KR100472364B1 - Touch Panel and Fabricated Method Thereof - Google Patents

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KR100472364B1
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Abstract

본 발명은 터치패널의 유리시이트 및 절연시이트의 간격을 최소화 함으로써 투명전도층을 크랙을 방지하도록 한 터치패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel and a manufacturing method thereof in which the transparent conductive layer is prevented from cracking by minimizing the gap between the glass sheet and the insulating sheet of the touch panel.

본 발명에 따른 터치패널은 각각 가장자리에 홈이 형성된 상부기판 및 하부기판과; 상기 상부기판의 홈 내에 매립된 상부전극과; 상기 하부기판의 홈 내에 매립된 하부전극과; 상기 상부기판에 형성되어 상기 상부전극이 통전되게 하는 상부 투명전도층과; 상기 하부기판에 형성되어 상기 하부전극이 통전되게 하는 하부 투명전도층을 구비한다. The touch panel according to the present invention includes an upper substrate and a lower substrate each having grooves formed at edges thereof; An upper electrode embedded in a groove of the upper substrate; A lower electrode embedded in a groove of the lower substrate; An upper transparent conductive layer formed on the upper substrate to allow the upper electrode to be energized; And a lower transparent conductive layer formed on the lower substrate to allow the lower electrode to be energized.

본 발명에 의하면, 터치패널의 상/하판에 형성되는 유리시이트 및 절연시이트 가장자리 영역에 홈을 형성하여 홈에 전극층을 매립시킴으로써 상/하판의 간격을 줄이도록 함으로써 전극층과 근접한 부분의 절연시이트를 누를 경우에 나타나는 투명전극층의 크랙을 방지할 수 있게 된다.According to the present invention, the grooves are formed in the edges of the glass sheet and the insulating sheet formed on the upper and lower plates of the touch panel, and the gap between the upper and lower plates is reduced by filling the electrode layers in the grooves to press the insulating sheet adjacent to the electrode layer. It is possible to prevent the crack of the transparent electrode layer appearing in the case.

Description

터치패널 및 그의 제조방법{Touch Panel and Fabricated Method Thereof} Touch panel and its manufacturing method {Touch Panel and Fabricated Method Thereof}

본 발명은 터치패널에 관한 것으로, 특히 터치패널의 유리시이트 및 절연시이트의 간격을 최소화 함으로써 투명전도층을 크랙을 방지하도록 한 터치패널 및 그의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel, and more particularly, to a touch panel and a method of manufacturing the same so as to prevent cracks in the transparent conductive layer by minimizing the gap between the glass sheet and the insulating sheet of the touch panel.

디스플레이 일체형 입력장치인 터치패널은 은행의 현금 지급기(ATM) 등이 대표적인데, 스타일러스 펜 또는 손가락이 눌려진 위치에 해당하는 전압 또는 전류 신호를 발생함으로써 사용자가 지정하는 명령 또는 그래픽 정보를 입력하게 된다. 최근에는 평판 표시장치 중 액정패널과 일체되어 아날로그 입력 방식의 저항막 방식의 터치패널의 주로 사용되고 있다. 통상의 액정패널은 두장의 유리기판 사이에 주입되어진 액정 셀 들의 광 투과율이 조절되게 함으로써 화상을 표시하게 된다. 액정 셀들 각각은 비디오신호, 즉 해당 화소신호에 응답하여 투과되는 광량을 조절한다.A touch panel, which is an integrated display device, is a representative ATM of a bank. The touch panel generates a voltage or current signal corresponding to a position where a stylus pen or a finger is pressed to input a user-specified command or graphic information. Recently, a resistive touch panel of an analog input method is used mainly because it is integrated with a liquid crystal panel among flat panel displays. A typical liquid crystal panel displays an image by controlling the light transmittance of liquid crystal cells injected between two glass substrates. Each of the liquid crystal cells adjusts the amount of light transmitted in response to the video signal, that is, the pixel signal.

도 1은 종래 기술에 따른 터치패널의 구조도이다. 도 2는 도 1의 터치패널을 위에서 내려다 본 상태를 나타내는 도면이다.1 is a structural diagram of a touch panel according to the prior art. FIG. 2 is a view illustrating a state of looking down the touch panel of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 터치패널(20)은 평판 패널 디스플레이(10) 상에 놓이게 된다. 터치패널(20)은 유리시이트(12) 및 절연시이트(14)와, 상기 유리시이트(12) 및 절연시이트(14) 상에 형성된 투명전도층(16a,16b)과, 유리시이트(12) 및 절연시이트(14) 사이에 살포되어진 스페이서(26)를 가지게 된다. 유리시이트(12)의 표면에는 제1 전극층(18a)이 형성되고 절연시이트(14)의 밑면에는 제2 전극층(18b)이 형성되어 있다. 제2 전극층(18b)은 절연시이트(14)가 스타일러스 펜 또는 손가락에 의해 눌려질 때 제1 전극층(18a)과 단락 됨으로써 눌려진 위치에 따라 달라지는 전류량 또는 전압레벨을 가지는 신호가 발생되게 한다. 이 때 제1 및 제2 전극층(18a,18b)은 투명전도성물질인 인듐-주석-옥사이드(Indium-Tin-Oxide ; 이하 "ITO"라 함), 인듐-아연-옥사이드(Indium-Zinc-Oxide ; 이하 "IZO"라 함), 인듐-주석-아연-옥사이드(Indium-Tin-Zinc-Oxide ; 이하 "ITZO"라 함)들 중 하나로 형성되는 투명전도층(16a,16b) 상에 은(Ag)을 인쇄함으로써 형성된다. 터치패널(20)의 절연시이트(12)에는 가로방향의 가장자리에 형성된 X축 전극(12)과, X축 전극(12)의 중앙으로부터 도출되어 외부 터치컨트롤러(도시하지 않음)에 전류량 또는 전압 레벨을 가지는 신호를 공급하는 신호선(24)을 구비한다.1 and 2, the touch panel 20 is placed on the flat panel display 10. The touch panel 20 includes the glass sheet 12 and the insulating sheet 14, the transparent conductive layers 16a and 16b formed on the glass sheet 12 and the insulating sheet 14, the glass sheet 12 and The spacers 26 are spread out between the insulating sheets 14. The first electrode layer 18a is formed on the surface of the glass sheet 12, and the second electrode layer 18b is formed on the bottom surface of the insulating sheet 14. The second electrode layer 18b is shorted with the first electrode layer 18a when the insulating sheet 14 is pressed by a stylus pen or finger, thereby generating a signal having a current amount or voltage level that varies depending on the pressed position. In this case, the first and second electrode layers 18a and 18b include indium tin oxide (hereinafter referred to as "ITO") and indium zinc oxide (Indium-Zinc-Oxide); Ag on the transparent conductive layers 16a and 16b formed of one of " IZO ") and indium-tin-zinc-oxide (hereinafter referred to as " ITZO "). It is formed by printing. The insulating sheet 12 of the touch panel 20 includes an X-axis electrode 12 formed at a horizontal edge and a center of the X-axis electrode 12 so as to provide an amount of current or voltage to an external touch controller (not shown). And a signal line 24 for supplying a signal having a.

