KR0131168B1

KR0131168B1 - Shadow mask for cathode-ray tube

Info

Publication number: KR0131168B1
Application number: KR1019940016344A
Authority: KR
Inventors: 장형일
Original assignee: 구자홍; 엘지전자(주)
Priority date: 1994-07-07
Filing date: 1994-07-07
Publication date: 1998-04-15
Also published as: KR960005722A

Abstract

The shadow mask for a cathode ray tube is characterized by this: increasing the margin of color purity by implementing the shape of the shadow mask to reduce relatively the slot width of the electron beam passed through the shadow mask as the mislanding direction of the electron beam during front and rear movement of a deflection yoke. It is for dot type shadow masks.

Description

Shadow Masks for Cathode Ray Tubes

제1도는 음극선관의 단면도.1 is a cross-sectional view of a cathode ray tube.

제2도는 돗트형 음극선관에서의 편향요크 전후 이동시 미스랜딩 방향.2 is a mis-landing direction when moving before and after the deflection yoke in a dot-type cathode ray tube.

제3도의 (a)(b)는 종래 음극선관에서의 퓨리티 향상을 위한 새도우 마스크 슬롯형상의 실시예도.Figure 3 (a) (b) is an embodiment of the shadow mask slot shape for improving the purity in the conventional cathode ray tube.

제4도는 본 발명 음극선관용 새도우 마스크.4 is a shadow mask for the cathode ray tube of the present invention.

제5도의 (a)는 제4도의 A부분 상세도. (b)는 제4도의 B부분 상세도. (c)는 제4도의 C부분 상세도.(A) of FIG. 5 is a detailed view of portion A of FIG. (b) is detail B of FIG. (c) is a detail of part C of FIG.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

101 : 새도우 마스크 102 : 슬롯101: shadow mask 102: slot

103 : 전자빔 104 : 형광체도트103 electron beam 104 phosphor dot

본 발명은 음극선관용 새도우 마스크에 관한 것으로 특히 돗트형 음극선관의 여유도를 증가시키기 위하여 전자빔의 미스랜딩 방향에 대하여 전자빔 폭이 작게 형성되도록 새도우 마스크 슬롯 형상을 만들어 색순도 여유도를 증가시키도록 한 것이다.The present invention relates to a shadow mask for a cathode ray tube, in particular, to increase the color purity margin by making a shadow mask slot shape so that the width of the electron beam is formed small with respect to the mislanding direction of the electron beam in order to increase the margin of the dot type cathode ray tube. .

종래의 음극선관은 제1도와 같이 판넬(1)과 판넬(2)로 이루어진 유리 벌브내의 넥크부(10)에 전자빔(9)을 방출하는 전자총(3)을 장착하고, 상기 전자총(3)에서 방출된 전자빔(9)에 의하여 색상을 선택하는데 중요한 역할을 하는 새도우 마스크(5)를 형성하며, 상기 판넬(1)내에는 방출된 전자빔(9)이 충돌하는 형광막(4)을 도포하였고, 상기 판넬(2)의 외부에는 전자총(3)에서 전자빔(9)을 스캔시키는 편향요크(8)를 장착하였다.The conventional cathode ray tube is equipped with an electron gun (3) for emitting an electron beam (9) in the neck portion 10 of the glass bulb consisting of a panel (1) and a panel (2) as shown in FIG. 1, and in the electron gun (3) A shadow mask 5 plays an important role in selecting a color by the emitted electron beam 9, and a fluorescent film 4 in which the emitted electron beam 9 collides is applied to the panel 1. Outside the panel 2, a deflection yoke 8 for scanning the electron beam 9 from the electron gun 3 is mounted.

이와 같이 구성된 음극선관은 넥크부(10)안에 들어있는 전자총(3)에서 열전자가 펀넬(2) 내부에 걸쳐있는 전압에 의하여 가속 및 집속되어 판넬(1)내면에 도포된 형광막(4)을 타격하여 소정의 영상을 재현하게 된다.The cathode ray tube configured as described above has a fluorescent film 4 coated on the inner surface of the panel 1 by accelerating and concentrating hot electrons from the electron gun 3 contained in the neck portion 10 by the voltage across the inside of the funnel 2. It strikes and reproduces a predetermined image.

