KR100435162B1 - Membrane disc - Google Patents

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KR100435162B1 KR10-2001-0007705A KR20010007705A KR100435162B1 KR 100435162 B1 KR100435162 B1 KR 100435162B1 KR 20010007705 A KR20010007705 A KR 20010007705A KR 100435162 B1 KR100435162 B1 KR 100435162B1
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히다찌 플랜트 겐세쓰 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 평막의 팽창을 방지할 수 있는 회전 평막 디스크를 제공한다.The present invention provides a rotating flat membrane disk capable of preventing expansion of the flat membrane.

본 발명의 회전 평막 디스크(10)는 디스크(16)의 저면에 원형 평막(18)이 접착되어 구성되어 있다.The rotating flat membrane disk 10 of this invention is comprised by the circular flat membrane 18 adhere | attached on the bottom face of the disk 16. As shown in FIG.

디스크(16)와 평막(18)은 고착부(20)에 의해 외주부가 전주(全周)에 걸쳐서 고착되는 동시에, 그 외주 고착부(20)의 내측에서 복수의 부분적 고착부(22),(22)…에 의해 고착되어 있다.The disk 16 and the flat membrane 18 are fixed to the outer periphery by the fixing portion 20 over the entire circumference, and at the same time, the plurality of partial fixing portions 22 inside the outer peripheral fixing portion 20, ( 22)... It is fixed by.

부분적 고착부(22)는 Φ10mm 의 점형상으로 형성되어 Φ500mm 와 Φ600mm 위치에 30°간격으로 배치되어 있다.The partial fixing portions 22 are formed in a dot shape of Φ 10 mm and are disposed at intervals of 30 ° at positions Φ 500 mm and Φ 600 mm.

Description

평막디스크{MEMBRANE DISC}Flat Disk Disc {MEMBRANE DISC}

본 발명은 평막 디스크에 관한 것이며, 특히 간헐적으로 여과(濾過)운전을 하는 회전 평막 분리장치에 사용하는 평막 디스크에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to flat membrane discs, and more particularly, to flat membrane discs for use in rotating flat membrane separators for intermittent filtration operations.

회전 평막 분리장치는 중공형의 회전축과, 이 회전축에 장착된 다수의 평막 디스크를 구비하고, 평막 디스크를 회전시키면서 그 내부에 피처리수를 흡인함으로써 여과를 한다.The rotary flat membrane separator includes a hollow rotary shaft and a plurality of flat membrane disks mounted on the rotary shaft, and filters the water by sucking the water to be treated therein while rotating the flat membrane disk.

평막 디스크는 디스크라고 불리우는 원반형의 지지체의 양면에 평막을 팽팽하게 형성하고, 이 평막과 디스크를 외주부에서 전주(全周)에 걸쳐서 고착한 것이다.A flat membrane disk is a flat membrane formed on both sides of a disk-shaped support body called a disk, and this flat membrane and a disk were adhere | attached over the whole pole in the outer peripheral part.

이 평막 디스크는 회전축과 함께 항상 회전하고, 이로써 막면에 유속(流速)을 부여하여 막면에 오염물질이 부착되는 것을 방지하고 있다.The flat membrane disc always rotates together with the rotating shaft, thereby providing a flow velocity to the membrane surface to prevent contaminants from adhering to the membrane surface.

따라서, 회전 평막 분리장치는 피처리수를 순화시켜서 막면에 유속을 부여하는 다른 분리장치보다 저(低)동력으로 여과 운전할 수 있다.Therefore, the rotary flat membrane separation device can perform filtration operation at a lower power than other separation devices which purify the water to be treated and impart a flow rate to the membrane surface.

또, 회전 평막 분리장치는 평막의 투과성능을 유지하기 위해, 일반적으로 피처리수의 흡인여과를 간헐적으로 하는 간헐 흡인방식이 채용되고 있다.In addition, in order to maintain the permeation performance of the flat membrane, the rotary flat membrane separation device generally employs an intermittent suction method of intermittently sucking filtration of the water to be treated.

이 방식은 피처리수의 흡인을 일시적으로 정지함으로써 오염층의 막면에의 부착력을 저하시키는 동시에, 평막 디스크를 계속 회전시킴으로써 오염층을 막면으로부터 박리 제거한다.This method reduces the adhesion of the contaminated layer to the membrane surface by temporarily stopping the suction of the water to be treated, and removes and removes the contaminated layer from the membrane surface by continuously rotating the flat membrane disk.