도 3은 종래기술에 따른 터치패널의 단면을 상세히 나타내는 도면이다.3 is a view showing in detail the cross section of the touch panel according to the prior art.

도 3을 참조하면, 터치패널(20)은 패널의 가장자리에 투명전도층(16) 및 전극층(18a,18b)이 형성된 비터치영역(A), 두 전극층(18a,18b)이 스타일러스 펜 또는 손가락에 의해 눌려질 때 단락됨으로써 눌러진 위치에 따라 달라지는 전류량 또는 전압레벨을 가지는 신호가 발생되는 터치영역(B)과, 터치 영역(B) 중 에지(Edge)부 즉, 비유효 터치영역(C)으로 구성된다.Referring to FIG. 3, the touch panel 20 includes a non-touch area A in which the transparent conductive layer 16 and the electrode layers 18a and 18b are formed at the edges of the panel, and the two electrode layers 18a and 18b are stylus pens or fingers. The touch area B generates a signal having a current amount or a voltage level that varies depending on the pressed position when it is pressed by the short circuit, and an edge portion of the touch area B, that is, an invalid touch area C. It consists of.

비유효 터치영역(C)은 신뢰성 취약 영역으로서 터치기능이 떨어지는 영역이 발생하게 되는 문제점이 있게 된다. 이 비유효 터치영역(C)은 전극층(18a,18b)으로부터 1.5∼3mm 정도로 알려져 있다.The invalid touch area C is a poor reliability area, which causes a problem in which a touch function is degraded. This ineffective touch region C is known to be about 1.5 to 3 mm from the electrode layers 18a and 18b.

이는 비유효 터치영역(C)의 외곽부로는 전극층(18a,18b)과 절연층(22)들이 있고, 내측부에는 유리시이트(12) 및 절연시이트(14) 사이에 도트 스페이서(26)만 형성되어 있기 때문이다. 즉, 한쪽 측면의 높이가 급격히 변화하기 때문에 절연시이트(14)를 스타일러스 펜 또는 손가락 등으로 누를 경우에는 절연시이트(14) 상의 투명전극층(16b)에 크랙이 발생할 가능성이 높게 된다. 이러한 이유로 인해 유리시이트(12) 및 절연시이트(14) 상의 투명전극층의 전위분포가 틀어지게 되고, 이는 정확한 위치정보를 찾지 못하게 되는 문제점이 있게 된다.The outer portions of the ineffective touch region C include the electrode layers 18a and 18b and the insulating layers 22, and only the dot spacers 26 are formed between the glass sheet 12 and the insulating sheet 14 on the inner side thereof. Because there is. That is, since the height of one side surface changes rapidly, when the insulating sheet 14 is pressed with a stylus pen or a finger or the like, there is a high possibility that a crack occurs in the transparent electrode layer 16b on the insulating sheet 14. For this reason, the potential distribution of the transparent electrode layers on the glass sheet 12 and the insulating sheet 14 is distorted, which leads to a problem in that accurate position information cannot be found.

따라서, 본 발명의 목적은 터치패널 상의 좌표를 인식하게 하는 전극들을 유리시이트 및 절연시이트에 매립되게 형성함으로써 전극 근접영역의 크랙을 방지하도록 한 터치패널 및 그의 제조방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a touch panel and a method of manufacturing the same, which prevent the cracks in the proximal region of electrodes by forming electrodes on the touch panel to be embedded in the glass sheet and the insulating sheet.