이때 전자총(3)에서 가속된 전자빔(9)은 넥크부(10) 외부에 있는 마그네트에 의하여 진행경로가 바뀌어 전자편향장치인 편향요크(8)에 의하여 편향을 받게 된다.At this time, the electron beam 9 accelerated by the electron gun 3 is changed by the magnet outside the neck 10 and is deflected by the deflection yoke 8 which is an electron deflecting device.

그리고, 상기 편향된 전자빔(9)은 색선별 전극이라고하는 새도우마스크(5)을 통과하여 패널(1)내면에 도포되어 있는 형광막(4)를 타격시킴으로써 소정의 영상을 재현하게 되며 이 새도우마스크(5)는 프레임(6)이라고 하는 구조물에 의하여 지지되며 전자빔(9)이 외부지자계에 의하여 영향을 받지 않도록 하기 위한 지자계 차폐부품인 인너쉴드(7)도 함께 지지한다.The deflected electron beam 9 passes through a shadow mask 5 called a color screening electrode and strikes a fluorescent film 4 coated on the inner surface of the panel 1 to reproduce a predetermined image. 5) is supported by a structure called a frame 6, and also supports an inner shield 7 which is a geomagnetic shielding part for preventing the electron beam 9 from being affected by an external geomagnetic field.

이와 같이 가속된 전자빔(9)의 타격지점에 형광막(4)이 기하학적으로 일치한 상태로 도포되어 있는데 새도우마스크(5)가 틀어졌을 때 전자빔(9)이 인접 형광막(4)을 타격하게 되어 색순도가 나빠지게 된다.In this way, the fluorescent film 4 is applied in a geometrically matched state to the hitting point of the accelerated electron beam 9 so that the electron beam 9 strikes the adjacent fluorescent film 4 when the shadow mask 5 is turned on. This results in poor color purity.

이와 같은 색순도를 저하시키는 원인으로서는 새도우마스크(5)가 열팽창에 의한 도우밍(Doming)현상과 제조상 각종 조립오차에서 기인한다.The reason for lowering such color purity is that the shadow mask 5 is caused by the doming phenomenon due to thermal expansion and various assembly errors in manufacturing.

이와같이 발생되는 색순도 저하를 막기 위한 여유를 가지도록 설계되는데 이는 제 2도와 같이 돗트형 음극선관의 경우 편향요크를 조정하여 고정시키는 공정에서 녹색형광돗트(12)가 형성된 상태에서 편향요크(8)를 전후이동시 전자빔(9)이 인접한 다른 형광막을 치지 않도록 하는 색순도 마진(Margin)이 커야 한다.It is designed to have a margin to prevent the degradation of color purity generated as described above. In the case of the dot type cathode ray tube as shown in FIG. 2, the deflection yoke 8 is formed while the green fluorescent dot 12 is formed in the process of adjusting and fixing the deflection yoke. When moving back and forth, the margin of color purity (Margin) should be large so that the electron beam 9 does not hit another adjacent fluorescent film.

실제로 편향요크(8)를 전후 이동시에 전자빔의 미스랜딩방향은 제2도와 같이 X축에서는 전자빔(13)이 X축방향과 수평되게 이동하여 Y축에서도 역시 전자빔(13)은 Y축방향으로 이동한다.In fact, when the deflection yoke 8 is moved back and forth, the mis-landing direction of the electron beam is moved horizontally with the X-axis direction on the X-axis as shown in FIG. 2, so that the electron beam 13 also moves in the Y-axis on the Y-axis. do.

그리고, 가장 색순도가 취약한 D축에서는 약 45℃각도로 전자빔(9)이 이동하게 된다.In addition, the electron beam 9 moves at an angle of about 45 ° C on the D axis having the weakest color purity.

따라서 종래에는 색순도의 여유도를 확보하기 위하여 미국특허 4475056호는 제3도의(a)와 같이 새도우 마스크(15)의 슬롯(16) 형상을 타원형으로 하고 형광체를 타원으로 형성시키며, 전자빔은 원형으로하여 색순도 마진을 확보하였다.Therefore, in order to secure a margin of color purity, US Patent 4475056 has an elliptical shape of the slot 16 of the shadow mask 15 as shown in FIG. 3 (a), and forms a phosphor in an ellipse, and the electron beam is circular. Color purity margin.

