KR100462188B1 - Mass-producible, Multi-perpose Plate-to-Plate Type Plasma Reactor Using Thin Ceramic Plates and Fabricating Method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 디젤입자상물질 및 질소산화물을 제거하거나 또는 공기정화 및 살균에 필요한 오존을 발생시키는 정화장치의 핵심요소인 플라즈마 반응기에 관한 것으로, 공기정화 및 살균을 위한 오존발생에 효과가 있는 세라믹 박판을 이용하는 세라믹 평판전극의 간극 조절, 조립 및 해체가 간편하여 유지 및 보수관리가 용이하고 양산성을 갖춘 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기 및 그 제조 방법을 제공함에 있다.The present invention relates to a plasma reactor which is a key element of a purification device that removes diesel particulate matter and nitrogen oxides or generates ozone for air purification and sterilization. The present invention relates to a ceramic sheet having an effect on ozone generation for air purification and sterilization. The present invention provides a mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using a ceramic thin plate having easy mass maintenance, easy to maintain and repair, and easy to adjust, assemble and dismantle the ceramic plate electrode to be used, and a method of manufacturing the same.

이를 실현하기 위한 본 발명은 플라즈마 발생을 위해 사용되는 평판형 다층 플라즈마 반응기에 있어서, 일측 표면에 금속페이스트가 도포 소성되어 전극(120)을 형성하고, 일단부는 상기 전극(120)과 접하는 통전 결합공(130), 다른 일단부는 상기 전극(120)과 접하지 않는 비통전 결합공(140)이 구비된 세라믹 박판부재(110) 2개를 상기 전극(120)이 접하도록 마주 결합하여 이루어지며, 인접하는 것끼리 소정의 간극을 가지며 전극방향이 엇갈리도록 교호로 적층 배열되는 다수의 세라믹 평판전극(100); 상기 교호로 적층 배열된 세라믹 평판전극(100) 사이에 구비되어 상기 전극사이의 간극을 조절하며, 유해가스가 흐르는 통로를 형성하기 위한 스페이서(300); 상기 다수의 세라믹 평판전극(100)과 스페이서(300)를 배열 조립하고 외부전극 기능을 갖는 전극 나사봉(500); 을 포함하여 구성되고, 전원 공급에 의하여 상기 전극을 통해 플라즈마 방전을 일으키도록 구성됨을 특징으로 한다.In the present invention for realizing this, in the flat plate type multi-layer plasma reactor used for plasma generation, a metal paste is coated and fired on one surface to form an electrode 120, and one end of the conductive coupling hole is in contact with the electrode 120. 130, the other end portion is formed by coupling two ceramic thin plate members 110 provided with non-conductive coupling holes 140 not in contact with the electrode 120 so that the electrodes 120 are in contact with each other. A plurality of ceramic plate electrodes 100 which are alternately stacked so as to have a predetermined gap therebetween so that the electrode directions are staggered; A spacer 300 disposed between the alternating ceramic plate electrodes 100 to adjust the gap between the electrodes and to form a passage through which harmful gas flows; An electrode screw rod 500 that assembles the plurality of ceramic plate electrodes 100 and the spacer 300 and has an external electrode function; It is configured to include, characterized in that configured to cause a plasma discharge through the electrode by the power supply.

Description

세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기 및 그 제조 방법{Mass-producible, Multi-perpose Plate-to-Plate Type Plasma Reactor Using Thin Ceramic Plates and Fabricating Method thereof}Mass-producible, Multi-perpose Plate-to-Plate Type Plasma Reactor Using Thin Ceramic Plates and Fabricating Method

본 발명은 차량 배출가스의 처리 그리고 공기정화 및 살균을 위한 오존발생에 사용되는 플라즈마 발생장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플라즈마를 사용하는 배출가스 후처리 기술의 핵심이며, 산업/가정용 공기 정화기 및 살균용 오존발생 장치의 주요 부품인 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma generating apparatus used for the treatment of vehicle exhaust gas and ozone generation for air purification and sterilization, and more particularly, the core of exhaust gas aftertreatment technology using plasma, and for industrial / home air purifier and The present invention relates to a mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using a ceramic thin plate which is a main component of a sterilizing ozone generating device, and a manufacturing method thereof.

일반적으로 고체, 액체, 기체에 이어 물질의 제4의 상태라고 불리는 플라즈마는 음극과 양극으로 이루어진 전극 양단에 전류를 흘려 방전을 발생시킬 수 있으며, 전자 및 이온, 라디칼로 구성되어 이들의 화학작용으로 환경오염물질의 분해 및 산화작용에 이용되고 잇다.Plasma, generally called the fourth state of matter, followed by solids, liquids, and gases, can generate a discharge by flowing an electric current across an electrode composed of a cathode and an anode, and is composed of electrons, ions, and radicals. It is used for the decomposition and oxidation of environmental pollutants.

이러한 플라즈마를 이용하는 환경정화 기술은 플랜트에서 배출되는 NOx, SOx의 제거 수단으로 1980년대 초부터 미국, 일본, 러시아, 이태리 등지에서 기존의 배출가스 후처리 정화정치보다 낮은 설치비, 2차 오염의 억제, 악취 및 유해유기물의 제거 등의 장점 때문에 활발히 연구되어 현재 실용화 단계에 있으며, 집진기와 탈취장치, 표면 개질, 오수처리, 공기정화기, 오존발생기 등에 실제로 응용되고 있는 기술이다.The environmental purification technology using plasma is a means of removing NOx and SOx emitted from the plant. Since the early 1980s, the US, Japan, Russia, Italy, etc. have lower installation costs, lower secondary pollution, Due to the advantages such as the removal of odors and harmful organics, it has been actively studied and is currently in practical use, and it is actually applied to dust collector, deodorizer, surface modification, sewage treatment, air purifier and ozone generator.

최근 플라즈마는 전술된 장점을 바탕으로 PDP TV나 자동차의 오염 배출물 저감장치에 활발하게 응용되고 있다.Recently, plasma has been actively applied to the pollution emission reduction device of a PDP TV or an automobile based on the above-mentioned advantages.

전술된 응용분야에서 플라즈마를 안정적으로 운용하기 위해서는 표 1과 같은 플라즈마 반응기의 요구조건이 해결되어야 한다.In order to operate the plasma stably in the above-described applications, the requirements of the plasma reactor as shown in Table 1 must be solved.

