KR100431863B1 - Apparatus for cleaning dispersion plate in fluid-bed reducing furnace - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 유동층 환원로(FLUID-BED REDUCING FURNACE)에 관한 것으로 ㅗ다 상세히는, 유동층 환원로의 예열로, 예비환원로 및 최종 환원로에 설치된 분산판(DISPERSION PLATE)의 노즐부분이 막히어 조업중단을 초래하는 것을 미연에 방지토록 상기 분산판을 크리닝할 수 있도록 한 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치에 관한 것이다.The present invention relates to a fluidized bed reduction furnace (FLUID-BED REDUCING FURNACE). In detail, the nozzle portion of the dispersion plate installed in the preheating furnace, the preliminary reduction reactor and the final reduction furnace of the fluidized bed reduction furnace is blocked. The present invention relates to a dispersion plate cleaning apparatus of a fluidized-bed reduction furnace that enables the dispersion plate to be cleaned in advance to prevent the occurrence of water.
일반적으로 현재까지는 용철 생산설비의 주류를 이루고 있는 것은 고로방식인데, 이와 같은 고로방식은 그 반응기 및 공정 특정상 일정수준이상의 강도 및 로내 통기성을 제공할 정도의 입도를 가지고 있는 원료만을 사용해야 하며, 연료 및 환원제로 사용하는 탄소원으로서는 특정 원료탄을 가공한 코크스를 사용해야 한다.In general, up to now, the mainstream of molten iron production equipment is the blast furnace method. Such a blast furnace method uses only raw materials having a strength that is higher than a certain level and breathability in the furnace depending on the reactor and the process, and uses fuel. And as a carbon source to be used as a reducing agent, coke processed from specific raw coal should be used.
또한, 철원으로서도 전처리 공정인 소결 및 펠레타이징등의 괴성화공정을 거친 소결광 또는 펠렛이 주로 사용되고 있어, 결국 현재의 고로방식은 원료탄인 코크스 제조설비, 광석의 괴성화를 위한 소결설비, 펠레타이징설비등의 원료 예비처리설비가 반드시 필요하게 되는데, 이는 결국 부대설비의 구축에 따른 비용증가와 부대설비에서 발생하는 환경오염문제를 해결해야 하는 문제가 있는 것이다.In addition, as an iron source, sinter ores or pellets that have undergone aggregation processes such as sintering and pelletizing, which are pretreatment processes, are mainly used. Raw material pretreatment facilities, such as gong facilities, are necessary, which is a problem that must be solved to increase the cost of the construction of the auxiliary equipment and to solve the environmental pollution problem in the auxiliary equipment.
따라서, 현재 연료 및 환원제로서 일반탄을 직접 사용하며, 철원으로서는 전세계 광석 생산량의 80% 이상을 점유하는 분철광석을 직접 사용하는 새로운 제선공정이 개발되고 있는데, 즉 유동층 환원로(FLUID-BED REDUCING FURNACE)이다.Therefore, a new steelmaking process is being developed that uses plain coal directly as a fuel and a reducing agent, and uses ferrous iron ore directly as an iron source, which occupies more than 80% of the world's ore production, namely FLUID-BED REDUCING FURNACE. )to be.
이와 같은 일반적인 유동층 환원로는 도 1에서 도시하고 있는데, 도 1에서 도시하고 있는 유동층 환원로는 파이넥스공정에 관한 공정을 도시하고 있다.Such a general fluidized-bed reduction furnace is shown in FIG. 1, but the fluidized-bed reduction furnace shown in FIG. 1 shows a process related to the Finex process.
