KR100439265B1 - Color C.R.T - Google Patents

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KR100439265B1
KR100439265B1 KR10-2002-0028406A KR20020028406A KR100439265B1 KR 100439265 B1 KR100439265 B1 KR 100439265B1 KR 20020028406 A KR20020028406 A KR 20020028406A KR 100439265 B1 KR100439265 B1 KR 100439265B1
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Abstract

본 발명은 화면의 디스플레이 영상에 따라 국부적으로 캐소드(Cathode) 전류비 차가 발생하여 그 경계면에서의 마스크 외부에 입력되는 열량차로 발생되는 마스크 열팽창 현상 때문에 화질에 악영향을 미치는 현상, 즉, 국부적인 도밍(Local doming)현상을 방지하기 위한 텐션 마스크의 구조에 관한 것으로,According to the present invention, a phenomenon in which a cathode current ratio difference occurs locally according to a display image of a screen and a mask thermal expansion phenomenon generated by a calorific difference input to the outside of the mask at its interface, adversely affects image quality, that is, local domining ( Local doming) relates to the structure of the tension mask to prevent

상기 텐션 마스크의 전자빔 통과공 사이의 브리지들 중 적어도 하나는 인접하는 전자빔 통과공 사이를 연통하는 오픈 브리지로 구성되며, 상기 오픈 브리지의 단면의 스크린측 홀의 수직 중심축과 건 측 홀의 수직 중심축이 다르게 구성되고,At least one of the bridges between the electron beam through holes of the tension mask is composed of an open bridge communicating between adjacent electron beam through holes, wherein the vertical center axis of the screen side hole and the vertical center axis of the gun side hole of the cross section of the open bridge Configured differently,

상기 오픈 브리지의 단면의 스크린 측 홀의 수직 중심축과 건 측 홀의 수직 중심축과 상기 전자빔 통과공의 수직 중심축이 다른 것을 특징으로 하는 것이다.The vertical center axis of the screen-side hole and the vertical center axis of the key-side hole and the vertical center axis of the electron beam through-hole of the cross section of the open bridge are different.

Description

칼라음극선관 {Color C.R.T}Color cathode ray tube {Color C.R.T}

본 발명은 칼라음극선관용 텐션 마스크 구조에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 완전 평면 브라운관의 사용에 있어서, 화면의 디스플레이 영상에 따라 국부적으로 캐소드(Cathode) 전류비 차가 발생하여 그 경계면에서의 마스크 외부에 입력되는 열량차로 인한 그 표면과 내부의 온도차 발생으로 인하여 마스크의 열팽창 현상이 발생하게 되어 화질에 악영향을 미치는 국부적인 도밍(Local Doming) 현상을 방지하기 위한 것이다.The present invention relates to a tension mask structure for a color cathode ray tube, and more particularly, in the use of a completely flat CRT, a cathode current ratio difference is generated according to a display image of a screen and input to the outside of the mask at an interface thereof. The thermal expansion of the mask occurs due to the temperature difference between the surface and the inside due to the difference in the amount of heat, which is to prevent the local doming phenomenon that adversely affects the image quality.

일반적으로 종래의 평면 칼라 브라운관 구조는 제 1도에 나타난 것처럼, 내면에 스크린이 형성된 패널(3)과 상기 패널에 결합되는 펀넬(4)이라고 하는 유리와 넥크부로 구성되어 있고, 패널(3)내부는 소정의 발광 역할을 하는 형광막(1)이 형성되어 있다. 상기 형광체 스크린을 발광 시키는 전자빔(6)과 그 근원인 전자총(7), 그리고 소정의 형광막(1)를 발광 시키도록 색을 선별 해주는 새도우 마스크(8)와 상기 새도우 마스크를 인장해서 유지하는 프레임 구조체(또는 레일(9)이라고도 한다.))가 있다. 상기 프레임 구조체(9) 외측에는 음극선관이 동작될 때 외부 지구자기장에 영향을 적게 받도록 차폐 역할을 해주는 자계 쉴드(10)가 용접되고, 이들은 고 진공으로 밀폐되어 있다.In general, the conventional planar color CRT structure consists of a panel 3 having a screen formed therein and a glass and neck portion called a funnel 4 coupled to the panel, as shown in FIG. Is formed with a fluorescent film 1 which serves as a predetermined light emission. A frame for tensioning and holding an electron beam 6 for emitting the phosphor screen, an electron gun 7 as its source, a shadow mask 8 for selecting colors to emit a predetermined fluorescent film 1, and a shadow mask There is a structure (also called a rail 9). On the outside of the frame structure 9 is a magnetic field shield 10, which serves as a shielding shield so that the cathode ray tube is less affected by an external geomagnetic field, they are sealed in a high vacuum.

