KR100412126B1

KR100412126B1 - Method for manufacturing supporting spacer in liquid crystal display device

Info

Publication number: KR100412126B1
Application number: KR10-2001-0030572A
Authority: KR
Inventors: 권용호
Original assignee: 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사
Priority date: 2001-05-31
Filing date: 2001-05-31
Publication date: 2003-12-31
Also published as: KR20020091703A

Abstract

본 발명은 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법에 관한 것으로, 지주 스페이서 형성에 대한 추가적인 공정없이 셀 갭 유지를 위한 지주 스페이서 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a strut spacer in a liquid crystal display device, and more particularly, to a method of forming a strut spacer for maintaining a cell gap without an additional process for forming a strut spacer.

이를 위한 본 발명의 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법은, 복수의 컬러필터 패턴과, 상기 컬러필터 패턴들 사이를 구분하고 광을 차단하는 블랙 메트릭스와, 액정 셀에 전압인가를 위한 공통 전극이 형성된 컬러필터 기판을 구비하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법에 있어서, 상기 공통 전극 상부에 배향막을 형성하는 단계; 및 상기 배향막의 소정부분을 일정두께로 식각하여 셀 갭 유지 역할을 하는 지주 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of forming a strut spacer in a liquid crystal display device, including a plurality of color filter patterns, a black matrix for distinguishing between the color filter patterns and blocking light, and a common electrode for applying voltage to the liquid crystal cell. A method of forming a strut spacer in a liquid crystal display device having a color filter substrate, the method comprising: forming an alignment layer on the common electrode; And forming a support spacer for etching a predetermined portion of the alignment layer to a predetermined thickness to form a cell spacer maintaining the cell gap.

Description

Method for forming strut spacer of liquid crystal display device {METHOD FOR MANUFACTURING SUPPORTING SPACER IN LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

본 발명은 액정표시소자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 액정표시 소자의 셀 갭 유지를 위한 지주 스페이서 형성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly, to a method of forming a strut spacer for maintaining a cell gap of a liquid crystal display device.

현재 일반적인 LCD(Liquid Crystal Display) 패널 제작 공정중에 상하 유리기판의 간격을 유지하기 위하여 플라스틱이나 실리카 계통으로 제작된 스페이서(spacer)라는 수 ㎛이 자재를 두 유리기판의 사이에 산포한다. 그러나, 두 유리기판에 스페이서를 산포함으로써 발생하는 산포불량에 따른 패널상의 셀 갭(cell gap)의 불균형, 스페이서 주변의 빛샘 현상에 따른 휘도 저하, 스페이서 긁힘에 의한 배향막 표면 손상에 따른 액정배향의 불균일 및 진동에 의한 스페이서의 유동 등의 문제점등이 발생한다.In order to maintain the gap between the upper and lower glass substrates during a general liquid crystal display (LCD) panel manufacturing process, several micrometers of spacers made of plastic or silica are scattered between two glass substrates. However, unevenness of cell gaps on the panel due to scattering defects caused by scattering of spacers on two glass substrates, deterioration of luminance due to light leakage around the spacers, and unevenness of liquid crystal alignment due to surface damage of the alignment layer caused by spacer scratches. And problems such as flow of the spacer due to vibration.

이러한 단점을 극복하기 위하여 최근에 칼라필터 제조업체에서는 칼라필터 제작공정의 맨 마지막에 포토 레지스트 공정을 추가하여 지주 스페이서를 형성함으로써 위의 문제점을 극복하려 하고 있고, 몇 LCD 패널 업체에서는 실질적으로 지주 스페이서 칼라필터를 사용한 패널 제작을 개발, 완료한 곳도 있다.In order to overcome this drawback, color filter manufacturers have recently attempted to overcome the above problems by adding a photoresist process at the end of the color filter manufacturing process to form a post spacer, and some LCD panel companies have substantially implemented the post spacer color. Some have developed and completed panel production using filters.

도 1a 내지 도 1c는 현재까지의 알려진 일반적인 지주 스페이서 칼라필터 제조공정을 도시한 것이다.1A to 1C show a general post spacer color filter manufacturing process known to date.