본 발명의 다른 목적은 터치패널을 구성하는 전극층 두께의 시이트를 유리시이트 및 절연시이트 상에 추가로 부착시켜 전극층이 매립되게 함으로써 전극 근접 영역의 크랙을 방지하도록 한 터치패널 및 그의 제조방법을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a touch panel and a method of manufacturing the same, wherein the sheet having the thickness of the electrode layer constituting the touch panel is additionally attached to the glass sheet and the insulating sheet so that the electrode layer is embedded to prevent cracking of the electrode proximal region. There is.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 터치패널은 각각 가장자리에 홈이 형성된 상부기판 및 하부기판과; 상기 상부기판의 홈 내에 매립된 상부전극과; 상기 하부기판의 홈 내에 매립된 하부전극과; 상기 상부기판에 형성되어 상기 상부전극이 통전되게 하는 상부 투명전도층과; 상기 하부기판에 형성되어 상기 하부전극이 통전되게 하는 하부 투명전도층을 구비한다. 상기 터치패널은 상기 상부 투명전도층과 상기 하부 투명전도층 사이에 형성되는 다수의 도트 스페이서를 추가로 구비한다. 상기 상부 투명전도층은 상기 상부기판의 전면 또는 상기 상부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 형성되고, 상기 하부 투명전도층은 상기 하부기판의 전면 또는 상기 하부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 형성된다. 본 발명에 따른 터치패널은 제1 상부기판과; 상기 제1 상부기판의 가장자리를 제외한 영역에 형성되는 제2 상부기판과; 상기 제1 상부기판의 가장자리에 형성되는 상부전극과; 제1 하부기판과; 상기 제1 하부기판의 가장자리를 제외한 영역에 형성되는 제2 하부기판과; 상기 제1 하부기판의 가장자리에 형성되는 하부전극과; 상기 제2 상부기판에 형성되어 상기 상부전극이 통전되게 하는 상부 투명전도층과; 상기 제2 하부기판에 형성되어 상기 하부전극이 통전되게 하는 하부 투명전도층을 구비한다. 상기 터치패널은 상기 상부기판과 상기 하부기판을 접착하기 위한 접착층과; 상기 상부전극과 하부전극의 전기적 절연을 위한 절연층을 추가로 구비한다. 본 발명에 따른 터치패널의 제조방법은 상부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; 상기 상부기판의 홈 내에 상부전극을 매립하는 단계와; 상기 상부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 투명전도성물질을 증착하여 상기 상부전극과 접촉되는 상부 투명전도층을 형성하는 단계와; 하부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; 상기 하부기판의 홈 내에 하부전극을 매립하는 단계와; 상기 하부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 상기 투명전도성물질을 증착하여 상기 하부전극과 접촉되는 하부 투명전도층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 상부기판과 상기 하부기판의 홈 각각은 레이저 및 화학 에칭 중 어느 하나에 의해 형성된다. 본 발명에 따른 터치패널의 제조방법은 상부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; 상기 상부기판의 홈 내에 상부전극을 매립하는 단계와; 하부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; 상기 하부기판의 홈 내에 하부전극을 매립하는 단계와; 상기 상부기판의 전면에 투명전도성물질을 증착하여 상부 투명전도층을 형성하는 단계와; 상기 하부기판의 전면에 투명전도성물질을 증착하여 하부 투명전도층을 형성하는 단계를 포함한다.상기 터치패널의 제조방법은 상기 상부 및 하부기판 사이에 스페이서를 형성하는 단계와, 상기 상부전극과 상기 하부전극 사이의 전기적 절연을 위한 절연층을 형성하는 단계와; 상기 상부기판과 상기 하부기판을 접착하기 위한 접착층을 형성하는 단계를 추가로 포함한다. 본 발명에 따른 터치패널의 제조방법은 제1 상부기판의 가장자리를 제외한 영역에 제2 상부기판을 형성하는 단계와; 상기 제1 상부기판의 가장자리에 상부전극을 형성하는 단계와; 상기 제2 상부기판에 상기 상부전극이 통전되게 하는 상부 투명전도층을 형성하는 단계와; 제1 하부기판의 가장자리를 제외한 영역에 제2 하부기판을 형성하는 단계와; 상기 제1 하부기판의 가장자리에 하부전극을 형성하는 단계와; 상기 제2 하부기판에 상기 하부전극이 통전되게 하는 하부 투명전도층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 제2 상부기판 및 제2 하부기판과, 상기 상부전극 및 하부전극은 동일층, 동일 두께로 형성된다. 상기 터치패널의 제조방법은 상기 상부 투명전도층과 상기 하부 투명전도층 사이에 다수의 도트 스페이서를 형성하는 단계와; 상기 상부전극과 상기 하부전극 사이의 전기적 절연을 위한 절연층을 형성하는 단계와; 상기 상부기판과 상기 하부기판을 접착하기 위한 접착층을 형성하는 단계를 추가로 포함한다. In order to achieve the above object, the touch panel according to the present invention includes an upper substrate and a lower substrate each having a groove formed at the edge; An upper electrode embedded in a groove of the upper substrate; A lower electrode embedded in a groove of the lower substrate; An upper transparent conductive layer formed on the upper substrate to allow the upper electrode to be energized; And a lower transparent conductive layer formed on the lower substrate to allow the lower electrode to be energized. The touch panel further includes a plurality of dot spacers formed between the upper transparent conductive layer and the lower transparent conductive layer. The upper transparent conductive layer is formed on the front surface of the upper substrate or the region except the groove on the upper substrate, and the lower transparent conductive layer is formed on the front surface of the lower substrate or the region except the groove on the lower substrate. The touch panel according to the present invention comprises: a first upper substrate; A second upper substrate formed in an area except an edge of the first upper substrate; An upper electrode formed at an edge of the first upper substrate; A first lower substrate; A second lower substrate formed in an area except an edge of the first lower substrate; A lower electrode formed at an edge of the first lower substrate; An upper transparent conductive layer formed on the second upper substrate to allow the upper electrode to be energized; And a lower transparent conductive layer formed on the second lower substrate to allow the lower electrode to be energized. The touch panel includes an adhesive layer for bonding the upper substrate and the lower substrate; An insulating layer for electrically insulating the upper electrode and the lower electrode is further provided. Method of manufacturing a touch panel according to the present invention comprises the steps of forming a groove on the edge of the upper substrate; Embedding an upper electrode in a groove of the upper substrate; Depositing a transparent conductive material in an area of the upper substrate except for the groove to form an upper transparent conductive layer in contact with the upper electrode; Forming a groove in an edge of the lower substrate; Burying a lower electrode in a groove of the lower substrate; Forming a lower transparent conductive layer in contact with the lower electrode by depositing the transparent conductive material on an area of the lower substrate except for the groove. Each of the grooves of the upper substrate and the lower substrate is formed by any one of laser and chemical etching. Method of manufacturing a touch panel according to the present invention comprises the steps of forming a groove on the edge of the upper substrate; Embedding an upper electrode in a groove of the upper substrate; Forming a groove in an edge of the lower substrate; Burying a lower electrode in a groove of the lower substrate; Depositing a transparent conductive material on the entire surface of the upper substrate to form an upper transparent conductive layer; And depositing a transparent conductive material on the entire surface of the lower substrate to form a lower transparent conductive layer. A method of manufacturing the touch panel includes forming a spacer between the upper and lower substrates, the upper electrode and the upper substrate. Forming an insulating layer for electrical insulation between the lower electrodes; The method may further include forming an adhesive layer for bonding the upper substrate and the lower substrate. Method of manufacturing a touch panel according to the present invention comprises the steps of forming a second upper substrate in the region excluding the edge of the first upper substrate; Forming an upper electrode on an edge of the first upper substrate; Forming an upper transparent conductive layer on the second upper substrate to allow the upper electrode to be energized; Forming a second lower substrate in an area except an edge of the first lower substrate; Forming a lower electrode on an edge of the first lower substrate; And forming a lower transparent conductive layer on the second lower substrate to allow the lower electrode to be energized. The second upper substrate and the second lower substrate, and the upper electrode and the lower electrode are formed in the same layer and the same thickness. The method of manufacturing the touch panel includes forming a plurality of dot spacers between the upper transparent conductive layer and the lower transparent conductive layer; Forming an insulating layer for electrical insulation between the upper electrode and the lower electrode; The method may further include forming an adhesive layer for bonding the upper substrate and the lower substrate.