또한 펀넬(3)의 외부에는 외부 충격에 의해서는 충격에너지를 흡수하여 응력을 분산, 그리고 내 충격성능을 확보해주는 방폭유리(2)가 설치되어 있으며, 마지막으로 패널(3)의 외주장에 보강 밴드(11)를 장착함으로써 브라운관을 고정시키는 역할을 수행한다.In addition, the outer side of the funnel (3) is provided with explosion-proof glass (2) for absorbing the impact energy by the external impact to disperse the stress and to ensure the impact resistance, and finally reinforced to the outer packaging of the panel (3) By mounting the band 11 serves to fix the CRT.

이와 같은 구조를 갖는 종래의 평면 칼라 브라운관의 동작 원리에 대해 살펴보면, 넥크부로 지지된 전자총(7)에선 전자빔(6)이 음극선관에 인가된 전압에 의해서 패널(3) 내면에 형성되어 있는 형광체 스크린(1)을 타격하게 되는데, 이때 이 전자빔은 형광체 스크린에 도달하기 전 편향 요크에 의해서 상하, 좌우로 편향되어 화면을 이루게 되며, 전기 전자빔(6)이 정확히 소정의 형광체를 타격 하도록 그 진행 궤도를 수정해주는 2, 4, 6극의 마그네트(Magnet)가 있어 색순도 불량을 방지해 준다.Referring to the operation principle of the conventional flat color CRT having such a structure, in the electron gun 7 supported by the neck portion, the electron screen 6 is formed on the inner surface of the panel 3 by the voltage applied to the cathode ray tube. In this case, the electron beam is deflected up and down, left and right by a deflection yoke before reaching the phosphor screen, and forms a screen, and moves the trajectory so that the electric electron beam 6 strikes a predetermined phosphor exactly. There are 2, 4 and 6 pole magnets to correct the color purity.

마지막으로 전자빔과 색선별 마스크 간의 역할을 살펴보면, R(적색), G(녹색), B(청색) 3개의 전자빔(6)은 마스크의 표면에 포커싱(focusing) 되어 비추고 있으며, 그 중 일부는 마스크에 뚫린 홀을 통과하여 패널(3) 내면의 적, 녹, 청 3가지 색의 형광체와 각각 충돌하여 색을 발광하고, 나머지는 마스크와 충돌을 일으키면서 열에너지가 발생된다.Finally, the role between the electron beam and the color-specific mask is as follows: R (red), G (green), B (blue) three electron beams 6 are focused on the surface of the mask and some of them are masked. Passing through the hole in the panel 3, the inner surface of the panel 3 collides with the phosphors of three colors of red, green, and blue, respectively, and emits light, and the rest collides with the mask to generate thermal energy.

이 때 발생한 열에 의한 마스크의 팽창 현상을 억제하기 위해서 새도우 마스크(8)를 일정량 이상 인장력을 가하여 팽창할 수 없도록 한다.In order to suppress the swelling phenomenon of the mask due to heat generated at this time, the shadow mask 8 cannot be expanded by applying a tensile force more than a predetermined amount.

상기와 같은 마스크 팽창현상을 구체적으로 살펴보면, 넥크부로 지지된 전자총에서 발생한 전자빔은 마스크를 통과하고 형광체에 충돌하여 색을 발광하는데 사용되지만, 대부분 70 ~ 80% 정도의 전자빔은 마스크 외면과 충돌을 일으켜 마스크의 온도가 상승한다. 이와 같은 현상을 고려하여 전체 마스크를 x/y 방향으로 125% 이상 스트레칭 하여 보정한다. 특히, 최근의 컴퓨터 환경에 있어, 멀티미디어 활용이 증대되면서 화면의 밝기를 강조하여 브라운관 부품에 보다 높은 캐소드 전류가 요구되는데, 이러한 경우 구부인 화면에 캐소드(Cathode) 전류를 집중시켜 사용하는 경우가 대부분이다.Looking specifically at the mask expansion phenomenon as described above, the electron beam generated from the electron gun supported by the neck portion is used to pass through the mask and collide with the phosphor to emit color, but most of the electron beam of about 70 to 80% causes collision with the outer surface of the mask. The temperature of the mask rises. In consideration of this phenomenon, the entire mask is corrected by stretching 125% or more in the x / y direction. In particular, in recent computer environments, as the utilization of multimedia increases, the screen brightness is emphasized, and a higher cathode current is required for the CRT parts. In this case, the cathode current is concentrated on the bent screen. to be.

이하에서는 멀티미디어 활용으로 인한 디스플레이부에 나타나는 현상을 구체적으로 도 2, 도 3, 도 4를 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, the phenomenon appearing on the display unit due to the use of multimedia will be described in detail with reference to FIGS. 2, 3, and 4.