먼저, 도 1a에 도시된 바와같이, 컬러필터 기판(10)은 색상을 구현하는 컬러필터 패턴(R.G.B)과 상기 컬러필터 패턴 셀 사이의 구분과 광차단 역할을 하는 블랙 메트릭스(12, Black Matrix), 그리고 액정 셀에 전압인가를 위한 공통전극(14), 예컨대, ITO(Indium Thin Oxide)막으로 구성되어 있다.First, as illustrated in FIG. 1A, the color filter substrate 10 may include a black matrix 12 that serves to distinguish between the color filter pattern RGB that implements color and the color filter pattern cell and to block light. And a common electrode 14 for applying voltage to the liquid crystal cell, for example, an indium thin oxide (ITO) film.

상기 블랙 메트릭스는 일반적으로 컬러필터 패턴인 RGB 패턴 사이에 위치하며 픽셀전극이 형성되지 않은 부분과 픽셀전극 주변부에 형성되는 리버스 틸트 도메인(Reverse Tilted Domain)을 차폐시키는 목적으로 설치한다.The black matrix is generally disposed between RGB patterns, which are color filter patterns, and is installed to shield reverse tilted domains formed at portions where pixel electrodes are not formed and around pixel electrodes.

그 다음, 도 1b에 도시된 바와같이, 상기 공통전극(14) 상부에 포토 레지스트막(16)을 증착한다. 이어서 상기 블랙 메트릭스 상부에만 상기 포토 레지스트막(16)이 형성되도록 노광공정을 수행한다. 이 때, 상기 포토 레지스트막(16)은 얇은 폭의 지주 스페이서를 형성하기 위하여 해상도가 우수한 UV(ultra violet)광원을 이용하여 노광공정을 수행한다.Next, as shown in FIG. 1B, a photoresist film 16 is deposited on the common electrode 14. Subsequently, an exposure process is performed such that the photoresist film 16 is formed only on the black matrix. In this case, the photoresist film 16 performs an exposure process by using an ultra violet (UV) light source having excellent resolution to form a thin strut spacer.

그 다음, 도 1c에 도시된 바와같이, 상기 포토 레지스트막(16)을 현상하여 셀 갭을 유지하는 역할을 수행하는 지주 스페이서(18)를 형성한다.Next, as shown in FIG. 1C, the photoresist film 16 is developed to form a strut spacer 18 which serves to maintain a cell gap.

이후, 도면에는 도시하지 않았지만, 후속 공정 예컨대, 배향막 도포 및 러빙공정을 수행하여 컬러필터를 형성한다.Thereafter, although not shown in the drawings, a color filter is formed by performing a subsequent process, for example, an alignment film coating and a rubbing process.

이때, 상술한 종래의 컬러필터 기판의 형성방법은, 컬러필터 패턴(R, G, B)과, 상기 컬러필터 패턴 셀 사이의 구분과 광차단 역할을 하는 블랙 메트릭스(12)와, 액정 셀에 전압인가를 위한 공통 전극(14)으로 구성된 컬러필터 기판, 즉 TN 모드를 실시예로 설명하였지만, 상기 공통전극 대신 오버코트(Overcoat)막을 형성함으로써 IPS 모드 또는 FFS 모드에서의 컬러필터상에 지주 스페이서(18)을 형성할 수 있다.In this case, the above-described method for forming a color filter substrate may include a color filter pattern (R, G, B), a black matrix 12 that serves to distinguish between the color filter pattern cells and light blocking, and a liquid crystal cell. Although the color filter substrate composed of the common electrode 14 for voltage application, that is, the TN mode has been described as an embodiment, by forming an overcoat film instead of the common electrode, the strut spacer on the color filter in the IPS mode or the FFS mode is formed. 18) can be formed.

그러나, 상기 포토 레지스트막(16)을 증착하여 지주 스페이서(18)를 형성하는 과정에 있어서 일반적으로 도포 ⇒ 선 베이크 ⇒ 노광 ⇒ 현상 ⇒ 린스 ⇒ 후 베이크의 다소 복잡한 포토리소그라피(Photolithography)공정이 수행된다.However, in the process of depositing the photoresist film 16 to form the strut spacers 18, a somewhat complicated photolithography process of coating ⇒ sun bake ⇒ exposure ⇒ development ⇒ rinse ⇒ bake is performed. .

