KR100476435B1 - Plasma chamber apparatus for plasma system - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 중합장비용 플라즈마쳄버에 관한 것이다. 본 발명에서는 플라즈마 반응이 진행되는 플라즈마쳄버(50)의 내부를 통과하는 시료(40)의 양단부에 전류가 집중되는 것을 방지하도록 구성하고 있다. 즉 플라즈마쳄버(50)의 내부에 설치되는 전극(52)의 사이를 통과하는 시료(40)의 양단에 해당되는 부분에 스크린(54)을 설치한다. 상기 스크린(54)은 상기 전극(52)과 시료(40)의 사이에 해당되는 부분에 설치되는 것으로 상기 전극(52)에서 방전된 전류가 상기 시료(40)의 양단부에 밀집되는 것을 방지한다. 상기 스크린(54)은 그 단면 형상 'ㄷ'자로 되어 시료(40) 양단부의 상면과 하면을 차폐하게 된다. 따라서 본 발명에서는 시료(40)의 전체에 전류밀도가 균일하게 인가되어 시료(40)의 표면에 균일하게 플라즈마 중합물의 증착이 이루어지게 된다.The present invention relates to a plasma chamber for plasma polymerization equipment. In the present invention, the current is configured to be prevented from concentrating on both ends of the sample 40 passing through the plasma chamber 50 where the plasma reaction proceeds. That is, the screen 54 is provided at portions corresponding to both ends of the sample 40 passing between the electrodes 52 provided in the plasma chamber 50. The screen 54 is installed at a portion between the electrode 52 and the sample 40 to prevent the current discharged from the electrode 52 from being concentrated at both ends of the sample 40. The screen 54 has a cross-sectional shape 'c' to shield the upper and lower surfaces of both ends of the sample 40. Therefore, in the present invention, the current density is uniformly applied to the entirety of the sample 40 so that the plasma polymer can be uniformly deposited on the surface of the sample 40.
Description
본 발명은 플라즈마 중합장비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 플라즈마중합 반응이 일어나는 플라즈마 중합장비용 플라즈마쳄버장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma polymerization equipment, and more particularly, to a plasma chamber apparatus for plasma polymerization equipment in which a plasma polymerization reaction occurs.
도 1에는 일반적인 연속처리 플라즈마 중합장비의 구성이 도시되어 있다. 이에 도시된 바에 따르면, 공급쳄버(1)의 내부에는 롤형상으로 감겨진 시료(3)가 구비되어 아래에서 설명될 플라즈마쳄버(7)로 연속적으로 공급된다.Figure 1 shows the configuration of a typical continuous processing plasma polymerization equipment. According to this, the inside of the supply chamber 1 is provided with a sample (3) wound in a roll shape and continuously supplied to the plasma chamber (7) to be described below.
상기 플라즈마쳄버(7)의 내부에서는 플라즈마 중합에 의해 상기 시료(3)의 표면에 중합물이 증착된다. 이를 위해 상기 플라즈마쳄버(7)의 내부에는 전극(9)이 구비된다.Inside the plasma chamber 7, a polymer is deposited on the surface of the sample 3 by plasma polymerization. To this end, an electrode 9 is provided inside the plasma chamber 7.
한편, 상기 플라즈마쳄버(7)에는 내부에서의 플라즈마 중합반응을 원활하게 하기 위해 유확산펌프(도시되지 않음)와 로터리펌프(도시되지 않음)가 연결된다. 또한 상기 플라즈마쳄버(7)의 내부로는 플라즈마 중합반응에 필요한 반응성가스가 공급된다.On the other hand, the plasma chamber 7 is connected to a diffusion pump (not shown) and a rotary pump (not shown) in order to facilitate the plasma polymerization reaction therein. In addition, a reactive gas necessary for the plasma polymerization reaction is supplied into the plasma chamber 7.
그리고 상기 플라즈마쳄버(7)에서 플라즈마 중합반응을 마친 시료(3)는 권취쳄버(10)로 전달된다. 상기 권취쳄버(10)에서는 상기 시료(3)가 다시 롤 형상으로 감겨지게 된다. 도면 부호 12는 가스출구이다.In addition, the sample 3 that has completed the plasma polymerization reaction in the plasma chamber 7 is transferred to the winding chamber 10. In the winding chamber 10, the sample 3 is again wound in a roll shape. Reference numeral 12 denotes a gas outlet.