먼저 도 2와 같이 화면에 에디터를 띄우면, 화면의 왼쪽은 백색을 디스플레이 하기 위해 R, G, B가 각각 설정치 만큼 인가되지만, 오른쪽과 같은 검정색 화면을 띄우면 이때는 비디오 전압이 인가되지 않기 때문에 전류가 흐르지 않는 단계(cut-off level)까지 떨어져 마스크에 인가되는 전자빔의 양은 극미하여 그 경계 부분이 모호해지면서 멍이 발생한다,First, when the editor is displayed on the screen as shown in FIG. 2, R, G, and B are applied to the left side of the screen to display white, but when the black screen as shown on the right is displayed, current does not flow because no video voltage is applied. The amount of electron beams applied to the mask at a cut-off level is minimal, causing bruising as the boundary becomes obscured.

상기와 같은 현상은 도 3에 나타난 것처럼, 전자빔의 이동으로 인한 국부적인 도밍 현상이 발생하기 때문이다. 이 때에 발생하는 단위 입열량을 대략적으로 도 4를 근거로 다음과 같은 식1)을 이용하여Such a phenomenon is because, as shown in FIG. 3, a local doming phenomenon occurs due to the movement of the electron beam. The unit heat input generated at this time is approximately based on Equation 1) based on FIG.

식 1)Equation 1)

마스크의 x 방향 쉬프트(shift)양으로 계산하면 대략 x 방향으로 30㎛에 이른다.Calculated by the amount of shift in the x direction of the mask, it is approximately 30 μm in the x direction.

상기와 같은 이유로 x 방향의 마스크의 이동량은 스트라입(Stripe) 타입의 마스크의 경우엔 빔의 이동량과 동일하기 때문에 전자빔은 형광막의 타색에 입사할 수 있는 위치까지 이동하여 화질 악화 현상이 일어난다.For the above reason, since the amount of movement of the mask in the x direction is the same as the amount of movement of the beam in the strip type mask, the electron beam moves to a position where it can be incident on the other color of the fluorescent film, resulting in deterioration of image quality.

이처럼 국부적인 온도차로 인해 발생하는 국부적인 도밍 현상은 초기 구동조건에서는 발생하지 않지만, 특정화면 상태에서 국부적인 온도차가 심하게 나타나면 어디든 발생하기 때문에 기존의 방법으로 해결이 불가능한 문제점이 있다.As such, the local doming phenomenon caused by the local temperature difference does not occur in the initial driving condition, but if the local temperature difference is severe in a certain screen state, it occurs anywhere and there is a problem that cannot be solved by the conventional method.

상기와 같이 화면의 디스플레이 영상에 따라 국부적으로 캐소드(Cathode) 전류비 차가 발생하여 그 경계면에서의 마스크 외부에 입력되는 열량차로 인한 그 표면과 내부의 온도차 발생으로 인하여 마스크의 열팽창 현상이 발생하게 되어 화질에 악영향을 미치는 국부적인 도밍(Local Doming) 현상은 오픈 브리지 마스크를 이용할 경우 상기와 같은 현상을 방지하는데 큰 효과를 갖는다.As described above, according to the display image of the screen, the cathode current ratio is generated locally, and the thermal expansion phenomenon of the mask is caused by the temperature difference between the surface and the inside due to the heat difference inputted to the outside of the mask at the interface. Local Doming phenomenon that adversely affects has a great effect in preventing the above phenomenon when using an open bridge mask.

일반적으로 텐션 마스크의 국부적인 도밍 현상에 대해 변형 및 응력과의 관계를 살펴보면, 도 5를 근거로 다음 식 2)로 나타낼 수 있다.In general, looking at the relationship between the deformation and the stress for the local doming phenomenon of the tension mask, it can be represented by the following equation 2) based on FIG.

식 2)Equation 2)

(:ij방향 스트레인(strain),: ij 방향 스트레스(stress),열팽창 계수,: 온도차,:단위길이,:푸아송의 비(Poisson's ratio),: 탄성계수, (i,j는 변수) )( : ij direction strain, ij stress, Thermal expansion coefficient, : Temperature difference, Unit length, Poisson's ratio, : Modulus of elasticity, (i, j is variable)

상기 식 2의 관계를 구체적으로 살펴보면, 전체 x 방향 쉬프트(shift)량은 스트레칭(stretching)에 의한 변형량 + x 방향과 열팽창에 의한 이동량 + y 방향의 열팽창에 의한 이동량으로 나타낼 수 있는데, 그 중 렌딩 에러를 가장 크게 유발하는 것은 온도차에 의한 x 변위량이다.Looking at the relationship of Equation 2 in detail, the total amount of shift in the x direction can be represented by the amount of deformation due to stretching + the amount of movement due to thermal expansion and the amount of movement due to thermal expansion in the y direction. The most prominent error is the amount of x displacement due to the temperature difference.

이러한 x 방향의 이동량을 최소화하기 위해서 슬롯(slot)의 길이를 기존 대비 2∼3배 증가시켰을 때 국부적인 도밍 량이 현 수준의 1/2이하로 나타난다.In order to minimize the amount of movement in the x direction, when the length of the slot is increased two to three times, the local doming amount is less than half of the current level.