또한, 포토 레지스트막(16)이 새로이 추가되므로 컬러 필터의 제조비용이 증가한다.In addition, since the photoresist film 16 is newly added, the manufacturing cost of the color filter increases.

따라서, 상기 문제점을 해결하기 위해 안출된 본 발명의 목적은 새로운 재질의 추가없이 지주 스페이서를 형성할 수 있는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention devised to solve the above problems is to provide a method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device capable of forming a strut spacer without addition of a new material.

도 1a 내지 도 1c는 종래 기술에 따른 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 설명하기 위한 제조공정도.1A to 1C are manufacturing process diagrams for explaining a method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device according to the prior art.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명에 따른 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 설명하기 위한 제조공정도.2A to 2C are manufacturing process diagrams for explaining a method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device according to the present invention;

도 3, 도 4, 도 5a 내지 도 5c, 도 6은 본 발명의 다른 실시예를 각각 설명하기 위한 도면.3, 4, 5a to 5c and 6 are views for explaining another embodiment of the present invention, respectively.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

20 : 컬러필터 기판 22 : 블랙 메트릭스20: color filter substrate 22: black matrix

30 : 컬러필터 패턴 31 : 공통 전극30 color filter pattern 31 common electrode

40 : 배향막 70 : 오버 코트막40: alignment film 70: overcoat film

100 : 석영기판 101 : 크롬 실리사이드막100: quartz substrate 101: chrome silicide film

102 : 차단막 110 : 하프-톤 마스크102: blocking film 110: half-tone mask

300 : 하부 기판 310 : 박막 트랜지스터300: lower substrate 310: thin film transistor

1000 : 지주 스페이서 2000 : 금형 틀1000: holding spacer 2000: mold frame

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법은, 복수의 컬러필터 패턴과, 상기 컬러필터 패턴들 사이를 구분하고 광을 차단하는 블랙 메트릭스와, 액정 셀에 전압인가를 위한 공통 전극이 형성된 컬러필터 기판을 구비하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법에 있어서, 상기 공통 전극 상부에 배향막을 형성하는 단계; 및 상기 배향막의 소정부분을 일정두께로 식각하여 셀 갭 유지 역할을 하는 지주 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.A method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention includes a plurality of color filter patterns, a black matrix for distinguishing between the color filter patterns and blocking light, and for applying voltage to the liquid crystal cell. A method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device having a color filter substrate having a common electrode, the method comprising: forming an alignment layer on the common electrode; And forming a support spacer for etching a predetermined portion of the alignment layer to a predetermined thickness to form a cell spacer maintaining the cell gap.

또한 본 발명에 따르면, 복수의 컬러필터 패턴과, 상기 컬러필터 패턴들 사이를 구분하고 광을 차단하는 블랙 메트릭스가 형성된 컬러필터 기판을 구비하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법에 있어서, 상기 컬러필터 기판상에 감광성 오버코트(over coat)막을 형성하는 단계; 상기 감광성 오버코트막의 소정부분을 일정두께로 식각하여 셀 갭 유지 역할을 하는 지주 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, there is provided a pillar spacer forming method for a liquid crystal display device having a plurality of color filter patterns and a color filter substrate on which black matrixes are formed to distinguish between the color filter patterns and block light. Forming a photosensitive overcoat film on the substrate; A method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device, the method comprising: forming a strut spacer that serves to maintain a cell gap by etching a predetermined portion of the photosensitive overcoat layer to a predetermined thickness.

또한, 본 발명에 따르면, 유리 기판을 제공하는 단계; 상기 유기 기판 상부에 블랙 메트릭스 수지막을 형성하는 단계; 상기 블랙 메트릭스 수지막의 소정 부분을 일정두께로 식각하여 셀 갭을 유지하는 지주 스페이서를 형성하는 단계; 및 상기 지주 스페이서 사이에 컬러필터패턴(R, G, B)을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.Further, according to the present invention, providing a glass substrate; Forming a black matrix resin film on the organic substrate; Etching a predetermined portion of the black matrix resin film to a predetermined thickness to form a support spacer for maintaining a cell gap; And forming color filter patterns (R, G, and B) between the support spacers.