이와 같은 구성을 가지는 연속처리 플라즈마 중합 장비에서는 다음과 같이 반응이 이루어진다. 즉 상기 플라즈마쳄버(7) 내부가 진공으로 유지되면서 외부에서 반응성가스가 주입되고, 유기 모노마를 일정량 주입하여 직류(DC) 또는 고주파(RF)로 방전시킬 때 플라즈마 상태에서 시료(3)에 중합물이 증착된다.In the continuous treatment plasma polymerization equipment having such a configuration, the reaction is performed as follows. That is, while the inside of the plasma chamber 7 is maintained in a vacuum, a reactive gas is injected from the outside, and a polymer is injected into the sample 3 in a plasma state when a certain amount of organic monoma is injected to discharge the direct current (DC) or the high frequency (RF). Is deposited.
상기 시료(3)에 증착된 물질의 표면은 유기 모노마의 종류, 직류 전류, 전압, 고주파 전력, 증착시간, 시료(3)의 이동속도, 전극(9) 사이의 거리에 따라 여러가지 다른 화학적 결합이 이루어진다. 즉, 직류 또는 고주파에 의하여 발생된 플라즈마 내에서 반응가스 들의 분자결합이 끊어지게 되고, 끊어진 체인과 활성화된 양이온이나 음이온들이 결합하여 전극(9)사이의 시료(3)의 표면에 중합물을 형성한다. The surface of the material deposited on the sample 3 may have various chemical bonds depending on the type of organic monoma, direct current, voltage, high frequency power, deposition time, moving speed of the sample 3, and distance between the electrodes 9. Is done. That is, the molecular bonds of the reaction gases are broken in the plasma generated by direct current or high frequency, and the broken chains and the activated cations or anions combine to form a polymer on the surface of the sample 3 between the electrodes 9. .
그리고 이와 같은 플라즈마 중합반응에 의해 표면의 강도 변화, 접착, 흡착, 친수성, 소수성 등의 특성을 얻을 수 있다. 일반적으로 금속을 사용한 플라즈마 중합시 친수성의 특성을 얻기 위해서 플라즈마 중합 처리를 수행한다. 이러한 경우 시료의 친수성을 얻기 위해서 반응성 가스가 사용된다. By such a plasma polymerization reaction, properties such as surface strength change, adhesion, adsorption, hydrophilicity, and hydrophobicity can be obtained. In general, plasma polymerization is performed to obtain hydrophilic characteristics during plasma polymerization using a metal. In this case a reactive gas is used to obtain the hydrophilicity of the sample.
상기 플라즈마쳄버(7)의 내부에서 플라즈마 중합처리된 시료(3)는 상기 권취쳄버(10)로 전달되어 롤형상으로 감겨지게 된다.The plasma polymerized sample 3 inside the plasma chamber 7 is transferred to the winding chamber 10 and wound in a roll shape.
그러나 상기한 바와 같은 종래 기술에서는 다음과 같은 문제점이 있다.However, the prior art as described above has the following problems.
즉, 상기 플라즈마쳄버(7) 내부에서 플라즈마 중합이 진행될 때, 도 2에 잘 도시된 바와 같이, 상기 시료의 양 끝부분에는 전류밀도가 집중되고 상대적으로 에너지가 약하게 되어, 중합이 제대로 되지 않은 파우더가 형성된다.That is, when plasma polymerization proceeds in the plasma chamber 7, as shown in FIG. 2, the current density is concentrated at both ends of the sample and the energy is relatively weak, so that the polymerization is not performed properly. Is formed.
이와 같이 중합이 제대로 되지 않아 그 양 끝부분에 파우더가 생성되고 상기 권취쳄버(10)에서 롤형상으로 권취된 시료(3)가 도 3에 도시되어 있다. 상기와 같이 시료(3)의 양 끝부분에 파우더가 발생되면, 상기 시료(3)를 가공하기 위한 다음의 공정에서 상기 파우더가 누적되어 펀치가 파손되거나, 금형의 펀치와 다이 등의 사이에 파우더가 끼어 문제를 발생시킨다.As shown in FIG. 3, since the polymerization is not performed properly, powder is formed at both ends, and the sample 3 wound in a roll shape in the winding chamber 10 is illustrated. When the powder is generated at both ends of the sample 3 as described above, the powder is accumulated in the next step for processing the sample 3, the punch is broken, or powder between the punch and die of the mold Will cause problems.
따라서 본 발명의 목적은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 플라즈마쳄버 내에서 시료의 표면 전체에 플라즈마 중합반응이 균일하게 일어나도록 하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the problems of the prior art as described above, so that the plasma polymerization reaction occurs uniformly over the entire surface of the sample in the plasma chamber.