[표 1]TABLE 1

본 발명과 관계되는 판대판형(板對板刑) 플라즈마 반응기에 대한 개념은 공지의 기술이나 상술된 요구조건을 만족시키기 위한 세부적인 기술 및 구현방법에 따라 매우 다양하게 파생될 수 있다.The concept of a plate-to-plate plasma reactor related to the present invention can be derived in various ways according to the known technology or the detailed technology and implementation method for satisfying the above-mentioned requirements.

본 발명과 관련된 국내외 선행 기술을 살펴보면 다음과 같다.Looking at the domestic and foreign prior art related to the present invention.

미국 'Delphi'사가 판대판형 플라즈마 반응기를 자동차용 배출가스 후처리 정화정치에 적용하였으며 특허를 통하여 판대판형 플라즈마 반응기의 전극부 제작에 관련된 부분을 소개하였다. 그러나 소요 에너지, 내구성 및 성능면에서 아직도 많은 숙제를 가지고 있다.The American company 'Pelphi' applied the plate-type plasma reactor to the exhaust gas post-treatment purification politics for automobiles. However, they still have a lot of homework in terms of energy requirements, durability and performance.

또한 종래 기술의 엔진배기가스 후처리 정화정치로서 '평판형 다층 저온 플라즈마 반응기를 이용한 유해가스 처리장치(등록번호 20 - 0274616)'가 개시되어 있다.In addition, a 'hazardous gas treatment apparatus using a flat plate multilayer low temperature plasma reactor (Registration No. 20-0274616)' has been disclosed as a prior art purification of engine exhaust gas aftertreatment.

상기 선행기술은 도 5에서 보는 바와 같이, 정방형 또는 장방형의 덕트(40)가 "ㄱ"자 형상으로 구성되어 상기 덕트(40)의 상부에 가스유입구(41)와, 상기 가스유입구(41)의 후면에 설치되어 있으며 유입된 가스를 여과하는 에어필터(또는 집진장치)(42)와, 상기 에어필터(또는 집진장치)(42)의 후면에 설치되고 상기 에어필터(또는 집진장치)(42)에서 여과된 가스를 흡입하는 흡기팬 또는 흡기구(43)와, 상기 흡기팬 또는 흡기구(43)의 후단에는 굴곡된 파이프나 덕트의 하부에 위치되어 있고 플라즈마를 발생시키며 방전 교류전원 공급장치가 부착된 저온 플라즈마 반응기(10)와, 상기 저온 플라즈마 반응기(10)하부에 형성된 금속필터(44)와, 상기 금속필터(60)의 하부에 형성된 복수 개의 카트리지 형상의 촉매반응기(70)와, 상기 촉매반응기(70) 하부에 형성된 유입팬 또는 급기팬(80)과, 상기 유입팬 또는 급기팬(80) 일측면에 형성되어 가스를 배출하는 가스배출구(81)로 구성된 평판형 다층 저온 플라즈마 반응기를 이용한 유해가스 처리장치가 개시되어 있다.The prior art, as shown in Figure 5, the square or rectangular duct 40 is configured in the "b" shape of the gas inlet 41 and the upper portion of the duct 40, the gas inlet 41 An air filter (or dust collector) 42 installed at the rear side and filtering the gas introduced therein, and the air filter (or dust collector) 42 installed at the rear side of the air filter (or dust collector) 42. Intake fan or intake port 43 for sucking the gas filtered at the lower end of the intake fan or intake port 43, located in the lower portion of the bent pipe or duct and generates a plasma, the low-temperature plasma attached to the discharge AC power supply A reactor 10, a metal filter 44 formed under the low temperature plasma reactor 10, a plurality of cartridge-shaped catalyst reactors 70 formed below the metal filter 60, and the catalyst reactor 70. Inlet fan formed at the bottom There are noxious gas treatment apparatus using the air supply fan 80 and the inlet fan or the air supply fan (80), one formed on the side of the plate-like multi-layer low temperature plasma reactor consisting of a gas outlet 81 for discharging a gas is disclosed.

이와 같은 유해가스 처리장치에 사용되는 종래기술의 상기 플라즈마 반응기(10)는 도 6에 그 구성도가 도시된 바와 같이, 전기적 절연성 및 유전성을 동시에 갖는 세라믹 재질의 비전도성 평판(11a)과, 상기 세라믹 재질의 비전도성 평판(11a) 일측에 마련된 삽입구를 통하여 삽입된 전도성 재질의 금속 박판(11b)으로 구성된 세라믹 평판전극(11)을 다수 배열하여 구성되어 있다.The plasma reactor 10 of the related art used in such a noxious gas treatment device is a non-conductive plate 11a of ceramic material having electrical insulation and dielectric properties as shown in FIG. A plurality of ceramic plate electrodes 11 made of a metal thin plate 11b of a conductive material inserted through an insertion hole provided on one side of the nonconductive plate 11a made of ceramic material are arranged.

상기 세라믹 평판전극(11)은 인접하는 그것과 전극판 삽입구가 서로 반대방향으로 엇갈리게 배열되며 동일방향으로 배열된 각 전도성 재질의 금속 박판(11b)의 돌출부는 방전 교류 전원장치(50)의 일측 단자에 동일하게 병렬 접속되는 구조를 갖으며, 상기 교호로 배열되는 세라믹 평판전극(11) 사이에는 유해가스가 흐르는 공간을 형성하는 스페이서(12)가 구비된다.The ceramic plate electrodes 11 are adjacent to each other and the electrode plate insertion holes are alternately arranged in opposite directions, and the protrusions of the metal thin plates 11b of each conductive material arranged in the same direction are one terminal of the discharge AC power supply 50. The spacers 12 have a structure connected in parallel to each other, and have a space in which noxious gas flows between the ceramic plate electrodes 11 arranged alternately.

그러나, 상기 종래 기술의 플라즈마 반응기(10)는 기본적으로 세라믹 박판을 이용하고 있으나, 반응기(10)의 핵심부분인 평판전극(11)의 구성, 전극과 전극사이의 간극을 형성하는 구성 그리고 플라즈마 반응기의 운전영역 등에서 개념적인 제시에 불과하여 실제 구체적인 실시예를 수반하고 있지 못하고 있다.However, although the plasma reactor 10 of the related art basically uses a ceramic thin plate, the structure of the plate electrode 11 which is a core part of the reactor 10, the structure of forming a gap between the electrode and the electrode, and the plasma reactor It is merely a conceptual presentation in the driving area of the present invention and does not involve actual concrete embodiments.

