KR100407108B1 - gas scrubber device - Google Patents
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Abstract
반도체 부품의 제조공정 또는 각종 산업 현장에서 발생되어지는 인체에 유해한 가연성 및 수용성 폐(廢)가스를 동시에 분해처리하도록 습식 및 버닝타입 가스 스크러버를 조합함으로써 대기중에 청정공기를 방출시키는 가스 세정장치에 관한 것이다.A gas scrubber for releasing clean air into the atmosphere by combining wet and burning gas scrubbers to simultaneously decompose flammable and water-soluble waste gases harmful to the human body generated in the manufacturing process of semiconductor parts or various industrial sites. will be.
본 발명에 의하면, 제 1 덕트를 통해 유입되는 폐가스를 우회하도록 공급하는 폐가스 공급관; 공급된 폐가스에 와류를 발생시키도록 다수개의 코일이 형성되고, 와류된 폐가스에 분사노즐을 통해 수분을 분사시켜 수용성가스를 분해시키는 제 1 습식챔버; 상기 제 1 습식챔버에 제 2 덕트를 통하여 연통되게 연결되며, 상기 제 1 습식챔버에서 분해되고 남은 폐가스가 공급되어 공기 및 질소가스를 공급하여 와류를 발생시켜 잘 혼합되도록 입구측에 설치되는 공급관과, 이 혼합한 가스에 점화플러그로 점화시켜 가연성가스를 연소시키는 히터를 갖는 버닝챔버; 상기 버닝챔버와 연통되게 연결되며, 상기 버닝챔버에서 연소된 산화가스의 파우더를 축적되지 않도록 분사수를 와류시키도록 하여 산화가스 파우더를 세척하는 노즐이 하부에 형성된 원추형관; 상기 원추형관에 제 3 덕트를 통하여 연통되게 연결되며, 제 1 습식챔버에서 분해되지 않은 수용성가스에 와류를 발생시키도록 다수개의 코일이 형성되고, 와류된 수용성가스에 분사노즐을 통해 수분을 분사시켜 수용성가스를 분해시키는 재차 분해시키는 제 2 습식챔버; 및 상기 제 2 습식챔버에 제 4 덕트를 통하여 연통되게 연결되며, 상기 제 2 습식챔버를 통과하는 가스와 수분이 우회되도록 공급되며, 이중관으로 되어 있어 차가운 질소가스를 외부관에 공급하여 수분을 응고시켜 정화된 공기만 대기중으로 방출시키는 배출구가 형성된 응결관을 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 세정장치를 제공한다.According to the present invention, a waste gas supply pipe for supplying to bypass the waste gas flowing through the first duct; A first wet chamber having a plurality of coils formed to generate vortices in the supplied waste gas, and injecting moisture into the vortexed waste gas through an injection nozzle to decompose the water-soluble gas; A supply pipe connected to the first wet chamber through a second duct, the waste gas decomposed and remaining in the first wet chamber is supplied to supply air and nitrogen gas to generate vortices to be mixed well and to be mixed well with the first wet chamber. And a burning chamber having a heater that ignites the mixed gas with an ignition plug to burn combustible gas; A conical tube connected in communication with the burning chamber, the nozzle having a nozzle for cleaning the oxidized gas powder by vortexing the injection water so as not to accumulate the powder of the oxidized gas burnt in the burning chamber; It is connected to the conical tube through a third duct, a plurality of coils are formed to generate a vortex in the water-soluble gas that is not decomposed in the first wet chamber, by spraying the water to the vortex water-soluble gas through the injection nozzle A second wet chamber which decomposes again to decompose the water-soluble gas; And a fourth duct connected to the second wet chamber through a fourth duct, the gas and water passing through the second wet chamber are bypassed, and a double tube is used to supply cold nitrogen gas to an external tube to solidify moisture. And a condensation tube having an outlet formed therein for releasing only the purified air to the atmosphere.
