KR100442143B1 - Apparatus for cleaning deposition residue attached ceramic guide of apcvd system - Google Patents
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Abstract
본 발명은 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치에 관한 것으로서, 서셉터(60)의 외주면에 하측으로부터 결합되며, 서셉터(60)를 밀폐시키는 내부튜브(100)와; 내부튜브(100)의 외측에 설치되고, 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물을 내측으로 포함하며, 세라믹 가이드(90)의 하측에 밀착되는 외부튜브(200)와; 내부튜브(100)와 외부튜브(200) 사이에 브러쉬 플레이트(310)가 설치되고, 브러쉬 플레이트(310)의 일측에 손잡이(320)가 형성되되 손잡이(320)는 외부튜브(200)의 일측에 형성되는 손잡이 슬라이드홈(340)을 관통하여 외측으로 돌출되며, 브러쉬 플레이트(310)의 상측면에 세라믹 가이드(90)와 상단이 접하는 브러쉬(330)가 구비되어, 손잡이(320)를 손잡이 슬라이드홈(340)을 따라 좌우로 이동시킴으로써 브러쉬(330)가 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물을 제거하는 증착물 제거수단(300)을 포함하는 것으로서, 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 증착된 잔류물을 짧은 시간내에 용이하게 제거함으로써 장비의 가동율을 향상시키며, 작업자가 안전하게 제거 작업을 수행하도록 함으로써 작업자를 고온 상태의 장비로부터 보호하는 효과를 가지고 있다.The present invention relates to a residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment, the inner tube 100 coupled to the outer peripheral surface of the susceptor 60, the susceptor 60 to seal; An outer tube 200 installed on an outer side of the inner tube 100 and including a residual deposit attached to the ceramic guide 90 to the inside, and adhered to the lower side of the ceramic guide 90; Brush plate 310 is installed between the inner tube 100 and the outer tube 200, the handle 320 is formed on one side of the brush plate 310, the handle 320 is on one side of the outer tube (200) Penetrating through the handle slide groove 340 is formed to protrude to the outside, a brush 330 is provided on the upper side of the brush plate 310 in contact with the ceramic guide 90, the handle 320 to the handle slide groove Moving left and right along the 340, the brush 330 includes a deposit removing means 300 for removing the residual deposits attached to the ceramic guide 90, the residue deposited on the ceramic guide of the atmospheric chemical vapor deposition equipment Easily removing water in a short time improves the operation rate of the equipment, and has the effect of protecting the operator from high temperature equipment by allowing the operator to safely remove the operation.
Description
본 발명은 반도체소자의 제조공정에 사용되는 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 증착된 잔류물을 짧은 시간내에 용이하며 안전하게 제거하는 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for removing residual deposits attached to a ceramic guide of an atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus used in a manufacturing process of a semiconductor device, and more particularly, to a residue deposited on a ceramic guide of an atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus. The present invention relates to a residual deposit removal apparatus attached to a ceramic guide of an atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus that is easily and safely removed.
일반적으로 반도체 제조 공정에서 배선공정 이전에 실시하는 평탄화 절연막의 일종인 BPSG(borophospho silicate glass) 막의 증착은 대부분 상압 화학 기상 증착(APCVD) 공정을 이용한 증착장비를 사용하여 증착공정이 이루어진다.In general, the deposition of a borophospho silicate glass (BPSG) film, which is a kind of planarization insulating film that is performed before the wiring process in a semiconductor manufacturing process, is performed by a deposition apparatus using an atmospheric chemical vapor deposition (APCVD) process.
이러한 BPSG 막의 증착을 수행하는 상압 화학 기상 증착 장비를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.The atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus for performing the deposition of such a BPSG film will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 종래의 상압 화학 기상 증착 장비를 도시한 도면이다. 도시된 바와 같이, 종래의 상압 화학 기상 증착 장비는 승강실린더(10)에 의하여 수직방향으로 상하로 승강가능하도록 베이스 플레이트(20;base plate)가 설치되어 있고, 이 베이스 플레이트(20)에는 일정 간격으로 다섯 개의 디스퍼션 헤드(30;dispersion head)가 설치되어 있으며, 한 개의 승강기(40)가 설치되어 있다.1 is a view showing a conventional atmospheric chemical vapor deposition equipment. As shown, the conventional atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment is provided with a base plate (20; base plate) so that it can be lifted up and down in the vertical direction by the lifting cylinder 10, the base plate 20 is a predetermined interval Five dispersion heads 30 are installed, and one elevator 40 is installed.