또한, 도 6에서 보듯이, 상기 종래의 세라믹 평판전극은 0.1- 2 mm 두께의 비전도성 세라믹평판(11a) 내에 금속박판(11b)이 고온에서 용융되어 만들어지며, 유해가스가 흐르는 공간을 제공하기 위한 스페이서(12)는 상기 세라믹 평판전극(11)들과 추가 열처리에 의해 접합되는 구조로 이루어지므로 제조 공정이 복잡하고, 갭의 두께가 플라즈마 반응기의 효능을 전적으로 좌우하게 되는데 반해, 상기 종래기술의 경우에는 일단 반응기가 완성되면 추후 갭의 두께를 조절할 수 없게 되어 플라즈마 반응기의 효능을 떨어뜨릴 수 있고, 유지 및 보수에는 많은 어려움이 있었다.In addition, as shown in FIG. 6, the conventional ceramic plate electrode is made by melting the metal plate 11b at a high temperature in the non-conductive ceramic plate 11a having a thickness of 0.1-2 mm to provide a space for harmful gas flow. Since the spacer 12 is formed of a structure in which the ceramic plate electrodes 11 are bonded to each other by additional heat treatment, the manufacturing process is complicated, and the thickness of the gap entirely depends on the efficacy of the plasma reactor. In this case, once the reactor is completed, the thickness of the gap cannot be adjusted later, thereby decreasing the efficiency of the plasma reactor, and there are many difficulties in maintenance and repair.

아울러, 상기 목적을 충족시키기 위해서, 플라즈마 반응기는 지속적이고 안정적이며 원하는 강도의 플라즈마를 발생시켜야 할 뿐만 아니라 반응기의 내구성 역시 확보되어야 하나, 종래 반응기는 그러하지 못하였다.In addition, in order to meet the above object, the plasma reactor must not only generate a plasma of continuous, stable and desired intensity, but also ensure the durability of the reactor, but the conventional reactor did not.

이와 같은 상기 종래 기술의 단점을 보완하고, 제조의 용이성을 겸비하며 유지 보수도 비교적 수월하게 하기 위하여 본 출원인은 '세라믹 박판을 사용한 판대판형 플라즈마 반응기 및 그 제조방법(출원번호 : 10-2002-0033761)'을 기출원한 바 있다.In order to compensate for the above disadvantages of the prior art, and to combine the ease of manufacture and relatively easy maintenance, the present applicant has described a 'plate-type plasma reactor using a ceramic thin plate and a manufacturing method thereof (application number: 10-2002-0033761). I've filed a petition.

그러나 상기 발명 역시 대량생산을 하기에는 제작 공정의 복잡성, 고정밀을 요구하는 측면 슬라이딩 가이드의 가공, 세라믹 박판 전극을 지지하기 위한 스프링 가공의 정밀도 등에서 여러 가지 해결해야할 문제점을 가지고 있었다.However, the present invention also has a number of problems to be solved in the complexity of the manufacturing process, the processing of the side sliding guide requiring high precision, the precision of the spring processing to support the thin ceramic electrode.

본 발명은 이상의 종래기술의 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로서,The present invention has been made to solve the above problems of the prior art,

본 발명의 목적은, 디젤입자상물질 및 질소산화물을 제거하거나 또는 공기정화 및 살균에 필요한 오존을 발생시키는 정화장치의 핵심요소인 플라즈마 반응기에 있어서,An object of the present invention is to provide a plasma reactor which is a key element of a purification apparatus for removing diesel particulate matter and nitrogen oxides or generating ozone for air purification and sterilization.

공기정화 및 살균을 위한 오존발생에 효과가 있는 세라믹 박판을 이용하는 세라믹 평판전극의 간극 조절이 용이하고, 조립 및 해체가 간편하여 유지 및 보수관리가 용이하고 양산성을 갖춘 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기 및 그 제조 방법을 제공함에 있다.It is easy to control the gap of ceramic flat electrode using ceramic thin plate which is effective in ozone generation for air purification and sterilization, and it is easy to assemble and dismantle for easy maintenance and repair management. The present invention provides a plate-to-plate plasma reactor and a method of manufacturing the same.

도 1은 본 발명에 따른 세라믹 박판을 사용한 판대판형 플라즈마 반응기의 개념도1 is a conceptual diagram of a plate-to-plate plasma reactor using a ceramic thin plate according to the present invention

도 2는 본 발명에 따른 세라믹 평판전극의 구성을 보이는 분해도Figure 2 is an exploded view showing the configuration of a ceramic plate electrode according to the present invention

도 3은 본 발명에 따른 일 실시예의 플라즈마 반응기 내부에 형성된 플라즈마의 실제 모습을 보이는 사진Figure 3 is a photograph showing the actual appearance of the plasma formed inside the plasma reactor of an embodiment according to the present invention

도 4는 본 발명에 따른 플라즈마 반응기의 제조 방법의 각 단계를 나타내는 흐름도.4 is a flow chart showing each step of the method of manufacturing a plasma reactor according to the present invention.

도 5는 종래 기술의 플라즈마 반응기를 이용한 유해가스 처리장치의 개략도.5 is a schematic view of a harmful gas treatment apparatus using a plasma reactor of the prior art.

도 6은 도 5의 평판형 다층 저온 플라즈마 반응기의 상세도.FIG. 6 is a detailed view of the planar multilayer low temperature plasma reactor of FIG. 5. FIG.

** 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 **** Explanation of symbols for main parts of drawings **

1: 본 발명에 따른 플라즈마 반응기1: plasma reactor according to the present invention

100: 세라믹 평판전극 110: 세라믹 박판부재100: ceramic plate electrode 110: ceramic thin plate member

120: 전극 130: 통전 결합공120: electrode 130: energized coupling hole

140: 비통전 결합공 150: 대공140: non-electric coupling hole 150: large air

160: 소공 210: 웨이브 와셔160: small hole 210: wave washer

230: 금속부싱 240: 세라믹 부싱230: metal bushing 240: ceramic bushing

300: 스페이서 400: 플라즈마 영역300: spacer 400: plasma region

500: 전극 나사봉 700: 세라믹 애자500: electrode screw rod 700: ceramic insulator

900: 전원장치900: power supply

상기한 목적을 달성하는 본 발명에 따른 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기는,Mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using a ceramic thin plate according to the present invention for achieving the above object,

플라즈마 발생을 위해 사용되는 평판형 다층 플라즈마 반응기에 있어서,In the planar multilayer plasma reactor used for plasma generation,