이로 인해, 버닝타입과 습식타입 가스 스크러버를 조합함으로써 구조 간단화로 인해 원가비용을 대폭적으로 줄이며, 와류를 발생시킴으로써 공기와 가연성가스를 잘 혼합시켜 연소시킴으로써 가연성가스를 완전연소할 수 있어 청정효과를 높인다. 또한, 버닝챔버에서 연소된 산화가스의 파우더를 쉽게 제거할 수 있어 막힘에 의한 고장을 방지할 수 있다.Therefore, by combining the burning type and the wet type gas scrubber, the cost is greatly reduced due to the simplification of the structure, and the combustible gas can be burned by mixing the air and the combustible gas well by generating the vortex, thereby improving the clean effect. . In addition, it is possible to easily remove the powder of the oxidized gas burned in the burning chamber to prevent failure due to clogging.
Description
본 발명은 가스 세정장치(gas scrubber device)에 관한 것으로, 특히, 반도체 부품의 제조공정 또는 각종 산업현장에서 발생되어지는 인체에 유해한 가연성 및 수용성 폐(廢)가스를 동시에 청정(淸淨)공기로 정화시킨후 대기중으로 방출시키는 가스 세정장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas scrubber device. In particular, the present invention relates to flammable and water-soluble waste gases harmful to the human body generated in the manufacturing process of semiconductor parts or various industrial sites. The present invention relates to a gas scrubber for purifying and releasing to the atmosphere.
일반적으로, 반도체 부품의 제조공정, 각종 산업 현장에서 발생되어 배출되는 폐가스가 소정농도 이하로서 정화되지 않은 상태로 대기중으로 방출되는 경우 심각한 대기 및 환경오염을 초래하게 되므로, 이러한 폐가스는 가스 스크러버방식을 이용하여 세정하고 있다.In general, when the waste gas generated in the manufacturing process of semiconductor parts and various industrial sites is discharged to the atmosphere without being purified at a predetermined concentration or less, it causes serious air and environmental pollution. Thus, such waste gas uses a gas scrubber method. It washes using.
이때, 가스 스크러버는 여러 가지의 유해가스중 수용성 가스들을 물에 용해시켜 처리하는 습식타입(wet type gas scrubber), 가연성 가스를 연소시켜 처리하는 버닝타입(burning type gas scrubber), 히터에 의해 폐가스를 직접 산화시키며,산화가스에 살수기를 이용하여 분사시킴에 따라 산화가스에 함유된 파우더(power)를 분리시키는 습식 및 버닝타입, 흡착제를 이용하여 VAN DER WAALS의 힘으로 유해한 가스를 제거하는 흡착방식, 촉매방식 등이 사용되어지고 있다.At this time, the gas scrubber is a wet type gas scrubber that dissolves and processes water-soluble gases in various harmful gases in water, a burning type gas scrubber that burns and combusts flammable gases, and waste gas by a heater. Direct oxidation, wet and burning type to separate powder (power) contained in oxidizing gas by spraying to oxidizing gas, adsorption method to remove harmful gas by the power of VAN DER WAALS using adsorbent, Catalytic methods are used.
그러나, 전술한 버닝타입은 히터에 의해 가연성 폐가스를 산화시킨후, 살수기로부터 분사되는 분사수에 의해 산화가스의 파우더와 결합하는 공정에 의해 폐가스를 정화시킨다. 이때, 산화가스의 파우더가 축적되어 굳어버리기 때문에 배관의 막힘을 가져온다. 따라서, 산화가스의 파우더가 축적되지 않도록 하여 막힘을 방지하는 장치가 요구되었다. 또한, 습식타입은 수용성 폐가스를 분사수에 의해 용해시키게 되는데, 완전용해가 이루어지지 않기 때문에, 이로 인해, 대기중으로 방출되는 공기중에 인체에 유해한 오염물질이 포함되는 문제점을 갖게 된다. 따라서, 수용성 폐가스를 분사수에 의한 완전용해를 통해 완전분해처리하는 정화시스템이 요구되었다.However, the above-described burning type oxidizes the flammable waste gas by a heater and purifies the waste gas by a process of combining with powder of oxidizing gas by the injection water sprayed from the sprinkler. At this time, the powder of the oxidizing gas accumulates and hardens, causing clogging of the pipe. Therefore, an apparatus for preventing clogging by preventing the powder of oxidizing gas from accumulating is required. In addition, the wet type dissolves the water-soluble waste gas by the injection water, and since it is not completely dissolved, this causes a problem that harmful pollutants are included in the air discharged into the atmosphere. Therefore, there is a need for a purification system for completely decomposing water-soluble waste gas through complete dissolution by sprayed water.
