KR100217150B1 - Shadow mask for color cathode ray tube - Google Patents

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Abstract

본 발명은 칼라 음극선관의 새도우 마스크에 관한 것으로서, 특히 새도우 마스크의 슬롯형상을 타원형으로 형성하고, 슬롯의 직경 및 슬롯간의 핏치를 고려하여 새도우 마스크를 제작함으로써, 새도우 마스크의 투과율을 증가시켜 휘도 성능을 좋게 함과 동시에 화면 코너(Corner)에서는 색순도를 확보하도록 한 것이다.The present invention relates to a shadow mask of a color cathode ray tube, and in particular, to form an oval shape of a shadow mask and to produce a shadow mask in consideration of the diameter of the slot and the pitch between the slots, thereby increasing the transmittance of the shadow mask, thereby improving luminance performance. At the same time, the screen corner (Corner) is to ensure the color purity.

Description

칼라 음극선관용 새도우 마스크.Shadow mask for colored cathode ray tubes.

본 발명은 칼라 음극선관의 새도우 마스크에 관한 것으로서, 특히 새도우 마스크의 슬롯형상을 타원형으로 형성하고, 슬롯의 직경 및 슬롯간의 핏치를 고려하여 새도우 마스크를 제작함으로써, 새도우 마스크의 투과율을 증가시켜 휘도 성능을 좋게 함과 동시에 화면 코너(Corner)에서는 색순도를 확보하도록 하는데 그 목적이 있다.The present invention relates to a shadow mask of a color cathode ray tube, and in particular, to form an oval shape of a shadow mask and to produce a shadow mask in consideration of the diameter of the slot and the pitch between the slots, thereby increasing the transmittance of the shadow mask, thereby improving luminance performance. At the same time, the purpose is to ensure color purity at the screen corner.

일반적인 칼라 음극선관의 구성은 도 1 내지 도 5와 같이 음극선관의 전면유리인 판넬(1)과, 상기 판넬(1)의 후면에 결합되는 후면유리인 펀넬(2)과, 그 내부에서 소정의 발광 역할을 하는 형광면(3)과, 상기 형광면(3)이 발광되도록 전자빔(4)을 방사하는 전자총(5)과, 상기 전자총(5)에서 방사된 전자빔(4)을 편향시켜주는 편향요크(6) 및 전자빔(4)이 정확히 형광체를 타격하도록 진행궤도를 수정해주는 마그네트(7)와, 소정의 형광체를 발광시키도록 색을 선별해주는 새도우 마스크(8)와, 음극선관이 동작중 외부 지자계에 영향을 적게 받도록 차폐 역할을 해주기 위한 인너쉴드(9) 및 새도우 마스크(8)를 지지하는 프레임(10)과, 상기 인너쉴드(9)를 프레임(10)에 고정하는 고정 스프링(11)과, 그리고, 상기 프레임 어셈블리를 판넬(1)에 결합되도록 해주는 스프링(12)으로 구성된다.The structure of a general color cathode ray tube includes a panel 1 which is the front glass of the cathode ray tube as shown in FIGS. 1 to 5, a funnel 2 which is a rear glass which is coupled to the rear surface of the panel 1, and a predetermined inside thereof. A deflection yoke for deflecting the fluorescent surface 3, which serves as light emission, the electron gun 5 emitting the electron beam 4 so that the fluorescent surface 3 emits light, and the electron beam 4 emitted from the electron gun 5 6) and a magnet 7 for correcting the trajectory so that the electron beam 4 strikes the phosphor precisely, a shadow mask 8 for selecting a color to emit a predetermined phosphor, and an external geomagnetic field during operation. Frame (10) for supporting the inner shield (9) and the shadow mask (8) to provide a shielding role so as to be less affected by, and a fixed spring (11) for fixing the inner shield (9) to the frame (10) and And a spring 12 which allows the frame assembly to be coupled to the panel 1. It consists of a.