그리고, 베이스 플레이트(20)의 상측에는 회전 가능하도록 인덱스테이블(50;index table)이 설치되어 있고, 이 인덱스 테이블(50)에는 일정간격으로 여섯 개의 서셉터(60;susceptor)가 설치되어 있으며, 인덱스 테이블(50)과 베이스 플레이트(20) 사이에는 인덱스 테이블(50)을 회전시키기 위한 메가토크 모터(70;megatorque motor)가 설치되어 있다. 또한, 서셉터(60)의 상측에는 히터(80;heater)가 설치되어 있다.An index table 50 is provided on the upper side of the base plate 20 so as to be rotatable, and six susceptors 60 are provided on the index table 50 at predetermined intervals. A megatorque motor 70 for rotating the index table 50 is provided between the index table 50 and the base plate 20. In addition, a heater 80 is provided above the susceptor 60.
이상과 같이 구성되는 종래의 상압 화학 기상 증착 장비는 미도시된 챔버(chamber)의 내부 일측에 설치된 웨이퍼 이송아암에 의해 웨이퍼 카세트에 수납되어 있는 웨이퍼 한장을 인출하여 플랫존(flatzone)을 얼라인한 후 승강기(40)의 상면에 로딩시킨다.Conventional atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment configured as described above, after aligning the flat zone by drawing out a wafer housed in the wafer cassette by a wafer transfer arm installed on one side of the chamber (not shown). The upper surface of the elevator 40 is loaded.
승강기(40) 상면에 로딩된 웨이퍼는 승강기(40)가 상승하여 서셉터(60)의 하면에 웨이퍼를 밀착시키면 서셉터(60)에 형성된 버큠홀(미도시)에 진공 흡착되고, 진공 흡착된 웨이퍼는 인덱스 테이블(50)에 의하여 회전하면서 다섯 개의 디스퍼션 헤드(30)에 의하여 증착공정을 수행한다.The wafer loaded on the upper surface of the elevator 40 is lifted by the elevator 40 so that the wafer adheres to the lower surface of the susceptor 60, and is vacuum adsorbed to a vacuum hole (not shown) formed in the susceptor 60. The wafer is rotated by the index table 50 and the deposition process is performed by five dispersion heads 30.
웨이퍼가 진공 흡착되어 증착공정을 수행하는 서셉터(60)는 도 2의 서셉터를 아래에서 본 도면에서와 같이, 사각형상의 프레임(91) 내측에 구비된 세라믹 가이드(90;ceramic guide)의 중앙에 설치되어 있다.The susceptor 60 in which the wafer is vacuum-adsorbed to perform the deposition process has a center of the ceramic guide 90 provided inside the rectangular frame 91 as shown in the susceptor of FIG. 2 below. Installed in
이와 같은, 상압 화학 기상 증착 장비는 대기상태에서 증착공정을 진행하기 때문에 공정을 진행하고 난 잔류물들이 디스퍼션 헤드(30)와 세라믹 가이드(90)에 일부 반응되어 증착된다. 도 2에서 나타낸 바와 같이, 서셉터(60) 주위의 세라믹 가이드(90)에 잔류물(D)들이 증착된 것을 볼 수 있다.Since the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment proceeds with the deposition process in the atmospheric state, the residues undergoing the process are partially reacted and deposited on the dispersion head 30 and the ceramic guide 90. As shown in FIG. 2, it can be seen that residues D are deposited in the ceramic guide 90 around the susceptor 60.
이러한 증착된 잔류물들을 제거하기 위해 공정 진행 네시간 마다 주기적으로 제거작업을 하는데 디스퍼션 헤드(30)는 메탈 브러쉬(metal brush)를 진공 호스에 연결하여 사용하고 있다.In order to remove these deposited residues, the removal operation is performed every four hours of the process. The dispersing head 30 uses a metal brush connected to a vacuum hose.