따라서, 본 발명의 목적은, 반도체 부품의 제조공정 또는 각종 제조산업 현장에서 발생되어지는 가연성 및 수용성 폐가스를 동시에 정화시킬 수 있는 습식 및 버닝 타입 가스 스크러버를 조합함으로써 구조 간단화로 인해 원가비용을 대폭적으로 줄이며, 폐가스에 와류를 발생시킴으로써 청정효과를 높이고 버닝챔버의 산화가스 파우더의 막힘을 방지하는 가스 세정장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to significantly reduce the cost by simplifying the structure by combining wet and burning type gas scrubbers capable of simultaneously purifying flammable and water-soluble waste gases generated in the manufacturing process of semiconductor components or various manufacturing industries. It is to provide a gas cleaning device to reduce, increase the cleaning effect by generating a vortex in the waste gas and prevent the clogging of the oxidizing gas powder of the burning chamber.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 가스 세정장치의 전체구성을 나타내는 개략도.1 is a schematic view showing the overall configuration of a gas cleaning device according to a preferred embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 습식챔버의 A-A 단면도.2 is a cross-sectional view A-A of a wet chamber according to a preferred embodiment of the present invention.
도 3a는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 버닝챔버 입구측의 공급관을 나타낸 확대도.Figure 3a is an enlarged view showing the supply pipe at the inlet side of the burning chamber according to a preferred embodiment of the present invention.
도 3b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 버닝챔버 공급관의 확대단면도.Figure 3b is an enlarged cross-sectional view of the burning chamber supply pipe according to a preferred embodiment of the present invention.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 버닝챔버에서 히터를 나타내는 확대단면도.Figure 4 is an enlarged cross-sectional view showing a heater in the burning chamber according to a preferred embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원추형관을 나타내는 확대단면도.Figure 5 is an enlarged cross-sectional view showing a conical tube according to a preferred embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 응결관을 나타낸 확대단면도.Figure 6 is an enlarged cross-sectional view showing a coagulation tube according to a preferred embodiment of the present invention.
<도면중 주요 부분에 사용된 부호의 설명><Description of the code used for the main part of the drawing>
1: 제 1 덕트(duct) 2: 폐가스 공급관1: first duct 2: waste gas supply pipe
3: 제 1 습식챔버 4',4": 노즐3: 1st wet chamber 4 ', 4 ": nozzle
5: 와류발생수단 6: 제 2 덕트5: vortex generating means 6: second duct
7: 버닝챔버 8: 점화플러그7: Burning chamber 8: Spark plug
9: 공급관 10: 히터커버9: supply line 10: heater cover
11: 히터 12: 히터봉11: heater 12: heater rod
13: 원추형관 14: 노즐13: conical tube 14: nozzle
15: 제 3 덕트 16: 제 2 습식챔버15: third duct 16: second wet chamber
17: 노즐 18: 제 4 덕트17: nozzle 18: fourth duct
19: 응결관 20: 배출구19: condenser tube 20: outlet
21a, 21b, 21c: 탱크21a, 21b, 21c: tank
상기한 목적을 달성하기 위하여 안출된 본 발명에 따르면, 제 1 덕트를 통해유입되는 폐가스를 우회하도록 공급하는 폐가스 공급관; 공급된 폐가스에 와류를 발생시키도록 다수개의 코일이 형성되고, 와류된 폐가스에 분사노즐을 통해 수분을 분사시켜 수용성가스를 분해시키는 제 1 습식챔버; 상기 제 1 습식챔버에 제 2 덕트를 통하여 연통되게 연결되며, 상기 제 1 습식챔버에서 분해되고 남은 폐가스가 공급되어 공기 및 질소가스를 공급하여 와류를 발생시켜 잘 혼합되도록 입구측에 설치되는 공급관과, 이 혼합한 가스에 점화플러그로 점화시켜 가연성가스를 연소시키는 히터를 갖는 버닝챔버; 상기 버닝챔버와 연통되게 연결되며, 상기 버닝챔버에서 연소된 산화가스의 파우더를 축적되지 않도록 분사수를 와류시키도록 하여 산화가스 파우더를 세척하는 노즐이 하부에 형성된 원추형관; 상기 원추형관에 제 3 덕트를 통하여 연통되게 연결되며, 제 1 습식챔버에서 분해되지 않은 수용성가스에 와류를 발생시키도록 다수개의 코일이 형성되고, 와류된 수용성가스에 분사노즐을 통해 수분을 분사시켜 수용성가스를 분해시키는 재차 분해시키는 제 2 습식챔버; 및 상기 제 2 습식챔버에 제 4 덕트를 통하여 연통되게 연결되며, 상기 제 2 습식챔버를 통과하는 가스와 수분이 우회되도록 공급되며, 이중관으로 되어 있어 차가운 질소가스를 외부관에 공급하여 수분을 응고시켜 정화된 공기만 대기중으로 방출시키는 배출구가 형성된 응결관을 구비하는 것을 특징으로 하는 가스 세정장치를 제공함에 의해 달성된다.According to the present invention devised to achieve the above object, a waste gas supply