일측 표면에 금속페이스트가 도포 소성되어 전극을 형성하고, 일단부는 상기 전극과 접하는 통전 결합공, 다른 일단부는 상기 전극과 접하지 않는 비통전 결합공이 구비된 세라믹 박판부재 2개를 상기 전극이 접하도록 마주 결합하여 이루어지며, 인접하는 것 끼리 소정의 간극을 가지며 전극방향이 엇갈리도록 교호로 적층 배열되는 다수의 세라믹 평판전극;Metal paste is coated on one surface to form an electrode, one end of which is in contact with the electrode, and one end of which is in contact with the ceramic thin plate member having two non-conductive joining holes not in contact with the electrode. A plurality of ceramic plate electrodes which are coupled to each other and are adjacently stacked with each other having a predetermined gap and alternately arranged in such a manner that electrode directions are staggered;

상기 교호로 적층 배열된 세라믹 평판전극 사이에 구비되어 상기 전극사이의 간극을 조절하며, 유해가스가 흐르는 통로를 형성하기 위한 스페이서;A spacer disposed between the alternating ceramic plate electrodes to control a gap between the electrodes and to form a passage through which noxious gas flows;

상기 다수의 세라믹 평판전극과 스페이서를 배열 조립하고 외부전극 기능을 갖는 전극 나사봉;을 포함하여 구성되고, 전원 공급에 의하여 상기 전극을 통해 플라즈마 방전을 일으키도록 구성됨을 특징으로 한다.And a plurality of ceramic plate electrodes and spacers arranged in an array and having an external electrode function. An electrode screw rod may be configured to cause plasma discharge through the electrode by power supply.

상기한 목적을 달성하는 본 발명에 따른 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기의 제조 방법은,Method for producing a mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using a ceramic thin plate according to the present invention for achieving the above object,

양측 단부에 결합공이 형성된 세라믹 박판(110)의 한쪽면을 마스킹하는단계(S1);Masking one surface of the ceramic thin plate 110 in which coupling holes are formed at both ends (S1);

상기 세라믹 박판의 마스킹된 면의 양측에 형성된 결합공 중 일측 결합공에만 접하도록 금속 폐이스트를 도포하고 마스크를 제거한 후 고온 소성하여 전극(120)을 형성하는 단계(S2):Step (S2) of forming a electrode 120 by applying a metal waste yeast so as to contact only one of the coupling holes formed on both sides of the masked surface of the ceramic thin plate, removing the mask and firing at high temperature (S2):

상기 전극이 형성된 세라믹 박판(110)을 전극 표면이 마주보는 방향으로 겹치고 세라믹 페이스트로 접착하는 단계(S3):Bonding the ceramic thin plate 110 on which the electrodes are formed in a direction in which the electrode surfaces face each other and bonding the ceramic thin plates 110 with a ceramic paste (S3):

상기 접착된 두장의 세라믹 박판을 고온 소성하여 세라믹 평판전극을 형성하는 단계(S4):Baking the bonded two sheets of ceramic sheet at high temperature to form a ceramic plate electrode (S4):

상기 세라믹 평판전극의 전극과 접하는 통전 결합공에 금속부싱을, 전극과 접하지 않는 비통전 결합공에 세라믹 부싱을 삽입하는 단계(S5);Inserting a metal bushing into a conductive coupling hole in contact with an electrode of the ceramic plate electrode and inserting the ceramic bushing into a non-conductive coupling hole not in contact with the electrode (S5);

두 개의 전극 나사봉에 상기 세라믹 평판전극의 전극방향을 교호로하여, 층간에는 내열 매트로 이루어진 스페이서를 끼우며 적층 배열 조립하는 단계(S6):를 포함하여 이루어짐을 특징으로 한다.The electrode direction of the ceramic plate electrode to the two electrode screw rods alternately, sandwiching the spacer made of a heat-resistant mat between the layers and assembling the laminated arrangement (S6) characterized in that it comprises a.

이하, 본 발명의 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기에 대한 일 실시예를 첨부도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings an embodiment of a mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using a ceramic thin plate of the present invention will be described in more detail.

도 1은 본 발명에 따른 세라믹 박판을 사용한 판대판형 플라즈마 반응기(1)의 구성을 보이는 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing the configuration of a plate-to-plate plasma reactor 1 using a ceramic thin plate according to the present invention.

본 발명의 세라믹 박판을 사용한 판대판형 플라즈마 반응기(1)는 용도에 따라 저주파 대역에서부터 고주파 대역까지 사용이 가능하며 도 1에 도시된 바와 같이, 세라믹 박판부재(110) 사이에 금속 페이스트(paste)를 도포하고 소성하여 만든 전극부(120)를 형성하여 된 다수의 세라믹 평판전극(100), 상기 다수의 세라믹 평판전극(100)을 연결해 주는 동시에 외부로의 전극 역할을 하는 전극 나사봉(500), 세라믹 평판전극(100) 사이의 간극을 유지하기 위해 불연성 매트(mat)로 이루어지는 스페이서(spacer)(300), 절연 체결을 위한 세라믹 애자(700), 전극(120)의 통전 밀착과 절연 체결을 위한 와셔, 금속 부싱(230))과 세라믹 부싱(240), 그리고 전원장치(900) 등으로 구성된다.The plate-type plasma reactor 1 using the ceramic thin plate of the present invention can be used from a low frequency band to a high frequency band according to a use, and as shown in FIG. 1, a metal paste is formed between the ceramic thin plate members 110. A plurality of ceramic plate electrodes 100 formed by coating and firing electrode portions 120, electrode screw rods 500 that connect the plurality of ceramic plate electrodes 100 and serve as electrodes to the outside; In order to maintain a gap between the ceramic plate electrodes 100, a spacer 300 made of a non-combustible mat, a ceramic insulator 700 for insulating fastening, and an electrical close contact and insulating fastening of the electrode 120. A washer, a metal bushing 230), a ceramic bushing 240, and a power supply 900.

도 2는 본 발명의 세라믹 평판전극(100)을 형성하는, 세라믹 박판부재(110)에 금속 페이스트(paste)를 도포하고 소성하여 전극(120)을 만든 상태의 세라믹 박판부재 1(111)과 세라믹 박판부재 2(113)의 구성을 보이는 상세도이다.FIG. 2 shows a ceramic thin plate member 1 (111) and ceramic in a state in which an electrode 120 is formed by applying and baking a metal paste to the ceramic thin plate member 110 forming the ceramic plate electrode 100 of the present invention. It is a detailed view which shows the structure of the thin plate member 2113.

