다.The lighting device 10 converts and transmits the light generated by the lamp 22 to be transferred to the optical fiber of the optical cable 13 and transmits the optical filter 25 of the optical cable 13 and the lamp 22. Install in between.

또한, 상기 본체(18)가 특정 장비나 설비에 착탈가능하게 고정되도록 상기 본체(18)의 하부에 설치되는 고정부재(26)를 설치하고, 상기 본체(18)를 손으로 이동하기 용이하도록 상기 본체(18)에 설치되는 손잡이(17)를 설치한다.In addition, the fixing member 26 is installed in the lower portion of the main body 18 so that the main body 18 is detachably fixed to a specific equipment or equipment, and the main body 18 is easy to move by hand The handle 17 installed in the main body 18 is installed.

도2를 참조하여 설명하면, 상기 웨이퍼 육안검사기(30)는, 본체(32)와, 상기 본체(32)의 상면에 설치되어 웨이퍼를 적재한 카셋트(31)를 승하강시키는 카셋트 승강기(38)와, 상기 본체(32)의 상면에 설치되어 상기 카셋트(31)에 적재된 웨이퍼를 개별 이송하는 1차 이송장치(37)와, 상기 1차 이송장치(37)로부터 웨이퍼를 인계받아 진공흡착하고, 웨이퍼를 회전시키며, 웨이퍼의 경사각을 변화시키는 각도조절 스피너(35)와, 상기 각도조절 스피너(35)에서 육안검사를 마친 웨이퍼를 상기 현미경(40)으로 이송하는 2차 이송장치(33) 및 상기 카셋트 승강기(38), 상기 1차 이송장치(37), 상기 각도조절스피너 및 상기 2차 이송장치(33)의 동작을 제어하는 상기 제어부(34)를 포함하여 이루어진다.Referring to FIG. 2, the wafer visual inspection device 30 includes a main body 32 and a cassette lift 38 for elevating and lowering a cassette 31 mounted on an upper surface of the main body 32 to load a wafer. And a primary transfer device (37) installed on the upper surface of the main body (32) for individually transferring wafers loaded in the cassette (31), and taking over a wafer from the primary transfer device (37) for vacuum suction. And a second feeder 33 for rotating the wafer to change the inclination angle of the wafer, and a second feeder 33 for conveying the wafer, which has been visually inspected by the angle adjusting spinner 35, to the microscope 40. It comprises a control unit 34 for controlling the operation of the cassette lift 38, the primary feed device 37, the angle adjustment spinner and the secondary feed device (33).

따라서, 본 발명의 반도체 웨이퍼 검사 시스템은, 외부에서 전원단자(20)를 통해 전원을 공급받은 상기 조명장치(10)의 전원공급부(21)가 상기 콘트롤부(16)의 제어를 받아 상기 램프(22)에 전원을 공급하게 되면 램프(22)에서 발생한 빛이 색필터(23)를 통과하며 단일파장으로 변환되고, 다시 단일파장의 빛을 단열필터(24)에 통과시켜서 빛의 열에너지를 흡수시키게 되며, 상기 단열필터(24)를 통과한 빛은 광필터(25)에 의해 광섬유로 전달된다.Therefore, in the semiconductor wafer inspection system of the present invention, the power supply unit 21 of the lighting device 10 which is supplied with power through the power supply terminal 20 from the outside is controlled by the control unit 16 and the lamp ( When power is supplied to 22, the light generated from the lamp 22 passes through the color filter 23 and is converted into a single wavelength, and the single wavelength of light passes through the insulating filter 24 to absorb the thermal energy of the light. The light passing through the insulating filter 24 is transmitted to the optical fiber by the optical filter 25.

상기 광섬유에 의해 전송된 빛은 곡률변경이 자유로운 플렉시블관을 통해 렌즈부(12)에 도착되고, 렌즈에 의해 조사영역의 광도를 선명하게 유지하도록 초점이 맞추어져서 빛이 웨이퍼상에 조사된다.The light transmitted by the optical fiber arrives at the lens unit 12 through a flexible tube free of curvature change, and is focused by the lens to keep the brightness of the irradiation area clear, so that the light is irradiated onto the wafer.

이때 상기 렌즈부(12)에 조사영역의 범위를 조절하는 조리개(28)를 설치하고, 상기 광섬유를 통과한 빛의 산란효과를 감소하도록 색필터(11)를 설치하여 단일광이 형성되도록 한다.In this case, the lens unit 12 is provided with an aperture 28 for adjusting the range of the irradiation area, and the color filter 11 is installed to reduce the scattering effect of the light passing through the optical fiber to form a single light.