pipe for supplying to bypass the waste gas flowing through the first duct; A first wet chamber having a plurality of coils formed to generate vortices in the supplied waste gas, and injecting moisture into the vortexed waste gas through an injection nozzle to decompose the water-soluble gas; A supply pipe connected to the first wet chamber through a second duct, the waste gas decomposed and remaining in the first wet chamber is supplied to supply air and nitrogen gas to generate vortices to be mixed well and to be mixed well with the first wet chamber. And a burning chamber having a heater that ignites the mixed gas with an ignition plug to burn combustible gas; A conical tube connected in communication with the burning chamber, the nozzle having a nozzle for cleaning the oxidized gas powder by vortexing the injection water so as not to accumulate the powder of the oxidized gas burnt in the burning chamber; It is connected to the conical tube through a third duct, a plurality of coils are formed to generate a vortex in the water-soluble gas that is not decomposed in the first wet chamber, by spraying the water to the vortex water-soluble gas through the injection nozzle A second wet chamber which decomposes again to decompose the water-soluble gas; And a fourth duct connected to the second wet chamber through a fourth duct, the gas and water passing through the second wet chamber are bypassed, and a double tube is used to supply cold nitrogen gas to an external tube to solidify moisture. It is achieved by providing a gas scrubbing device characterized in that it comprises a condensation tube formed with a discharge port for releasing only the purified air to the atmosphere.
또한, 상기 공급관은, 질소와 공기를 따로 공급하여 와류를 발생할 수 있도록 하는 내,외측관의 이중관으로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the supply pipe is preferably formed of a double pipe of the inner and outer pipe to supply the nitrogen and air separately so that vortices can be generated.
또, 상기 버닝챔버는, 내,외측관의 이중관으로 형성되는 환형의 히터커버;상기 히터커버의 내,외측관 사이에 내설되는 환형의 히터; 및 상기 히터내부 중앙에 형성되는 히터봉을 구비하는 것이 바람직하다.The burning chamber may include an annular heater cover formed of a double tube of an inner and an outer tube; an annular heater installed between an inner and an outer tube of the heater cover; And a heater rod formed in the center of the heater.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명에 따른 가스 세정장치의 구성 및 작용을 보다 구체적으로 살펴본다.Hereinafter, the configuration and operation of the gas scrubber according to the present invention through a preferred embodiment of the present invention will be described in more detail.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 가스 세정장치의 전체구성을 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing the overall configuration of a gas cleaning device according to a preferred embodiment of the present invention.
도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 가스 세정장치는 폐가스 공급관(2), 제 1 습식챔버(3), 버닝챔버(7), 제 2 습식챔버(16) 및 응결관(19)으로 이루어진다.As shown, according to a preferred embodiment of the present invention, the gas scrubber comprises a waste gas supply pipe 2, a first wet chamber 3, a burning chamber 7, a second wet chamber 16 and a condensation tube 19. )
상기 폐가스 공급관(2)은 인체에 유해한 가연성 및 수용성 폐가스를 제 1 덕트(1)를 통해 유입되어 상기 제 1 습식챔버(3)로 공급한다. 이때, 우회되도록 폐가스를 공급하도록 하여 폐가스에 와류를 발생시키게 한다.The waste gas supply pipe (2) flows the flammable and water-soluble waste gas harmful to the human body through the first duct (1) and supplies it to the first wet chamber (3). At this time, the waste gas is supplied to be bypassed to generate a vortex in the waste gas.