미설명 부호 13은 고진공상태의 응력을 분산, 내충격 성능의 확보를 위해 판넬에 장착되는 보강밴드이고, 14는 전자빔 통과공인 슬롯(Slot)이며, 15는 형광체 돗트(Dot)이다.Reference numeral 13 is a reinforcement band mounted on the panel to disperse high vacuum stress and secure impact resistance, 14 is a slot that is an electron beam through hole, and 15 is a phosphor dot.

이와 같이 구성되는 칼라 음극선관의 동작원리를 설명하면 다음과 같다.The operation principle of the color cathode ray tube constructed as described above is as follows.

먼저, 펀넬(2)의 넥크에 내장된 전자총(5)에서 전자빔(4)이 음극선관에 인가된 양극전압에 의해서 판넬(1) 내면에 형성되어 있는 형광면(3)을 타격한다.First, in the electron gun 5 embedded in the neck of the funnel 2, the electron beam 4 strikes the fluorescent surface 3 formed on the inner surface of the panel 1 by the anode voltage applied to the cathode ray tube.

이때, 전자빔(4)은 형광면(3)에 도달하기전 편향요크(6)에 의해서 상하, 좌우로 편향되어 화면을 이루게 된다.At this time, the electron beam 4 is deflected up and down, left and right by the deflection yoke 6 before reaching the fluorescent surface 3 to form a screen.

그리고, 전자빔(4)이 정확히 소정의 형광체를 타격하도록 그 진행 궤도를 수정해주는 마그네트(7)가 있어 색순도 불량을 방지해 준다.In addition, there is a magnet 7 that modifies the trajectory so that the electron beam 4 strikes a predetermined phosphor, thereby preventing poor color purity.

한편, 이러한 음극선관은 고진공으로 되어 있기 때문에 외부의 충격에 쉽게 폭축이 일어날 수 있으므로 이것을 방지하기 위하여 판넬(1)의 가장자리에 보강밴드(13)를 장착함으로서 고진공상태의 음극선관의 응력을 분산하여 내충격 성능을 확보하고 있다.On the other hand, since the cathode ray tube is made of high vacuum, it can easily be deflated due to external impact, so that the stress of the cathode ray tube in the high vacuum state is dispersed by installing a reinforcing band 13 at the edge of the panel 1 to prevent this. Shock resistance is secured.

이와 같은 음극선관에 있어서 특히 데이터 처리용 및 화상용 음극선관의 새도우 마스크(8)는 도 2와 같이 전자빔(4) 통과공인 슬롯(14)이 원형 형상으로 되어 있고, 도 3과 같이 새도우마스크(8)의 X축(n:슬롯열수)에 대해서 중심에서부터 X축 끝까지 수평방향 슬롯경(Sh)과 수직방향 슬롯경(Sv)이 일정하게 배열된다.In this cathode ray tube, in particular, the shadow mask 8 of the cathode ray tube for data processing and image has a circular shape in which the slot 14, which is a hole passing through the electron beam 4, as shown in FIG. 2, has a shadow mask as shown in FIG. The horizontal slot diameter Sh and the vertical slot diameter Sv are constantly arranged with respect to the X axis (n: number of slot rows) of 8) from the center to the end of the X axis.

또한, 도 4와 같이 수평 핏치(Pitch)(Ph), 수직핏치(Pitch)(Pv)가 새도우 마스크(8)의 중심에서부터 X축 끝까지 일정하게 간격을 유지 하면서 슬롯(14)이 배열된다.Further, as shown in FIG. 4, the slots 14 are arranged while the horizontal pitch Ph and the vertical pitch Pv are constantly spaced from the center of the shadow mask 8 to the end of the X axis.

이것은 수직방향의 슬롯경(Sv)과 수직 방향의 핏치(Pv) 또한 Y축 방향에 대해서도 역시 일정하게 배열된 것을 의미한다.This means that the slot diameter Sv in the vertical direction and the pitch Pv in the vertical direction are also regularly arranged in the Y-axis direction.