따라서 상기와 같은 국부적인 도밍현상을 방지하기 위하여 종래의 슬롯(slot)에 비하여 2∼3배 증가 시킬 수 있도록 한 오픈 브리지 마스크 형상을 구성토록 하는데, 상기와 같은 오픈 브리지화 한 형상은 디스플레이부에서 새도우가 나타나는 문제점이 발생된다.Therefore, in order to prevent the local dominant phenomenon as described above, an open bridge mask shape can be configured to be increased 2 to 3 times as compared with a conventional slot. The problem is that shadows appear.

본 발명의 목적은 국부적인 입력량 차이로 인해 발생하는 마스크 x 방향 쉬프트(shift) 양을 최소화하기 위하여 x 방향의 탄성 계수 값을 감소시켜 열팽창으로 인한 x 방향 쉬프트 양을 최소화 시키고자 텐션 마스크의 슬롯들에 대해 오픈브리지(Open bridge)를 적용하고 그 형상을 마스크 에칭 과정에서 각 중심부의 위치를 불일치 시켜 홀을 최소화 시킴으로써 오픈브리지 새도우를 제거한 텐션 마스크를 제공하고자 하는 것이다.It is an object of the present invention to reduce the amount of x-axis shift caused by local input difference to reduce the amount of elastic modulus in the x-direction so as to minimize the amount of x-direction shift due to thermal expansion. The purpose of this invention is to provide a tension mask by removing open bridge shadow by applying an open bridge to the bridge and minimizing the holes by mismatching the position of each center in the mask etching process.

도 1은 종래의 평면 브라운관을 개략적으로 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view schematically showing a conventional planar CRT.

도 2는 구동시 국부적 도밍이 발생하는 디스플레이 예시도이다.2 is a diagram illustrating a display in which local doming occurs during driving.

도 3은 국부적 도밍의 발생에 의한 색순도 불량에 관한 예시도이다.3 is an exemplary diagram relating to color purity defects due to the occurrence of local doming.

도 4는 구동시 마스크의 홀의 형상도이다.4 is a shape diagram of a hole of a mask during driving.

도 5는 국부적 도밍 발생시 국부 변형 및 응력에 관한 도식도이다.5 is a schematic diagram of local deformation and stress when local doming occurs.

도 6은 종래 마스크 에칭 패턴 및 마스크 형상을 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing a conventional mask etching pattern and a mask shape.

도 7은 본 발명에 의한 마스크 에칭 패턴 및 마스크 형상을 도시한 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing a mask etching pattern and a mask shape according to the present invention.

도 8은 종래의 마스크 에칭 현상과 본 발명의 에칭 현상 비교도이다.8 is a view illustrating a conventional mask etching phenomenon and an etching phenomenon of the present invention.

도 9는 홀의 위치 및 빔의 방향에 관한 상관도이다.9 is a correlation diagram regarding the position of the hole and the direction of the beam.

*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***

1: 형광막 2: 방폭유리 3: 판넬1: fluorescent film 2: explosion-proof glass 3: panel

4: 펀넬 5: 넥크부 6: 전자빔4: Funnel 5: Neck part 6: Electron beam

7: 전자총 8: 새도우 마스크 9: 프레임 구조체7: electron gun 8: shadow mask 9: frame structure

10: 자계쉴드 11: 보강밴드 12: 제 1에칭부10: magnetic shield 11: reinforcing band 12: first etching part

13: 제 2에칭부13: second etching part

상기 목적을 해결하기 위한 본 발명의 제 1의 기술적 해결수단은, 내면에 스크린이 형성된 패널, 상기 패널에 결합되는 펀넬, 상기 펀넬의 네크부에 삽입되어 스크린을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 상기 전자총으로부터 방출된 전자빔을 스크린의 수평 및 수직으로 편향시켜 화상을 표시하는 편향장치, 상기 패널의 스크린으로부터 소정 간격을 두고 배치되는 텐션 마스크를 구비한 컬러음극선관에 있어서, 상기 텐션 마스크의 전자빔 통과공 사이의 브리지들 중 적어도 하나는 인접하는 전자빔 통과공 사이를 연통하는 오픈 브리지로 구성되며, 상기 오픈 브리지의 단면의 스크린측 홀의 수직 중심축과 건 측 홀의 수직 중심축이 다른 것을 특징으로 한다.The first technical solution of the present invention for solving the above object is a panel having a screen formed on the inner surface, a funnel coupled to the panel, an electron gun inserted into the neck portion of the funnel to emit an electron beam toward the screen, the electron gun A deflection device for displaying an image by deflecting an electron beam emitted from the screen horizontally and vertically, and a color cathode ray tube having a tension mask disposed at a predetermined distance from the screen of the panel, wherein the electron beam passes through the tension mask. At least one of the bridges is composed of an open bridge communicating between adjacent electron beam through holes, characterized in that the vertical center axis of the screen-side hole in the cross-section of the open bridge and the vertical center axis of the key-side hole is different.