상기 제 1 습식챔버(wet chamber)(3)는, 폐가스 공급관(2)에서 와류된 폐가스가 유입된다. 유입된 폐가스는 상,하부에 설치된 노즐(4',4")을 통해 분사수가 분사되어 수용성 폐가스를 용해시키게 된다.In the first wet chamber 3, the waste gas vortexed in the waste gas supply pipe 2 is introduced. The injected waste gas is injected through the nozzle (4 ', 4 ") installed in the upper, lower portion to dissolve the water-soluble waste gas.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 습식챔버의 A-A 단면도이다. 도시된 바와 같이, 상기 제 1 습식챔버(3) 내부에는 다수개의 코일형태로 된 와류발생수단(5)이 형성되어 있다. 상기 코일형태로된 와류발생수단(5)은 상기 폐가스 공급관(2)에서 유입되는 폐가스를 재차 와류시켜 노즐에서 분사되는 분사수와의 결합을 촉진시켜 수용성 폐가스의 용해를 쉽게 하는 역할을 한다.2 is a cross-sectional view A-A of a wet chamber according to a preferred embodiment of the present invention. As shown, inside the first wet chamber 3, a vortex generating means 5 in the form of a plurality of coils is formed. The vortex generating means 5 in the form of a coil vortexs the waste gas introduced from the waste gas supply pipe 2 again, thereby facilitating the coupling with the injection water injected from the nozzle, thereby facilitating the dissolution of the water soluble waste gas.
상기 제 1 습식챔버(3) 하부에는 수용성 가스의 수용액이 필터를 거쳐 탱크(21a)로 낙하되도록 되어 있다.Under the first wet chamber 3, an aqueous solution of a water-soluble gas passes through the filter to the tank 21a.
상기 버닝챔버(7)는 상기 제 1 습식챔버(3)에 제 2 덕트(6)를 통하여 연통되게 연결되며, 상기 제 1 습식챔버(3)에서 분해되고 남은 가연성 폐가스와 공기 및 질소가스를 동시에 공급하여 점화플러그(8)의 점화로 산화연소시킨다.The burning chamber 7 is connected in communication with the first wet chamber 3 through a second duct 6, and simultaneously burns flammable waste gas and air and nitrogen gas which are decomposed in the first wet chamber 3. It is supplied and oxidized by ignition of the spark plug 8.
도 3a는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 버닝챔버 입구측의 공급관을 나타낸 확대도이고, 도 3b는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 버닝챔버 공급관의 확대단면도이다. 도시된 바와 같이, 폐가스유입구(9a), 질소유입구(9b) 및 공기유입구(9c)가 각각 마련되어 각각의 가스가 유입되어 혼합되면서 와류를 발생되도록 형성되는 것을 나타낸다. 이 와류된 혼합가스는 공기가 잘 혼합되어 있기 때문에 완전연소를 실행시킬 수 있다. 또한, 가연성 폐가스에는 수소가 포함되어 있기 때문에 수소가 공기를 만나면 폭발의 위험이 있다. 따라서, 연소가 잘 되지 않는 질소가스를 혼합하여 폭발을 방지하는 역할을 하게 된다.Figure 3a is an enlarged view showing the supply pipe of the burning chamber inlet side according to a preferred embodiment of the present invention, Figure 3b is an enlarged cross-sectional view of the burning chamber supply pipe according to a preferred embodiment of the present invention. As shown, the waste gas inlet (9a), nitrogen inlet (9b) and the air inlet (9c) is provided respectively to show that the respective gases are formed to generate the vortex while inflow and mixing. This vortexed mixed gas can perform complete combustion because the air is well mixed. In addition, since flammable waste gas contains hydrogen, there is a risk of explosion when hydrogen meets air. Therefore, the combustion of nitrogen gas that does not burn well serves to prevent explosion.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 버닝챔버에서 히터를 나타내는 확대단면도이다. 도시된 바와 같이, 상기 버닝챔버(7)에는 내,외측관의 이중관으로 형성되는 환형의 히터커버(10)와 상기 히터커버(10)의 내,외측관 사이에 내설되는 환형의 히터(11) 및 열이 잘 전달되도록 상기 히터(11) 내부 중앙에 형성되는 히터봉(12)을 구비하는 것이 바람직하다.4 is an enlarged cross-sectional view illustrating a heater in a burning chamber according to a preferred embodiment of the present invention. As shown, the burning chamber 7 has an annular heater cover 10 formed between the inner and outer tubes of the annular heater cover 10 and the inner and outer tubes of the heater cover 10 formed in a double tube of the inner and outer tubes. And it is preferable to have a heater rod 12 is formed in the center inside the heater 11 so that heat is transferred well.