또, 평막 디스크 내부의 투과수의 일부가 원심력에 의해 평막을 통하여 역류 (逆流)하므로 약간의 역류 세정의 효과가 얻어진다.In addition, a part of the permeated water inside the flat membrane disc flows back through the flat membrane by centrifugal force, so that the effect of some countercurrent washing is obtained.

그러나, 종래의 회전 평막 분리장치는 투과수가 역류했을 때에 평막이 지지체로부터 떨어져서 팽창한다는 결점이 있었다.However, the conventional rotary flat membrane separator has the disadvantage that the flat membrane is expanded from the support when the permeate flows back.

그러므로, 흡인여과를 정지할 때마다 평막이 반복하여 팽창하므로, 평막이 늘어나 주름을 형성하여 평막이 파손될 우려가 있었다.Therefore, since the flat membrane repeatedly expands each time the suction filtration is stopped, the flat membrane may be stretched to form wrinkles and the flat membrane may be damaged.

본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 평막의 팽창을 방지할 수 있는 평막 디스크를 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of such a situation, and an object of this invention is to provide the flat disk which can prevent expansion of a flat membrane.

도 1은 본 실시형태의 평막 디스크를 사용한 막 모듈의 외관도.1 is an external view of a membrane module using the flat membrane disk of the present embodiment.

도 2는 본 실시형태의 평막 디스크의 측면 단면도.2 is a side cross-sectional view of the flat membrane disc of the present embodiment.

도 3은 도 2의 3 - 3 선을 따르는 단면도.3 is a cross-sectional view taken along line 3-3 of FIG.

도 4는 역류(逆流) 영역을 설명하는 설명도.4 is an explanatory diagram for explaining a reverse flow region;

도 5는 디스크 중심으로부터의 거리에 있어서의 투과 유속 분포를 나타낸 도면.Fig. 5 is a diagram showing the transmission flow rate distribution at a distance from the center of the disc.

도 6은 여과 압력의 경시 변화를 나타낸 도면.6 is a view showing a change over time of the filtration pressure.

도 7은 도 3과 다른 형상의 평막 디스크를 나타낸 단면도.FIG. 7 is a cross-sectional view of a flat disk having a shape different from that of FIG. 3. FIG.

도 8은 도 3과 다른 형상의 평막 디스크를 나타낸 단면도.8 is a cross-sectional view of a flat disk having a shape different from that of FIG.

(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)

10 : 평막디스크 14 : 회전축10: flat disk 14: rotating shaft

16 : 디스크 18 : 평막16: disc 18: flat membrane

20 : 외주 고착부 22 : 부분적 고착부20: outer fixing part 22: partial fixing part

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 회전 평막 분리장치에 사용되며, 원형 지지체의 양면에 팽팽하게 형성한 원형 평막을, 이 평막의 외주부에서 상기 지지체에 고착한 평막 디스크에 있어서, 상기 평막을 상기 지지체의 양면에 부분적으로 고착한 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is used in a rotating flat membrane separation apparatus, and in the flat membrane disk, wherein the flat flat membrane formed on both sides of the circular support is fixed to the support at the outer periphery of the flat membrane, the flat membrane is It is characterized by being partially fixed to both sides of the support.

본 발명에 의하면, 평막을 지지체에 부분적으로 고착하였으므로 평막이 지지체로부터 떨어져서 팽창하는 것이 억제된다.According to the present invention, since the flat membrane is partially fixed to the support, expansion of the flat membrane away from the support is suppressed.

이로써, 평막에 주름이 형성되는 것을 방지할 수 있고, 평막의 파손을 방지할 수 있다.Thereby, wrinkles can be prevented from forming in the flat membrane, and breakage of the flat membrane can be prevented.

또 본 발명에 의하면, 부분적 고착부를 선형상 또는 점형상으로 형성하여, 부분적 고착부의 면적을 작게 하였으므로 평막의 투과능력이 저하되는 일이 없다.According to the present invention, since the partial fixing portion is formed in a linear or point shape and the area of the partial fixing portion is made small, the permeability of the flat membrane does not decrease.

또한 본 발명에 의하면, 상기 평막을 통과한 액체가 평막을 통하여 역류하는 영역에 부분적 고착부를 배치함으로써, 상기 평막의 팽창을 효과적으로 억제할 수 있다.In addition, according to the present invention, by partially arranging the fixing portion in a region where the liquid passing through the flat membrane flows back through the flat membrane, the expansion of the flat membrane can be effectively suppressed.