이와 같은 형태의 새도우 마스크(8)에 있어서, 고정세 데이터 처리용 음극선관의 경우는 품질 특성중 항상 문제가 되는 품질 항목은 역시 색순도 미확보와 휘도 저하인데 종래의 음극선관용 새도우 마스크(8)의 형태는 이와 같은 색순도 미확보 및 휘도저하의 문제점을 안고 있다.In the shadow mask 8 of this type, in the case of the high-definition data processing cathode ray tube, the quality item which is always a problem among the quality characteristics is also incomplete color purity and lowered luminance, but the shape of the conventional shadow mask 8 for the cathode ray tube Has the problems of such color purity and luminance reduction.

즉, 상기한 바와 같은 형태의 슬롯(14)과 핏치를 가지고 제작 하였을때는 음극선관용 전자총(5)이 인라인(in-line)이고 새도우 마스크(8)와 판넬(1)이 곡면을 이루고 있기 때문에 전자총(5)에서 방사된 전자빔(4)이 판넬(1) 내면에 타격되었을때 이 전자빔 경(A)이 도 5와 같이 소정의 각도(θ)를 가지고 형광체 돗트(15)를 타격한다.That is, when manufactured with the slot 14 and the pitch as described above, the electron gun 5 for the cathode ray tube is in-line, and the shadow mask 8 and the panel 1 form a curved electron gun. When the electron beam 4 radiated in (5) strikes the inner surface of the panel 1, the electron beam mirror A strikes the phosphor dot 15 at a predetermined angle θ as shown in FIG.

이것을 보통 전자빔 틸트(Tilt)라고 하며 화면 구석에서 그 틸트 각도가 커지는데 이각이 크면 클수록 도 5에서 볼 수 있듯이 Red형광체를 타격하는 전자빔과 Blue 형광체를 타격하는 전자빔이 가까워져 약간의 미스 랜딩(Mis-Landing)이 발생해도 쉽게 상대방의 형광체를 타격 하기 때문에 색순도를 저하시키는 요인이 된다.This is called an electron beam tilt, and the larger the tilt angle is in the corner of the screen, the larger the angle, the closer the electron beam striking the red phosphor and the electron beam striking the blue phosphor are, as shown in FIG. Even if landing occurs, it hits the phosphor of the other party easily, which reduces the color purity.

즉, 전자빔 중심에서 인접의 전자빔 중심간 거리(Pd)가 전자빔 틸트 때문에 Green 형광체를 타격하는 전자빔 중심간의 거리에 비해서 상대적으로 가까워져서 쉽게 상대방의 형광체를 침범하여 색순도를 저하 시키는데 이것은 화면 구석에서 가장 심하게 나타난다.That is, the distance between the electron beam centers (Pd) from the electron beam center is relatively close to the distance between the electron beam centers striking the green phosphor due to the electron beam tilt, so it easily invades the other's phosphor and degrades the color purity. appear.

뿐만 아니라 화면 구석에서도 새도우 마스크(8)의 슬롯(14)이 원형이기 때문에 전자빔 투과율 역시 낮아 형광체의 발광도 이에 수반되므로 휘도가 같이 떨어지는 문제점을 가지고 있었다.In addition, since the slot 14 of the shadow mask 8 is circular in the corners of the screen, the electron beam transmittance is also low, and thus the emission of the phosphor is accompanied.

본 발명은 상기한 문제점을 감안한 것으로 새도우 마스크 슬롯의 형상을 타원형으로 형성하고, 상기 슬롯의 직경 및 슬롯간의 핏치를 고려하여 전체적으로 배럴(Barrel)형상으로 슬롯이 배열되는 새도우 마스크를 제작하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention provides a shadow mask in which the shape of a shadow mask slot is formed in an oval shape and the slot is arranged in a barrel shape in consideration of the diameter of the slot and the pitch between the slots.

도 1은 일반적인 음극선관의 구성도.1 is a block diagram of a typical cathode ray tube.