또한, 본 발명에 따르면, 복수의 컬러필터 패턴과, 상기 컬러필터 패턴들 사이를 구분하고 광을 차단하는 블랙 메트릭스와, 액정 셀에 전압인가를 위한 공통 전극이 형성된 컬러필터 기판을 구비하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법에 있어서, 상기 공통 전극 상부에 배향막을 형성하는 단계; 상기 배향막상에 지주 스페이서 형성영역을 구비하는 금형 틀을 압착시키는 단계; 상기 금형 틀을 제거하여 셀 갭 유지를 위한 지주 스페이서를 형성하는 단계를 포함하는 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.According to the present invention, there is provided a liquid crystal display including a plurality of color filter patterns, a black matrix for distinguishing between the color filter patterns and blocking light, and a color filter substrate having a common electrode for applying voltage to the liquid crystal cell. A method of forming a support spacer for a device, comprising: forming an alignment layer on the common electrode; Squeezing a mold mold having a strut spacer forming region on the alignment layer; It is characterized in that it provides a method of forming a strut spacer of the liquid crystal display device comprising the step of removing the mold frame to form a strut spacer for maintaining the cell gap.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법의 제조공정도이다.2A to 2C are manufacturing process diagrams of a method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

먼저, 도 2a에 도시된 바와같이, 컬러필터 기판(20)상에 컬러필터 패턴의 셀 사이의 구분과 광차단 역할을 하는 블랙 메트릭스(22, Black Matrix)를 형성한다.First, as shown in FIG. 2A, a black matrix 22 is formed on the color filter substrate 20, which serves to distinguish between cells of the color filter pattern and to block light.

상기 블랙 메트릭스(22)는 통상적으로 후속 형성되는 컬러필터의 R.G.B패턴 사이에 위치하며 하부 기판에 형성되는 픽셀 전극이 형성되지 않은 부분과 픽셀 전극 주변부엥 형성되는 리버스 틸트 도메인(reverse tilted domain)을 차폐시키는 목적으로 설치된다. 이 때, 상기 블랙 메트릭스(22)의 재질로는 크롬 등의 금속 박막이나 카본(carbon) 계통의 유기 재료가 사용된다.The black matrix 22 is typically located between the RGB patterns of the subsequent color filters and shields a portion where no pixel electrode is formed on the lower substrate and a reverse tilted domain formed around the pixel electrode. Installed for the purpose of In this case, the material of the black matrix 22 is a metal thin film such as chromium or a carbon-based organic material.

그 다음, 상기 블랙 메트릭스(22) 양측면에 안료 분산법에 의한 컬러필터 패턴(30 : R.G.B)을 형성한다. 상기 컬러필터 패턴(30)은 포토 공정 기술을 이용하여 형성하며, 이 때, 상기 포토 레지스트막을 컬러 레지스트막을 이용한다. 통상적으로 컬러필터 패턴(30)은 동일 마스크를 사용하여 쉬프트시켜 형성한다.Next, color filter patterns 30 (R.G.B) are formed on both sides of the black matrix 22 by the pigment dispersion method. The color filter pattern 30 is formed using a photo process technology, and at this time, the photoresist film is used as a color resist film. Typically, the color filter pattern 30 is formed by shifting using the same mask.

그 다음, 상기 단계까지의 결과물 상에 하부의 TFT 기판에 형성되는 픽셀 전극과 함께 액정 셀을 동작시키기 위한 공통 전극(31)을 형성한다. 이 때, 상기 공통전극은 투과성과 도전성이 좋으며 화학적, 열적 안정성이 우수한 투명 전극 재료인 ITO(Indium Thin Oxide)를 스퍼터링에 의하여 증착한다.Then, the common electrode 31 for operating the liquid crystal cell is formed on the resultant up to this step together with the pixel electrode formed on the lower TFT substrate. At this time, the common electrode is deposited by sputtering ITO (Indium Thin Oxide), which is a transparent electrode material having good permeability and conductivity and excellent chemical and thermal stability.

그 다음, 도 2b에 도시한 바와같이, 상기 공통전극(30) 상부에 배향막(40)을 도포한다. 상기 배향막(40)은 감광성 폴리이미드(polyimide)막으로 구성된 얇은 유기 막으로 액정을 배향하기 위하여 도포되며, 바람직하게 적어도 2 ~ 5㎛ 두께 로 도포된다. 이어서 배향된 형상을 유지하기 위해 프리-베이크(pre-bake) 공정을 실시한다.Next, as shown in FIG. 2B, an alignment layer 40 is coated on the common electrode 30. The alignment layer 40 is applied to align the liquid crystal with a thin organic film composed of a photosensitive polyimide film, preferably at least 2 to 5 μm thick. A pre-bake process is then performed to maintain the oriented shape.