본 발명의 제 2의 기술적 해결수단은, 내면에 스크린이 형성된 패널, 상기 패널에 결합되는 펀넬, 상기 펀넬의 네크부에 삽입되어 스크린을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 상기 전자총으로부터 방출된 전자빔을 스크린의 수평 및 수직으로 편향시켜 화상을 표시하는 편향장치, 상기 패널의 스크린으로부터 소정 간격을 두고 배치되는 텐션 마스크를 구비한 컬러음극선관에 있어서, 상기 텐션 마스크의 전자빔 통과공 사이의 브리지들 중 적어도 하나는 인접하는 전자빔 통과공 사이를 연통하는 오픈 브리지로 구성되며, 상기 오픈 브리지의 단면의 스크린 측 홀의 수직 중심축과 건 측 홀의 수직 중심축과 상기 전자빔 통과공의 수직 중심축이 다른 것을 특징으로 한다.According to a second technical solution of the present invention, there is provided a panel having a screen formed therein, a funnel coupled to the panel, an electron gun inserted into a neck portion of the funnel to emit an electron beam toward the screen, and an electron beam emitted from the electron gun. A color cathode ray tube having a deflection device for displaying an image by deflecting the image horizontally and vertically, and a tension mask disposed at a predetermined distance from a screen of the panel, the color cathode ray tube comprising: at least one of bridges between electron beam passing holes of the tension mask; Is composed of an open bridge communicating between adjacent electron beam through holes, wherein the vertical center axis of the screen-side hole in the cross section of the open bridge and the vertical center axis of the key-side hole are different from the vertical center axis of the electron beam through hole. .

이하 본 발명의 텐션마스크 구조에 대해 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the tension mask structure of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 오픈 브리지 새도우를 방지할 수 있도록 마스크에 에칭시 스크린측 표면으로부터 형성되는 에칭부 중심축과 건(Gun) 측 표면으로부터 형성되는 에칭부 축이 일치하지 않토록 한 것이다.The present invention is such that the etching center axis formed from the screen side and the etching center axis formed from the gun side surface do not coincide with the mask so as to prevent the open bridge shadow.

인간의 눈은 불연속적인 것이 일정한 공간 주기를 가지고 배열할 때, 연속적인 것으로 연결시키려는 성질을 가지고 있다. 이러한 특성에 의해서 불연속적으로 배열하는 브리지는 눈에 잘 인식되지 않는다.The human eye has the property of connecting discontinuous things when they are arranged in a constant space cycle. Due to these characteristics, discontinuously arranged bridges are not well recognized.

일정한 공간 주기를 가지고 배열하는 사물이 인간의 눈에 의해서 인지될 수 있는 정도는 배열이 가지는 변조 깊이(Modulation depth) 와 공간 주파수(Spatial Frequency) 에 의해 좌우되며, 이는 많은 학자들에 의해 실험적으로 도출되어 실험식으로 나타나 있다.The degree to which objects arranged with a certain spatial period can be perceived by the human eye depends on the modulation depth and spatial frequency of the array, which are experimentally derived by many scholars. It is shown by the empirical formula.

이러한 실험식을 가지고 계산한 결과는 아래 표와 같다.The results calculated using these empirical formulas are shown in the table below.

[표 1] 각 모델별 브리지 그림자가 인식되지 않는 거리 측정값[Table 1] Distance measurement value not recognized by bridge shadow for each model

ModelModel PvPv PhPh aHaH aVaV DistanceDistance 17"FNormal17 "FNormal 0.3450.345 0.2450.245 0.1850.185 0.3100.310 280280 21"FNormal21 "FNormal 0.8600.860 0.7100.710 0.5330.533 0.7350.735 1,0501,050 17"FLarge Pv17 "FLarge Pv 5.0055.005 1.2251.225 1.1651.165 4.9784.978 900900

최근에 널리 사용되는 0.24Ph의 경우 0.255mm의 브리지를 사용하는 데, 이 경우 사용자와 모니터의 거리가 적어도 280mm이상이 되어야 오픈 브리지 새도우가 눈에 보이지 않는다.In the case of 0.24Ph which is widely used recently, 0.255mm bridge is used. In this case, the distance between the user and the monitor should be at least 280mm so that the open bridge shadow is not visible.

만약, 역으로 300mm에서 사용자가 모니터를 볼 경우, 새도우가 보이지 않을 수 있는 브리지간의 최대 거리는 0.5mm이며, 그 이상의 거리에서는 브리지의 그림자가 사용자 눈에 인식되어 화면에 규칙적인 점이 나타나는 현상이 일어난다.On the contrary, if the user views the monitor at 300 mm, the maximum distance between the bridges where the shadow may not be visible is 0.5 mm, and the shadow of the bridge is recognized by the user's eyes and a regular point appears on the screen.