다음, 첨부 도면에 따라서 본 발명에 관한 평막 디스크의 바람직한 실시형태에 대하여 설명한다.Next, preferred embodiments of the flat membrane disc according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 실시형태의 평막 디스크(10)를 사용한 막 모듈(12)의 외관도이다.1 is an external view of the membrane module 12 using the flat membrane disk 10 of the present embodiment.

상기 도면에 나타낸 바와 같이, 막 모듈(12)은 회전축(14)과 이 회전축(14)에 소정 간격으로 병설(竝設)된 복수의 평막 디스크(10)로 구성되며, 회전 평막 분리장치의 처리조(槽)(도시하지 않음)에 저류된 원수(原水)(피처리수)에 침지된다.As shown in the figure, the membrane module 12 is composed of a rotating shaft 14 and a plurality of flat membrane disks 10 arranged parallel to the rotating shaft 14 at predetermined intervals, and the processing of the rotating flat membrane separating apparatus. It is immersed in raw water (treated water) stored in a tank (not shown).

상기 회전축(14)은 도시하지 않은 구동장치에 연결되어 있으며, 상기 평막 디스크(10)와 함께 회전할 수 있도록 되어 있다.The rotating shaft 14 is connected to a driving device (not shown) and is capable of rotating together with the flat membrane disk 10.

또, 회전축(14)은 평막 디스크(10)의 내부에 연통되는 동시에, 도시하지 않은 흡인장치에 연통되어 이 흡인장치를 구동함으로써 평막 디스크(10)의 내부에 흡인력을 발생시킬 수 있다.In addition, the rotating shaft 14 communicates with the inside of the flat membrane disc 10 and also communicates with a suction device (not shown) to drive the suction device, thereby generating a suction force inside the flat membrane disc 10.

도 2는 평막 디스크(10)의 단면도이며, 도 3은 도 2의 3 - 3 선을 따르는 단면도이다.FIG. 2 is a cross sectional view of the flat membrane disc 10, and FIG. 3 is a cross sectional view along the line 3-3 of FIG.

이들 도면에 나타낸 바와 같이, 평막 디스크(10)는 원형 디스크(16)의 양면에 원형 평막(18)을 접착함으로써 원반형으로 형성되어 있다.As shown in these figures, the flat membrane disk 10 is formed in a disk shape by adhering the circular flat membrane 18 to both surfaces of the circular disk 16.

디스크(16)와 평막은 외주부에 전주에 걸쳐서 접착되어 있으며, 그 접착부분 (이하, 외주 고착부라고 함)(20)에 의해 평막(18)을 투과한 투과수가 외부로 누설되지 않도록 되어 있다.The disk 16 and the flat membrane are adhered to the outer circumference over the entire circumference, and the permeate water having passed through the flat membrane 18 is prevented from leaking to the outside by the adhesive portion 20 (hereinafter, referred to as the outer circumferential fixation portion).

이로써, 평막 디스크(10)의 내부(디스크와 평막과의 사이)에 흡인력이 발생하면, 평막 디스크(10)의 외부 원액이 평막(18)을 통해서 내부로 흡인되고, 그 투과수가 회전축(14)에 송액(送液)된다.As a result, when a suction force is generated inside the flat membrane disc 10 (between the disc and the flat membrane), the external undiluted solution of the flat membrane disc 10 is sucked into the inside through the flat membrane 18, and the permeate is rotated by the rotating shaft 14. It is sent to

그리고, 도 2 의 부호 24는 액봉(液封) 링이며, 투과수가 회전축(14)측으로부터 누설되는 것을 방지하고 있다.Reference numeral 24 in FIG. 2 denotes a liquid rod ring, which prevents leakage of permeate water from the rotation shaft 14 side.

또, 평막 디스크(10)는 도 3에 나타낸 바와 같이, 상기 외주 고착부(20)보다 회전축 측으로 복수의 부분적 고착부(22),(22)…가 형성되어 있다.In addition, as shown in Fig. 3, the flat membrane disk 10 has a plurality of partial fixing portions 22, 22,..., On the rotational axis side than the outer fixing portion 20. Is formed.

이 부분적 고착부(22),(22)…는 여과 운전 정지시에(즉, 평막 디스크(10)를 회전시키면서 흡인을 정지했을 때에) 투과수가 평막(18)을 통해 역류하는 영역(이하. 역류 영역이라고 함)에 배치된다.The partial fixing portions 22, 22. Is placed in a region where the permeate flows back through the flat membrane 18 (hereinafter referred to as a counter flow region) at the time of stopping the filtration operation (i.e., stopping the suction while rotating the flat membrane disk 10).