또한, 상기 조명장치(10)는 상기 손잡이(17)가 설치되어 운반이 편리하고, 상기 현미경(40) 상에 설치된 고정부위에 안착되어 착탈이 가능하도록 고정부재(26)가 설치된다.In addition, the lighting device 10 is the handle 17 is installed is convenient to transport, the fixing member 26 is installed so as to be attached to and detached from the fixed portion installed on the microscope (40).

상기 고정부재(26)의 형태는 자체하중을 이용하여 미끄럼이 없는 고무재질의 받침대도 가능하고, 다양한 착탈식 끼워맞춤부재도 가능하다.The fixing member 26 may have a non-slip rubber base using its own load, and various removable fitting members may be used.

이러한 상기 조명장치(10)의 제어는 전원스위치(14)와, 광량조절노브(15)가 설치되어 상기 램프(22)의 전원을 단속하고, 상기 램프(22)의 빛의 밝기를 조절하는 콘트롤부(16)가 담당한다.The control of the lighting device 10 is a power switch 14, the light amount control knob 15 is installed to control the power of the lamp 22, the control to adjust the brightness of the light of the lamp 22 Part 16 is in charge.

한편, 카셋트(31)에 적재된 웨이퍼를 개별이송하여 상기 조명장치(10)에서 조사되는 빛의 조사각도를 조절하도록 웨이퍼의 경사를 조절하고, 회전시키는 웨이퍼 육안검사기(30)는, 상기 카셋트 승강기(38)에 의해서 승하강하는 케셋트내의 웨이퍼를 1차 이송장치(37)가 안내홈(36)을 따라 전진하여 웨이퍼를 안착한 후 후진과 동시에 회전하여 상기 각도조절 스피너(35)에 인계하면 상기 각도조절 스피너(35)가 웨이퍼를 진공흡착하고, 제어부(34)의 제어를 받아 경사각을 조절하며 회전한다.On the other hand, the wafer visual inspection device 30 to rotate and adjust the inclination of the wafer so as to individually transport the wafers loaded in the cassette 31 to adjust the irradiation angle of the light irradiated from the illumination device 10, the cassette lift When the wafer in the cassette which is lifted and lowered by 38 is moved forward along the guide groove 36 by the primary transfer device 37 to seat the wafer, the wafer is rotated at the same time as the reverse direction and turned over to the angle adjusting spinner 35. The angle adjusting spinner 35 vacuum-absorbs the wafer, and rotates while adjusting the inclination angle under the control of the controller 34.

그러므로, 작업자는 상기 조명장치(10)의 단일파장을 특정각도에서 반사하는 웨이퍼상의 이물질을 용이하게 식별할 수 있게 된다.Therefore, the operator can easily identify the foreign matter on the wafer that reflects the single wavelength of the illumination device 10 at a specific angle.

이때 웨이퍼상의 불량요소가 육안으로 식별되어 불량원인을 확인하는 재검사가 필요하거나 보다 정밀한 검사를 위해서 상기 현비경 검사가 필요한 경우에는 상기 2차 이송장치(33)로 상기 각도조절 스피너(35)에 흡착되어 있는 웨이퍼를 상기 현미경(40)으로 이송한다.At this time, if the defective element on the wafer is visually identified and needs a re-inspection to identify the cause of the defect, or if the endoscopic examination is necessary for a more precise inspection, it is adsorbed to the angle adjusting spinner 35 by the secondary transfer device 33. The used wafer is transferred to the microscope 40.

현미경(40) 검사가 불필요한 경우에는 상기 1차 이송장치(37)를 통해 상기 카셋트(31)에 적재된다.When inspection of the microscope 40 is unnecessary, it is loaded into the cassette 31 through the primary transfer device 37.

이송되어 상기 현미경(40)의 스테이지(43)에 안착된 웨이퍼를 접안렌즈(41)와 대물렌즈(42)의 거리를 조절하여 초점을 맞추고, 상기 접안렌즈(41)를 통해 상기 웨이퍼를 검사하게 된다.Focusing the wafer transferred and seated on the stage 43 of the microscope 40 by adjusting the distance between the eyepiece 41 and the objective lens 42, and inspecting the wafer through the eyepiece 41. do.