그러나, 세라믹 가이드(90)는 별도의 도구없이 드라이버와 진공호스를 사용하여 잔류 증착물들을 제거하고 있기 때문에 잔류 증착물의 제거 작업이 효율적이지 못하여 많은 시간이 소모되고, 이로 인해 상압 화학 기상 증착 장비의 가동율이 저하되는 문제점이 있었다.However, since the ceramic guide 90 removes residual deposits by using a driver and a vacuum hose without any tools, the removal of the residual deposits is not efficient, and thus a lot of time is consumed. There was a problem of this deterioration.
또한, 잔류 증착물의 제거 작업을 수행하는 장비는 보통 400도씨의 고온인 상태에 있으므로 작업을 수행하는 작업자가 화상을 입을 우려가 있는 등 작업자의 안전상의 문제점이 있었다.In addition, since the equipment for performing the operation of removing the residual deposits is usually in a high temperature of 400 degrees Celsius, there is a safety problem of the worker, such that the operator performing the work may be burned.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 증착된 잔류물을 짧은 시간내에 용이하게 제거함으로써 장비의 가동율을 향상시키며, 작업자가 안전하게 제거 작업을 수행하도록 함으로써 작업자를 고온 상태의 장비로부터 보호하는 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to easily remove the residue deposited on the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment in a short time to improve the operation rate of the equipment, the operator safely It is to provide a residual deposit removal device attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment to protect the operator from the equipment at high temperature by performing the removal operation.
이와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은, 서셉터의 외주면에 하측으로부터 결합되며, 서셉터를 밀폐시키는 내부튜브와; 내부튜브의 외측에 설치되고, 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물을 내측으로 포함하며, 세라믹 가이드의 하측에 밀착되는 외부튜브와; 내부튜브와 외부튜브 사이에 브러쉬 플레이트가 설치되고, 브러쉬 플레이트의 일측에 손잡이가 형성되되 손잡이는 외부튜브의 일측에 형성되는 손잡이 슬라이드홈을 관통하여 외측으로 돌출되며, 브러쉬 플레이트의 상측면에 세라믹 가이드와 상단이 접하는 브러쉬가 구비되어, 손잡이를 손잡이 슬라이드홈을 따라 좌우로 이동시킴으로써 브러쉬가 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물을 제거하는 증착물 제거수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for realizing such an object is coupled to the outer circumferential surface of the susceptor, the inner tube for sealing the susceptor; An outer tube installed on an outer side of the inner tube and including a residual deposit attached to the ceramic guide to the inside, and adhered to the lower side of the ceramic guide; A brush plate is installed between the inner tube and the outer tube, and a handle is formed on one side of the brush plate, and the handle protrudes outward through a handle slide groove formed on one side of the outer tube, and a ceramic guide on the upper side of the brush plate. And the brush is provided with a top contact, characterized in that it comprises a deposit removal means for removing the residual deposits attached to the ceramic guide by moving the handle left and right along the handle slide groove.
증착물 제거수단의 브러쉬 플레이트가 이동시 가이드되어 슬라이딩되도록 브러쉬 플레이트의 타측이 삽입되는 가이드홈이 외주면을 따라 형성되는 원반형상의 가이드 플레이트가 내부튜브의 하측에 결합되는 것을 특징으로 한다.The disk-shaped guide plate, which is formed along the outer circumferential surface of the guide groove into which the other side of the brush plate is inserted, is guided and slid when the brush plate of the deposit removing means is moved, is coupled to the lower side of the inner tube.
브러쉬 플레이트의 타측과 가이드 플레이트의 슬라이드홈 사이에 롤링부재가 설치되는 것을 특징으로 한다.The rolling member is installed between the other side of the brush plate and the slide groove of the guide plate.
롤링부재는 브러쉬 플레이트의 타측 상.하면에 회전 가능하도록 복수의 로울러가 각각 설치되며, 로울러가 안착되어 롤링되는 경로를 제공하는 로울러 안착홈이 가이드 플레이트의 슬라이드홈의 상.하면에 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.Rolling members are each provided with a plurality of rollers are rotatable on the other side of the brush plate, the roller seating groove is provided on the top and bottom of the slide groove of the guide plate to provide a path in which the roller is seated and rolled. It features.