도 5는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 원추형관을 나타내는 확대단면도이다. 도시된 바와 같이, 상기 버닝챔버(7)의 출구측에는 원추형관(13)으로 형성되어 있으며 "T"자형 덕트와 연결되어 있다. 또한, 노즐(14)은 원추형관(13)하부에 위치하며, 상향으로 비스듬히 설치되어 있다. 상기 노즐(14)은 물을 와류시켜 분사시키며, 산화가스의 파우더가 축적되지 않고 분사수에 의해 세척되도록 하는 역할을 한다. 또한 노즐(14)에서 분사된 물은 상기 제 1 습식챔버(3)에서 분해되지 않은 수용성 폐가스를 냉각시키는 역할을 한다.5 is an enlarged cross-sectional view showing a conical tube according to a preferred embodiment of the present invention. As shown, the outlet side of the burning chamber 7 is formed of a conical tube 13 and is connected to the "T" shaped duct. In addition, the nozzle 14 is located below the conical tube 13, and is installed obliquely upward. The nozzle 14 vortex and spray water, and serves to allow the powder of the oxidizing gas to be washed by the sprayed water without accumulation. In addition, the water injected from the nozzle 14 serves to cool the water-soluble waste gas that is not decomposed in the first wet chamber 3.
상기 제 2 습식챔버(16)는 상기 원추형관(13)에 제 3 덕트(15)를 통하여 연통되게 연결되어 있다. 상기 제 2 습식챔버(16)에, 상기 버닝챔버(7) 출구측에서 산화가스의 파우더가 와류된 분사수와 결합되고 남은 고온(약 1000℃ 정도)의 상기 제 1 습식챔버(3)에서 분해되지 않은 수용성 폐가스가 유입된다. 이 유입된 폐가스는, 상부에 설치된 노즐(15)을 통해 분사수가 분사되어, 이 분사수와 결합되고, 냉각되면서 배출된다. 이때, 상기 제 1 습식챔버(3)와 마찬가지로 코일형태로된 와류발생수단(도 2참조)이 내부에 설치되어 있다. 또한, 제 2 습식챔버(16) 하부에는 상기 원추형관(13)에서 물과 결합된 부산물과 제 2 습식챔버에서 분해된 수용성 폐가스의 수용액이 필터를 거쳐 탱크(21b)로 낙하하도록 되어 있다.The second wet chamber 16 is connected in communication with the conical tube 13 through a third duct 15. The second wet chamber 16 is decomposed in the first wet chamber 3 at a high temperature (about 1000 ° C.) remaining after the powder of the oxidizing gas is combined with the jetted water vortexed at the outlet of the burning chamber 7. Unused aqueous waste gas is introduced. The injected waste gas is injected through the nozzle 15 provided in the upper portion, and is injected with the sprayed water and discharged while being cooled. At this time, similarly to the first wet chamber 3, a vortex generating means (see Fig. 2) in the form of a coil is provided therein. In addition, below the second wet chamber 16, an aqueous solution of a byproduct combined with water in the conical tube 13 and a water-soluble waste gas decomposed in the second wet chamber is dropped through the filter into the tank 21b.