본 발명의 다른 목적은 폭이 다른 시료의 플라즈마 중합작업도 보다 용이하게 수행할 수 있는 플라즈마쳄버장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a plasma chamber device that can more easily perform plasma polymerization of samples having different widths.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 본 발명은 내부에서 플라즈마 중합반응이 일어나는 플라즈마쳄버와, 상기 플라즈마쳄버의 내부에 설치되어 플라즈마 반응에 필요한 방전을 일으키는 전극과, 상기 전극 사이를 통과하는 시료의 양측 가장자리에 대응 되는 위치에 이동가능하게 설치되어 상기 시료의 상하면과 양단부를 둘러싸서 시료에 제공되는 전류밀도가 시료 전체에 대해 일정하게 유지되도록 하는 스크린을 포함하여 구성된다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, the present invention provides a plasma chamber in which a plasma polymerization reaction occurs, an electrode provided inside the plasma chamber to generate a discharge required for the plasma reaction, and the electrode It is configured to include a screen movably installed at a position corresponding to both edges of the sample passing through it so that the current density provided to the sample surrounding the upper and lower surfaces and both ends of the sample is kept constant for the entire sample.
상기 스크린은 상기 시료의 폭에 따라 양단의 스크린 사이의 거리가 조절된다.The distance between the screens of both ends of the screen is adjusted according to the width of the sample.
상기 전극과 시료의 겹침길이는 -20에서 30mm의 사이의 값이고, 상기 시료와 스크린사이의 갭은 상기 전극과 시료 사이의 간격의 1/5에서 1/2 사이의 범위로 된다.The overlap length of the electrode and the sample is a value between -20 and 30 mm, and the gap between the sample and the screen is in the range of 1/5 to 1/2 of the gap between the electrode and the sample.
이와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 플라즈마 중합장비용 플라즈마쳄버장치에 의하면 시료 전체에 대해 전류밀도가 균일하게 유지되어 시료의 표면 전체에 대해 플라즈마 중합반응이 균일하게 되는 이점이 있다.According to the plasma chamber apparatus for plasma polymerization equipment according to the present invention having such a configuration, the current density is uniformly maintained for the entire sample, and the plasma polymerization reaction is uniform for the entire surface of the sample.
이하 상기한 바와 같은 본 발명에 의한 플라즈마 중합장비용 플라즈마쳄버장치의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참고하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the plasma chamber apparatus for plasma polymerization equipment according to the present invention as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4은 본 발명에 의한 플라즈마쳄버를 구비하는 플라즈마 중합장비의 구성을 보인 구성도이고, 도 5는 도 4의 A-A'선 단면의 구성을 보인 개략 단면도이다.Figure 4 is a block diagram showing the configuration of a plasma polymerization equipment having a plasma chamber according to the present invention, Figure 5 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the cross-sectional view taken along line AA 'of FIG.
이들 도면에 도시된 바에 따르면, 공급쳄버(30)에는 플라즈마 중합반응을 위한 시료(40)가 롤형상으로 감겨져 있다. 상기 공급쳄버(30)의 시료(40)는 연속적으로 플라즈마쳄버(50)의 내부로 공급된다.As shown in these figures, the sample 40 for the plasma polymerization reaction is wound around the feed chamber 30 in a roll shape. The sample 40 of the supply chamber 30 is continuously supplied into the plasma chamber 50.
상기 공급쳄버(30)와 연결되게 플라즈마쳄버(50)가 구비된다. 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부에서는 플라즈마 중합반응이 진행된다. 이를 위해 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부에는 반응가스의 주입을 위한 가스주입부(51)가 구비되고, 직류 또는 고주파의 방전을 위한 전극(52)이 구비된다. 상기 전극(52)은 상기 시료(40)의 양면에 대응되는 위치에 구비된다. The plasma chamber 50 is provided to be connected to the supply chamber 30. The plasma polymerization reaction proceeds inside the plasma chamber 50. To this end, a gas injection unit 51 for injecting reaction gas is provided inside the plasma chamber 50, and an electrode 52 for discharge of DC or high frequency is provided. The electrode 52 is provided at positions corresponding to both surfaces of the sample 40.