상기 세라믹 평판전극(100)은 도 2에 도시된 바와 같이, 좌우에 구비되는 상기 통전 결합공(130)과 비통전 결합공(140)이 각각 상기 전극 나사봉(120)만 끼워지는 소공(160)과 부싱이 끼워지는 대공(150)으로 크기가 서로 다르게 구성되고, 통전 결합공(130)측이 대공으로 형성되는 세라믹 박판부재 1(111)과, 비통전 결합공(140)이 대공(150)으로 형성되는 세라믹 박판부재 2(113)로 구성되며, 이와 같은 세라믹 박판부재 1과 세라믹 박판부재 2를 상기 전극(120)이 접하도록 마주 결합하여 이루어져도 무방하다.As shown in FIG. 2, the ceramic plate electrode 100 has small holes 160 into which the conductive coupling holes 130 and the non-conductive coupling holes 140 provided at left and right sides thereof respectively fit only the electrode screw rod 120. ) And the bushing is fitted into the hole 150, the size is different from each other, and the ceramic plate member 1 (111) and the non-conductive coupling hole 140 is formed with a large hole on the side of the conductive coupling hole 130, the large hole 150 It is composed of a ceramic thin plate member 2 (113) formed of a), may be made by combining the ceramic thin plate member 1 and the ceramic thin plate member 2 so that the electrode 120 is in contact with each other.

이와 같은 세라믹 평판전극에 전원장치(900)를 통하여 교류 혹은 직류펄스의 전원을 공급하여 플라즈마를 발생시키며, 필요에 따라 세라믹 평판전극(100)을 다수 적층하여 반응기의 전체 모습은 다층구조를 형성할 수 있다.The plasma is generated by supplying alternating current or direct current pulse power to the ceramic plate electrode through the power supply device 900. The ceramic plate electrode 100 may be laminated as needed to form a multilayer structure. Can be.

상기 전극 나사봉(500)은 금속 전도체로 이루어짐으로 세라믹 평판전극(100)과 접촉하여 플라즈마 반응기에 외부전원 공급시 필요한 외부전극을 형성하게 된다. 뿐만아니라 나사봉 형태로 이루어짐으로 세라믹 평판전극(100)의 적충 배열을 용이하게 하고 세라믹 평판전극의 적층수를 조정하여 전체반응기의 규모를 결정할 수 있다.The electrode screw rod 500 is made of a metal conductor to contact the ceramic plate electrode 100 to form an external electrode required for supplying external power to the plasma reactor. In addition, since it is made of a screw rod shape, it is possible to facilitate the stacking of the ceramic plate electrodes 100 and to adjust the number of stacks of the ceramic plate electrodes to determine the size of the entire reactor.

상기 세라믹 평판전극(100)에는 전극 나사봉(120)과의 통전 밀착 및 절연을 위하여 그 결합부에는 와셔와 부싱이 부여되되, 상기 통전 결합공(130)의 대공(150)에는 황동 등으로 이루어진 전도성 금속부싱(230)이, 상기 비통전 결합공(140)의 대공에는 세라믹 부싱(240)이 삽입 조립되며, 상기 와셔(210)는 탄력조정이 가능한 웨이브 와셔를 이용함이 바람직하다.The ceramic plate electrode 100 is provided with a washer and a bushing to the coupling portion for close contact and insulation with the electrode screw rod 120, the hole 150 of the conductive coupling hole 130 is made of brass, etc. The conductive metal bushing 230, the ceramic bushing 240 is inserted into the hole of the non-conductive coupling hole 140, the washer 210 is preferably used to adjust the elastic wave washer.

다층으로 적층 조립된 플라즈마 반응기에 전원을 공급하면 상기 세라믹 평판전극 사이에서 플라즈마 현상이 일어나는데 정화처리 대상가스는 상기 스페이서(300)가 형성하는 공간인 플라즈마 영역(400)을 통과하면서 원하는 형태로 변화하게 된다.When power is supplied to the multilayer reactor assembled with multilayers, a plasma phenomenon occurs between the ceramic plate electrodes. The target gas is changed into a desired shape while passing through the plasma region 400, which is a space formed by the spacer 300. do.

또한 각 층별로 음극과 양극이 엇갈리도록 교호로 위치하게 되는데 이에따라 전선의 배선구조도 조금씩 달라질 수 있다. 서로 마주보고 있는 전극(120)들 사이의 거리와 세라믹 박판부재(110)의 두께는 플라즈마의 안정성, 입력 전력, 주파수 및 장치용도 등에 따라 0.1 mm에서 수 mm까지 변화할 수 있으며, 이때 판의 간극은 스페이서(300)의 압축률에 의해 유지된다.In addition, the cathode and the anode are alternately positioned in each layer, and accordingly, the wiring structure of the wire may be slightly changed. The distance between the electrodes 120 facing each other and the thickness of the ceramic thin plate member 110 may vary from 0.1 mm to several mm depending on the stability of the plasma, input power, frequency, and device use. Is maintained by the compression rate of the spacer 300.

상기 부싱 결합부에는 밀착 및 풀림방지를 위한 웨이브 와셔(210)가 구비되며, 또한 절연 체결을 위해 전극 나사봉(500)의 양단부에는 세라믹 애자(700)가 체결된다.The bushing coupling part is provided with a wave washer 210 for close contact and anti-loosening, and a ceramic insulator 700 is fastened to both ends of the electrode screw rod 500 for insulation fastening.

상기 세라믹 평판전극(100)의 전극나사봉(500)과의 결합구조, 즉, 양측에 형성되는 결합공(130)(140)의 구성, 부싱(230)(240), 와셔 등과의 결합구조는 상기 실시예 외에도 다양하게 구성될 수 있다.The coupling structure of the ceramic plate electrode 100 with the electrode screw rod 500, that is, the configuration of the coupling holes 130, 140 formed on both sides, the coupling structure of the bushing 230, 240, washer, etc. In addition to the above embodiment may be configured in various ways.

전극 적층시 플라즈마 반응기 내부에서 발생하는 아크(arc)를 방지하기 위해서는 세라믹 박판위에 도포되는 금속 페이스트의 면적 및 도포 두께가 중요 변수가 되는데, 이는 사용전압, 세라믹 박판의 두께, 세라믹 박판사이의 간극 및 주파수에 따라서 다양하게 변화될 수 있다.In order to prevent arcs generated inside the plasma reactor during electrode stacking, the area and the coating thickness of the metal paste applied on the ceramic thin plate are important variables, such as the voltage used, the thickness of the ceramic thin plate, the gap between the ceramic thin plates, It can vary depending on the frequency.

도 3은 본 발명의 세라믹 평판전극(100)을 이용한 판대판형 플라즈마 반응기를 사용하여 발생된 플라즈마를 나타내고 있다. 원통형 외부 구조안에 반응기를 위치시켰으며, 밝게 보이는 부분이 플라즈마 영역이고 진하게 보이는 부분이 전극부이다.3 shows a plasma generated using a plate-type plasma reactor using the ceramic plate electrode 100 of the present invention. The reactor was placed in a cylindrical outer structure, the brighter part being the plasma area and the darker part being the electrode part.