도 2는 종래 칼라 음극선관용 새도우 마스크 슬롯의 형상도.Figure 2 is a shape diagram of a shadow mask slot for a conventional color cathode ray tube.

도 3은 종래 칼라 음극선관용 새도우 마스크 슬롯의 크기변화 그래프.Figure 3 is a graph of the size change of the shadow mask slot for a conventional color cathode ray tube.

도 4는 종래 칼라 음극선관용 새도우 마스크의 슬롯 핏치 변화 그래프.Figure 4 is a graph of slot pitch change of the shadow mask for conventional color cathode ray tube.

도 5는 종래 새도우 마스크에 타격되는 전자빔의 배열 상태도.5 is an arrangement state of an electron beam hit by a conventional shadow mask.

도 6은 본 발명 새도우 마스크의 슬롯 형상도.Figure 6 is a slot shape of the present invention shadow mask.

도 7은 본 발명 새도우 마스크의 슬롯 크기변화 그래프.7 is a graph illustrating a slot size change of the shadow mask of the present invention.

도 8은 본 발명 새도우 마스크의 슬롯 핏치 변화 그래프.Figure 8 is a slot pitch change graph of the present invention shadow mask.

도 9는 본 발명의 새도우 마스크에 타격되는 전자빔의 배열 상태도.9 is an arrangement state of the electron beam hit by the shadow mask of the present invention.

도 10은 본 발명 새도우 마스크의 포오밍후의 핏치 및 슬롯 형성도.Figure 10 is a pitch and slot formation after forming the shadow mask of the present invention.

도 11은 본 발명 및 종래 새도우 마스크의 투과율을 나타낸 비교 그래프.11 is a comparative graph showing the transmittance of the present invention and the conventional shadow mask.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

101 : 새도우 마스크 102 : 슬롯(Slot)101: shadow mask 102: slot

103 : 전자빔 경(Width) 104 : 형광체 돗트(Dot)103: electron beam diameter 104: phosphor dot

본 발명인 칼라 음극선관용 새도우 마스크를 첨부한 도면을 참고로 이하에서 설명한다.The shadow mask for color cathode ray tube which is this invention is demonstrated below with reference to attached drawing.

일반적인 칼라음극선관의 구성 및 동작의 특성은 종래기술과 동일하므로 본 발명의 상세한 설명에서는 음극선관의 색순도 불량과 휘도 저하 및 내충격 성능을 동시에 확보하기 위한 적용대상인 새도우 마스크를 중심으로 기술하여 설명한다.Since the configuration and operation of the general color cathode ray tube are the same as in the prior art, the detailed description of the present invention focuses on the shadow mask which is the application target for simultaneously securing the color purity defect, the brightness reduction and the impact resistance of the cathode ray tube.

도 6과 같이 먼저, 새도우 마스크(101)의 슬롯(102) 형상을 원형이 아닌 타원형으로 하되 새도우 마스크(101) 중심에서는 슬롯(102)의 폭이 수평 방향보다 수직 방향으로 더 큰 구조의 슬롯(102) 형상을 유지하도록 형성하고, 새도우 마스크(101)의 X축 방향으로 진행 할수록 수직 방향(Sv) 보다는 수평방향(Sh)으로 더 크게 슬롯(102)을 도 7과 같은 변화치로 형성한다.First, as shown in FIG. 6, the shape of the slot 102 of the shadow mask 101 is an elliptical shape rather than a circular shape, but the width of the slot 102 is larger in the vertical direction than the horizontal direction at the center of the shadow mask 101. 102 is formed to maintain the shape, and the slot 102 is formed in the change value as shown in FIG. 7 larger in the horizontal direction Sh than in the vertical direction Sv as it proceeds in the X-axis direction of the shadow mask 101.

즉, 이 슬롯(102)의 형상을 X축과 슬롯(102)의 열수인 n에 대한 함수로 그 형상을 가변시켰고 새도우 마스크(101)의 Y축과는 무관하다는 것을 의미한다.That is, it means that the shape of the slot 102 is varied as a function of the X axis and the number of columns n of the slot 102 and is independent of the Y axis of the shadow mask 101.