이 역류 영역은 통상, 도 4에 나타낸 바와 같이, 평막 디스크(10)의 회전축을 중심으로 한 원형 경계선(34)에 의해 평막 디스크(10)를 2 등분했을 때에 경계선(34)보다 외측에 형성된다.As shown in FIG. 4, this reverse flow region is generally formed outside the boundary line 34 when the flat membrane disc 10 is divided into two by a circular boundary line 34 around the rotation axis of the flat membrane disc 10. .

즉, 중앙부(36)의 면적과 주변부(38)의 면적이 동등해지도록 평막 디스크 (10)를 구분했을 때에 주변부(38)가 역류 영역이 된다.That is, when the flat membrane disc 10 is divided so that the area of the center part 36 and the area of the peripheral part 38 become equal, the peripheral part 38 turns into a backflow area.

예를 들면, 평막 디스크(10)가 Φ700mm, 외주 고착부(20)가 폭 15mm 인 경우, 역류 영역은 대개 Φ500mm 의 경계선(34)보다 외측에 형성된다.For example, when the flat membrane disc 10 has a diameter of Φ 700 mm and the outer peripheral fixing portion 20 has a width of 15 mm, the backflow region is usually formed outside the boundary line 34 of Φ 500 mm.

그래서, 부분적 고착부(22)를 Φ10mm 의 점형상으로 형성하여 Φ500mm 와 Φ600mm 위치에 30°간격으로 배치한다. 이로써, 부분적 고착부(22),(22)…가 역류 영역에 균등하게 배치된다.Thus, the partial fixing portions 22 are formed in a point shape of Φ 10 mm and are disposed at intervals of 30 ° at positions Φ 500 mm and Φ 600 mm. In this way, the partial fixing portions 22, 22. Are evenly disposed in the backflow region.

다음에, 상기와 같이 구성된 평막 디스크(10)의 작용에 대하여 설명한다.Next, the operation of the flat membrane disk 10 configured as described above will be described.

막 모듈(12)은 평막 디스크(10)의 내부에 흡인력을 작용함으로써 평막 디스크(10)의 외부의 원액을 평막(18)을 통해서 내부에 흡인하여 투과한다. 그 때, 평막(18)의 막면에는 평막 디스크(10)를 회전해도 박리될 수 없는 오염층이 서서히 퇴적한다.The membrane module 12 applies suction to the inside of the flat membrane disc 10 and sucks and transmits the undiluted liquid from the outside of the flat membrane disc 10 through the flat membrane 18. At that time, a contaminant layer which cannot be peeled off even if the flat membrane disk 10 is rotated is gradually deposited on the membrane surface of the flat membrane 18.

그래서, 흡인 여과를 일정 시간 행한 후 흡인을 일시적으로 정지하여 흡인압을 저하시킴으로써, 오염층의 평막(18)으로의 부착력을 저하시키는 동시에, 평막 디스크(10)를 계속 회전함으로써 상기 오염층을 평막(18)으로부터 박리 제거한다.Therefore, after the suction filtration is performed for a certain time, the suction is temporarily stopped to lower the suction pressure, thereby lowering the adhesion force of the contaminated layer to the flat membrane 18 and simultaneously rotating the flat membrane disc 10 to flatten the contaminated layer. Peeling removal is carried out from (18).

그 때, 평막 디스크(10)의 내부의 투과수의 일부는 평막(18)을 통하여 외부로 역류된다.At that time, a part of the permeate water inside the flat membrane disc 10 flows back to the outside through the flat membrane 18.

도 5는 Φ700mm 의 평막 디스크(10)의 평막(18)에 있어서의 투과 유속 분포를 나타낸 것이며, 도 5a 는 여과시를 나타내며, 도 5b 는 여과 정지시를 나타내고 있다. 여기서, 평막 디스크(10)의 외부로부터 내부로 흐르는 방향을 정(正)방향으로 한다.FIG. 5 shows the permeation flow rate distribution in the flat membrane 18 of the flat membrane disk 10 of Φ 700 mm, FIG. 5A shows the filtration time, and FIG. 5B shows the filtration stop time. Here, the direction which flows inward from the exterior of the flat membrane disc 10 is made into the positive direction.

도 5a 에 나타낸 바와 같이, 여과시에는 평막 디스크(10)의 중심(즉 회전축)에서 멀어짐에 따라서 투과 유속이 저하된다.As shown in FIG. 5A, the permeation flow rate decreases as the filter moves away from the center (ie, the axis of rotation) of the flat membrane disk 10.