그리고 상기 전극(52)의 사이를 통과하는 시료(40)의 양단에 대응되는 위치에는 상기 시료(40)와 전극(52)과의 사이에 스크린(54)이 설치된다. 상기 스크린(54)은 상기 시료(40)의 양단부에 해당되는 상하면을 차폐하도록 단면이 'ㄷ'자 형상으로 길게 형성된다.The screen 54 is installed between the sample 40 and the electrode 52 at positions corresponding to both ends of the sample 40 passing between the electrodes 52. The screen 54 is formed to have a long cross-section 'c' shape so as to shield the upper and lower surfaces corresponding to both ends of the sample 40.
즉, 상기 스크린(54)은 상기 시료(40)의 상면과 대응되는 상면(54a)이 소정 길이로 형성되고, 상기 상면(54a)과 마주보도록 서로 평행하게 하면(54b)이 동일 길이로 형성된다. 그리고 상기 상면(54a)과 하면(54b)은 그 일단부에서 연결면(54c)에 의해 연결된다.That is, the screen 54 has an upper surface 54a corresponding to the upper surface of the sample 40 to have a predetermined length, and when the screen 54b is parallel to each other to face the upper surface 54a, 54b is formed to have the same length. . The upper surface 54a and the lower surface 54b are connected at one end by the connecting surface 54c.
여기서, 상기 스크린(54)과 상기 시료(40)의 양단부가 겹치는 겹침길이(a)는 -20에서 30mm정도로 하는 것이 바람직하다. 여기서 -20mm로 표시된 마이너스값은 시료(40)와 스크린(54) 사이가 겹치지 않고 그 단부가 20mm만큼 떨어져 있는 것을 나타낸다. 바람직하기로는 상기 겹침길이(a)는 0에서 플러스값 사이로 되는 것이다. 이와 같은 스크린(54)은 상기 시료(40)의 양단부에 전류밀도가 밀집되는 것을 방지하는 역할을 한다. 즉 상기 스크린(54)은 차단막 역할을 하여 상기 시료(40)의 양단부에 집중되는 전류를 상기 스크린(54)으로 차단시켜 시료(40)양단부에 집중되지 않게 되어 상대적으로 상기 시료(40)에 전류밀도가 고르게 분포된다.Here, it is preferable that the overlap length (a) at which both ends of the screen 54 and the sample 40 overlap is about -20 to about 30 mm. A negative value, denoted by -20 mm, here indicates that the sample 40 and the screen 54 do not overlap and the ends thereof are separated by 20 mm. Preferably, the overlap length a is between 0 and a positive value. Such a screen 54 serves to prevent the current density from being concentrated at both ends of the sample 40. That is, the screen 54 serves as a blocking film to block the current concentrated at both ends of the sample 40 with the screen 54 so that the screen 54 is not concentrated at both ends of the sample 40 so that the current in the sample 40 is relatively high. The density is evenly distributed.
그리고 상기 스크린(54)은 양단에 설치된 것 사이의 간격조절이 가능하게 되어 있다. 따라서, 도 6에 도시된 바와 같이, 시료(40)의 폭이 상대적으로 작은 경우에는 예를 들어 일측 스크린(54)을 화살표 A방향으로 이동시켜 시료(40)와 스크린(54) 사이의 겹침길이(a)를 조절한다. 물론 양단의 스크린(54)을 동시에 조절할 수도 있다. 이와 같이 스크린(54)의 이동을 위해서는 도면으로 도시되지는 않았지만 별도로 구동원과 상기 구동원의 동력을 상기 스크린(54)으로 전달하기 위한 구성이 구비된다.And the screen 54 is capable of adjusting the gap between the installed at both ends. Therefore, as shown in FIG. 6, when the width of the sample 40 is relatively small, for example, the overlapping length between the sample 40 and the screen 54 is moved by moving one screen 54 in the arrow A direction. Adjust (a). Of course, the screens 54 at both ends may be adjusted at the same time. As such, although not shown in the drawings for the movement of the screen 54, a configuration for transmitting a driving source and power of the driving source to the screen 54 is provided.