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상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 이점들은 첨부한 도면을 참조한 실시 예에 대한 상세한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and advantages of the present invention in addition to the above object will be apparent from the detailed description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명의 실시 예들을 첨부한 도 4 내지 도 9c를 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 9C.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치패널을 개략적으로 도시한 도면이다.4 is a diagram schematically illustrating a touch panel according to a first embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 터치패널(30b)은 평판 디스플레이 패널(30a) 상에 놓이게 된다. 터치패널(30b)은 가장자리 영역에 일정한 깊이와 일정한 폭의 홈을 가진 유리시이트(32) 및 절연시이트(34)와, 상기 유리시이트(32) 및 절연시이트(34) 상에 형성된 투명전도층(36a,36b)과, 유리시이트(32) 및 절연시이트(34) 사이에 살포되어진 스페이서(46)를 가지게 된다. 유리시이트(32) 및 절연시이트(34)의 가장자리 영역에 형성된 홈에 삽입되도록 제1 및 제2 전극층(38a,38b)이 형성된다. 제2 전극층(38b)은 절연시이트(34)가 스타일러스 펜 또는 손가락에 의해 눌려질 때 제1 전극층(38a)과 단락 됨으로써 눌려진 위치에 따라 달라지는 전류량 또는 전압레벨을 가지는 신호가 발생되게 한다. 이 제1 및 제2 전극층(38a,38b)은 투명전도성물질인 ITO, IZO, ITZO 들 중 하나로 형성되는 투명전도층(36a,36b) 상에 은(Ag)을 인쇄함으로써 형성된다. 전극층(38a,38b)이 형성되지 않은 유리시이트(32) 상에는 감광성 수지 조성물로부터 포토리쏘그래피법에 의해 형성된 돌기 형태의 패턴을 가열연화처리하여 도트 스페이서(46)를 형성한다. 이러한 도트 스페이서(46)는 하부유리기판과 상부유리기판과의 간격을 일정하게 유지하는 역할을 한다. 또한 터치패널(30b)은 제1 전극층(38a)과 제2 전극층(38b)이 서로 접촉하지 않도록 하는 절연층(32)과, 투명전극층(36a,36b)과 제1 및 제2 전극층(38a,38b)이 형성된 유리 시이트(32)와 절연시이트(34)를 서로 합착시키기 위한 접착층(44)을 구비한다.Referring to FIG. 4, the touch panel 30b is placed on the flat panel display panel 30a. The touch panel 30b includes a glass sheet 32 and an insulating sheet 34 having grooves having a predetermined depth and a predetermined width in the edge region, and a transparent conductive layer formed on the glass sheet 32 and the insulating sheet 34. 36a and 36b and spacers 46 spread between the glass sheet 32 and the insulating sheet 34. First and second electrode layers 38a and 38b are formed to be inserted into grooves formed in the edge regions of the glass sheet 32 and the insulating sheet 34. The second electrode layer 38b is shorted with the first electrode layer 38a when the insulating sheet 34 is pressed by a stylus pen or finger, thereby generating a signal having a current amount or voltage level that varies depending on the pressed position. The first and second electrode layers 38a and 38b are formed by printing silver Ag on the transparent conductive layers 36a and 36b formed of one of ITO, IZO and ITZO, which are transparent conductive materials. On the glass sheet 32 on which the electrode layers 38a and 38b are not formed, the dot spacers 46 are formed by heat-softening a projection pattern formed by the photolithography method from the photosensitive resin composition. The dot spacer 46 serves to maintain a constant distance between the lower glass substrate and the upper glass substrate. In addition, the touch panel 30b includes an insulating layer 32 which prevents the first electrode layer 38a and the second electrode layer 38b from contacting each other, the transparent electrode layers 36a and 36b, and the first and second electrode layers 38a, An adhesive layer 44 for bonding the glass sheet 32 and the insulating sheet 34 on which 38b) is formed to each other is provided.

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치패널의 제조공정을 나타내는 도면으로서, 유리시이트 상에 투명전극층과 전극층의 형성 공정을 설명하기 위한 도면들이다.5A to 5D are diagrams illustrating a manufacturing process of a touch panel according to a first exemplary embodiment of the present invention. FIG. 5A to 5D are diagrams for describing a process of forming a transparent electrode layer and an electrode layer on a glass sheet.

터치패널(30b)의 하판으로써, 도 5a와 같이 PET 필름으로 이루어진 유리시이트(32)가 마련된다. 유리시이트(32)의 가장자리 영역에는 도 5b와 같이 전극층(28a)을 매립시키기 위한 일정한 깊이와 일정한 폭의 홈(48)을 형성한다. 이를 위하여, PET 필름은 레이저(Laser) 및 화학 에칭(Chemical Etching)을 이용하여 유리시이트(32)의 가장자리 영역은 전극층(38a,38b)이 매립되도록 식각된다. 이러한 하판과 마찬가지로, 터치패널(30b)의 상판을 구성하는 절연시이트(34)의 가장자리 영역에도 홈이 형성된다. As a lower plate of the touch panel 30b, a glass sheet 32 made of a PET film is provided as shown in FIG. 5A. In the edge region of the glass sheet 32, grooves 48 having a predetermined depth and a width for embedding the electrode layer 28a are formed as shown in FIG. 5B. To this end, the PET film is etched by using laser and chemical etching so that the edge regions of the glass sheet 32 are embedded so that the electrode layers 38a and 38b are embedded. Like the lower plate, grooves are formed in the edge region of the insulating sheet 34 constituting the upper plate of the touch panel 30b.

다음으로, 유리시이트(32) 가장자리에 형성된 홈을 제외한 영역에 도 5c에서와 같이 투명전도성물질인 ITO, IZO, ITZO들 중 하나로 형성되는 투명전도층(36a)을 형성한다. 투명전도층(36a)이 형성되면 유리시이트(32) 가장자리에 형성된 홈(48)에 매립되도록 소정 두께의 은(Ag)을 인쇄함으로써 전극층(38a)을 형성함으로서 터치패널의 하판을 형성하게 된다. 이와 같은 방법으로, 터치패널(30b)의 상판을 구성하는 절연시이트(34) 상에 투명전극층(36b)과 전극층(38b)이 형성된다. Next, a transparent conductive layer 36a formed of one of ITO, IZO, and ITZO, which are transparent conductive materials, is formed in a region excluding the groove formed at the edge of the glass sheet 32, as shown in FIG. 5C. When the transparent conductive layer 36a is formed, the lower layer of the touch panel is formed by forming the electrode layer 38a by printing silver Ag having a predetermined thickness so as to be embedded in the groove 48 formed at the edge of the glass sheet 32. In this manner, the transparent electrode layer 36b and the electrode layer 38b are formed on the insulating sheet 34 constituting the upper plate of the touch panel 30b.