또, 새도우 마스크(101)의 수평과 수직 핏치(Ph,Pv)를 새도우 마스크(101)의 X축과 슬롯(102)의 열수 n에 대해서 각각 가변이 되도록 한다.In addition, the horizontal and vertical pitches Ph and Pv of the shadow mask 101 are varied with respect to the X axis of the shadow mask 101 and the number of columns n of the slot 102, respectively.

즉, 도 8과 같이 수평 핏치(Ph)는 새도우 마스크(101)의 X축에 대해서 증가하는 핏치로 구성하고, 수직 핏치(Pv)는 감소하는 방향으로 구성한다.That is, as shown in FIG. 8, the horizontal pitch Ph includes a pitch that increases with respect to the X axis of the shadow mask 101, and the vertical pitch Pv includes a decreasing direction.

이렇게 함으로써 도 9에서 보듯이 종래의 문제점을 해결할 수 있는데 보다 구체적으로 설명하면, 판넬과 새도우 마스크(101)의 곡면에서 오는 전자빔 경(103) 틸트 현상은 피할 수 없지만 이 전자빔의 인접 전자빔 중심간의 거리(Pb)가 Red, Green, Blue 형광체 돗트(104)를 타격하는 전자빔 각각의 거리와 동일한 거리를 유지할 수 있어 다른 색의 형광체를 타격하는 여유 거리가 종래보다 훨씬 더 확보하는 것이 가능해져 색순도 여유도를 향상시킬 수 있다.In this way, the conventional problem can be solved as shown in FIG. 9. In more detail, the tilt of the electron beam diameter 103 coming from the curved surface of the panel and the shadow mask 101 can not be avoided, but the distance between the centers of the adjacent electron beams of the electron beam. Since Pb can maintain the same distance as each of the electron beams striking the red, green, and blue phosphor dots 104, the margin of striking the phosphors of different colors can be secured much more than before. Can improve.

뿐만 아니라 새도우 마스크(101)의 슬롯(102) 형상을 구석에서도 타원형으로 했기 때문에 형광체 돗트(104) 형상 역시 타원형이 되므로 전자빔 타격시 발광 면적이 종래 원형에 비해서 더 크므로 휘도가 상대적으로 더 밝다.In addition, since the shape of the slot 102 of the shadow mask 101 is elliptical in the corner, the shape of the phosphor dot 104 is also elliptical, and thus the luminance is relatively brighter since the light emitting area is larger than that of the conventional circle when the electron beam is hit.

이는 도 11과 같이 새도우마스크(101)의 투과율을 비교해 봤을때 종래 새도우 마스크의 투과율(S1)에 비해서 본 발명의 투과율(S2)은 수평 핏치가 증가 했음에도 불구하고 투과율이 화면 구석에서는 동등수준이며 그 이외의 안쪽에서는 오히려 더 높으므로 휘도가 상대적으로 높으면서도 색순도 여유도는 크게 가져갈 수 있다.When comparing the transmittance of the shadow mask 101 as shown in Figure 11, the transmittance (S2) of the present invention compared to the transmittance (S1) of the conventional shadow mask, despite the increase in the horizontal pitch, the transmittance is the same level in the corner of the screen In addition, since it is higher in the inside, the luminance can be relatively high while the color purity margin can be large.

또, 새도우 마스크(101)의 슬롯(102)과 핏치를 X축에 대해서 가변형으로 구성 시켰기 때문에 도 10과 같이 새도우 마스크(101)를 소정의 곡면으로 포오밍(Forming) 했을때 그 슬롯(102)과 핏치의 배열 때문에 외부의 충격이 음극선관에 전달 되었을때 변형등에 대해서 종래보다 내충격, 내진동 특성이 우수하다.In addition, since the slot 102 and the pitch of the shadow mask 101 are configured to be variable with respect to the X axis, when the shadow mask 101 is formed to a predetermined curved surface as shown in FIG. 10, the slot 102 is formed. Due to the arrangement of pitch and pitch, when the external shock is transmitted to the cathode ray tube, it has better impact resistance and vibration resistance than deformation.