죽, 도 1에서 도시한 바와 같이, 유동층 환원로의 전체 공정은 예열로(110), 예비환원로(120) 및 최종환원로(130)등의 3단으로 된 유동층 환원로(100)부분과, 석탄 충진층이 형성되어 있는 용융가스화로(140)부분으로 이루어 지는데, 최상단의 환원로에서 연속적으로 장입되는 상온의 분광은 상기의 3단 유동층 환원로(100)부분을 거치면서 상기 융융가스화로(140)에서 환원가스관(170)을 통하여 공급되는 고온의 환원기류와 접촉함으로서 승온 및 90% 이상의 환원이 이루어진 고온의 환원분광으로 전환 배출된다.As shown in FIG. 1, the entire process of the fluidized-bed reduction reactor includes a three-stage fluidized-bed reduction reactor 100 such as a preheating furnace 110, a preliminary reduction reactor 120, and a final reduction reactor 130. , Consisting of a portion of the melt gasification furnace 140 in which a coal packed bed is formed, the spectroscopy at room temperature continuously charged from the uppermost reduction furnace passes through the three-stage fluidized-bed reduction furnace 100 and the molten gasification furnace. By contacting with a high temperature reducing air stream supplied through the reducing gas pipe 170 at 140, the conversion is discharged to the high temperature reduction spectroscopy where the temperature rises and the reduction is 90% or more.
이와 같은 환원분광은 석탄 충진층이 형성되어 있는 용융가스화로(140)내에연속적으로 장입되어 석탄충진층에서 용융되면서 용선으로 전환되어 용융가스화로 (140)에서 외부로 배출되는 것이다.Such reduced spectroscopy is continuously charged into the molten gasifier 140 in which the coal filling layer is formed, melted in the coal filling layer, and converted into molten iron and discharged to the outside from the molten gasifier 140.
그리고, 상기 용융가스화로(140)에서는 로상부에서 괴상의 일반탄이 연속적으로 공급되면서 로내부에 일정한 높이의 석탄충진층을 형성하게 되며, 상기 충진층 내로 상기 충진층 외벽하단에 형성되어 있는 복수의 풍구(150)를 통하여 산소가취입되어 충진층내 석탄은 연소되며, 이때 발생한 연소가스가 충진층을 상승하면서 고온의 환원기류로 전환되어 상기 용융가스화로(140) 외부의 유동층 환원로(100)에 공급된다.In addition, the molten gasifier 140 forms a coal filling layer having a constant height inside the furnace while continuously feeding the bulk coal from the upper portion of the furnace, and a plurality of the coal filling layers formed at the bottom of the outer wall of the filling layer into the filling layer. Oxygen is blown through the air outlet 150 to burn coal in the packed bed, and the combustion gas generated at this time is converted into a high temperature reducing gas while raising the packed bed, thereby allowing the fluidized bed reducing furnace 100 outside the molten gasifier 140 to be filled. Supplied to.
다음, 도 2에서는 상기와 같은 유동층 환원로(100)부분을 상세하게 도시하고 있는데, 상기 3단의 유동층 환원로(100)부분을 통과하는 광석의 각 유동층 환원로(110)(120)(130)사이의 이동은 상기 환원로들의 상당 및 하단에 연결된 도관 득, 광석흐름도관(160)을 통하여 이루어 지고, 상기 도관(160)내에서는 상,하단의 압력차이에 의해 하단의 유동층 환원로(130)로 부터 상단의 유동층 환원로(110)로 형성되는 고온의 환원가스흐름과 중력에 의해 상단의 유동층 환원로(110)로 부터 하단의 유동층 환원로(130)로 형성되는 광석흐름이 서로 교차되도록 형성되어 있다.Next, FIG. 2 illustrates the fluidized bed reduction furnace 100 in detail as described above, and each fluidized bed reducing furnace 110, 120, 130 of the ore passing through the three-stage fluidized bed reduction furnace 100. ) Is moved through the conduit gain, ore flow conduit 160 connected to the corresponding and lower ends of the reduction furnaces, and in the conduit 160, the fluidized-bed reduction furnace 130 at the bottom due to the pressure difference between the upper and lower ends. ) So that the high-temperature reducing gas flow formed from the fluidized bed reduction furnace 110 at the top and the ore flow formed from the fluidized bed reduction furnace 130 at the lower end from the fluidized bed reduction reactor 110 at the top by gravity cross each other. Formed.