본 발명의 작용효과는 다음의 실시예에 의하여 더욱 명확해질 것이다.The effects of the present invention will be further clarified by the following examples.

<실시예 1><Example 1>

본 발명의 실시예 중의 하나로서, 디젤엔진의 배출가스를 판대판형 플라즈마 반응기로 처리하여 NO에서 NO2로의 변환을 측정하였다. 상기 변환이 갖는 중요 의미는 본 발명을 이용한 디젤 후처리 시스템을 발명할 경우 PM중의 'soot' 성분은 NO2와 활발히 반응하여 제거되고 또한 본 출원인이 기 개발한 NOx제거 촉매도 NO2에 활성을 갖기 때문이다. 따라서 배출가스에 포함된 NO의 가능한 많은 양을 NO2로 변환하는 것이 플라즈마 반응기의 중요 역할이다.In one embodiment of the present invention, the exhaust gas of the diesel engine was treated with a plate-type plasma reactor to measure the conversion of NO to NO 2. The significance of the conversion is that when inventing the diesel aftertreatment system using the present invention, the 'soot' component in the PM is actively reacted with NO2 and removed, and the NOx removal catalyst developed by the present applicant also has NO2 activity. to be. Therefore, converting as much of the NO contained in the exhaust gas into NO 2 is an important role of the plasma reactor.

실험대상 엔진은 현대자동차 산타페의 'common-rail'형 직접분사식 디젤(2.0L) 엔진으로, 다양한 운전조건에서 실험을 수행하였으며 결과를 표 2에 도시하였다. 엔진속도가 빨라질수록 배출가스의 유량도 증가하고 따라서 플라즈마 반응기 단위 체적당 처리해야할 유량도 많아져서 NO2로의 변환효율이 감소함을 알 수 있다. 즉, 단위 유량당 공급되는 에너지밀도가 감소하기 때문에 변환효율이 다소 감소하지만 전체 운전영역에서 비교적 높고 고른 변환 효율을 보이고 있다.The engine to be tested is Hyundai Motor's 'common-rail' type direct injection diesel (2.0L) engine, which was tested under various operating conditions and the results are shown in Table 2. As the engine speed increases, the flow rate of the exhaust gas increases, and thus, the flow rate to be processed per unit volume of the plasma reactor increases, so that the conversion efficiency to NO2 decreases. That is, the conversion efficiency decreases slightly because the energy density supplied per unit flow rate decreases, but the conversion efficiency is relatively high and even in the entire operating range.

본 실험에서 사용된 플라즈마 반응기의 사양은 다음과 같다. 세라믹 박판의 크기는 34x170mm이고 두께는 1mm, 전극간의 간격은 1.5mm 이며 25층으로 적층하였다. 사용전원은 4kV 교류, 전류는 150mA 따라서 공급전원은 600W이고 이때 사용주파수는 250Hz이다.The specifications of the plasma reactor used in this experiment are as follows. The ceramic thin plate had a size of 34x170mm, a thickness of 1mm, and an electrode gap of 1.5mm, and was laminated in 25 layers. The power supply is 4kV AC, the current is 150mA, so the power supply is 600W and the frequency is 250Hz.

표 2는 본 발명의 판대판형 플라즈마 발생기를 사용하여 저주파 영역대에서 디젤 배출가스를 처리한 결과이다.Table 2 shows the results of treating the diesel exhaust gas in the low frequency region using the plate-type plasma generator of the present invention.

[표 2]TABLE 2

<실시예 2><Example 2>

본 발명의 또 다른 실시예로써, 실시예 1과 동일한 운전조건이나 플라즈마 반응기를 고주파 영역에서 실험을 수행하였고 그 결과를 표 3에 도시하였다. 실험결과는 대체적으로 실시예 1과 유사하나 변환효율이 다소 감소하는 경향을 보인다. 그러나 고주파로 시스템을 운전했을 경우, 반응기는 디젤입자상물질에 의한 오염이 없다는 장점을 가지고 있다.As another embodiment of the present invention, the experiment was performed in the high frequency region of the same operating conditions or plasma reactor as in Example 1 and the results are shown in Table 3. The experimental results are generally similar to those of Example 1, but tend to decrease the conversion efficiency slightly. However, when operating the high frequency system, the reactor has the advantage that there is no contamination by diesel particulate matter.

실험에서 사용된 플라즈마 반응기의 사양은 다음과 같다. 세라믹 박판의 크기는 34x170mm이고 두께는 1mm, 전극간의 간격은 1.5mm 이며 25층으로 적층 하였다. 사용전압은 4kV 교류전원, 전류는 150mA 따라서 공급전원은 600W이고 이때 사용주파수는 10kHz이다.Specifications of the plasma reactor used in the experiment are as follows. The ceramic thin plate was 34x170mm, the thickness was 1mm, the gap between electrodes was 1.5mm, and 25 layers were laminated. The operating voltage is 4kV AC and the current is 150mA. Therefore, the power supply is 600W and the operating frequency is 10kHz.

본 발명의 판대판형 플라즈마 발생기를 사용하여 고주파 영역대에서 디젤 배출가스 처리결과이다.The result is a diesel exhaust gas treatment in the high frequency region using the plate-type plasma generator of the present invention.

[표 3]TABLE 3

<실시예 3><Example 3>

본 발명의 또 다른 실시예로써, 판대판형 플라즈마 반응기를 사용하여 저주파 영역대에서 오존발생 장치를 구현해 보았다. 실험시 처리가스는 산소가스를 사용하였고, 반응기의 냉각을 위하여 압축공기(5bar, 200LPM)를 분사하였다. 두 가지 경우에 대해 실험을 수행하였으며 결과를 표 4에 도시하였다. 기존 오존 발생장치에 비하여 최소의 에너지 소비로 다량의 오존을 발생할 수 있었으며, 발생 오존의 농도를 미량부터 다량까지 손쉽게 조절할 수 있었다. 자동차 배출가스 처리의 경우와 유사하게 처리해야할 산소의 유량이 증가할수록 오존의 생성량이 다소 감소함을 알 수 있다.As another embodiment of the present invention, an ozone generating apparatus was implemented in a low frequency region using a plate-type plasma reactor. Oxygen gas was used as the treatment gas in the experiment, and compressed air (5 bar, 200 LPM) was injected to cool the reactor. Experiments were performed for two cases and the results are shown in Table 4. Compared with the existing ozone generator, it was possible to generate a large amount of ozone with minimum energy consumption, and the concentration of the generated ozone could be easily controlled from a small amount to a large amount. Similar to the automobile exhaust gas treatment, the amount of ozone generated decreases slightly as the flow rate of oxygen to be treated increases.