상기 검사를 마친 웨이퍼는 상기 2차 이송장치(33)와 상기 1차 이송장치(37)를 통해 상기 카셋트(31)에 수납된다.The inspected wafer is stored in the cassette 31 through the secondary transfer device 33 and the primary transfer device 37.

따라서, 웨이퍼 반사각도의 조절을 자동화하여 미숙련자도 쉽고, 정확하게 웨이퍼 오염을 발견할 수 있으며, 조명장치(10)의 위치조절 및 광량의 조절이 자유롭고, 발열부 영향이 없어 미세알갱이에 의한 웨이퍼불량을 방지하게 된다.Therefore, by automatically adjusting the wafer reflection angle, even an unskilled person can easily and accurately detect wafer contamination, freely adjust the position of the lighting device 10 and adjust the amount of light, and there is no influence of the heating part, thereby eliminating wafer defects caused by fine grains. Will be prevented.

이상에서와 같이 본 발명에 따른 반도체 웨이퍼 검사 시스템에 의하면, 웨이퍼 반사각도의 조절을 전자장치로 정밀하게 조절하여 미숙련자도 쉽고, 정확하게 웨이퍼 오염을 발견할 수 있으며, 조명장치의 위치조절 및 광량의 조절이 자유롭고, 발열부의 영향이 없어 미세알갱이에 의한 웨이퍼불량을 방지하며, 웨이퍼의 이송을 자동화하여 취급부주의로 인한 웨이퍼 손실을 방지하게 하는 효과를 갖는 것이다.As described above, according to the semiconductor wafer inspection system according to the present invention, an unskilled person can easily and accurately detect wafer contamination by precisely adjusting the wafer reflection angle with an electronic device, and can adjust the position of the lighting device and the amount of light. It is free and does not have an effect of the heating part, thereby preventing wafer defects caused by fine grains, and automating the transfer of wafers to prevent wafer loss due to careless handling.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.

도1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 검사 시스템을 나타낸 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a semiconductor wafer inspection system according to a preferred embodiment of the present invention.

도2는 도1의 웨이퍼 육안검사기를 나타낸 사시도이다.2 is a perspective view showing the wafer visual inspection machine of FIG.

도3은 도1의 조명장치를 나타낸 측단면도이다.3 is a side sectional view showing the lighting apparatus of FIG.

※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of codes for main parts of drawing

10: 조명장치 11: 색필터10: lighting device 11: color filter

12: 렌즈부 13: 광케이블12: lens unit 13: optical cable

14: 전원스위치 15: 광량조절노브14: power switch 15: light control knob

16: 콘트롤부 17: 손잡이16: control unit 17: knob

18: 본체 19: 쿨링팬18: main body 19: cooling fan

20: 전원단자 21: 전원공급부20: power supply terminal 21: power supply

22: 램프 23: 색필터22: lamp 23: color filter

24: 단열필터 25: 광필터24: Insulation filter 25: Optical filter

26: 고정부재 28: 조리개26: fixing member 28: aperture

30: 웨이퍼 육안검사기 31: 카셋트30: wafer visual inspection 31: cassette

32: 본체 33: 2차 이송장치32: main body 33: secondary feeder

34: 제어부 35: 각도조절 스피너34: control part 35: angle adjustment spinner

36: 안내홈 37: 1차 이송장치36: guide groove 37: primary feeder

38: 카셋트 승강기 40: 현미경38: cassette lift 40: microscope

41: 접안렌즈 42: 대물렌즈41: eyepiece 42: objective lens

43: 스테이지43: stage

Claims (7)