그러나, 상, 하 방향의 색순도 여유도는 증가하나 실제빔의 미스랜딩 방향과는 불일치하여 그 효과가 적었다.However, the color purity margin in the up and down directions is increased, but the effect is inconsistent with the mislanding direction of the actual beam.

그리고, 제3도의 (b)와 같은 일본특허 공개 소59-16249호는 형광체 돗트가 판넬이 구면인 관계로 완전한 진원이 형성되기 어려운 점을 해결하기 위하여 새도우마스크(17)의 슬롯(18)형상을 (B)와 같이 형성시켜 형광체 돗트형성시 진원이 되도록하여 색순도 여유도를 꾀하려 했으나 이 역시 전자빔의 형상을 미고려했으므로 실제 그 효과는 미미하였다.In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-16249 such as (b) of FIG. 3 has a slot 18 shape of the shadow mask 17 in order to solve the difficulty in forming a perfect circle because the panel is spherical. Formed as shown in (B) to be the source of the fluorescent dot to form a circularity to try to achieve the color purity, but this also considered the shape of the electron beam, the effect was insignificant.

그리고 제3도의 (a)(b)모두 새도우마스크(15)(17) 슬롯(16)(18)경인 A,B가 A≠B인 것이 특징인 것으로써 색순도 마진이 효과적으로 커질수가 없었다.And (a) and (b) of FIG. 3 are characterized in that A and B, each of shadow shadows 15 and 17 slots 16 and 18, are A ≠ B, and color purity margins cannot be effectively increased.

본 발명은 이러한 점을 감안하여 새도우 마스크를 통과한 전자빔의 형상을 편향요크의 전후 이동시 전자빔의 미스랜딩 방향으로의 슬롯폭이 상대적으로 작게 구성하여 색순도의 여유도를 증가시킬 수 있도록 하는데 목적이 있다.In view of the above, an object of the present invention is to configure the shape of the electron beam passing through the shadow mask so that the slot width of the electron beam in the mis-landing direction is relatively small when the deflection yoke is moved back and forth to increase the margin of color purity. .

본 발명 음극선관용 새도우 마스크를 제4도 및 제5도에 의하여 설명한다. 새도우 마스크(101)에 형성된 슬롯 형상은 전자빔의 미스랜딩 방향과 반대로 되도록 슬롯(102)을 형성시켰다.The shadow mask for cathode ray tube of this invention is demonstrated by FIG. 4 and FIG. The slot 102 is formed so that the slot shape formed in the shadow mask 101 is opposite to the mislanding direction of the electron beam.

즉, 새도우마스크(101)를 통과한 전자빔(103)의 형상을 편향요크의 전후 이동시 전자빔(103)의 미스랜딩 방향으로의 슬롯(102)측이 상대적으로 작게 구성하여 실제 전자빔이 빠지는 방향에 대하여 인접한 다른 형광체를 타격시키는 거리인 색순도의 여유도를 증가시킬 수 있도록 하였다.That is, the shape of the electron beam 103 passing through the shadow mask 101 has a relatively small slot 102 side in the mis-landing direction of the electron beam 103 when the deflection yoke is moved back and forth with respect to the direction in which the actual electron beam falls out. It was possible to increase the margin of color purity, which is the distance to strike another adjacent phosphor.

이것은 새도우 마스크(101)의 각 축상에서 보면 그 중심에서는 진원이며 수평축(X), 수직축(Y), 대각선축(D)으로 그레이딩(grading)화한 형성으로 구성되었다.This is a circular shape in the center of the shadow mask 101, and is formed by grading on the horizontal axis (X), the vertical axis (Y), and the diagonal axis (D).

이와같이 구성함으로써 실제 편향요크의 전후 이동시 가장 큰 이동량을 나타내는 대각선축(D) 코너인 제4도의 A부분을 제5도의 (a)에서 보면 형광체 돗트(104)를 형성시킬 때 노광장치의 광원 구동을 비대칭으로하여 진원으로 형성시킨다.In this manner, when the portion A of FIG. 4, which is the corner of the diagonal axis D, which represents the largest amount of movement in the forward and backward movement of the actual deflection yoke, is viewed from (a) of FIG. 5, the driving of the light source of the exposure apparatus is performed when the phosphor dot 104 is formed. Asymmetrically, formed into a round.