상기와 같은 공정에 의해 제조된 상판과 하판을 합착시킴으로써 터치패널(30b)이 완성되는데, 이 경우 터치패널(30b)에서 절연시이트(34)의 압점 위치에 따른 X-Y좌표를 인식하도록 하는 전극층(38a, 38b)을 유리시이트(32) 및 절연시이트(34)의 가장자리 영역에 매립시킴으로써 터치패널(30b)의 두께가 줄어들게 된다.The touch panel 30b is completed by bonding the upper plate and the lower plate manufactured by the above process. In this case, the electrode layer 38a for recognizing the XY coordinate according to the pressure point position of the insulating sheet 34 in the touch panel 30b. , 38b is embedded in the edge regions of the glass sheet 32 and the insulating sheet 34 to reduce the thickness of the touch panel 30b.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치패널을 개략적으로 도시한 도면이다.6 is a diagram schematically illustrating a touch panel according to a second embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 터치패널(50b)은 평판 디스플레이 패널(50a) 상에 놓이게 된다. 터치패널(50b)은 가장자리 영역에 일정한 깊이와 일정한 폭의 홈을 가진 유리시이트(52) 및 절연시이트(54)와, 유리시이트(52) 및 절연시이트(54) 상에 형성된 홈에 매립된 제1 및 제2 전극층(58a,58b)과, 상기 유리시이트(52) 및 절연시이트(54) 상에 형성된 투명전도층(56a,56b)과, 유리시이트(52) 및 절연시이트(54) 사이에 살포되어진 스페이서(66)를 가지게 된다. 제2 전극층(58b)은 절연시이트(54)가 스타일러스 펜 또는 손가락에 의해 눌려질 때 제1 전극층(58a)과 단락 됨으로써 눌려진 위치에 따라 달라지는 전류량 또는 전압레벨을 가지는 신호가 발생되게 한다. 이 때 제1 및 제2 전극층(58a,58b)은 투명전도성물질인 ITO, IZO, ITZO 들 중 하나로 형성되는 투명전도층(56a,56b) 상에 은(Ag)을 인쇄함으로써 형성된다. 제1 및 제2 전극층(58a,58b)이 형성되지 않는 유리시이트(52) 상에는 감광성 수지 조성물로부터 포토리쏘그래피법에 의해 형성된 돌기 형태의 패턴을 가열연화처리하여 도트 스페이서(66)를 형성한다. 이러한 도트 스페이서(66)는 하부유리기판과 상부유리기판과의 간격을 일정하게 유지하는 역할을 한다. 또한 터치패널(50b)은 유리시이트 및 절연시이트를 서로 합착시키는 접착층(64)과, 전극층간의 절연을 위한 절연층(62)을 구비한다.Referring to FIG. 6, the touch panel 50b is placed on the flat panel display panel 50a. The touch panel 50b is formed of a glass sheet 52 and an insulating sheet 54 having grooves of a constant depth and a constant width in the edge region and embedded in grooves formed on the glass sheet 52 and the insulating sheet 54. Between the first and second electrode layers 58a and 58b, the transparent conductive layers 56a and 56b formed on the glass sheet 52 and the insulating sheet 54, and the glass sheet 52 and the insulating sheet 54. It has the spacer 66 spread out. The second electrode layer 58b is shorted with the first electrode layer 58a when the insulating sheet 54 is pressed by a stylus pen or finger, thereby generating a signal having a current amount or voltage level that varies depending on the pressed position. In this case, the first and second electrode layers 58a and 58b are formed by printing silver Ag on the transparent conductive layers 56a and 56b formed of one of ITO, IZO, and ITZO, which are transparent conductive materials. On the glass sheet 52 on which the first and second electrode layers 58a and 58b are not formed, the dot spacers 66 are formed by heat-softening a projection pattern formed by the photolithography method from the photosensitive resin composition. The dot spacer 66 serves to maintain a constant distance between the lower glass substrate and the upper glass substrate. In addition, the touch panel 50b includes an adhesive layer 64 for bonding the glass sheet and the insulating sheet to each other and an insulating layer 62 for insulation between the electrode layers.

도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치패널의 제조공정을 나타내는 도면으로서, 유리시이트 상에 전극층과 투명전극층의 형성 공정을 설명하기 위한 도면들이다. 7A to 7D are diagrams illustrating a manufacturing process of a touch panel according to a second exemplary embodiment of the present invention, and illustrate a process of forming an electrode layer and a transparent electrode layer on a glass sheet.

터치패널(50b)의 하판으로써 도 7a와 같이 PET 필름으로 이루어진 유리시이트(52)가 마련된다. 이 유리시이트(52)의 가장자리 영역에 전극층(58a)을 매립시키기 위한 일정한 깊이와 일정한 폭의 홈(68)을 형성한다. 이를 위하여, PET 필름은 레이저(Laser) 및 화학 에칭(Chemical Etching)을 이용하여 유리시이트(52) 및 절연시이트(54)에 전극층(58a,58b)이 매립되도록 식각된다. 일정 폭의 홈(68)이 형성되면, 도 7b에서와 같이 소정 두께의 은(Ag)은 홈(68)에 매립되도록 인쇄됨으로써 전극층(58a)이 형성된다. 유리시이트(52) 가장자리의 홈(68)에 전극층(58a)이 형성되면, 투명전도성물질인 ITO, IZO, ITZO들 중 하나로 형성되는 투명전도층(56a)이 유리시이트(52)의 전면에 증착된다. 이와 같은 방법으로, 터치패널(50b)의 상판을 구성하는 절연시이트(54) 상에 홈, 그 홈에 매립되는 전극층(58b), 투명전극층(56b)이 형성된다. As a lower plate of the touch panel 50b, a glass sheet 52 made of a PET film is provided as shown in FIG. 7A. In the edge region of the glass sheet 52, grooves 68 having a constant depth and a width for embedding the electrode layer 58a are formed. To this end, the PET film is etched so that the electrode layers 58a and 58b are embedded in the glass sheet 52 and the insulating sheet 54 using laser and chemical etching. When the grooves 68 having a predetermined width are formed, as shown in FIG. 7B, silver Ag having a predetermined thickness is printed to be embedded in the grooves 68, thereby forming the electrode layer 58a. When the electrode layer 58a is formed in the groove 68 at the edge of the glass sheet 52, a transparent conductive layer 56a formed of one of ITO, IZO, and ITZO, which are transparent conductive materials, is deposited on the entire surface of the glass sheet 52. do. In this manner, a groove, an electrode layer 58b embedded in the groove, and a transparent electrode layer 56b are formed on the insulating sheet 54 constituting the upper plate of the touch panel 50b.