즉, 새도우 마스크(101)가 포오밍 되었을때 도 10과 같이 슬롯(102)의 배열이 X축으로 갈수록 수직 방향의 핏치가 작아져 배럴(Barrel)형상으로 됨에 따라서 종래의 슬롯 배열보다 외부의 충격이 들어 왔을때 이를 흡수해서 새도우 마스크(101)가 변형이 되기 어려운 구조를 갖기 때문이다.That is, when the shadow mask 101 is foamed, as shown in FIG. 10, the pitch of the vertical direction decreases as the arrangement of the slots 102 moves toward the X-axis, and thus the barrel shape becomes a barrel shape. This is because the shadow mask 101 has a structure that is difficult to deform by absorbing it when it comes in.

여기서 새도우 마스크의 슬롯경(Slot Width)과 슬롯(102)의 배열 핏치를 X축에 대해서 수평과 수직 방향으로 가변형태로 구성하는데 쓰인 수식은 다음과 같다.Here, the formula used to configure the slot width of the shadow mask and the arrangement pitch of the slots 102 in the horizontal and vertical directions with respect to the X axis is as follows.

슬롯의 경우는For slots

Dv=Dvo*(1-aX2)Dv = Dvo * (1-aX2)

Dh=Dho*(1+aX2)Dh = Dho * (1 + aX2)

여기서 Dv : 수직방향의 슬롯 경Where Dv is the slot diameter in the vertical direction

Dh : 수평방향의 슬롯 경Dh: Slot diameter in the horizontal direction

Dho : 새도우 마스크 중심에서의 수평 방향 슬롯경Dho: Horizontal slot diameter at the center of the shadow mask

Dvo : 새도우 마스크 중심에서의 수직 방향 슬롯경Dvo: Vertical slot diameter at the shadow mask center

a : Coefficenta: Coefficent

X : 새도우 마스크의 X축X: X axis of the shadow mask

그리고 핏치의 경우는And in the case of pitch

Ph=Pho*(1+(n-1)3*Aph)Ph = Pho * (1+ (n-1) 3 * Aph)

Ph=Pvo*(1-aX2)Ph = Pvo * (1-aX 2 )

여기서 Ph : 수평 방향의 슬롯 핏치Where Ph is the slot pitch in the horizontal direction

Pv : 수직 방향의 슬롯 핏치Pv: Slot pitch in the vertical direction

Pho : 새도우 마스크 중심에서의 수평 방향 핏치Pho: Horizontal pitch at the center of the shadow mask

Pvo : 새도우 마스크 중심에서의 수직 방향 핏치Pvo: Vertical pitch at the center of the shadow mask

a : Coefficenta: Coefficent

Aph : CoefficentAph: Coefficent

X : CoefficentX: Coefficent

n : 새도우 마스크의 X축 방향의 슬롯 열수n: number of slots in the X-axis direction of the shadow mask