이때, 상기와 같은 3단 즉, 예열로(110), 예비환원로(120) 및 최종환원로 (130)의 유동층 환원로(100)에 공급되는 고온의 환원기류(가스)에는 용융가스화로 (140)에서 비산되는 분진 및 일반탄에 의한 타르등이 포함되어 있으며, 상기 고온의 환원가스는 유동층 환원로(100)에 이르어 환원로(100) 내부의 균일한 가스흐름을 위하여 상기 각각의 환원로(110)(120)(130) 하부에는 분산노즐(210)이 설치된 분산판(200)이 배치된다.At this time, the three stages as described above, that is, the preheating furnace 110, the preliminary reduction furnace 120 and the high temperature reducing gas (gas) supplied to the fluidized-bed reduction furnace 100 of the final reduction furnace 130 in the melt gasification furnace ( The dust is scattered from 140 and tar by the ordinary coal, etc., and the high-temperature reducing gas reaches the fluidized-bed reduction furnace 100 to reduce the respective gas for uniform gas flow in the reduction furnace 100 Dispersion plates 200 in which dispersion nozzles 210 are installed are disposed below the furnaces 110, 120, and 130.
그러나, 이와 같은 유동층 환원로(100)에서의 각각의 분산판(200)은 환원가스에는 분진 및 타르가 포함되어 있고, 상기 예열로(110) 및 예비환원로(120)에는 공급되어 비산된 분철광석까지 포함되어 있고, 결국 상기의 분진, 타르 및 분철광석등은 분산판(200)을 통과할때 분산판 노즐(210)에 응집되고, 이와 같은 현상이 반족되면 응집부의 부피가 성장하게 되면서 결국에는 분산판(200)의 노즐(210)을 막게되는 결과를 초래하는데, 특히 상기 분산판노즐(210)은 상부가 좁은 원추형으로 형성되어 있어 더 손쉽게 막히는 것이다.However, each of the dispersion plates 200 in the fluidized-bed reduction reactor 100 includes dust and tar in the reducing gas, and is supplied to the preheating furnace 110 and the preliminary reduction reactor 120 to be scattered. Iron ore is included, and thus, the dust, tar, and iron ore are aggregated in the dispersion plate nozzle 210 when passing through the dispersion plate 200, and when such a phenomenon is satisfied, the volume of the aggregation portion grows, eventually. This results in blocking the nozzle 210 of the distribution plate 200, in particular, the distribution plate nozzle 210 is clogged more easily because the upper portion is formed in a narrow cone.
따라서, 유동층 환원로(100)등을 통한 훤원가스의 이동이 불가능하게 되고, 이는 조업중단을 초래하는데, 종래에는 공정상 분산판(200)의 노즐(210)이 막히는 시간을 지연시키기는 하였으나, 이와 같은 분산판(200)의 막힘현상을 완전하게 방지할 수 없었다.Therefore, it is impossible to move the source gas through the fluidized-bed reduction furnace 100 or the like, which causes the operation to stop. In the past, although the process delays the clogging time of the nozzle 210 of the dispersion plate 200, Such clogging of the dispersion plate 200 could not be completely prevented.
결국, 작업자가 유동층 환원로(100)의 가동을 중단시킨 상태에서 분산판 (200)을 취외하여 이를 크리닝한 후에 다시 조업을 진행하여 왔으며, 이에 따라 조업이 주기적으로 중단되면서 생산성을 저하시키는 문제가 있었다.As a result, the worker has taken out the dispersion plate 200 in the state in which the operation of the fluidized bed reduction furnace 100 is stopped, and then cleans it, and then proceeds with the operation again. there was.
본 발명은 상기와 같은 종래의 여러 문제점들을 개선시키기 위하여 안출된 것으로서 그 목적은, 유동층 환원로에서 환원가스가 통과하는 분산판의 노즐이 막히는 것을 미연에 효율적으로 방지함으로서, 유동층 환원로의 조업중단등을 방지하여 가동율을 향상시킬 수 있도록 한 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치를 제공하는 데에 있다.The present invention has been made in order to improve the various problems as described above, the object of the present invention is to effectively prevent the nozzle of the distribution plate through which the reducing gas passes through the fluidized bed reduction, thereby preventing the operation of the fluidized bed reduction furnace It is to provide a dispersion plate cleaning apparatus for a fluidized bed reduction furnace to prevent the back and improve the operation rate.