위치이동이 자유롭고 웨이퍼에 특정파장의 빛을 조사하도록 하는 조명장치;An illumination device which is free to move and irradiates light of a specific wavelength to the wafer; 카셋트에 적재된 웨이퍼를 개별 이송하여 상기 조명 장치에서 조사되는 빛의 각도를 조절하도록 웨이퍼이 경사를 조절하고, 회전시키는 웨이퍼 육안검사기; 및A wafer visual inspection machine for individually transferring a wafer loaded in a cassette to adjust the inclination and rotation of the wafer to adjust an angle of light irradiated from the illumination device; And 상기 웨이퍼 육안 검사기로부터 웨이퍼를 인계받아 정밀 검사하는 현미경을 포함하고,It includes a microscope to take over the wafer from the wafer visual inspection machine to inspect closely, 상기 조명 장치는 본체와, 상기 본체의 내부에 설치되고, 전원공급부로부터 전원을 공급받아 빛을 발생하는 램프와, 상기 램프에서 발생된 빛을 단일파장으로 변환하는 색필터와, 상기 램프에서 발생된 빛의 열선을 차단하는 단열 필터와, 상기 색필터와 상기 단열 필터를 통과한 빛을 이송하여 굽힘이 자유로운 플렉시블관 타입의 광케이블과, 상기 광케이블로부터 이송된 빛의 초점을 조절하는 렌즈부, 상기 램프의 광량을 조절하고, 상기 전원을 단속하는 콘트롤부, 상기 본체가 특정 장비나 설비에 착탈가능하게 고정되도록 상기 본체의 하부에 설치되는 고정부재, 및 상기 본체를 손으로 이동하기 용이하도록 상기 본체에 설치되는 손잡이를 포함하고,The lighting device includes a main body, a lamp installed inside the main body and receiving power from a power supply unit to generate light, a color filter converting light generated from the lamp into a single wavelength, and a light generated from the lamp. A heat insulation filter for blocking heat rays of light, a flexible tube type optical cable free of bending by transferring light passing through the color filter and the heat insulation filter, a lens unit for adjusting the focus of the light transferred from the optical cable, and the lamp The control unit for controlling the amount of light of the control unit, and intercepting the power supply, a fixing member installed at the lower portion of the main body so that the main body is detachably fixed to a specific equipment or facility, and the main body so as to easily move the main body by hand. Includes a handle installed, 상기 웨이퍼 육안 검사기는 본체와, 상기 본체의 상면에 설치되어 웨이퍼를 적재한 카셋트를 승하강시키는 카셋트 승강기와, 상기 본체의 상면에 설치되어 상기 카셋트에 적제된 웨이퍼를 개별 이송하는 1차 이송장치와, 상기 1차 이송장치로부터 웨이퍼를 인계받아 진공흡착하고, 웨이퍼를 회전시키며, 웨이퍼의 경사각을 변화시키는 각도조절 스피너와, 상기 각도조절 스피너에서 육안검사를 마친 웨이퍼를 상기 현미경으로 이송하는 2차 이송장치, 및 상기 카셋트 승강기, 상기 1차 이송장치, 상기 각도조절스피터 및 상기 2차 이송장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 검사 시스템.The wafer visual inspection device includes a main body, a cassette lift installed on an upper surface of the main body to move up and down a cassette on which the wafer is loaded, and a primary transfer device installed on the upper surface of the main body to individually transport wafers loaded on the cassette. A second conveyance for conveying the wafer from the primary conveying device by vacuum suction, rotating the wafer, changing an inclination angle of the wafer, and conveying the wafer after visual inspection by the angle adjusting spinner to the microscope; Apparatus, and a control unit for controlling the operation of the cassette lift, the primary feeder, the angle adjustment speaker and the secondary feeder. 제1 항에 있어서, 상기 조명장치는 상기 본체 내부를 공냉시키는 쿨링팬을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 검사 시스템.The semiconductor wafer inspection system as claimed in claim 1, wherein the illumination device further comprises a cooling fan for air cooling the inside of the main body. 제1 항에 있어서, 상기 조명 장치는 상기 렌즈부에 조사영역의 넓이를 조절하는 조리개를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 검사 시스템.The semiconductor wafer inspection system according to claim 1, wherein the illumination device further comprises an aperture to adjust the width of the irradiation area in the lens unit. 제1 항에 있어서, 상기 조명 장치는 상기 렌즈부에 빛을 단일파장으로 변환시키는 색필터를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 검사 시스템.The semiconductor wafer inspection system of claim 1, wherein the illumination device further comprises a color filter converting light into a single wavelength in the lens unit. 제1 항에 있어서, 상기 광케이블은 내부에 광섬유를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 검사 시스템.The semiconductor wafer inspection system according to claim 1, wherein the optical cable includes an optical fiber therein. 제1 항에 있어서, 상기 조명 장치는 상기 광케이블과 상기 램프 사이에 설치되어 상기 램프에서 발생하는 빛을 상기 광케이블의 광섬유에 이송되도록 변환하여 전달하는 광필터를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 검사 시스템.The semiconductor device of claim 1, wherein the lighting apparatus further comprises an optical filter installed between the optical cable and the lamp to convert the light generated by the lamp to be transferred to the optical fiber of the optical cable. Wafer Inspection System. 제1 항에 있어서, 상기 콘트롤부는 광량조절노브와 전원스위치를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 검사 시스템.The semiconductor wafer inspection system of claim 1, wherein the control unit comprises a light amount adjusting knob and a power switch.
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