이것은 평막 디스크(10) 내부의 액체에 원심력이 걸려서 투과수가 역방향으로 흐르도록 하여 투과 유속이 얻기 어렵게 되기 때문이다.This is because the permeate flow rate is difficult to be obtained because centrifugal force is applied to the liquid inside the flat membrane disc 10 so that the permeate flows in the reverse direction.

그러나, 여과시의 투과 유속은 정상 운전에서 사용하는 50rpm 으로는 거의 원심력의 영향이 없고, 고속 회전인 200rpm 의 경우에도 항상 정(正)의 투과 유속이 얻어져 역류는 발생하지 않는다.However, the permeation flow rate at the time of filtration has almost no influence of centrifugal force at 50 rpm used in normal operation, and a positive permeation flow rate is always obtained even at a high speed of 200 rpm, so that no reverse flow occurs.

한편, 여과 정시시에는 도 5b 에 나타낸 바와 같이, 회전축 측으로부터 외측에 걸쳐서 투과 유속이 서서히 저감되어 중심에서 약 250mm 의 위치에서 투과 유속의 방향이 역전되어 있는 것을 알 수 있다.On the other hand, at the time of filtration timing, as shown to FIG. 5B, it turns out that permeation flow velocity is gradually reduced from the rotation shaft side to the outer side, and the direction of permeation flow velocity is reversed at the position of about 250 mm from the center.

즉, 중심에서 250mm 위치보다 회전축 측에서는 항상 정(正)의 투과 유속이 얻어지지만, 그보다 외측은 역류 영역이 되어 여과시와 반대방향의 흐름이 형성되어 있다.That is, a positive permeation flow rate is always obtained on the rotational axis side from the center of 250 mm from the center, but the outer side is the counterflow region, and a flow in the opposite direction to the filtration time is formed.

그러므로, 종래 장치의 경우, 역류 영역에 있어서 여과 정지시마다 평막(18)이 외측으로 팽창하게 되어 평막(18)에 주름이 형성되어 평막(18)이 파손할 가능성이 있다.Therefore, in the conventional apparatus, there is a possibility that the flat membrane 18 expands outwards every time the filtration stops in the counterflow region, and wrinkles are formed in the flat membrane 18, thereby causing the flat membrane 18 to break.

이에 대하여, 본 실시형태의 평막 디스크(10)는 역류 영역에 있어서 평막 (18)과 디스크(16)가 부분적으로 고착되어 있으므로, 역류가 발생해도 평막(18)의 팽창을 억제할 수 있다.On the other hand, in the flat membrane disk 10 of the present embodiment, since the flat membrane 18 and the disk 16 are partially fixed in the reverse flow region, expansion of the flat membrane 18 can be suppressed even when the reverse flow occurs.

그리고, 평막(18)의 팽창방지효과에 대하여, 평막(18)의 팽창을 시뮬레이션한 결과, 약 4할 정도 저감할 수 있음을 알았다.As a result of simulating the expansion of the flat membrane 18 with respect to the expansion prevention effect of the flat membrane 18, it was found that about 40% can be reduced.

이와 같이, 본 실시형태의 평막 디스크(10)는 평막(18)과 디스크(16)를 역류영역에 있어서 부분적으로 고착하였으므로, 평막(18)의 팽창을 방지할 수 있다. 따라서, 평막(18)에 주름이 형성되는 것을 방지할 수 있어 평막(18)의 수명을 향상시킬 수 있다.As described above, the flat membrane disk 10 of the present embodiment partially fixes the flat membrane 18 and the disk 16 in the backflow region, thereby preventing the flat membrane 18 from expanding. Therefore, formation of wrinkles in the flat membrane 18 can be prevented, and the life of the flat membrane 18 can be improved.

또, 본 실시형태의 평막 디스크(10)는 상기 고착부(22)가 점형상으로 형성되어 고착부(22)가 차지하는 면적이 작으므로, 평막 디스크(10)의 평막(18)의 투과성능은 거의 저하하지 않는다.In addition, in the flat membrane disk 10 of the present embodiment, since the fixing portion 22 is formed in a point shape and the area occupied by the fixing portion 22 is small, the permeability of the flat membrane 18 of the flat membrane disk 10 is Almost no degradation

따라서, 평막 디스크(10)의 여과 능력을 저하시키지 않고 평막(18)의 팽창을 방지할 수 있다.Therefore, the expansion of the flat membrane 18 can be prevented without lowering the filtration capacity of the flat membrane disk 10.