이어서, 도 2c에 도시된 바와같이, 상기 프리-베이크된 배향막(40)의 소정부분을 하프-톤 마스크의 노광 원리로 일정두께 식각을 진행한다.Subsequently, as shown in FIG. 2C, a predetermined portion of the pre-baked alignment layer 40 is etched by a predetermined thickness based on an exposure principle of a half-tone mask.

상기 하프-톤(Half-tone) 마스크의 노광원리는 도시된 바와같이, 석영기판(100) 상부에 크롬 실리사이드막(101)을 소정부분 증착하고, 그 상부에 빛이 100% 차단되는 차단막(102)을 형성하여 하프-톤 마스크(110)를 형성한다. 상기 하프-톤 마스크(110)는 차단막(102)으로 인해 빛이 100% 차단되는 영역(104) 및 빛의 30 내지 70% 정도 투과되는 영역(105:하프톤 영역)을 포함한다. 상기 차단층은 일반적으로 크롬으로 구성되며, 이러한 하프톤 마스크(110)를 이용하여 상기 배향막의 소정부분을 일정두께로 식각한다. 이에 따라, 셀 갭의 유지 역할을 수행하는 지주 스페이서(1000)를 형성한다. 그 다음, 상기 지주 스페이서(1000)의 강도 부여를 위한 포스트-베이크(post-bake) 공정을 수행한다.As illustrated, the half-tone mask exposure principle deposits a predetermined portion of the chromium silicide layer 101 on the quartz substrate 100 and blocks 100% of the light on the top of the quartz substrate 100. ) To form the half-tone mask 110. The half-tone mask 110 includes a region 104 where light is blocked 100% by the blocking layer 102 and a region 105 (halftone region) that transmits about 30 to 70% of the light. The blocking layer is generally made of chromium, and a predetermined portion of the alignment layer is etched to a predetermined thickness by using the halftone mask 110. Accordingly, the strut spacer 1000 is formed to play a role of maintaining the cell gap. Next, a post-bake process for imparting strength of the post spacer 1000 is performed.

상술한 실시예에서는 컬러필터 패턴(30)과, 상기 컬러필터 패턴 셀 사이의 구분과 광차단 역할을 하는 블랙 메트릭스(22)와, 액정 셀에 전압인가를 위한 공통 전극(31)으로 구성된 컬러필터 기판, 즉 TN 모드를 실시예로 설명하였지만, 도 3에 도시된 바와같이, 상기 공통전극 대신 2 ~ 5㎛ 두께의 오버코트(Overcoat)막(70)을 형성하고, 도 2c에 도시된 하프-톤 마스크(110)를 이용하여 IPS 모드 또는 FFS 모드에서의 컬러필터상에 지주 스페이서(1000)을 형성할 수 있다.In the above-described embodiment, the color filter includes a color filter pattern 30, a black matrix 22 that serves to distinguish between the color filter pattern cells and light blocking, and a common electrode 31 for applying voltage to the liquid crystal cell. Although the substrate, that is, the TN mode has been described as an embodiment, as shown in FIG. 3, an overcoat layer 70 having a thickness of 2 to 5 μm is formed instead of the common electrode, and the half-tone shown in FIG. 2C. The mask 110 may be used to form the strut spacer 1000 on the color filter in the IPS mode or the FFS mode.