상기 응결관(19)은 상기 제 2 습식챔버(16)에 제 4 덕트(18)를 통하여 연통되게 연결되어 있다. 응결관(19)은 상기 제 2 습식챔버(16)로부터 배출되는 정화된 가스와 물방울의 혼합체를 우회시켜 공급되도록 형성되어 있다.The condenser tube 19 is connected in communication with the second wet chamber 16 via a fourth duct 18. The condensation tube 19 is formed so as to bypass the mixture of the purified gas and water droplets discharged from the second wet chamber 16.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 응결관의 확대단면도이다. 도시된 바와 같이, 이중관으로 되어 있다. 응결관의 내부관(19a)에는 제2 습식챔버에서 배출되는 정화된 가스와 물방울의 혼합체가 공급되고, 외부관(19b)에는 차가운 질소가스가 와류되면서 제 2 습식챔버(14)로부터 배출되는 혼합체를 냉각시키도록 되어 있다. 이러한 구성으로 혼합체는 냉각되는데, 물방울은 응결되어서 응결관(19)의 하부에 설치된 탱크(21c)에 낙하시키도록 되어 있고, 정화된 가스는 소정온도(약 50℃ 정도)로 냉각시켜 응결관의 출구측에 마련된 배출구(20)에 설치된 환풍기(미도시됨)에 의해 배출되도록 되어 있다.6 is an enlarged cross-sectional view of a coagulation tube according to a preferred embodiment of the present invention. As shown, there is a double tube. The inner tube 19a of the condensation tube is supplied with a mixture of purified gas and water droplets discharged from the second wet chamber, and the outer tube 19b is a mixture discharged from the second wet chamber 14 while cold nitrogen gas is vortexed. It is designed to cool. In this configuration, the mixture is cooled, and the water droplets are condensed to drop in the tank 21c provided at the lower part of the condensation tube 19, and the purified gas is cooled to a predetermined temperature (about 50 DEG C) to provide a It is to be discharged by a fan (not shown) installed in the discharge port 20 provided on the outlet side.
위와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예에 의한 가스 세정장치의 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the gas cleaning apparatus according to a preferred embodiment of the present invention configured as described above are as follows.
먼저, 반도체 부품 등의 제조공정 또는 각종 산업현장에서 배출되는 폭발성, 부식성, 질식성 등의 각종 폐가스가 제 1 덕트(1)를 따라 폐가스 공급관(2)을 거쳐 우회되고, 제 1 습식챔버(3)를 거쳐서 분사수에 의해 수용성 폐가스가 용해되어 탱크(21a)로 낙하된다. 이때, 폐가스는 우회되면서 와류가 발생되어 분사수와의 결합이 쉽게 된다. 또한, 제 1 습식챔버(3) 내부에 설치되어 있는 코일형태로된 와류발생수단(5)에 의해 폐가스가 재차 와류되면서 분사수와의 결합을 촉진시킨다. 다음, 제 1 습식챔버(3)를 거쳐 수용성 폐가스가 분해된 가연성 폐가스는 제 2 덕트(5)를 따라 버닝챔버(6)를 거쳐 점화플러그(8)의 점화로 산화연소되어 산화가스 및 파우더가 생성된다. 이때, 버닝챔버에 공급되는 가연성 폐가스는 버닝챔버(7) 입구측에 설치된 공급관(9)에 의해 질소와 공기를 와류를 발생시키면서 혼합되게 한다. 이 생성된 산화가스의 파우더는 버닝챔버(7)의 하부에 설치된 원추형관(13)에서 노즐(14)을 통해 와류되도록 분사되는 물과 결합하게 된다. 이때 원추형관(13)의 하부에 설치된 노즐(14)은 물을 와류되도록 분사시켜 산화가스 파우더의 축적을 방지하며 세척하는 역할을 한다. 다음, 제 3 덕트(15)에서는 원추형관(13)에서 물과 결합된 산화가스의 파우더는 탱크(21b)로 낙하되고 나머지 제 1 습식챔버(3)에서 분해되고 남은 수용성폐가스는 제 2 습식챔버(16)에서 분사수와 2 차 결합되어 탱크(21b)로 낙하되도록 되어 있다. 이때, 제 2 습식챔버(16)의 내부에는 제 1 습식챔버(3)와 마찬가지로 코일형태로된 와류발생수단(도 2참조)에 의해 와류되면서 분사수와의 결합을 촉진시킨다. 다음, 제 2 습식챔버(16)에서 배출된 정화된 가스와 수분의 혼합체는 제 4 덕트(18)를 통해 응결관(19)을 거치게 되는데, 여기서는 수분이 응결되고, 정화된 가스를 냉각시키게 된다. 이에 따라 응결된 수분은 탱크(21c)로 낙하되고, 냉각된 정화 가스는 응결관의 배출구(20)에 마련된 환풍기에 의해 대기중으로 배출된다. 탱크에 집수된 폐수는 폐수처리장으로 배출된다.First, various waste gases such as explosive, corrosive, and asphyxiating gases discharged from a manufacturing process of semiconductor parts or various industrial sites are bypassed through the waste gas supply pipe 2 along the first duct 1, and the first wet chamber 3 is discharged. The water-soluble waste gas is dissolved by the sprayed water and dropped into the tank 21a through the tank. At this time, the waste gas is bypassed and vortices are generated, so that the waste gas is easily combined with the sprayed water. In addition, the waste gas is vortexed again by the vortex generating means 5 in the form of a coil provided inside the first wet chamber 3 to promote the coupling with the sprayed water. Next, the combustible waste gas from which the water-soluble waste gas is decomposed through the first wet chamber 3 is oxidized and burned by ignition of the spark plug 8 through the burning chamber 6 along the second duct 5 so that the oxidizing gas and powder Is