또한, 본 발명의 다른 목적은, 간단한 구조로 분산판의 막힘현상을 방지함으로서 분산판 크리닝장치의 제작 및 설치작업이 용이하고, 필요시 보수 및 유지작업도 간단하게 수행되는 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치를 제공하는 데에 있다.In addition, another object of the present invention, by preventing the clogging of the dispersion plate with a simple structure, the production and installation of the dispersion plate cleaning device is easy, and if necessary, maintenance and maintenance of the dispersion plate in the fluidized bed reduction furnace is also easily performed It is to provide a cleaning apparatus.
도 1은 일반적인 유동층 환원로를 도시한 개략도1 is a schematic view showing a typical fluidized bed reduction furnace
도 2는 종래의 유동층 환원로의 유동로 구조를 도시한 개략도Figure 2 is a schematic diagram showing the flow path structure of a conventional fluidized bed reduction furnace
도 3의 (a) 및 (b)는 종래 유동층 환원로의 분사판을 도시한 요부 사시도 및 내부구조도3 (a) and 3 (b) are a perspective view of the main part and the internal structure showing the jet plate of the conventional fluidized bed reduction furnace
도 4a 는 본 발명인 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치를 도시한 전체 구성도Figure 4a is an overall configuration showing the dispersion plate cleaning apparatus of the present invention fluidized bed reduction furnace
도 4b는 분산판 크리닝장치의 구역별 작동을 설명하기 위한 개략도Figure 4b is a schematic diagram for explaining the operation by zone of the dispersion plate cleaning apparatus
도 5는 본 발명인 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치에 의한 분산판 크리닝작업을 도시한 요부상태도5 is a main state diagram showing the dispersion plate cleaning operation by the dispersion plate cleaning apparatus of the present invention fluidized bed reduction furnace
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1.... 환원로 분산판의 크리닝장치 10.... 환원로1 .... Reduction Furnace Cleaning Device 10 .... Reduction Furnace
20.... 용융가스화로 30.... 분산판20 .... Melting Furnace 30 .... Dispersion Plate
32.... 노즐 40.... 크리닝부재 분사관32 .... Nozzle 40 .... Cleaning member injection pipe
42.... 분사노즐팁 44.... 환상관42 .... spray nozzle tip 44 .... annular tube
50.... 미세모래 52.... 모래저장호퍼50 .... fine sand 52 .... sand storage hopper
60.... 가스공급관 70.... 압력검출기60 ... gas supply pipe 70 ... pressure detector
80.... 차단변80 ....
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 기술적인 구성으로서 본 발명은, 유동층 환원로의 내부 하측에 용융가스화로로 부터의 환원가스를 균일하게 분사토록 설치되는 분산판에 있어서, 상기 유동층 환원로의 철피와 연와를 통하여 상기 분산판의 각 노즐 내부까지 신장하는 크리닝부재 분사관을 갖추어 상기 분사관에 공급되는 고압 또는 저압의 가스로서 상기 분산판의 노즐을 크리닝부재로서 크리닝하도록 구성되는 것을 특징으로 하는 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치As a technical configuration for achieving the above object, the present invention is a dispersion plate which is installed to uniformly spray the reducing gas from the molten gasifier in the lower side of the fluidized bed reduction furnace, Fluidized bed reduction characterized in that it is equipped with a cleaning member injection tube extending to the inside of each nozzle of the distribution plate through the smoke and configured to clean the nozzle of the distribution plate as a cleaning member as a gas of high pressure or low pressure supplied to the injection tube. Dispersion Plate Cleaning Equipment
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시에를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 4a 는 본 발명인 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치를 도시한 전체 구성도이고, 도 4b는 분산판 크리닝장치의 구역별 작동을 설명하기 위한 개략도이며, 도 5는 본 발명인 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치에 의한 분산판 크리닝작업을 도시한 요부상태도이다.Figure 4a is an overall configuration diagram showing the dispersion plate cleaning device of the fluidized bed reduction reactor of the present invention, Figure 4b is a schematic diagram for explaining the operation of each zone of the dispersion plate cleaning device, Figure 5 is a dispersion plate of the fluidized bed reduction reactor of the present invention It is a principal part state diagram which shows the dispersion plate cleaning operation by a cleaning apparatus.