또한, 본 실시형태의 평막 디스크(10)에 의하면, 평막(18)과 디스크(16)의 고착부(22),(22)…를 형성함으로써, 평막(18)의 구속점이 증가하므로, 평막 디스크 (10)의 회전수를 높인 운전이 가능해진다.In addition, according to the flat membrane disk 10 of the present embodiment, the fixing portions 22, 22... Of the flat membrane 18 and the disk 16. Since the restraint point of the flat membrane 18 is increased by forming a, the operation of increasing the rotation speed of the flat membrane disk 10 becomes possible.

예를 들면, 종래 장치에서 회전수 40 ∼ 60rpm 으로 운전하고 있던 경우, 본 실시예에서는 회전수 80 ∼ 100rpm 에서의 운전이 가능해진다.For example, when operating at the rotation speed 40-60 rpm in the conventional apparatus, operation by the rotation speed 80-100 rpm becomes possible in this Example.

따라서, 평막(18)에 큰 막면 유속을 부여할 수 있어 평막(18)에 오염층이 형성되는 것을 효과적으로 억제할 수 있다. 이로써, 약액(藥液) 세정의 횟수를 저감할 수 있다.Therefore, a large film surface velocity can be provided to the flat membrane 18, and the formation of a contaminant layer on the flat membrane 18 can be effectively suppressed. Thereby, the frequency | count of chemical liquid washing | cleaning can be reduced.

도 6은 평막 디스크(10)의 여과 압력의 경시 변화를 나타낸 것이며, 설정플럭스 1.0㎥/㎡d, SS 10 ∼ 15g/1 의 조건하에서, 27분의 여과와 3분의 여과 정지를 반복하여 실시한 것이다.FIG. 6 shows the aging change in the filtration pressure of the flat membrane disk 10, and repeated filtration for 27 minutes and filtration stop for 3 minutes under conditions of a set flux of 1.0 m 3 / m 2 d and SS 10 to 15 g / 1. will be.

상기 도면에 점선으로 나타낸 종래예는 본 실시예와 동일한 크기의 평막(18)과 디스크(16)로 이루어지며, 외주 고착부(20)만으로 접착되어 있다.The prior art shown by the dotted line in the figure consists of a flat film 18 and a disk 16 of the same size as the present embodiment, and is bonded only to the outer peripheral fixing portion 20.

또, 본 실시예는 평막 디스크(10)의 회전수가 80rpm 에서의 데이터이며, 종래예는 회전수가 60rpm 에서의 데이터이다.In this embodiment, the rotation speed of the flat membrane disk 10 is data at 80 rpm, and the conventional example is data at rotation speed 60 rpm.

상기 도면에 나타낸 바와 같이, 종래예가 20 일이 지나고 나서 여과 압력이 급격히 상승하고, 30 일 정도에서 약액 세정이 필요해지는데 대하여, 본 실시예는 약액 세정없이도 약 90 일간, 연속 운전할 수 있다.As shown in the figure, the filtration pressure rapidly rises after 20 days in the conventional example, and chemical liquid cleaning is required for about 30 days. This embodiment can continuously operate for about 90 days without chemical liquid cleaning.

종래예의 평막 디스크는 평막(18)의 구속점이 적으므로, 평막 디스크(10)를 60rpm으로 저속으로밖에 회전할 수 없다. 따라서, 평막(18)에 작용하는 막면 유속이 작아 오염층을 평막(18)으로부터 효과적으로 박리시킬 수 없다.Since the flat membrane of the conventional example has few restraint points of the flat membrane 18, the flat membrane disk 10 can only rotate at 60 rpm at low speed. Therefore, the film surface flow rate which acts on the flat membrane 18 is small, and a contaminant layer cannot be peeled off from the flat membrane 18 effectively.

이에 대하여, 본 실시예의 평막 디스크(10)는 부분적 고착부(22),(22)…를 형성하여, 평막(18)의 구속점을 증가시켰으므로, 평막 디스크(10)를 80rpm 으로 고속으로 회전시킬 수 있어 오염층의 평막(18) 부착을 효과적으로 억제할 수 있다.In contrast, the flat membrane disk 10 of the present embodiment has the partial fixing portions 22, 22. Since the restraint point of the flat membrane 18 was increased, the flat membrane disk 10 can be rotated at a high speed of 80 rpm, and the adhesion of the flat membrane 18 to the contaminated layer can be effectively suppressed.