도 1은 종래의 상압 화학 기상 증착 장비를 도시한 도면,1 is a view showing a conventional atmospheric chemical vapor deposition equipment,
도 2의 종래의 상압 화학 기상 증착 장비의 서셉터를 아래에서 본 도면,2 is a view of the susceptor of the conventional atmospheric chemical vapor deposition apparatus of FIG.
도 3은 본 발명에 따른 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치를 도시한 사시도,3 is a perspective view showing a residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus according to the present invention,
도 4는 본 발명에 따른 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치를 도시한 단면도,Figure 4 is a cross-sectional view showing a residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment according to the present invention,
도 5는 본 발명에 따른 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치의 증착물 제거수단을 도시한 사시도이다.5 is a perspective view showing the deposit removing means of the residual deposit removing apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
100 ; 내부튜브 200 ; 외부튜브100; Inner tube 200; Outer tube
210 ; 배출구 300 ; 증착물 제거수단210; Outlet 300; Deposition removal means
310 ; 브러쉬 플레이트 320 ; 손잡이310; Brush plate 320; handle
330 ; 브러쉬 340 ; 브러쉬 슬라이드홈330; Brush 340; Brush slide
350 ; 가이드 플레이트 360 ; 롤링부재350; Guide plate 360; Rolling member
410 ; 가이드부재410; Guide member
이하, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 더욱 상세히 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention.
도 3은 본 발명에 따른 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치를 도시한 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치를 도시한 단면도이다. 도시된 바와 같이, 본 발명의 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치는 크게 내부튜브(100)와, 외부튜브(200)와, 증착물 제거수단(300)을 포함한다.3 is a perspective view showing a residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment according to the present invention, Figure 4 is a residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment according to the present invention It is a cross-sectional view. As shown, the residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus of the present invention includes an inner tube 100, an outer tube 200, and the deposit removing means 300.
내부튜브(100)는 서셉터(60)의 외주면에 하측으로부터 결합되며, 서셉터(60)를 밀폐시킨다. 따라서, 세라믹 가이드(90)로부터 분리된 잔류 증착물이 서셉터(60)로 유입되는 것을 차단시킨다.The inner tube 100 is coupled to the outer circumferential surface of the susceptor 60 from below, and seals the susceptor 60. Thus, residual deposits separated from the ceramic guide 90 are blocked from entering the susceptor 60.
외부튜브(200)는 내부튜브(100)의 외측에 설치되며, 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물을 내측으로 포함하도록 세라믹 가이드(90)의 하측에 밀착된다.The outer tube 200 is installed on the outside of the inner tube 100 and is in close contact with the lower side of the ceramic guide 90 so as to include a residual deposit attached to the ceramic guide 90 inward.
한편, 내부튜브(100)와 외부튜브(200) 사이에는 복수의 가이드부재(410)가 등간격으로 설치된다. 본 실시예에서는 가이드부재(410)가 내부튜브(100)와 외부튜브(200) 사이에 형성된 공간에 등간격으로 상측과 하측에 각각 네 개씩 설치됨을 보였고, 이러한 가이드부재(410)에 의해 내부튜브(100)와 외부튜브(200)가 서로 일정 간격을 유지한 상태로 결합되도록 한다.On the other hand, a plurality of guide members 410 are installed at equal intervals between the inner tube 100 and the outer tube 200. In this embodiment, four guide members 410 are installed at the upper and lower sides at equal intervals in the space formed between the inner tube 100 and the outer tube 200, respectively. 100 and the outer tube 200 are coupled to each other while maintaining a predetermined interval.
또한, 외부튜브(200)는 하측에 진공호스(420)가 연결되는 배출구(210)를 구비하며, 진공호스(420)로부터 공급되는 진공에 의하여 배출구(210)를 통해 세라믹 가이드(90)로부터 제거된 잔류 증착물이 외부로 배출된다.In addition, the outer tube 200 has a discharge port 210 to which the vacuum hose 420 is connected to the lower side, and is removed from the ceramic guide 90 through the discharge port 210 by a vacuum supplied from the vacuum hose 420. Residual deposits are discharged to the outside.