따라서 최소한 브리지간의 거리는 0.5mm 이하로 유지하고 주사 무늬(scan moire) 등을 고려한다면 현재의 마스크에서 구간별로 브리지는 미소한 폭을 가지고 관통시키는 것이 가장 합리적이다. 그렇지만 아무리 적은 양의 홀이라고 해도 관통되어 있으면 이를 통해서 빔이 스크린에 입사 되어 사용자가 인식하게 된다.Therefore, if the distance between the bridges is at least 0.5mm and the scan moire is considered, it is most reasonable to penetrate the bridges with a small width in each section in the current mask. However, even if a small amount of holes are penetrated, the beam is incident on the screen and recognized by the user.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 오픈 브리지 열린 양을 관통전이나 후의 그림자 면적이 동일하게 만들어 사용자가 인식하지 못 하도록 구성되는데, 상기와 같은 경우에도 종래의 새도우 마스크 에칭 공정에서는 30㎛ 이하의 홀을 뚫는 어려운 점이 있다.In order to solve the above problems, the amount of open bridge opened is equal to the shadow area before or after the penetration, so that the user cannot recognize the same. In the case of the conventional shadow mask etching process, holes of 30 μm or less are formed. It is difficult to penetrate.

무엇보다도 종래의 마스크 에칭 공정에서의 에칭 능력이 마스크 50t㎛에서는 55㎛ 홀이 거의 한계인 것으로 알려져 있으며, 그 이하의 홀을 뚫는 것은 양산성이 거의 없는 것으로 알려져 있다.Above all, it is known that the etching capability in the mask etching process of the conventional mask is almost the limit of 55 占 퐉 holes in the mask 50 t 占 퐉, and it is known that the hole below the hole is hardly mass-produced.

따라서 기술적인 한계인 30㎛ 정도로 브리지를 관통하였을 경우, 종래의 브라운관의 빔 확대율과 비교하여 볼 때, 거의 모든 빔이 마스크를 통과하여 결론적으로는 소비자의 눈에 브리지의 그림자가 보인다. 이러한 값을 가지는 오픈 브리지 마스크의 구조는 거의 불가능하며, 국부적인 도밍 현상은 개선되지만 디스플레이 상에는 점 형태와 브리지 그림자가 보이는 등 더 큰 문제점이 유발된다.Therefore, when penetrating the bridge to the technical limit of 30㎛, compared with the beam magnification of the conventional CRT, almost all beams pass through the mask and consequently the shadow of the bridge is visible to the eyes of the consumer. The structure of an open bridge mask with this value is almost impossible, and local dominance is improved, but more problems arise such as spot shape and bridge shadow on the display.

상기와 같은 오픈 브리지 마스크(open bridge mask)를 만들기 위해서는 현재의 30㎛이하의 홀을 뚫을 수 있는 방법이 가장 중요하다.In order to make the open bridge mask as described above, a method capable of punching holes of less than 30 μm is most important.

이하에서 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 오픈 브리지 마스크의 에칭 과정을 설명한다.Hereinafter, the etching process of the open bridge mask to solve the above problems will be described.

먼저 종래의 에칭 공정은 초기 에칭 패턴을 설계하고, 이를 워크 패턴(Work Pattern)으로 제작한다. 이를 가지고 마스크 표면에 노광을 한 다음 이를 바탕으로 에칭을 하는 것으로 구성되어 있으며, 대부분의 마스크 홀 크기는 MP WP에서의 패턴 형상에 의해서 결정된다.First, a conventional etching process designs an initial etching pattern and fabricates it as a work pattern. With this, the mask surface is exposed and then etched, and most mask hole sizes are determined by the pattern shape in the MP WP.

이 경우 마스크의 에칭은 코팅막에 노광하면서 노광비의 특성 및 막의 두께로 인하여 패턴의 형상보다 감소하게 되어 때로는 에칭이 발생하지 못 할 경우도 있다.In this case, the etching of the mask is reduced than the shape of the pattern due to the characteristics of the exposure ratio and the thickness of the film while exposing the coating film, and sometimes the etching may not occur.

따라서 이러한 문제점을 해결하고자 에칭액 분사력을 조절하거나 노광빛의 세기를 증가시켜 이러한 문제점을 해결하였다.Therefore, in order to solve this problem, the problem was solved by adjusting the etching liquid injection force or increasing the intensity of exposure light.

이러한 공정은 지금까지의 공정 한계가 55㎛ 이내는 어려운 것으로 알려져 있으며, 그 이하의 홀을 뚫을 경우 일치(uniformity)가 될 수 없었다.Such a process is known to be difficult within the process limit of 55 μm so far, and it cannot be uniformity when a hole smaller than that is formed.