이와 같이, 본 실시형태의 평막 디스크(10)에 의하면, 종래예보다 고속 회전시킬 수 있으므로, 평막(18)의 투과 성능을 향상시킬 수 있어 평막(18)의 약액 세정의 빈도를 저감시킬 수 있다.Thus, according to the flat membrane disk 10 of this embodiment, since it can rotate at a higher speed than the conventional example, the permeation performance of the flat membrane 18 can be improved, and the frequency of chemical liquid washing of the flat membrane 18 can be reduced. .

그리고, 전술한 실시형태에서는 Φ500mm 와 Φ600mm 의 위치에 30°마다 점형상의 고착부(22),(22)…를 형성하였지만, 부분적 고착부(22)의 형상이나 수는 이것에 한정되는 것은 아니다.And in the above-mentioned embodiment, the point-shaped fixed parts 22 and 22 are formed every 30 degrees at the positions of? 500mm and? 600mm. Is formed, the shape and number of the partial fixing portions 22 are not limited thereto.

예를 들면, 도 7에 나타낸 평막 디스크(26)는 고착부(28)가 선형(線形)으로 형성되어 평막 디스크(26)의 직경방향으로 배치되어 있다,For example, in the flat disk 26 shown in FIG. 7, the fixing | fixed part 28 is formed linearly, and is arrange | positioned in the radial direction of the flat membrane disk 26,

이 경우, 평막(18)과 디스크(16)가 더욱 견고하게 고착되어 평막(18)의 팽창을 확실하게 방지할 수 있다.In this case, the flat membrane 18 and the disk 16 are more firmly fixed, and the expansion of the flat membrane 18 can be reliably prevented.

또, 도 8에 나타낸 평막 디스크(30)는 여과 정지시에 평막 디스크(30)의 내부의 유체가 형성하는 유선(流線)을 따라서 부분적 고착부(32)가 배치되어 있다.In addition, in the flat membrane disc 30 shown in FIG. 8, the partial fixing part 32 is arrange | positioned along the streamline which the fluid inside the flat membrane disc 30 forms at the time of filtration stop.

즉, 부분적 고착부(32)는 외주부에 근접함에 따라서 회전 방향(40)의 후방측으로 경사지고 있다. 따라서, 여과 정지시에 있어서의 평막 디스크(30)의 내부의 액체는 부분적 고착부(32)를 따라서 흐르므로, 부분적 고착부(32)가 저항으로 되지 않는다.That is, the partial fixing part 32 is inclined to the rear side of the rotation direction 40 as it approaches the outer peripheral part. Therefore, since the liquid inside the flat membrane disk 30 at the time of stop of filtration flows along the partial fixing part 32, the partial fixing part 32 does not become a resistance.

이로써, 부분적 고착부(32)가 평막 디스크(30)의 회전의 방해가 되는 것을 억제할 수 있어 평막 디스크(30)를 고속으로 회전할 수 있다.As a result, the partial fixing portion 32 can be prevented from interfering with the rotation of the flat membrane disk 30, and the flat membrane disk 30 can be rotated at high speed.

또한, 부분적 고착부(22)의 형상은 점선형이라도 되고, 예를 들면 도 7이나 도 8에 나타낸 바와 같이 배치함으로써, 고착부(22)가 차지하는 면적을 크게 하지 않고 평막(18)과 디스크(16)를 더욱 견고하게 고착할 수 있다.In addition, the shape of the partial fixing part 22 may be a dotted line shape, for example, by arrange | positioning as shown in FIG. 7 or FIG. 8, the flat membrane 18 and the disk (do not enlarge the area which the fixing part 22 occupies). 16) can be more firmly fixed.

또, 전술한 실시형태에서는 부분적 고착부(22)를 역류 영역에 배치하였지만, 이것에 한정되는 것은 아니다.In addition, although the partial fixing part 22 was arrange | positioned in the backflow area | region in the above-mentioned embodiment, it is not limited to this.

또, 전술한 실시형태는 디스크(16)에 평막(18)을 직접 부착하였지만, 부직포 등을 통하여 부착해도 된다.In the above-described embodiment, the flat membrane 18 is directly attached to the disk 16, but may be attached via a nonwoven fabric or the like.

또, 디스크(16)를 통수성이 있는 부재로 구성하여, 이 디스크(16)내를 액체가 통과하도록 해도 된다.In addition, the disk 16 may be made of a water-permeable member so that liquid can pass through the disk 16.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 관한 평막 디스크에 의하면, 평막을 지지체에 부분적으로 고착하여, 평막이 지지체로부터 멀어져서 팽창하는 것을 억제하였으므로, 평막에 주름이 형성되는 것을 방지할 수 있어 평막의 파손을 방지할 수 있다.As described above, according to the flat disk according to the present invention, the flat membrane is partially fixed to the support, and the flat membrane is prevented from expanding away from the support, thereby preventing the formation of wrinkles in the flat membrane, thereby preventing damage to the flat membrane. can do.