도 4 및 도 5에서는 본 발명인 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치(1)를 도시하고 있는데, 먼저 상기 분산판(30)은 예열로(100a),예비환원로(100b) 및, 최종환원로(100c)로 이루어 진 3단의 각 환원로(10)의 내부 하측에 용융가스화로(20)로 부터 공급되는 환원가스를 균일하게 분사토록 설치된다.4 and 5 shows a dispersion plate cleaning apparatus 1 of the fluidized bed reduction reactor of the present invention. First, the dispersion plate 30 is a preheating furnace 100a, a preliminary reduction reactor 100b, and a final reduction reactor ( It is installed to uniformly spray the reducing gas supplied from the molten gasifier 20 in the lower side of each of the three reduction stage 10 consisting of 100c).
그리고, 상기 유동층 환원로(10)의 철피와 연와를 통하여 상기 분산판(30)의각 노즐(32) 내부까지 신장하는 크리닝부재 분사관(40)을 갖추어 상기 분사관(40)에 공급되는 고압 또는 저압의 가스로서 상기 분산판(30)의 노즐(32)을 상기 크리닝부재(50)로서 크리닝하도록 설치된다.In addition, a cleaning member injection tube 40 extending to the inside of each nozzle 32 of the dispersion plate 30 through the iron bar and the edge of the fluidized-bed reduction furnace 10 is provided with a high pressure or The nozzle 32 of the distribution plate 30 is installed as the cleaning member 50 as a gas of low pressure.
또한, 상기 크리닝부재(50)는 미세모래인데, 상기 미세모래 분사관(40)에는 고압 및 저압의 질소가스를 공급하는 가스관(60a)(60b)이 환원로(10)외부에 연결되고, 상기 가스관(60)을 지나서는 상기 미세모래(50)를 공급하는 모래 저장호퍼(52)가 연결된다.In addition, the cleaning member 50 is fine sand, the fine sand injection pipe 40 is connected to the gas pipe 60a, 60b for supplying high and low pressure nitrogen gas to the reduction furnace 10, the The sand storage hopper 52 for supplying the fine sand 50 through the gas pipe 60 is connected.
한편, 상기 미세모래 분사관(40)은 상기 각각의 분산판 노즐(32)의 하부에 위치되는 다수의 분사노즐팁(42)이 연결되는 환상관(44)을 구비하고, 상기 환상관 (44)은 상기 분산판(30) 하부에 환원로(100)의 외부에 장착되어 크리닝부재 분사노즐(42)부분이 환원로(100)의 철피 및 연와를 통하여 신장 설치된다.On the other hand, the fine sand injection pipe 40 is provided with an annular tube 44 to which a plurality of injection nozzle tips 42 located below each of the dispersion plate nozzle 32, the annular tube 44 ) Is mounted to the outside of the reduction furnace 100 in the lower portion of the distribution plate 30, the cleaning member injection nozzle 42 portion is installed through the iron shell and the edge of the reduction furnace (100).
그리고, 상기 환원로(10)의 분산판(30) 상,하측에는 분산판 노즐(32)의 막힘을 감지하여 다수의 압력검출기(70)가 설치되고, 상기 각각의 압력검출기(50)는 상기 가스관(60) 및 저장호퍼(52)사이에 개재된 각각의 차단변(80a)(80b)(80c)과 연결되어 분산판(30)의 노즐(32)이 막히면 압력차이를 감지하여 가스로서 미세모래 (50)를 분산판 노즐(32)에 분사토록 되는 구성으로 이루어 진다.In addition, a plurality of pressure detectors 70 are installed on upper and lower sides of the dispersion plate 30 of the reduction furnace 10 to detect a blockage of the dispersion plate nozzles 32, and each of the pressure detectors 50 is provided with the pressure detector 50. When the nozzles 32 of the distribution plate 30 are blocked by connecting the respective blocking valves 80a, 80b, 80c interposed between the gas pipe 60 and the storage hopper 52, the pressure difference is sensed to be fine as gas. It is made of a configuration that the sand 50 is sprayed to the dispersion plate nozzle (32).
상기와 같은 구성으로 이루어 진 본 발명의 작용 및 효과를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation and effects of the present invention made in the above configuration in more detail as follows.