generated. At this time, the combustible waste gas supplied to the burning chamber is mixed with nitrogen and air by generating a vortex by the supply pipe 9 installed at the inlet side of the burning chamber 7. The powder of the oxidized gas is combined with the water injected to vortex through the nozzle 14 in the conical tube 13 installed in the lower portion of the burning chamber (7). At this time, the nozzle 14 installed in the lower portion of the conical tube 13 is sprayed to vortex water to prevent the accumulation of oxidized gas powder and serves to wash. Next, in the third duct 15, the powder of the oxidized gas combined with water in the conical tube 13 is dropped into the tank 21b and decomposed in the remaining first wet chamber 3 and the remaining water-soluble waste gas is the second wet chamber. In 16, it is secondary-bonded with the sprayed water so as to fall to the tank 21b. At this time, inside the second wet chamber 16, as in the first wet chamber 3, it is vortexed by the vortex generating means (see FIG. 2) in the form of a coil to promote the coupling with the sprayed water. Next, the mixture of the purified gas and water discharged from the second wet chamber 16 passes through the condensation tube 19 through the fourth duct 18, where the moisture condenses and cools the purified gas. . Accordingly, the condensed water falls into the tank 21c, and the cooled purge gas is discharged into the atmosphere by a fan provided at the outlet 20 of the condensation tube. The wastewater collected in the tank is discharged to the wastewater treatment plant.
반도체 부품의 제조공정 또는 각종 제조산업 현장에서 발생되어지는 인체에 유해한 폐가스를 정화하는데 버닝타입과 습식타입 가스 스크러버를 조합함으로써 구조 간단화로 인해 원가비용을 대폭적으로 줄이며, 와류를 발생시킴으로써 공기와 가연성가스를 잘 혼합시켜 연소시킴으로써 가연성가스를 완전연소할 수 있어 청정효과를 높이며, 버닝챔버에서 연소된 산화가스의 파우더를 쉽게 제거할 수 있어 막힘에 의한 고장을 방지할 수 있다.Combination of burning type and wet type gas scrubber to purify the waste gas harmful to human body generated in the manufacturing process of semiconductor parts or various manufacturing industries greatly reduces the cost cost due to the simplification of structure and generates vortices to produce air and combustible gas By mixing the combustion well and combustible gas can be completely burned to increase the clean effect, it is possible to easily remove the powder of the oxidized gas burned in the burning chamber to prevent failure due to clogging.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0022023A KR100407108B1 (en) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | gas scrubber device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2001-0022023A KR100407108B1 (en) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | gas scrubber device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020082567A KR20020082567A (en) | 2002-10-31 |
KR100407108B1 true KR100407108B1 (en) | 2003-12-31 |
Family
ID=27702313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR10-2001-0022023A KR100407108B1 (en) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | gas scrubber device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100407108B1 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100647997B1 (en) * | 2004-12-13 | 2006-11-23 | 유니셈 주식회사 | Waste gas treatment system |
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KR100626297B1 (en) * | 2005-05-03 | 2006-09-20 | 주식회사 케이피씨 | Waste gas scrubber |
KR100833348B1 (en) * | 2007-01-12 | 2008-05-28 | 유니셈(주) | System for supplying waste organic material |
CN114060184B (en) * | 2020-07-31 | 2023-04-07 | 比亚迪股份有限公司 | Water-gas mixing device and engine |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20020082567A (en) | 2002-10-31 |
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FPAY | Annual fee payment |
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|
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