또한, 본 발명의 다른 실시예로 도 4에 도시된 바와같이, 컬러필터 기판(20)상에 블랙 메트릭스 수지막(22)을 일정한 두께로 도포한다. 이때, 블랙 메트릭스 수지막(22) 또한 바람직하게 2 ~ 5㎛ 두께로 도포한다. 그 다음 상기 블랙 메트릭스 수지막(22)의 형성유지를 위한 프리-베이크 공정을 실시하고, 도 2c의 하프-톤 마스크(110)를 이용하여 블랙 메트릭스 수지막(22)의 소정부분을 일정두께로 식각하여 셀 갭 유지를 위한 지주 스페이서(1000)를 형성한다. 이어서, 상기 지주 스페이서(1000)의 강도 부여를 위한 포스트-베이크(post-bake) 공정을 수행한다. 이하, 도면에는 도시하지 않았지만 컬러필터 패턴(30)인 R, G, B 형성 공정 및 이후 공정을 실시한다.In another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 4, the black matrix resin film 22 is coated on the color filter substrate 20 in a constant thickness. At this time, the black matrix resin film 22 is also preferably coated with a thickness of 2 to 5 µm. Then, a pre-baking process for maintaining the formation of the black matrix resin film 22 is performed, and a predetermined portion of the black matrix resin film 22 is fixed to a predetermined thickness using the half-tone mask 110 of FIG. 2C. Etching is performed to form the strut spacer 1000 for maintaining the cell gap. Subsequently, a post-bake process for imparting strength of the post spacer 1000 is performed. Hereinafter, although not shown in the drawing, R, G, and B forming processes, which are the color filter patterns 30, and subsequent processes are performed.

그 다음, 도 5a 내지 도 5c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법의 제조공정도이다. 상술한 실시예에서 설명된 동일한 구성의 도면부호는 이하 실시예에서도 동일하다.Next, FIGS. 5A to 5C are manufacturing process diagrams of a method of forming a strut spacer of a liquid crystal display according to another exemplary embodiment of the present invention. The same reference numerals as those described in the above embodiments are the same in the following embodiments.

도 5a에 도시된 바와같이, 컬러필터 기판(20)상에 컬러필터 패턴의 셀 사이의 구분과 광차단 역할을 하는 블랙 메트릭스(22, Black Matrix)를 형성한다. 그 다음, 상기 블랙 메트릭스(22) 양측면에 안료 분산법에 의한 컬러필터 패턴(30 : R.G.B)을 형성한다. 상기 컬러필터 패턴(30)은 포토 공정 기술을 이용하여 형성하며, 이 때, 상기 포토 레지스트막을 컬러 레지스트막을 이용한다. 통상적으로 컬러필터 패턴(30)은 동일 마스크를 사용하여 쉬프트시켜 형성한다.As shown in FIG. 5A, a black matrix 22 is formed on the color filter substrate 20, which serves to distinguish between cells of the color filter pattern and to block light. Next, color filter patterns 30 (R.G.B) are formed on both sides of the black matrix 22 by the pigment dispersion method. The color filter pattern 30 is formed using a photo process technology, and at this time, the photoresist film is used as a color resist film. Typically, the color filter pattern 30 is formed by shifting using the same mask.

그 다음, 상기 단계까지의 결과물 상에 하부의 TFT 기판에 형성되는 픽셀 전극과 함께 액정 셀을 동작시키기 위한 공통 전극(31)을 형성한다. 이때, 상기 공통전극은 투과성과 도전성이 좋으며 화학적, 열적 안정성이 우수한 투명 전극 재료인 ITO(Indium Thin Oxide)를 스퍼터링에 의하여 증착한다. 이어서, 상기 공통전극(30) 상부에 배향막(40)을 도포한다. 상기 배향막(40)은 감광성 폴리이미드(polyimide)막으로 구성된 유기 막으로 액정을 배향하기 위하여 도포되며, 바람직하게 2 ~ 5㎛ 두께로 도포된다.Then, the common electrode 31 for operating the liquid crystal cell is formed on the resultant up to this step together with the pixel electrode formed on the lower TFT substrate. At this time, the common electrode is deposited by sputtering ITO (Indium Thin Oxide), which is a transparent electrode material having good permeability and conductivity and excellent chemical and thermal stability. Subsequently, an alignment layer 40 is coated on the common electrode 30. The alignment layer 40 is an organic film composed of a photosensitive polyimide film and is applied to orient the liquid crystal, and is preferably applied to a thickness of 2 to 5 μm.

그 다음, 도 5b에 도시된 바와같이, 지주 스페이서 형성영역을 한정하는 금형 틀(2000)을 제공한다. 이러한 금형 틀(2000)을 상기 배향막(40)상에 압착시켜 도 5c에 도시된 바와같이 셀 갭 유지를 위한 지주 스페이서(1000)를 형성한다. 그 다음 금형 틀(2000)을 제거한다.Next, as shown in FIG. 5B, a mold mold 2000 defining a strut spacer forming region is provided. The mold frame 2000 is pressed onto the alignment layer 40 to form the strut spacer 1000 for maintaining the cell gap, as shown in FIG. 5C. Then, the mold mold 2000 is removed.