여기서 상기 스크린(54)과 전극(52) 및 시료(40)와의 관계는 도 5에 잘 도시되어 있다. 즉 상기 스크린(54)은 상기 시료(40)의 양면 양단부에 해당되는 위치에 상기 폭(a)만큼 상기 시료(40)와 겹쳐지게 위치된다. 여기서 겹쳐진다는 것은 실제로 이들이 접촉되는 것이 아니고 소정의 간격의 가지면서 공간상에서 오버랩된다는 것을 말한다. 그리고, 상기 시료(40)와 스크린(54) 사이의 간격(b)은 상기 시료(40)와 전극(52)사이의 간격(c)의 1/5에서 1/2이 되도록 하는 것이 바람직하다. 이와 같이 스크린(54)과 전극(52) 및 시료(40) 사이의 관계를 설정함에 의해 상기 시료(40)의 표면 전체에 대해 전류밀도가 균일하게 형성된다.The relationship between the screen 54 and the electrode 52 and the sample 40 is shown well in FIG. 5. That is, the screen 54 is positioned to overlap the sample 40 by the width a at positions corresponding to both ends of both surfaces of the sample 40. Here, overlap means that they are not actually in contact but overlap in space with a predetermined interval. In addition, the spacing b between the sample 40 and the screen 54 may be 1/5 to 1/2 of the spacing c between the sample 40 and the electrode 52. By setting the relationship between the screen 54 and the electrode 52 and the sample 40 in this way, the current density is uniformly formed over the entire surface of the sample 40.
한편, 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부로는 반응가스를 공급하기 위한 구성이 구비되고, 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부를 진공으로 유지하기 위한 로터리펌프와 유확산펌프(도시되지 않음)가 구비된다. 그리고 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부 가스주입부(51)에 의해 공급된 반응가스는 상기 플라즈마쳄버(50)와 아래에서 설명될 권취쳄버(60)를 연결하는 부분에 형성된 가스출구(56)를 통해 외부로 배출된다.On the other hand, the inside of the plasma chamber 50 is provided with a configuration for supplying the reaction gas, the rotary pump and the diffusion pump (not shown) for maintaining the interior of the plasma chamber 50 is provided with a vacuum do. The reaction gas supplied by the internal gas injection unit 51 of the plasma chamber 50 connects the gas outlet 56 formed at the portion connecting the plasma chamber 50 and the winding chamber 60 to be described below. Through the outside.
다음으로 상기 플라즈마쳄버(50)를 통과하여 나온 시료(40)는 권취쳄버(60)로 전달된다. 상기 권취쳄버(60)에서 상기 시료(40)는 롤 형태로 감겨지게 된다.Next, the sample 40 passed through the plasma chamber 50 is transferred to the winding chamber 60. In the winding chamber 60, the sample 40 is wound in a roll form.
이하 상기한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 플라즈마 중합장비용 플라즈마 쳄버장치의 작용을 설명하기로 한다.Hereinafter, the operation of the plasma chamber apparatus for plasma polymerization equipment according to the present invention having the configuration as described above will be described.
플라즈마중합을 통해 중합물이 표면에 증착되는 시료(40)는 롤 형태로 감겨져서 공급쳄버(30)로부터 공급된다. 상기 시료(40)는 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부로 공급된다.The sample 40 in which the polymer is deposited on the surface through plasma polymerization is wound in a roll and supplied from the supply chamber 30. The sample 40 is supplied into the plasma chamber 50.
이때, 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부는 플라즈마 중합반응이 일어나기에 적합한 환경으로 되어 있다. 즉 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부로 반응성가스가 공급되고 로터리펌프와 유확산펌프로 진공으로 유지되며, 상기 가스주입부(51)를 통해 반응가스가 주입되고 전극(52)을 통해 방전이 일어나게 된다.At this time, the inside of the plasma chamber 50 is an environment suitable for the plasma polymerization reaction occurs. That is, the reactive gas is supplied into the plasma chamber 50 and maintained in a vacuum by the rotary pump and the diffusion pump. The reaction gas is injected through the gas injection unit 51 and discharge occurs through the electrode 52. do.
상기와 같은 환경에서 상기 플라즈마쳄버(50)의 내부에 플라즈마가 형성되고 상기 시료(40)의 표면에는 중합물이 증착된다. 이때 상기 전극(52)에서 방전되어 상기 시료(40)로 전달되는 전류밀도는 시료(40) 전체에 대해 일정하게 유지된다. 특히 상기 시료(40)의 양단부에 해당되는 부분은 상기 스크린(54)에 의해 관리된다.In the above environment, a plasma is formed inside the plasma chamber 50 and a polymer is deposited on the surface of the sample 40. At this time, the current density discharged from the electrode 52 and delivered to the sample 40 is kept constant for the entire sample 40. In particular, portions corresponding to both ends of the sample 40 are managed by the screen 54.
즉 상기 스크린(54)이 상기 시료(40)의 양단부로 전류밀도가 집중되는 것을 방지하여 이온화되어 중합되는 가스의 양을 조절한다. 이와 같이 됨에 의해 시료(40)의 양단부에 전류집중에 의한 파우더의 누적이 방지된다.That is, the screen 54 controls the amount of gas ionized and polymerized by preventing the current density from being concentrated at both ends of the sample 40. As a result, accumulation of powder due to current concentration at both ends of the sample 40 is prevented.