도 4 및 도 5에서 도시한 바와 같이, 유동층 환원로(10)내에 설치되어 용융가스화로(20)에서 부터 환원되는 환원가스를 환원로(10)내에 균일하게 공급토록 설치된 분산판(30)이 환원가스에 포함된 분진, 타르 및 분광석공급흐름에 포함된 분광석에 의하여 막히게 되면 이를 신속하게 크리닝하여 환원로(10)의 조업중단을 미연에 방지시키는 본 발명의 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치(1)는 다음과 같다.As shown in FIG. 4 and FIG. 5, the dispersion plate 30 installed in the fluidized-bed reduction furnace 10 and installed to uniformly supply the reducing gas reduced from the molten gasifier 20 into the reduction furnace 10 is provided. Dispersion plate cleaning of the fluidized-bed reduction furnace of the present invention, which is quickly blocked when it is blocked by dust, tar included in the reducing gas, and spectroscopic stones included in the spectroscopic feed flow, thereby preventing the operation of the reduction furnace 10 in advance. The apparatus 1 is as follows.
먼저, 도 4에서 도시한 바와 같이, 유동층 환원로(10)의 조업을 간단하게 살펴보면 용융환원가스로(20)에 발생되는 고온의 환원가스가 가스도관을 통하여 최하단의 최종환원로(10)에서 부터 예비환원로(10)를 통하여 상단의 예열로(10)까지 순차로 공급되고, 이와 반대로 분광석의 경우에는 예열로에서 부터 최종환원로까지 공급되어 환원로(10)를 통하여 배출되면 용융가스화로(20)에 공급된다.First, as shown in Figure 4, briefly look at the operation of the fluidized bed reduction furnace 10, the high temperature reducing gas generated in the molten reduction gas furnace 20 through the gas conduit at the bottom of the final reduction path (10) From the preheating furnace 10 through the preliminary reduction furnace 10 to the upper end of the preheating furnace 10, on the contrary, in the case of spectral ores, it is supplied from the preheating furnace to the final reduction furnace and discharged through the reduction furnace 10 to melt gasification. It is supplied to the furnace 20.
이때, 상기 각각의 유동층 환원로(10)의 내측 하부에는 환원가스를 유동층 환원로(10)의 내부에 균일하게 분산공급토록 하는 다수개의 노즐(32)이 구비된 분산판(30)을 설치한다.In this case, a distribution plate 30 having a plurality of nozzles 32 for uniformly distributing and supplying reducing gas to the inside of the fluidized-bed reduction furnace 10 is installed at an inner lower portion of each fluidized-bed reduction furnace 10. .
한편, 도 4 및 도 5에서 도시한 바와 같이, 상기 분산판(30)을 통하여는 분진 및 타르등이 포함되어 있어 상기 분산판(30)의 여러 노즐(32)부분이 막히게 되면, 상기 분산판(30)을 기준으로 환원로(10) 내부에는 압력차가 발생하게 된다.On the other hand, as shown in Figure 4 and 5, through the dispersion plate 30, dust and tar is contained, so that the various nozzles 32 of the dispersion plate 30 is blocked, the dispersion plate The pressure difference is generated in the reduction furnace 10 based on (30).
따라서, 상기 환원로(10)에 설치된 분산판(30) 상,하측의 압력검출기(70)가 검출한 압력이 대략 50-100 mbar일때에는 분산판(30)의 노즐(32)을 통하여 환원가스가 정상적으로 통과함을 나타낸다.Therefore, when the pressure detected by the pressure detectors 70 on the upper and lower sides of the dispersion plate 30 installed in the reduction furnace 10 is approximately 50-100 mbar, the reducing gas is passed through the nozzle 32 of the dispersion plate 30. Indicates that it passes normally.
이때, 만약 상술한 바와 같이, 분산판(30)의 노즐(32)이 환원가스에 포함된 분진 이나 타르등으로 막히게 되면 분산판(30) 상,하측의 압력검출기(70)에서는150mbar 에서 최대 400 mbar까지 차압이 발생되고, 이경우 분산판(30)의 노즐(32)이 막힌것으로 판단되는데, 이는 도면에 도시하지 않았지만 상기 검출기(70)와 연결되는 제어부로서 자동적으로 알 수 있다.In this case, as described above, if the nozzle 32 of the dispersion plate 30 is blocked by dust or tar included in the reducing gas, the pressure detector 70 on the upper and lower sides of the dispersion plate 30 may have a maximum of 400 at 150 mbar. Differential pressure is generated up to mbar, in which case it is determined that the nozzle 32 of the distribution plate 30 is clogged, which is automatically shown as a control unit connected to the detector 70 although not shown in the figure.