본 발명의 다른실시예로서,As another embodiment of the present invention,

음극선관용 새도우 마스크에 있어서 슬롯의 형상이 타원형 이외에 다각형의 형상을 가진 새도우 마스크에 있어서, 그 슬롯의 직경 변화가 새도우 마스크의 X축 또는 수평방향 슬롯의 열수에 대해서 함수관계이며 수평방향의 슬롯 직경은 중심에서 X축으로 갈수록 커지며 반대로 수직방향의 슬롯 직경은 작아짐과 동시에 슬롯간의 핏치 변화가 새도우마스크의 X축 또는 수평방향 슬롯의 열수에 대해서 함수관계이며 수평방향의 슬롯간의 핏치는 새도우 마스크 중심에서 X축으로 갈수록 커지며 반대로 수직 방향의 슬롯간의 핏치는 작아지는 형상으로 제작할 수 있다.In shadow masks for cathode ray tubes, in slot masks having a polygonal shape other than ovals, the change in diameter of the slots is a function of the number of columns in the X-axis or horizontal slots of the shadow mask and the slot diameter in the horizontal direction is On the contrary, the slot diameter in the vertical direction decreases while the pitch change between slots is a function of the number of columns in the X-axis or horizontal slot of the shadow mask, and the pitch between the slots in the horizontal direction is X at the shadow mask center. It can be manufactured in a shape that becomes larger toward the axis and that the pitch between slots in the vertical direction becomes smaller.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 새도우 마스크의 슬롯의 형상을 타원형으로 형성하고, 상기 슬롯의 직경 및 슬롯간의 핏치를 고려하여 전체적으로 배럴(Barrel)형상으로 슬롯을 배열한 새도우 마스크를 제작하여 칼라 음극선관을 구성함으로써, 전자빔 틸트 현상때문에 발생하는 색순도 여유도 감소 현상을 개선함과 동시에 화면 구석에서의 휘도 성능을 좋게 하고, 음극선관 외부의 충격시 충분히 견디어 새도우 마스크의 변형을 방지하는 효과가 있다.As described above, the present invention forms an oval shape of a slot of the shadow mask, and manufactures a shadow mask in which the slots are arranged in a barrel shape in consideration of the diameter of the slot and the pitch between the slots. In this configuration, the color purity margin reduction phenomenon caused by the electron beam tilt phenomenon is improved, and the luminance performance is improved at the corner of the screen, and it is sufficiently resistant to the impact outside the cathode ray tube, thereby preventing the deformation of the shadow mask.

Claims (3)

칼라 음극선관의 새도우 마스크에 있어서,In the shadow mask of the color cathode ray tube, 상기 새도우 마스크는 슬롯 형상을 타원형으로 형성하고,The shadow mask forms an oval shape of a slot, 상기 슬롯의 직경 변화가 새도우 마스크의 X축 또는 수평방향 슬롯의 열수에 대해서 함수관계이며, 수평방향의 슬롯 직경은 중심에서 X축으로 갈수록 커지며, 반대로 수직방향의 슬롯 직경은 작아지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관용 새도우 마스크.The diameter change of the slot is a function of the number of columns of the X-axis or the horizontal slot of the shadow mask, the slot diameter in the horizontal direction is larger from the center to the X axis, and the slot diameter in the vertical direction is smaller Shadow mask for colored cathode ray tubes. 칼라 음극선관의 새도우 마스크에 있어서,In the shadow mask of the color cathode ray tube, 상기 새도우 마스크는 슬롯간의 핏치 변화가 새도우 마스크의 X축 또는 수평방향 슬롯의 열수에 대해서 함수관계이고, 수평방향의 슬롯간의 핏치는 새도우 마스크 중심에서 X축으로 갈수록 커지며, 반대로 수직 방향의 슬롯간의 핏치는 작아지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관용 새도우 마스크.The shadow mask has a pitch relationship between slots as a function of the number of columns of the X-axis or the horizontal slot of the shadow mask, and the pitch between the slots in the horizontal direction increases from the center of the shadow mask toward the X-axis, and the pitch between the slots in the vertical direction is opposite. The shadow mask for color cathode ray tube, characterized in that becomes smaller. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 슬롯은 슬롯간의 핏치 변화가 새도우 마스크의 X축 또는 수평방향 슬롯의 열수에 대해서 함수관계이며, 수평방향의 슬롯간의 핏치는 새도우 마스크 중심에서 X축으로 갈수록 커지며, 반대로 수직 방향의 슬롯간의 핏치는 작아지는 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관용 새도우 마스크.The slots have a pitch relationship between slots as a function of the number of columns in the X-axis or horizontal slots of the shadow mask, and the pitches between the slots in the horizontal direction increase from the center of the shadow mask toward the X-axis. The shadow mask for color cathode ray tubes characterized by being smaller.
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