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이와 같이 제조된 상판과 하판을 합착시킴으로써 터치패널(50b)이 완성되는데, 이 경우 터치패널(50b)에서 절연시이트(54)의 압점 위치에 따른 X-Y좌표를 인식하도록 하는 전극층(58a, 58b)을 유리시이트(52) 및 절연시이트(54)의 가장자리 영역에 매립시킴으로써 터치패널(50b)의 두께가 줄어들게 된다.The upper panel and the lower panel manufactured as described above are bonded to each other to complete the touch panel 50b. In this case, the electrode layers 58a and 58b are configured to recognize the XY coordinates according to the pressure point positions of the insulating sheet 54 in the touch panel 50b. The thickness of the touch panel 50b is reduced by filling the edge regions of the glass sheet 52 and the insulating sheet 54.

도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 터치패널을 개략적으로 도시한 도면이다.8 is a diagram schematically illustrating a touch panel according to a third embodiment of the present invention.

도 8을 참조하면, 터치패널(70b)은 평판 디스플레이 패널(70a) 상에 놓이게 된다. 터치패널(70b)은 터치패널의 외관을 형성하는 제1 유리시이트(72a) 및 제1 절연시이트(72b)와, 제1 유리시이트(72a) 및 제1 절연시이트(72b) 상의 전극층(76a,76b) 형성영역을 제외한 영역에만 증착되는 제2 유리시이트(74a) 및 제2 절연시이트(74b)와, 상기 제2 유리시이트(74a) 및 제2 절연시이트(74b)에 의해 형성된 홈에 매립된 제1 및 제2 전극층(76a,76b)과, 제1 유리시이트(72a) 및 제1 절연시이트(72b) 상에 제2 유리시이트(74a) 및 제2 절연시이트(74b)와 제1 및 제2 전극층(76a,76b)을 덮도록 형성된 투명전도층(78a,78b)과, 제1 및 제2 유리시이트(72a,74a)와 제1 및 제2 절연시이트(72b,74b) 사이에 살포되어진 스페이서(82)를 가지게 된다. 제2 전극층(76b)은 제1 절연시이트(72b)가 스타일러스 펜 또는 손가락에 의해 눌려질 때 제1 전극층(76a)과 단락 됨으로써 눌려진 위치에 따라 달라지는 전류량 또는 전압레벨을 가지는 신호가 발생되게 한다. 제1 및 제2 전극층(76a,76b)은 투명전도성물질인 ITO, IZO, ITZO 들 중 하나로 형성되는 투명전도층(78a,78b) 상에 은(Ag)을 인쇄함으로써 형성된다. 제1 및 제2 전극층(76a,76b)이 형성되지 않는 제1 및 제2 유리시이트(72a,74a) 상에는 감광성 수지 조성물로부터 포토리쏘그래피법에 의해 형성된 돌기 형태의 패턴을 가열연화처리하여 도트 스페이서(82)를 형성한다. 이러한 도트 스페이서(82)는 하부유리기판과 상부유리기판과의 간격을 일정하게 유지하는 역할을 한다. 또한 터치패널(70b)은 유리시이트 및 절연시이트를 서로 합착시키기 위한 접착층(80)을 구비한다.Referring to FIG. 8, the touch panel 70b is placed on the flat panel 70a. The touch panel 70b includes a first glass sheet 72a and a first insulating sheet 72b that form an external appearance of the touch panel, and an electrode layer 76a, on the first glass sheet 72a and the first insulating sheet 72b. 76b) A second glass sheet 74a and a second insulating sheet 74b deposited only in a region except the forming region and a groove formed by the second glass sheet 74a and the second insulating sheet 74b are embedded. On the first and second electrode layers 76a and 76b, on the first glass sheet 72a and the first insulating sheet 72b, the second glass sheet 74a and the second insulating sheet 74b and the first and second electrodes are formed. The transparent conductive layers 78a and 78b formed to cover the two electrode layers 76a and 76b, and the first and second glass sheets 72a and 74a and the first and second insulating sheets 72b and 74b. It has a spacer 82. The second electrode layer 76b is shorted with the first electrode layer 76a when the first insulating sheet 72b is pressed by a stylus pen or finger, thereby generating a signal having a current amount or voltage level that varies depending on the pressed position. The first and second electrode layers 76a and 76b are formed by printing silver Ag on the transparent conductive layers 78a and 78b formed of one of ITO, IZO, and ITZO, which are transparent conductive materials. On the first and second glass sheets 72a and 74a where the first and second electrode layers 76a and 76b are not formed, a projection of a projection shape formed by photolithography from the photosensitive resin composition is subjected to heat softening treatment to form a dot spacer. (82) is formed. The dot spacer 82 serves to maintain a constant distance between the lower glass substrate and the upper glass substrate. In addition, the touch panel 70b includes an adhesive layer 80 for bonding the glass sheet and the insulating sheet to each other.

도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 터치패널의 제조공정을 나타내는 도면으로서, 유리시이트 상에 전극층과 투명전극층의 형성 공정을 설명하는 것이다.9A to 9C are diagrams illustrating a manufacturing process of a touch panel according to a third exemplary embodiment of the present invention, illustrating a process of forming an electrode layer and a transparent electrode layer on a glass sheet.

터치패널(70b)의 하판으로써 PET 필름으로 이루어진 제1 유리시이트(72a) 상에 도 9a와 같이 동일 물질의 제2 유리시이트(74a)가 형성된다. 제2 유리시이트(74a)는 터치패널(70b)의 가장자리에 형성되는 전극층(76a) 형성 영역을 제외한 영역에만 형성된다. 제2 유리시이트(74a)가 형성되면 도 9b와 같이 제2 유리시이트(74a)와 제1 유리시이트(72a)의 단차에 의해 형성된 홈에 전극층(76a)을 매립시킨다. 전극층(76a)은 은(Ag)으로 이루어진다. As a lower plate of the touch panel 70b, a second glass sheet 74a of the same material is formed on the first glass sheet 72a made of a PET film as shown in FIG. 9A. The second glass sheet 74a is formed only in a region other than the region in which the electrode layer 76a is formed at the edge of the touch panel 70b. When the second glass sheet 74a is formed, the electrode layer 76a is embedded in the groove formed by the step between the second glass sheet 74a and the first glass sheet 72a as shown in FIG. 9B. The electrode layer 76a is made of silver (Ag).