따라서, 진원의 형광체에 새도우마스크(101) 슬롯형상의 전자빔(103)이 타격했을 때 전자빔(103)의 이동방향은 약 45°이다.Therefore, the movement direction of the electron beam 103 is about 45 degrees when the shadow of the shadow mask 101 slot-shaped electron beam hits the fluorescent substance of a round shape.

상기와 같이 45°방향으로의 전자빔(103)폭을 작게함으로써 인접 형광체를 치는 대각선축간격(Dd)이 증가하게 되어 편향요크 조정시 색순도 여유도량이 커지는 결과를 가져오기 때문에 보다 조정폭이 큰 음극선관을 만들 수 있다.By reducing the width of the electron beam 103 in the 45 ° direction as described above, the diagonal axis spacing Dd striking the adjacent phosphor increases, resulting in a greater color purity margin when adjusting the deflection yoke. You can make

그리고, 제4도의 B부분 및 C부분은 제5도의 (a)(b)와 같이 수평축(X)축이나 수직축(Y)에서도 전자빔(103)이 이동하는 방향으로의 전자빔폭을 작게 새도우마스크 슬롯을 형성시킴으로써 대각선축 간격(Dd)과 마찬가지로 수평축 간격(Xd)과 수직축 간격(Yd)의 값이 큰 음극선관을 구성할 수 있다.In the B and C portions of FIG. 4, the shadow mask slots have a smaller width of the electron beam in the direction in which the electron beam 103 moves on the horizontal axis (X) axis or the vertical axis (Y) as shown in (a) and (b) of FIG. By forming the same, a cathode ray tube having a large value of the horizontal axis spacing Xd and the vertical axis spacing Yd similarly to the diagonal axis spacing Dd can be formed.

그리고 전자빔폭과 전자빔폭의 간격은 편향요크의 전후 이동시에 가장 많이 이동하는 부분에서 큰 간격을 갖도록 대각선축 간격(Dd) ≥ 수평축 간격 (Yd) ≥ 수직축간격(Yd)로 되게 구성하였다.The interval between the electron beam width and the electron beam width was configured such that the diagonal axis spacing Dd ≥ horizontal axis spacing Yd ≥ vertical axis spacing Yd so as to have a large spacing in the most moving portion during the forward and backward movement of the deflection yoke.

그리고 상기 슬롯(102) 형상은 타원형이나 다각형 또는 타원다각형으로 구성하였다. 이와같은 본 발명의 새도우 마스크로 구성된 음극선관은 특히 종래의 전자빔 이동방향을 미고려한 음극선관 보다 훨씬 편향요크를 조정할 때 가져야 하는 색순도 여유도량이 크게 되어 고해상도의 음극선관 제조시 제조수율 향상에 상당한 영향을 끼칠 뿐만 아니라 색순도 확보가 가능한 발명이다.And the shape of the slot 102 is composed of oval, polygonal or elliptical polygon. The cathode ray tube made of the shadow mask of the present invention has a significant color purity margin when adjusting the deflection yoke, especially when adjusting the deflection yoke much more than the conventional cathode ray tube considering the direction of electron beam movement, and thus has a significant effect on the improvement of manufacturing yield in manufacturing a high-definition cathode ray tube. It is an invention that not only affects but also secures color purity.

Claims

In cathode ray tube with dot-type shadow mask, the shape of the electron beam passing through the shadow mask is configured so that the slot width in the mis-landing direction of the electron beam is relatively small when the deflection yoke is moved back and forth to increase the margin of color purity. Shadow mask for cathode ray tube, characterized in that.

The shadow mask for a cathode ray tube according to claim 1, wherein an interval between the electron beam width and the electron beam width is provided at a diagonal axis interval ≥ horizontal axis interval ≥ vertical axis interval.

The shadow mask for cathode ray tubes according to claim 1, wherein the slot mask has an elliptical shape.

The shadow mask for cathode ray tubes according to claim 1, wherein the slot mask has a polygonal shape.

The shadow mask for cathode ray tubes according to claim 1, wherein the slot mask has an elliptical polygonal shape.