상기 도 5a 내지 도 5c에서는 상부 기판인 컬러필터 기판(20)을 예를 들어 설명하였지만, 도 6에 도시된 바와같이 박막 트랜지스터(310)이 형성된 하부 기판(300)상에 배향막(40)을 도포하고, 도 5b의 금형 틀(2000)을 이용하여 셀 갭 유지를 위한 지주 스페이서(1000)를 형성할 수도 있다.5A to 5C, the color filter substrate 20 as the upper substrate has been described as an example. However, as shown in FIG. 6, the alignment layer 40 is coated on the lower substrate 300 on which the thin film transistor 310 is formed. In addition, the pillar spacer 1000 for maintaining the cell gap may be formed using the mold mold 2000 of FIG. 5B.

이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and it is common in the art that various substitutions, modifications, and changes can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.

상술한 본 발명의 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법에 의하면, 종래의 지주 스페이서로 이용되던 포토 레지스트막과 같은 재질의 사용 및 추가 공정 없이 셀 갭 유지를 위한 지주 스페이서를 형성함으로써, 제조 비용의 절감과 수율의 향상 및 패널의 대형화로 감으로써 발생하는 패널의 일정한 갭 유지의 어려움을 극복할 수 있을 것으로 기대된다.According to the above-described method of forming the strut spacer of the liquid crystal display device of the present invention, by reducing the manufacturing cost by forming the strut spacer for maintaining the cell gap without using the same material as the photoresist film and the additional process used in the conventional strut spacer. It is expected to overcome the difficulty of maintaining a constant gap of the panel by improving the yield and increasing the size of the panel.

Claims

A method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device comprising a plurality of color filter patterns, a black matrix for distinguishing between the color filter patterns and blocking light, and a color filter substrate having a common electrode for voltage application to the liquid crystal cell. In

Forming an alignment layer on the common electrode; And

And etching a predetermined portion of the alignment layer to a predetermined thickness to form a strut spacer that serves to maintain a cell gap.

The method of claim 1,

The alignment film is a post spacer forming method of a liquid crystal display device, characterized in that the photosensitive polyimide film.

The method of claim 2

The thickness of the alignment layer is 2 ~ 5㎛ characterized in that the strut spacer forming method of the liquid crystal display device.

The method of claim 3,

And the alignment layer is etched by using a half-tone mask.

In the method of forming a strut spacer of a liquid crystal display device comprising a plurality of color filter patterns and a color filter substrate having a black matrix for distinguishing between the color filter patterns and blocking light.

Forming a photosensitive overcoat film on the color filter substrate;

And etching a predetermined portion of the photosensitive overcoat layer to a predetermined thickness to form a strut spacer that serves to maintain a cell gap.

The method of claim 5,

The thickness of the photosensitive overcoat film is 2 ~ 5 ㎛ characterized in that the strut spacer forming method of the liquid crystal display device.

The method of claim 6,

And etching the photosensitive overcoat layer using a half-tone mask.

Providing a color filter substrate;

Forming a black matrix resin film on the color filter substrate;

Etching a predetermined portion of the black matrix resin film to a predetermined thickness to form a support spacer for maintaining a cell gap; And

And forming a color filter pattern (R, G, B) between the support spacers.

The method of claim 8,

The thickness of the black matrix resin film is 2 ~ 5㎛ characterized in that the strut spacer forming method of the liquid crystal display device.

The method of claim 8,

And etching the black matrix resin film using a half-tone mask.

Forming an alignment layer on the common electrode;

Squeezing a mold mold having a strut spacer forming region on the alignment layer;

And removing the mold mold to form a strut spacer for maintaining a cell gap.

The method of claim 11,

The method of claim 11

Providing a lower substrate having a thin film transistor;

Applying an alignment layer on the lower substrate;

Squeezing a mold mold having a strut spacer forming region on the alignment layer; And

And removing the mold mold to form a strut spacer for maintaining a cell gap.