전극층(76a)이 형성되면, 투명전도성물질인 ITO, IZO, ITZO들 중 하나로 형성되는 투명전도층(78a)이 제2 유리시이트(74a)의 전면에 증착된다. 이와 같은 방법으로 터치패널(70b)의 상판으로 이루어지는 절연시이트(72b,74b) 상에 전극층(76b)과 투명전극층(78b)가 형성된다. When the electrode layer 76a is formed, a transparent conductive layer 78a formed of one of ITO, IZO, and ITZO, which are transparent conductive materials, is deposited on the entire surface of the second glass sheet 74a. In this manner, the electrode layer 76b and the transparent electrode layer 78b are formed on the insulating sheets 72b and 74b formed of the upper plate of the touch panel 70b.

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상기와 같이 제조된 상판과 하판을 합착시킴으로써 터치패널(70b)이 완성되는데, 이 경우 터치패널(70b)에서 절연시이트(72b,74b)의 압점 위치에 따른 X-Y좌표를 인식하도록 하는 전극층(76a, 76b)을 유리시이트(72a,74a) 및 절연시이트(72b,74b)의 가장자리 영역에 매립시킴으로써 터치패널(70b)의 두께가 줄어들게 된다.The touch panel 70b is completed by bonding the upper plate and the lower plate manufactured as described above. In this case, the electrode layers 76a, which allow the touch panel 70b to recognize the XY coordinates according to the pressure point positions of the insulating sheets 72b and 74b, The thickness of the touch panel 70b is reduced by embedding 76b in the edge regions of the glass sheets 72a and 74a and the insulating sheets 72b and 74b.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 터치패널은 터치패널의 상/하판에 형성되는 유리시이트 및 절연시이트 가장자리 영역에 홈을 형성하여 홈에 전극층을 매립시킴으로써 상/하판의 간격을 줄이도록 함으로써 전극층과 근접한 부분의 절연시이트를 누를 경우에 나타나는 투명전극층의 크랙을 방지할 수 있다. 또한 전극층이 매립된 형태가 되도록 유리시이트 및 절연시이트 상에 추가로 PET 필름을 형성하여 유리시이트 및 절연시이트를 식각하지 않고도 상/하판의 간격을 줄임으로써 전극층과 근접한 부분에 있어서 투명전극층의 크랙을 방지할 수 있다.As described above, the touch panel according to the present invention forms grooves in the edge regions of the glass sheet and the insulating sheet formed on the upper / lower plates of the touch panel to fill the grooves in the grooves to reduce the gap between the upper and lower plates. The crack of the transparent electrode layer which appears when the insulating sheet of the adjacent part is pressed can be prevented. In addition, by forming an additional PET film on the glass sheet and the insulating sheet so that the electrode layer is embedded, the gap between the upper and lower plates is reduced without etching the glass sheet and the insulating sheet, thereby preventing cracks in the transparent electrode layer in the vicinity of the electrode layer. You can prevent it.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

도 1은 종래 기술에 따른 터치패널의 구조도.1 is a structural diagram of a touch panel according to the prior art.

도 2는 도 1의 터치패널을 위에서 내려다 본 상태를 나타내는 도면.FIG. 2 is a view illustrating a state where the touch panel of FIG. 1 is viewed from above. FIG.

도 3은 종래기술에 따른 터치패널의 단면을 상세히 나타내는 도면.3 is a view showing in detail the cross section of the touch panel according to the prior art.

도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치패널을 개략적으로 도시한 도면.4 is a schematic view of a touch panel according to a first embodiment of the present invention;

도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치패널의 제조공정을 나타내는 도면.5A to 5D are views illustrating a manufacturing process of the touch panel according to the first embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치패널을 개략적으로 도시한 도면.6 is a schematic view of a touch panel according to a second embodiment of the present invention;

도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치패널의 제조공정을 나타내는 도면.7A to 7D are views illustrating a manufacturing process of a touch panel according to a second embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 터치패널을 개략적으로 도시한 도면.8 is a schematic view of a touch panel according to a third embodiment of the present invention;

도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 터치패널의 제조공정을 나타내는 도면.9A to 9C are views illustrating a manufacturing process of a touch panel according to a third embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10,30a,50a,70a : 평판 디스플레이 패널 12,32,52,72a, : 유리시이트10,30a, 50a, 70a: Flat panel 12,32,52,72a: Glass sheet

14,34,54,72b : 절연시이트 16,36,56,68 : 투명전도층14,34,54,72b: Insulation sheet 16,36,56,68: Transparent conductive layer

18,38,58,76 : 전극층 20,30b,50b,70b : 터치패널18,38,58,76: electrode layer 20,30b, 50b, 70b: touch panel

26,46,66,82 : 도트 스페이서 26,46,66,82: Dot spacer

Claims (14)