증착물 제거수단(300)은 도 5에서 나타낸 바와 같이, 내부튜브(100)와 외부튜브(200)사이에 설치되는 브러쉬 플레이트(310)와, 브러쉬 플레이트(310)의 일측에 형성되되 외부튜브(200)의 일측에 형성되는 손잡이 슬라이드홈(340)을 관통하여 외측으로 돌출되는 손잡이(320)와, 브러쉬 플레이트(310)의 상측면에 구비되며 그상단이 세라믹 가이드(90)와 접하는 브러쉬(330)로 구성된다.Deposition remover 300 is, as shown in Figure 5, the brush plate 310 is installed between the inner tube 100 and the outer tube 200, and formed on one side of the brush plate 310, the outer tube 200 The handle 320 protruding outwards through the handle slide groove 340 formed on one side of the) and the brush 330 is provided on the upper side of the brush plate 310 and the upper end is in contact with the ceramic guide 90 It consists of.
따라서, 손잡이(320)를 손잡이 슬라이드홈(340)을 따라 좌우로 이동시킴으로써 브러쉬(330)가 세라믹 가이드(90)와 마찰을 일으켜 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물을 제거한다.Thus, by moving the handle 320 to the left and right along the handle slide groove 340, the brush 330 friction with the ceramic guide 90 to remove the residual deposits attached to the ceramic guide 90.
한편, 내부튜브(100)의 하측에는 외주면을 따라 가이드홈(351)이 형성되는 원반형상의 가이드 플레이트(350)가 결합되며, 이 가이드 플레이트(350)의 가이드홈(351)에는 브러쉬 플레이트(310)의 타측이 삽입된다.On the other hand, the lower side of the inner tube 100 is coupled to the disk-shaped guide plate 350 is formed with a guide groove 351 along the outer circumferential surface, the brush plate 310 to the guide groove 351 of the guide plate 350 The other side of is inserted.
따라서, 브러쉬 플레이트(310)가 손잡이(320)를 움직임으로써 이동시 가이드홈(351)에 가이드되어 슬라이딩된다.Therefore, the brush plate 310 is guided and slides in the guide groove 351 when the handle 320 moves by moving the handle 320.
브러쉬 플레이트(310)의 타측과 가이드 플레이트(350)의 슬라이드홈(351) 사이에는 롤링부재(360)가 설치된다. 이러한 롤링부재(360)는 브러쉬 플레이트(310)의 타측 상.하면에 회전 가능하도록 설치되는 복수의 로울러(360)이며, 이 로울러(360)가 안착되어 이동하는 경로를 제공하는 로울러 안착홈(351a)이 가이드 플레이트(350)의 슬라이드홈(351)의 상.하면에 각각 형성된다.The rolling member 360 is installed between the other side of the brush plate 310 and the slide groove 351 of the guide plate 350. The rolling member 360 is a plurality of rollers 360 are installed to be rotatable on the other side of the brush plate 310, the roller mounting groove 351a which provides a path for the roller 360 is seated and moved. ) Are respectively formed on the upper and lower surfaces of the slide groove 351 of the guide plate 350.
로울러(360)는 리테이너(361)에 의해 브러쉬 플레이트(310)의 타측 상.하면에 회전 가능하게 설치된다.The roller 360 is rotatably installed on the other side of the brush plate 310 by the retainer 361.
한편, 증착물 제거수단(300)의 브러쉬(330)는 고온의 세라믹 가이드(90)에 접촉시 고온에 견딜수 있도록 메탈 브러쉬임이 바람직하다.On the other hand, the brush 330 of the deposit removing means 300 is preferably a metal brush to withstand the high temperature when in contact with the high-temperature ceramic guide 90.
또한, 증착물 제거수단(300)은 복수로 구비됨이 바람직하며, 본 실시예에서는 증착물 제거수단(300)이 네 개인 예를 도시하였다. 따라서, 증착물제거수단(300)이 네 개인 경우에 각각의 손잡이(320)를 외부튜브(200)의 중심으로부터 90도에 해당하는 외부튜브(200)의 외주면을 따라 이동시킴으로써 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물을 보다 간편하게 제거하게 된다.In addition, the deposit removing means 300 is preferably provided in plurality, in the present embodiment has shown an example of four deposit removing means 300. Therefore, in the case of four deposit removal means 300, each handle 320 is moved to the ceramic guide 90 by moving along the outer circumferential surface of the outer tube 200 corresponding to 90 degrees from the center of the outer tube 200. Residual deposits attached are more easily removed.