따라서, 도 4에서 도시한 바와 같이, 상기 분산판(30)의 위,아래에서의 차압이 150mbar가 되면 압력검출기(70)는 제어부를 통하여 1차적으로는 저압 질소가스관(60a)에 설치된 차단변(80a)을 작동시키어 저압 즉, 즉, 10 Kg/㎠ 정도의 저압으로 질소를 가스분사관(40)에 공급함과 동시에, 상기 가스분사관(40)에 연결된 미세모래 저장호퍼(52)의 차단변(80c)을 개방시키어 질소가스와 함께 크리닝부재 즉, 미세모래(50)를 가스분사관(40)에 공급한다.Therefore, as shown in FIG. 4, when the differential pressure at the top and bottom of the dispersion plate 30 is 150 mbar, the pressure detector 70 is primarily a blocking valve installed in the low pressure nitrogen gas pipe 60a through the control unit. Operate 80a to supply nitrogen to the gas injection pipe 40 at a low pressure, that is, a low pressure of about 10 Kg / cm 2, and at the same time shut off the fine sand storage hopper 52 connected to the gas injection pipe 40. The side 80c is opened to supply the cleaning member, that is, the fine sand 50, to the gas injection pipe 40 together with the nitrogen gas.
이때, 미세모래를 크리닝부재(50)로서 사용하는 이유는 분산판(30)의 막힌 노즐부분을 손쉽게 크리닝할 수 잇는 동시에, 모래의 주성분인 SiO2가환원로(100)내에 투입되는 분광석과 함께 부원료로 사용되기 때문이다.At this time, the reason why the fine sand is used as the cleaning member 50 is that the clogged nozzle portion of the dispersion plate 30 can be easily cleaned, and the spectroscopic stones introduced into the SiO 2 valorization reactor 100 which is the main component of sand and This is because it is used together as an auxiliary material.
결국, 도 3 및 도 4에서 도시한 바와 같이, 상기 환원로(10)의 철피(12)와 연와(14)를 통하여 분산판(30)의 하측으로 설치된 환상관(44)에서 부터 분산판(30)의 각 노즐(32) 하부까지 신장하는 노즐분사팁(42)을 통하여 미세모래(50)가 분사되면서 분산판 노즐(32)의 크리닝작업이 수행되는 것이다.As a result, as shown in Figures 3 and 4, from the annular pipe 44 provided below the distribution plate 30 through the iron shell 12 and the lead 14 of the reduction furnace 10 from the dispersion plate ( As the fine sand 50 is sprayed through the nozzle spray tip 42 extending to the lower portion of each nozzle 32 of 30, the cleaning operation of the dispersion plate nozzle 32 is performed.
다음, 저압의 질소가스를 통하여 미세모래(50)로서 분산판(30)의 노즐 크리닝작업을 수행하여도 분산판(30)의 위,아래 차압이 150mbar이하로 떨어지지 않으면, 도면에는 도시하지 않았지만 제어부에서 상기 저압가스관(60a)의 차단변(80a)은 밀폐시키고 고압 즉, 40 Kg/㎠ 정도의 고압 질소가스를 가스관(40)에 공급하면서 미세모래(50)를 공급하여 상기 저압에서와 같은 방법으로 분산판(30)의 노즐(32)을 재차 완전하게 크리닝한다.Next, even when the nozzle cleaning operation of the dispersion plate 30 as the fine sand 50 through the low pressure nitrogen gas does not fall below 150 mbar, the control unit, although not shown in the drawings In the low pressure gas pipe (60a) of the blocking side (80a) is sealed and the high pressure, that is, the method of the same as at the low pressure by supplying the fine sand 50 while supplying a high pressure nitrogen gas of about 40 Kg / ㎠ to the gas pipe (40) Thus, the nozzle 32 of the dispersion plate 30 is completely cleaned again.