각각 가장자리에 홈이 형성된 상부기판 및 하부기판과;Upper and lower substrates each having grooves formed at edges thereof; 상기 상부기판의 홈 내에 매립된 상부전극과;An upper electrode embedded in a groove of the upper substrate; 상기 하부기판의 홈 내에 매립된 하부전극과;A lower electrode embedded in a groove of the lower substrate; 상기 상부기판에 형성되어 상기 상부전극이 통전되게 하는 상부 투명전도층과;An upper transparent conductive layer formed on the upper substrate to allow the upper electrode to be energized; 상기 하부기판에 형성되어 상기 하부전극이 통전되게 하는 하부 투명전도층을 구비하는 것을 특징으로 하는 터치패널.And a lower transparent conductive layer formed on the lower substrate to allow the lower electrode to be energized. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부 투명전도층과 상기 하부 투명전도층 사이에 형성되는 다수의 도트 스페이서를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 터치패널.And a plurality of dot spacers formed between the upper transparent conductive layer and the lower transparent conductive layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상부 투명전도층은 상기 상부기판의 전면 또는 상기 상부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 형성되고, The upper transparent conductive layer is formed on the front surface of the upper substrate or an area excluding the groove from the upper substrate, 상기 하부 투명전도층은 상기 하부기판의 전면 또는 상기 하부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널.The lower transparent conductive layer is formed on a front surface of the lower substrate or a region except the groove on the lower substrate. 제1 상부기판과;A first upper substrate; 상기 제1 상부기판의 가장자리를 제외한 영역에 형성되는 제2 상부기판과;A second upper substrate formed in an area except an edge of the first upper substrate; 상기 제1 상부기판의 가장자리에 형성되는 상부전극과; An upper electrode formed at an edge of the first upper substrate; 제1 하부기판과;A first lower substrate; 상기 제1 하부기판의 가장자리를 제외한 영역에 형성되는 제2 하부기판과;A second lower substrate formed in an area except an edge of the first lower substrate; 상기 제1 하부기판의 가장자리에 형성되는 하부전극과; A lower electrode formed at an edge of the first lower substrate; 상기 제2 상부기판에 형성되어 상기 상부전극이 통전되게 하는 상부 투명전도층과;An upper transparent conductive layer formed on the second upper substrate to allow the upper electrode to be energized; 상기 제2 하부기판에 형성되어 상기 하부전극이 통전되게 하는 하부 투명전도층을 구비하는 것을 특징으로 하는 터치패널.And a lower transparent conductive layer formed on the second lower substrate to allow the lower electrode to be energized. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 상부 투명전도층과 상기 하부 투명전도층 사이에 형성되는 다수의 도트 스페이서를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 터치패널.And a plurality of dot spacers formed between the upper transparent conductive layer and the lower transparent conductive layer. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,The method according to claim 1 or 4, 상기 상부기판과 상기 하부기판을 접착하기 위한 접착층과;An adhesive layer for bonding the upper substrate and the lower substrate; 상기 상부전극과 하부전극의 전기적 절연을 위한 절연층을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 터치패널.And a further insulating layer for electrically insulating the upper electrode and the lower electrode. 상부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; Forming a groove in an edge of the upper substrate; 상기 상부기판의 홈 내에 상부전극을 매립하는 단계와; Embedding an upper electrode in a groove of the upper substrate; 상기 상부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 투명전도성물질을 증착하여 상기 상부전극과 접촉되는 상부 투명전도층을 형성하는 단계와;Depositing a transparent conductive material in an area of the upper substrate except for the groove to form an upper transparent conductive layer in contact with the upper electrode; 하부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; Forming a groove in an edge of the lower substrate; 상기 하부기판의 홈 내에 하부전극을 매립하는 단계와; Burying a lower electrode in a groove of the lower substrate; 상기 하부기판에서 상기 홈을 제외한 영역에 상기 투명전도성물질을 증착하여 상기 하부전극과 접촉되는 하부 투명전도층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And depositing the transparent conductive material in a region other than the groove in the lower substrate to form a lower transparent conductive layer in contact with the lower electrode. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 상부기판과 상기 하부기판의 홈 각각은 레이저 및 화학 에칭 중 어느 하나에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And each of the grooves of the upper substrate and the lower substrate is formed by any one of laser and chemical etching. 상부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; Forming a groove in an edge of the upper substrate; 상기 상부기판의 홈 내에 상부전극을 매립하는 단계와; Embedding an upper electrode in a groove of the upper substrate; 하부기판의 가장자리에 홈을 형성하는 단계와; Forming a groove in an edge of the lower substrate; 상기 하부기판의 홈 내에 하부전극을 매립하는 단계와; Burying a lower electrode in a groove of the lower substrate; 상기 상부기판의 전면에 투명전도성물질을 증착하여 상부 투명전도층을 형성하는 단계와; Depositing a transparent conductive material on the entire surface of the upper substrate to form an upper transparent conductive layer; 상기 하부기판의 전면에 투명전도성물질을 증착하여 하부 투명전도층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And depositing a transparent conductive material on the entire surface of the lower substrate to form a lower transparent conductive layer. 제 9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 상부기판과 상기 하부기판의 홈 각각은 레이저 및 화학 에칭 중 어느 하나에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And each of the grooves of the upper substrate and the lower substrate is formed by any one of laser and chemical etching. 제 7 항 또는 제 9 항에 있어서,The method according to claim 7 or 9, 상기 상부 및 하부기판 사이에 스페이서를 형성하는 단계와,Forming a spacer between the upper and lower substrates; 상기 상부전극과 상기 하부전극 사이의 전기적 절연을 위한 절연층을 형성하는 단계와; Forming an insulating layer for electrical insulation between the upper electrode and the lower electrode; 상기 상부기판과 상기 하부기판을 접착하기 위한 접착층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And forming an adhesive layer for adhering the upper substrate and the lower substrate to each other. 제1 상부기판의 가장자리를 제외한 영역에 제2 상부기판을 형성하는 단계와; Forming a second upper substrate in an area except an edge of the first upper substrate; 상기 제1 상부기판의 가장자리에 상부전극을 형성하는 단계와; Forming an upper electrode on an edge of the first upper substrate; 상기 제2 상부기판에 상기 상부전극이 통전되게 하는 상부 투명전도층을 형성하는 단계와;Forming an upper transparent conductive layer on the second upper substrate to allow the upper electrode to be energized; 제1 하부기판의 가장자리를 제외한 영역에 제2 하부기판을 형성하는 단계와; Forming a second lower substrate in an area except an edge of the first lower substrate; 상기 제1 하부기판의 가장자리에 하부전극을 형성하는 단계와; Forming a lower electrode on an edge of the first lower substrate; 상기 제2 하부기판에 상기 하부전극이 통전되게 하는 하부 투명전도층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And forming a lower transparent conductive layer on the second lower substrate to enable the lower electrode to be energized. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 제2 상부기판 및 제2 하부기판과, 상기 상부전극 및 하부전극은 동일층, 동일 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And the second upper substrate and the second lower substrate, and the upper electrode and the lower electrode are formed in the same layer and the same thickness. 제 12 항에 있어서,The method of claim 12, 상기 상부 투명전도층과 상기 하부 투명전도층 사이에 다수의 도트 스페이서를 형성하는 단계와; Forming a plurality of dot spacers between the upper transparent conductive layer and the lower transparent conductive layer; 상기 상부전극과 상기 하부전극 사이의 전기적 절연을 위한 절연층을 형성하는 단계와; Forming an insulating layer for electrical insulation between the upper electrode and the lower electrode; 상기 상부기판과 상기 하부기판을 접착하기 위한 접착층을 형성하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 제조방법.And forming an adhesive layer for adhering the upper substrate and the lower substrate to each other.
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