이와 같은 구조로 이루어진 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치의 동작은 다음과 같이 이루어진다. 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물을 제거하기 위하여 본 장치를 상압 화학 기상 증착 장비의 서셉터(60)의 하측으로부터 상측으로 이동시켜서 내부튜브(100)가 서셉터(60)를 감싸도록 밀착시키면 외부튜브(200)는 세라믹 가이드(90) 면에 밀착된다.Operation of the residual deposit removing apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment having such a structure is performed as follows. In order to remove the residual deposits attached to the ceramic guide 90 of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment, the apparatus is moved from the lower side to the upper side of the susceptor 60 of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment so that the inner tube 100 is susceptor ( 60 to be in close contact with the outer tube 200 is in close contact with the surface of the ceramic guide (90).
이 때, 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물은 외부튜브(200)의 내측에 위치하므로, 외부튜브(200)의 외측에 돌출된 증착물 제거수단(300)의 손잡이(320)를 외부튜브(200)의 일측에 형성된 손잡이 슬라이드홈(340)을 따라 좌우로 움직이면, 손잡이(320)와 연결된 브러쉬 플레이트(310)의 타측이 가이드 플레이트(350)의 가이드홈(351)을 따라 슬라이딩되고, 브러쉬 플레이트(310)의 상측면에 구비된 브러쉬(330)는 세라믹 가이드(90)와 마찰을 일으켜 세라믹 가이드(90)에 부착된 잔류 증착물을 제거하게 된다.At this time, since the residual deposit attached to the ceramic guide 90 is located inside the outer tube 200, the handle 320 of the deposit removing means 300 protruding outside of the outer tube 200 is moved to the outer tube ( When moving left and right along the handle slide groove 340 formed on one side of the 200, the other side of the brush plate 310 connected to the handle 320 is slid along the guide groove 351 of the guide plate 350, brush plate The brush 330 provided on the upper side of the 310 causes friction with the ceramic guide 90 to remove residual deposits attached to the ceramic guide 90.
한편, 롤링부재(360)는 브러쉬 플레이트(310)의 타측이 가이드 플레이트(350)의 가이드홈(351)을 따라 슬라이딩됨을 용이토록 한다.On the other hand, the rolling member 360 facilitates the other side of the brush plate 310 to slide along the guide groove 351 of the guide plate 350.
증착물 제거수단(300)에 의해 세라믹 가이드(90)로부터 제거된 잔류 증착물은 외부튜브(200)의 배출구(210)를 통해 진공호스를 거쳐 외부로 배출된다.Residual deposits removed from the ceramic guide 90 by the deposit removing means 300 are discharged to the outside through the vacuum hose through the outlet 210 of the outer tube 200.
이상과 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 증착된 잔류물을 짧은 시간내에 용이하게 제거하며, 작업자가 안전하게 제거 작업을 수행토록 한다.According to the preferred embodiment of the present invention as described above, the residue deposited on the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment is easily removed within a short time, and the operator can safely perform the removal operation.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치는 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 증착된 잔류물을 짧은 시간내에 용이하게 제거함으로써 장비의 가동율을 향상시키며, 작업자가 안전하게 제거 작업을 수행하도록 함으로써 작업자를 고온 상태의 장비로부터 보호하는 효과를 가지고 있다.As described above, the residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment according to the present invention can easily remove the residue deposited on the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment in a short time to reduce the operation rate of the equipment In addition, it has the effect of protecting the operator from high temperature equipment by allowing the operator to safely perform the removal operation.
이상에서 설명한 것은 본 발명에 따른 상압 화학 기상 증착 장비의 세라믹 가이드에 부착된 잔류 증착물 제거장치를 실시하기 위한 하나의 실시예에 불과한 것으로서, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 않고, 이하의 특허청구범위에서 청구하는 바와 같이 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능한 범위까지 본 발명의 기술적 정신이 있다고 할 것이다.What has been described above is only one embodiment for carrying out the residual deposit removal apparatus attached to the ceramic guide of the atmospheric pressure chemical vapor deposition equipment according to the present invention, the present invention is not limited to the above embodiment, the following patents As claimed in the claims, any person of ordinary skill in the art without departing from the gist of the present invention will have the technical spirit of the present invention to the extent that various modifications can be made.
Claims (8)
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