특히, 도 4b에서 도시한 바와 같이, 실제 하나의 환상관(44)에는 분산판(30)의 노즐(32)수 만큼 즉, 37-42개 정도의 노즐분사팁(42)이 각 노즐(32)까지 신장되므로, 저압 또는 고압의 질소가스를 공급하여 미세모래(50)를 분사하는 것이 어렵기 때문에, 필요하다면 하나의 환상관(44)을 4부분(A-D)으로 나누어 분산관(40)에 설치된 밸브(V1-V4)를 단계적으로 개,폐시키어 가스를 공급하면 미세모래(50)가 보다 확실하게 분산판(30)의 각 구역별 노즐(32)에 분사되어 크리닝 효율을 높일 수 있다.In particular, as shown in FIG. 4B, in the actual annular tube 44, as many nozzles 32 as the number of nozzles 32 of the dispersion plate 30, that is, about 37 to 42 nozzle injection tips 42 are provided for each nozzle 32. Since it is difficult to spray the fine sand 50 by supplying nitrogen gas of low pressure or high pressure, it is necessary to divide one annular tube 44 into four parts (AD) to the dispersion tube 40 if necessary. When the valves V1-V4 provided are opened and closed in stages to supply gas, the fine sand 50 is more reliably injected to the nozzles 32 of each zone of the distribution plate 30, thereby improving the cleaning efficiency.
결국, 환원로(10)의 분산판(30) 노즐(32)이 완전하게 크리닝되어 용융환원가스로(20)에서 부터 공급되는 환원가스는 원활하게 환원기류를 형성하면서 흐르게 되는 것이다.As a result, the nozzle 32 of the dispersion plate 30 of the reduction furnace 10 is completely cleaned so that the reducing gas supplied from the molten reduction gas furnace 20 flows smoothly while forming a reducing gas stream.
이에 따라서, 종래 작업자가 환원로(10)에서 분산판(30)을 취외하여 크리닝작업을 하는 것에 비하여 본 발명에서는 분산판(30)을 극히 신속하면서도 별도의 분해작업없이 수행하여 유동층 환원로(10)의 가동율이 향상되고, 특히 유동층 환원로(10)의 조업중에도 필요시 분산판(30)의 크리닝작업을 수행할 수 있어 보다 유용한 것이다.Accordingly, in the present invention, the dispersion plate 30 is performed very quickly and without separate disassembly, compared to a conventional worker removing the dispersion plate 30 from the reduction furnace 10 to perform the fluidized bed reduction furnace 10. ), The operation rate is improved, and in particular, even during operation of the fluidized-bed reduction furnace 10, the cleaning operation of the dispersion plate 30 can be performed if necessary, which is more useful.
이와 같이 본 발명인 유동층 환원로의 분산판 크리닝장치에 의하면, 유동층환원로에서 환원가스가 통과하는 분산판의 노즐이 막히는 것을 미연에 효율적으로 방지함으로서, 유동층 환원로의 조업중단등을 방지하여 가동율을 향상시키어 생산성을 높이는 잇점이 있다.Thus, according to the dispersion plate cleaning apparatus of the fluidized bed reduction reactor of the present invention, by effectively preventing the nozzles of the dispersion plate through which the reducing gas passes in the fluidized bed reduction reactor, the operation rate is prevented by preventing the operation of the fluidized bed reduction furnace. This has the advantage of improving productivity.
그리고, 간단한 구조로 분산판의 막힘현상을 방지함으로서 분산판 크리닝장치의 제작 및 설치작업이 용이하고, 필요시 보수 및 유지작업도 간단하게 수행되는 우수한 효과가 있는 것이다.In addition, by preventing the blockage of the dispersion plate with a simple structure, it is easy to manufacture and install the dispersion plate cleaning device, and if necessary, repair and maintenance work may be easily performed.
본 발명은 특정한 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 이하의 특허청구범위에 의해 마련되는 본 발명의 정신이나 분야를 벗어나지 않는 한도내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변화될수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진자는 용이하게 알수 있음을 밝혀두고자 한다.While the invention has been shown and described with respect to specific embodiments thereof, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit or scope of the invention as set forth in the claims below. I would like to know that those who have knowledge of this can easily know.
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