표 4는 판대판형 저주파 플라즈마 발생기를 사용한 오존 발생장치의 실험 결과이다.Table 4 shows the experimental results of the ozone generator using the plate-type low frequency plasma generator.

[표 4]TABLE 4

따라서 본 발명에서 제시한 바와 같이 보다 안정적이고 우수한 효율의 플라즈마 장치를 이용함으로써, 디젤입자상물질 및 질소산화물을 제거하거나 혹은 공기정화 및 살균용 오존 발생을 보다 효과적으로 도모할 수 있다.Therefore, by using the plasma apparatus of more stable and excellent efficiency as suggested in the present invention, it is possible to remove diesel particulate matter and nitrogen oxide or to generate air purification and ozone for sterilization more effectively.

이제, 이상의 플라즈마 반응기의 제조방법의 일 실시예을 도 4의 흐름도를 참조하여 설명한다.Now, an embodiment of the above-described method of manufacturing a plasma reactor will be described with reference to the flowchart of FIG. 4.

먼저, 세라믹 박판 표면을 알콜로 세척한 후 양측 단부에 결합공(130)(140)이 형성된 세라믹 박판부재(110)의 한쪽 면을 마스크로 덮는 마스킹 단계(S1)를 거쳐, 전극 형성용 금속 페이스트를 도포하고 건조 소성하여 전극(120)을 형성한다(S2).First, the surface of the ceramic thin plate is washed with alcohol and then subjected to a masking step (S1) of covering one surface of the ceramic thin plate member 110 having the coupling holes 130 and 140 formed at both ends thereof with a mask. Coating and dry firing to form the electrode 120 (S2).

이 때 금속페이스트는 상기 양측 단부의 결합공 중 일측에만 접하도록 도포되어 상기 구멍이 전극이 통하는 통전 결합공(130)과 전극과 접하지 않는 비통전 결합공(140)으로 형성된다.At this time, the metal paste is applied to contact only one side of the coupling holes of the both ends is formed by the conductive coupling hole 130 through which the electrode is communicated and the non-conductive coupling hole 140 does not contact the electrode.

전극(120)이 소성된 세라믹 박판부재(110) 두 장을 각기 다른 구멍부분이 겹치도록 세라믹 페이스트(paste)를 이용하여 접착(S3)한 다음, 접착된 세라믹 박판을 고온에서 소성하여 세라믹 평판전극(100)을 형성한다(S4).Two sheets of the ceramic thin plate member 110, on which the electrode 120 is fired, are bonded (S3) using a ceramic paste so that different hole portions overlap each other, and then the bonded ceramic thin plate is fired at a high temperature to provide a ceramic flat electrode. To form 100 (S4).

상기 세라믹 평판전극(100)의 전극(120)과 접하는 통전 결합공 부분에 웨이브 와셔(wave washer)(210)를 끼우고 그 위에 금속부싱(230)을, 그리고 비통전 결합공(140) 쪽에는 웨이브 와셔와 세라믹 부싱(240)을 삽입한다(S5).The wave washer 210 is inserted into a portion of the conductive coupling hole contacting the electrode 120 of the ceramic plate electrode 100, the metal bushing 230 is placed thereon, and the non-electric coupling hole 140 is disposed on the side. The wave washer and the ceramic bushing 240 are inserted (S5).

2개의 전극 나사봉(500)에 세라믹 평판전극(100)을 삽입후 그 위에 내열용 매트(mat)로 이루어진 스페이서(300)를 올리고 다시 그 위에 세라믹 평판전극(100)을 전극방향이 엇갈리도록 교호로 적층(S6)하기를 반복하여 소정 규모의 용량을 갖는 플라즈마 반응기를 제조한다.After inserting the ceramic plate electrode 100 into the two electrode screw rods 500, the spacer 300 made of a heat-resistant mat is placed thereon, and the ceramic plate electrode 100 is alternately placed so that the electrode directions are alternately placed thereon. Repeated lamination (S6) to prepare a plasma reactor having a predetermined size of capacity.

이와 같은 방법으로 제조되는 본 발명은 특히 스페이서(300)를 이용하여 세라믹 평판전극(100)의 간극 조절이 용이하고, 조립 및 해체가 용이하여 양산을 가능토록 하고 유지 및 보수관리가 용이하도록 한다.The present invention manufactured by the above method makes it easy to control the gap of the ceramic flat electrode 100 by using the spacer 300, and to facilitate mass production and easy maintenance and maintenance by assembling and disassembling.

본 발명은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 도면에 한정되는 것은 아니다.As those skilled in the art to which the present invention pertains, various permutations, modifications, and changes are possible without departing from the spirit of the present invention. .

이상에서 상세히 살펴 본 바와 같이, 본 발명에 따른 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기 및 그 제조 방법은 차량 배기가스의 처리 그리고 공기정화 및 살균을 위한 오존발생에 효과가 있는 세라믹 박판을 이용한 플라즈마 반응기에 있어서, 세라믹 평판전극의 간극 조절이 용이하고, 조립 및 해체가 용이하여 양산을 가능토록 하고 유지 및 보수관리가 용이하도록 한다.As described in detail above, the mass-produced versatile plate-type plasma reactor using the ceramic thin plate according to the present invention and a manufacturing method thereof are characterized by using a ceramic thin plate having an effect on ozone generation for the treatment of vehicle exhaust gas and air purification and sterilization. In the plasma reactor, it is easy to control the gap of the ceramic plate electrode, and easy to assemble and dismantle, so that mass production is possible and easy to maintain and repair.

또한, 본 발명은 입자상물질 제거 측면에서 보면, 자동차 배출가스 NOx 성분 중 NO를 NO2로 변환시키므로써 'soot'을 산화시킬 수 있으며, 또한 NO2에 활성을 갖는 촉매를 장착시 DeNOx효과를 얻을 수 있다.In addition, from the aspect of removing particulate matter, the present invention can oxidize 'soot' by converting NO into NO2 in the vehicle exhaust gas NOx component, and also obtain a DeNOx effect when a catalyst having activity in NO2 is installed. .

또한, 본 발명은 공기정화 및 살균을 위한 오존발생 측면에서 보면, 적은 에너지로 플라즈마를 발생시킬 뿐만 아니라, 플라즈마 발생시 제어가 용이하므로 안정적이고 지속적으로 오존을 발생시킬 수 있어 적은 비용으로 환경을 보호토록 하는 장점을 갖는다.In addition, in view of ozone generation for air purification and sterilization, the present invention not only generates plasma with less energy, but also can easily control ozone to generate ozone stably and continuously to protect the environment at low cost. Has the advantage.