상기와 같이 플라즈마쳄버(50)내에서 플라즈마 중합반응에 의해 표면에 중합물이 증착된 시료(40)는 권취쳄버(60)로 전달되어 롤형상으로 권취된다.As described above, the sample 40 having the polymer deposited on the surface by the plasma polymerization reaction in the plasma chamber 50 is transferred to the winding chamber 60 and wound in a roll shape.
한편, 상기 시료(40)의 폭이 달라지는 경우에는 상기 시료(40), 전극(52) 및 스크린(54)사이의 관계를 달리 설정한다. 즉 상기 스크린(54)을 상기 시료(40)의 폭에 맞게 이동시켜 시료(40)의 양단에 전류밀도가 집중되는 것을 방지한다.On the other hand, when the width of the sample 40 is different, the relationship between the sample 40, the electrode 52 and the screen 54 is set differently. That is, the screen 54 is moved in accordance with the width of the sample 40 to prevent concentration of current on both ends of the sample 40.
본 발명의 권리는 위에서 설명된 실시예에 한정되지 않고 청구범위에 기재된 바에 의해 정의되며, 본 발명의 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 청구범위에 기재된 권리범위 내에서 다양한 변형과 개작을 할 수 있다는 것은 자명하다.The rights of the present invention are not limited to the embodiments described above, but are defined by the claims, and those skilled in the art can make various modifications and adaptations within the scope of the claims. It is self-evident.
위에서 상세히 설명한 바와 같은 본 발명에 의한 플라즈만 중합장비용 플라즈마쳄버장치는 전극의 사이를 통과하는 시료의 양단에 전류가 집중되는 것을 방지하기 위해 스크린을 설치하였다. 따라서 상기 스크린이 상기 시료의 양단에 전류가 집중되는 것이 방지되어 시료의 표면에 전체적으로 균일한 증착이 이루어지게 된다. Plasma chamber device for the Plasman polymerization equipment according to the present invention as described in detail above was provided with a screen to prevent the current is concentrated on both ends of the sample passing between the electrodes. As a result, the screen is prevented from concentrating current on both ends of the sample, so that uniform deposition is performed on the entire surface of the sample.
그리고, 상기 스크린은 시료의 폭에 따라 이동이 가능하게 구성되므로 폭이 다른 시료의 플라즈마중합을 실시하더라도 단지 상기 스크린을 이동시켜 적절한 위치관계를 설정하면 되므로 상대적으로 준비작업에 들어가는 시간이 절약되는 효과가 있다.In addition, since the screen is configured to be movable according to the width of the sample, even if plasma polymerization of samples having different widths is performed, only the screen may be moved to set an appropriate positional relationship, thus reducing the time required for preparation. There is.
도 1은 일반적인 연속 처리 플라즈마 중합장비의 구성을 보인 구성도.1 is a block diagram showing the configuration of a typical continuous processing plasma polymerization equipment.
도 2는 도 1의 A-A'선 단면의 요부 구성을 보인 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a main part of a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.
도 3은 종래 기술에 의한 플라즈마 중합장비에서 작업된 시료를 보인 사시도.Figure 3 is a perspective view showing a sample worked in the plasma polymerization equipment according to the prior art.
도 4는 본 발명에 의한 플라즈마쳄버를 구비하는 플라즈마 중합장비의 구성을 보인 구성도.Figure 4 is a block diagram showing the configuration of a plasma polymerization equipment having a plasma chamber according to the present invention.
도 5는 도 4의 A-A'선 단면의 구성을 보인 개략 단면도.5 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a cross-sectional view taken along the line A-A 'of FIG.
도 6은 본 발명 실시예에서 폭이 다른 시료에 플라즈마 중합작업을 하는 것을 보인 작업상태도.Figure 6 is a working state showing that the plasma polymerization operation on the samples of different widths in the embodiment of the present invention.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
30: 공급쳄버 40: 시료30: supply chamber 40: sample
50: 플라즈마쳄버 51: 가스주입부50: plasma chamber 51: gas injection unit
52: 전극 54: 스크린52: electrode 54: screen
54a: 상면 54b: 하면54a: upper face 54b: lower face
54c: 연결면 55: 메쉬54c: connection surface 55: mesh
55': 통공 56: 가스출구55 ': Through hole 56: Gas outlet
60: 권취쳄버60: winding chamber
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