또한 도 6과 같이 종래의 에칭방법에 있어서, 건(Gun) 방향은 동일한 폭을 가지고 에칭을 실시하고 스크린 방향은 오픈 브리지 양만큼 간격을 두고 에칭 패턴을 제작하였다. 이런 경우 실제 마스크의 확대 사진과 같이 에칭 후의 간격이 30㎛ 이상 발생하고 그 형상도 거의 남아 있지 않다.In addition, in the conventional etching method as shown in FIG. 6, etching was performed with the same width in the Gun direction and spaced by the amount of open bridges in the screen direction. In this case, the interval after etching occurs more than 30 µm, as in the enlarged photograph of the actual mask, and the shape is hardly left.

본 발명은 도 7과 같이 텐션 마스크의 전자빔 통과공 사이의 브리지들 중 적어도 하나는 인접하는 전자빔 통과공 사이를 연통하는 오픈 브리지로 구성되며, 상기 오픈 브리지는 스크린측 표면으로부터 에칭에 의해 형성되는 제1의 에칭부(12)와 건 측 표면으로부터 에칭에 의해 형성되는 제 2의 에칭부(13)가 결합하여 형성된다.According to an embodiment of the present invention, at least one of the bridges between the electron beam through holes of the tension mask is composed of an open bridge communicating between adjacent electron beam through holes, wherein the open bridge is formed by etching from the screen side surface. The etching part 12 of 1 and the 2nd etching part 13 formed by the etching from the gun side surface are combined and formed.

상기와 같은 에칭은 스크린 측면에서의 패턴이 마스크 슬롯의 패턴과 비교하여 한쪽으로 치우치도록 구성되게 하고, 에칭시 중심부에서 시작되는 것이 아니라 한쪽으로 치우친 쪽에서 공정이 진행되도록 하고, 건(Gun) 측면에서의 패턴도 동일하게 중심부에서 한쪽으로 치우치게 구성하되 스크린 측면의 패턴과 상반된 위치에서 에칭이 되도록 한다.Such etching allows the pattern on the screen side to be biased to one side compared to the pattern on the mask slot, to allow the process to proceed on one side rather than starting at the center during etching, and to the gun side. Similarly, the pattern at is configured to be biased to one side at the center, but to be etched at a position opposite to the pattern on the screen side.

이와 같은 구조를 갖는 마스크는 관통되는 위치가 중심부가 아닌 각각의 중첩부 에서부터 발생하기 때문에 빔 방향이 수직으로 비출 경우 실제로 투과되는 양은 기존 대비 상당량이 감소된다.Since the mask having such a structure is generated from each overlapping portion instead of the central portion, the amount of penetration actually decreased when the beam direction is reflected vertically.

무엇보다도 이러한 방식을 사용하면 홀 사이즈 관리가 기존 대비 현저하게 간편하게 되는데 도 8를 통해 이를 살펴보면, 기존 방식으로 홀을 뚫을 시 최초 홀이 발생하면 그 이후에 에칭액이 중심부에 집중되기 때문에 급속하게 홀의 사이즈가 증가하기 때문에 이로 인한 홀의 사이즈 제어가 힘들어 진다. 하지만 본 발명에 의한 방법은 사이드에서 최초 홀이 발생하기 때문에 홀이 발생하더라도 에칭액이 집중되는 현상이 상대적으로 떨어지기 때문에 급격이 홀이 커지는 것을 현상을 줄일 수 있어 일치(uniformity) 향상에 큰 역할을 수행한다.Above all, this method makes the hole size management significantly easier than the conventional method. Looking at this through FIG. 8, when the first hole is generated when the hole is drilled by the conventional method, the size of the hole is rapidly concentrated since the etching solution is concentrated in the center. This increases the size of the hole, making it difficult to control the hole size. However, in the method according to the present invention, since the first hole is generated at the side, the concentration of the etchant concentrates even when the hole is generated, so that the phenomenon of the hole rapidly increasing can be reduced, which plays a big role in improving the uniformity. Perform.

마지막으로 도 9에서와 같이 본 발명은 홀의 중심부에서 주변으로 갈수록 전자빔의 편향 코일에 의해 각도를 가지게 되는데 이러한 값을 고려하여 현재의 슬롯 위치와는 역방향으로 오프셋(offset) 값을 주면 모든 빔을 마스크에서 차단할 수 있다.Finally, as shown in FIG. 9, the present invention has an angle by the deflection coil of the electron beam as it goes from the center of the hole to the periphery. In consideration of this value, an offset value is provided in the opposite direction to the current slot position to mask all beams. You can block from

이상과 같이 종래의 에칭 패턴을 그대로 활용하면서 기본의 오픈 브리지를 위한 패턴을 건 방향과 스크린 방향이 서로 다른 위치에 존재함 함으로써 관통 크기가 최소화 된 구조를 갖는 마스크 단면 형상은 종래와 비교하여 볼 때 현저히 그 폭이 감소하여 오픈 브리지 형상을 갖을 때 나타나는 섀도우를 방지할 수 있는 효과를 갖는다.As described above, the mask cross-sectional shape having a structure with a minimum penetrating size by using a conventional etching pattern as it is and having a pattern for a basic open bridge at different positions in the direction of the gun and the screen are compared with those of the conventional art. Its width is significantly reduced, which has the effect of preventing shadows that appear when having an open bridge shape.