Claims (4)

플라즈마 발생을 위해 사용되는 평판형 다층 플라즈마 반응기에 있어서,In the planar multilayer plasma reactor used for plasma generation, 일측 표면에 금속페이스트가 도포 소성되어 전극(120)을 형성하고, 일단부는 상기 전극(120)과 접하는 통전 결합공(130), 다른 일단부는 상기 전극(120)과 접하지 않는 비통전 결합공(140)이 구비된 세라믹 박판부재(110) 2개를 상기 전극(120)이 접하도록 마주 결합하여 이루어지며, 인접하는 것끼리 소정의 간극을 가지며 전극방향이 엇갈리도록 교호로 적층 배열되는 다수의 세라믹 평판전극(100);The metal paste is coated on one surface to form the electrode 120, one end of the conductive coupling hole 130 contacting the electrode 120, and the other end of the non-electric coupling hole not contacting the electrode 120 ( Two ceramic thin plate members 110 provided with 140 are coupled to face each other so that the electrode 120 is in contact with each other, and a plurality of ceramics are alternately stacked so that adjacent ones have a predetermined gap and the electrode directions are staggered. Plate electrode 100; 상기 교호로 적층 배열된 세라믹 평판전극(100) 사이에 구비되어 상기 전극사이의 간극을 조절하며, 유해가스가 흐르는 통로를 형성하기 위한 스페이서(300);A spacer 300 disposed between the alternating ceramic plate electrodes 100 to adjust the gap between the electrodes and to form a passage through which harmful gas flows; 상기 다수의 세라믹 평판전극(100)과 스페이서(300)를 배열 조립하고 외부전극 기능을 갖는 전극 나사봉(500);An electrode screw rod 500 that assembles the plurality of ceramic plate electrodes 100 and the spacer 300 and has an external electrode function; 을 포함하여 구성되고, 전원 공급에 의하여 상기 전극을 통해 플라즈마 방전을 일으키도록 구성됨을 특징으로 하는 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기.And a mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using ceramic thin plates, characterized in that configured to cause plasma discharge through the electrodes by power supply. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 세라믹 평판전극(100)은,The ceramic plate electrode 100, 좌우에 구비되는 상기 통전 결합공(130)과 비통전 결합공(140)이 각각 상기전극 나사봉(120)만 끼워지는 소공(160)과 부싱이 끼워지는 대공(150)으로 크기가 서로 다르게 구성되며, 통전 결합공(130)측이 대공으로 형성되는 세라믹 박판부재 1(111)과, 비통전 결합공(140)이 대공(150)으로 형성되는 세라믹 박판부재 2(113)로 구성되고,The conductive coupling holes 130 and the non-electric coupling holes 140 provided on the left and right sides are respectively configured to have different sizes from the small holes 160 into which only the electrode screw rods 120 are fitted and the large holes 150 into which the bushings are fitted. It consists of a ceramic thin plate member 1 (111) is formed of a large hole through the side of the coupling hole 130, the ceramic plate member 2 (113) is formed of a large hole 150, 상기 통전 결합공(130)의 대공(150)에는 웨이브 와셔(210)와 전도성 금속부싱(230)이, 상기 비통전 결합공(140)의 대공에는 웨이브 와셔(210)와 세라믹 부싱(240)이 삽입조립됨을 특징으로 하는 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기.The wave washer 210 and the conductive metal bushing 230 are formed in the hole 150 of the energization coupling hole 130, and the wave washer 210 and the ceramic bushing 240 are formed in the hole of the non-electric coupling hole 140. Mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using ceramic thin plate, characterized in that the assembly. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전극 나사봉(500)은 상기 세라믹 평판전극(100)을 체결고정하는 단부에 각각 세라믹 애자(700)가 체결됨을 특징으로 하는 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기.The electrode screw rod 500 is a mass-produced versatile plate-type plasma reactor using a ceramic thin plate, characterized in that each of the ceramic insulator 700 is fastened to the end to fasten the ceramic plate electrode 100. 양측 단부에 결합공이 형성된 세라믹 박판(110)의 한쪽면을 마스킹하는 단계(S1);Masking one surface of the ceramic thin plate 110 having coupling holes formed at both ends (S1); 상기 세라믹 박판의 마스킹된 면의 양측에 형성된 결합공 중 일측 결합공에만 접하도록 금속 폐이스트를 도포하고 마스크를 제거한 후 고온 소성하여전극(120)을 형성하는 단계(S2):Step (S2) of applying a metal waste yeast so as to contact only one side of the coupling hole formed on both sides of the masked surface of the ceramic thin plate, removing the mask and firing at high temperature (S2): 상기 전극이 형성된 세라믹 박판(110)을 전극 표면이 마주보는 방향으로 겹치고 세라믹 페이스트로 접착하는 단계(S3):Bonding the ceramic thin plate 110 on which the electrodes are formed in a direction in which the electrode surfaces face each other and bonding the ceramic thin plates 110 with a ceramic paste (S3): 상기 접착된 두장의 세라믹 박판을 고온 소성하여 세라믹 평판전극(100)을 형성하는 단계(S4):Forming a ceramic plate electrode 100 by high temperature baking the bonded two sheets of ceramic thin plates (S4): 상기 세라믹 평판전극(100)의 전극과 접하는 통전 결합공(130)에 금속부싱(230)을, 전극과 접하지 않는 비통전 결합공(140)에 세라믹 부싱(240)을 삽입하는 단계(S5);Inserting the metal bushing 230 into the conductive coupling hole 130 in contact with the electrode of the ceramic plate electrode 100, and inserting the ceramic bushing 240 into the non-conductive coupling hole 140 in contact with the electrode (S5). ; 두 개의 전극 나사봉(500)에 상기 세라믹 평판전극(100)의 전극방향을 교호로하여, 층간에는 내열 매트로 이루어진 스페이서(300)를 끼우며 적층 배열 조립하는 단계(S6):를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 세라믹 박판을 사용한 양산가능 다목적 판대판형 플라즈마 반응기의 제조 방법.Comprising the electrode direction of the ceramic plate electrode 100 to the two electrode screw rods 500 alternately, sandwiching the spacer 300 made of a heat-resistant mat between the layers and assembling the laminated arrangement (S6): made of A method for producing a mass-produced versatile plate-to-plate plasma reactor using a ceramic thin plate characterized in that.
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