Claims (7)

회전 평막 분리장치에 사용되며, 원형 지지체의 양면에 팽팽하게 형성한 원형 평막을, 이 평막의 외주부에서 상기 지지체에 고착한 평막 디스크에 있어서,In a flat membrane disk, which is used in a rotating flat membrane separator, wherein a circular flat membrane formed on both sides of a circular support is fixed to the support at the outer periphery of the flat membrane. 상기 평막을 상기 지지체의 양면에 부분적으로 고착한 것을 특징으로 하는 평막 디스크.And the flat membrane is partially fixed to both surfaces of the support. 제1항에 있어서, 상기 평막과 지지부재와의 부분적 고착부는 선형상 또는 점형상인 것을 특징으로 하는 평막 디스크.2. The flat disc according to claim 1, wherein the partial fixing portion between the flat membrane and the support member is linear or pointed. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 부분적 고착부는 상기 평막을 통하여 평막 디스크의 내부에 통과한 액체가 상기 평막을 통하여 역류하는 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 평막 디스크.3. The flat disc according to claim 1 or 2, wherein the partial fixing portion is formed in an area in which liquid passed through the flat membrane inside the flat disc is flowed back through the flat membrane. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 부분적 고착부는 상기 평막을 원형의 중앙부와 이 중앙부의 주변부에 면적적으로 2등분했을 때에, 상기 주변부에 배치되는 것을 특징으로 하는 평막 디스크.The flat membrane disc according to claim 1 or 2, wherein the partial fixation portion is disposed in the peripheral portion when the flat membrane is divided into two areas of the circular center portion and the peripheral portion of the central portion. 제1항 내지 제2항중 어느 한 항에 있어서, 상기 부분적 고착부는 상기 평막 디스크의 내부의 액체가, 이 평막 디스크의 회전에 의해 형성하는 유선(流線)을 따라서 형성되는 것을 특징으로 하는 평막 디스크.The flat membrane disc according to any one of claims 1 to 2, wherein the partial fixing portion is formed along a streamline in which the liquid inside the flat membrane disc is formed by the rotation of the flat membrane disc. . 회전 평막 분리장치에 사용되며, 원형 지지체의 양면에 팽팽하게 형성한 원형 평막을 이 평막의 외주부에서 상기 지지체에 고착한 평막 디스크에 있어서,In a flat membrane disk, which is used in a rotating flat membrane separator, wherein a circular flat membrane formed on both sides of a circular support is fixed to the support at the outer periphery of the flat membrane. 상기 평막의 외주부보다 회전축 측의 위치에 있어서, 상기 평막을 통하여 평막 디스크의 내부에 통과한 액체가 상기 평막을 통하여 역류하는 영역에, 이 평막 디스크의 회전에 의해 형성되는 유선을 따라 평막 디스크를 상기 지지체에 부분적으로 고착한 것을 특징으로 하는 평막 디스크.At the position on the side of the rotation axis than the outer periphery of the flat membrane, the flat membrane disk is located along the streamline formed by the rotation of the flat membrane disc in a region where the liquid passed through the flat membrane inside the flat membrane disc flows back through the flat membrane. A flat film disc, which is partially fixed to a support. 회전 평막 분리장치에 사용되며, 원형 지지체의 양면에 팽팽하게 형성한 원형 평막을 이 평막의 외주부에서 상기 지지체에 고착한 평막 디스크에 있어서,In a flat membrane disk, which is used in a rotating flat membrane separator, wherein a circular flat membrane formed on both sides of a circular support is fixed to the support at the outer periphery of the flat membrane. 상기 평막의 외주부보다 회전축 측의 위치에 있어서, 상기 평막을 원형의 중앙부와 이 중앙부의 주변부에 면적적으로 2등분했을 때에 상기 주변부에, 이 평막 디스크의 회전에 의해 형성되는 유선을 따라 평막 디스크를 상기 지지체에 부분적으로 고착한 것을 특징으로 하는 평막 디스크.At the position on the side of the rotation axis rather than the outer periphery of the flat membrane, when the flat membrane is divided into two areas of the circular central portion and the periphery of the central portion, the periphery portion of the flat membrane is formed along the streamline formed by the rotation of the flat membrane disk. A flat disk characterized in that partly fixed to the support.
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