더우기 본 발명은 종래의 공정 라인을 그대로 활용함으로써 추가 설비 및 공정 비용 추가 없이 제작이 가능하며 패턴이 다름으로 인한 공정 수정이 거의 필요 없는 효과를 갖는다.Moreover, the present invention can be manufactured without additional equipment and process costs by utilizing the conventional process line as it is, and has an effect that requires little process modification due to different patterns.

Claims (4)

내면에 스크린이 형성된 패널, 상기 패널에 결합되는 펀넬, 상기 펀넬의 네크부에 삽입되어 스크린을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 상기 전자총으로부터 방출된 전자빔을 스크린의 수평 및 수직으로 편향시켜 화상을 표시하는 편향장치, 상기 패널의 스크린으로부터 소정 간격을 두고 배치되는 텐션 마스크를 구비한 컬러음극선관에 있어서,A panel having a screen formed therein, a funnel coupled to the panel, an electron gun inserted into a neck portion of the funnel to emit an electron beam toward the screen, and an image of the electron beam emitted from the electron gun deflected horizontally and vertically to display an image. In a color cathode ray tube having a deflection device and a tension mask arranged at a predetermined distance from the screen of the panel, 상기 텐션 마스크의 전자빔 통과공 사이의 브리지들 중 적어도 하나는 인접하는 전자빔 통과공 사이를 연통하는 오픈 브리지로 구성되며,At least one of the bridges between the electron beam through holes of the tension mask is composed of an open bridge communicating between adjacent electron beam through holes, 상기 오픈 브리지의 단면의 스크린측 홀의 수직 중심축과 전자총 측 홀의 수직 중심축이 다른 것을 특징으로 하는 텐션 마스크를 구비한 컬러 음극선관.A color cathode ray tube with a tension mask, characterized in that the vertical center axis of the hole on the screen side and the vertical center axis of the hole on the electron gun side of the cross section of the open bridge are different. 내면에 스크린이 형성된 패널, 상기 패널에 결합되는 펀넬, 상기 펀넬의 네크부에 삽입되어 스크린을 향해 전자빔을 방출하는 전자총, 상기 전자총으로부터 방출된 전자빔을 스크린의 수평 및 수직으로 편향시켜 화상을 표시하는 편향장치, 상기 패널의 스크린으로부터 소정 간격을 두고 배치되는 텐션 마스크를 구비한 컬러음극선관에 있어서,A panel having a screen formed therein, a funnel coupled to the panel, an electron gun inserted into a neck portion of the funnel to emit an electron beam toward the screen, and an image of the electron beam emitted from the electron gun deflected horizontally and vertically to display an image. In a color cathode ray tube having a deflection device and a tension mask arranged at a predetermined distance from the screen of the panel, 상기 텐션 마스크의 전자빔 통과공 사이의 브리지들 중 적어도 하나는 인접하는 전자빔 통과공 사이를 연통하는 오픈 브리지로 구성되며,At least one of the bridges between the electron beam through holes of the tension mask is composed of an open bridge communicating between adjacent electron beam through holes, 상기 오픈 브리지의 단면의 스크린 측 홀의 수직 중심축과 전자총 측 홀의 수직 중심축과 상기 전자빔 통과공의 수직 중심축이 다른 것을 특징으로 하는 텐션 마스크를 구비한 컬러 음극선관.A color cathode ray tube with a tension mask, characterized in that the vertical center axis of the hole on the screen side and the vertical center axis of the hole on the electron gun side of the cross section of the open bridge are different from each other. 제 1 항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 마스크의 중심을 지나는 수직축에 대해 좌측에 위치하는 오픈 브리지의 전자총 측 홀의 수직 중심축이 스크린 측 홀의 수직 중심축 보다 좌측에 위치하는 것을 특징으로 하는 텐션 마스크를 구비한 컬러 음극선관.And a vertical center axis of the electron gun side hole of the open bridge positioned on the left side with respect to the vertical axis passing through the center of the mask is located on the left side of the vertical center axis of the screen side hole. 제 1 항 또는 제 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 마스크의 중심을 지나는 수직축에 대해 우측에 위치하는 오픈 브리지의 전자총 측 홀의 수직 중심축이 스크린 측 홀의 수직 중심축 보다우측에 위치하는 것을 특징으로 하는 텐션 마스크를 구비한 컬러 음극선관.And a vertical center axis of the electron gun side hole of the open bridge located on the right side with respect to the vertical axis passing through the center of the mask is located on the right side of the vertical center axis of the screen side hole.
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