KR100395409B1 - 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법 - Google Patents

터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100395409B1
KR100395409B1 KR10-2001-0003093A KR20010003093A KR100395409B1 KR 100395409 B1 KR100395409 B1 KR 100395409B1 KR 20010003093 A KR20010003093 A KR 20010003093A KR 100395409 B1 KR100395409 B1 KR 100395409B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
blasting
holes
hole
tunnel
primary
Prior art date
Application number
KR10-2001-0003093A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20020061952A (ko
Inventor
조용소
Original Assignee
주식회사 부암테크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 부암테크 filed Critical 주식회사 부암테크
Priority to KR10-2001-0003093A priority Critical patent/KR100395409B1/ko
Publication of KR20020061952A publication Critical patent/KR20020061952A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100395409B1 publication Critical patent/KR100395409B1/ko

Links

Classifications

    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E21EARTH OR ROCK DRILLING; MINING
    • E21DSHAFTS; TUNNELS; GALLERIES; LARGE UNDERGROUND CHAMBERS
    • E21D9/00Tunnels or galleries, with or without linings; Methods or apparatus for making thereof; Layout of tunnels or galleries
    • E21D9/006Tunnels or galleries, with or without linings; Methods or apparatus for making thereof; Layout of tunnels or galleries by making use of blasting methods
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F42AMMUNITION; BLASTING
    • F42DBLASTING
    • F42D1/00Blasting methods or apparatus, e.g. loading or tamping
    • F42D1/08Tamping methods; Methods for loading boreholes with explosives; Apparatus therefor
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F42AMMUNITION; BLASTING
    • F42DBLASTING
    • F42D3/00Particular applications of blasting techniques
    • F42D3/04Particular applications of blasting techniques for rock blasting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mining & Mineral Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Drilling And Exploitation, And Mining Machines And Methods (AREA)

Abstract

본 발명은 터널발파공법에 있어 터널 자유면 중심에 형성되는 심발공의 암석발파가 잘 이루어지도록 함과 동시 발파진동과 폭음 등의 발파공해를 저감시킬 수 있는 심발공의 배치방법에 관한 것으로, 터널의 자유면 중심부분에는 중앙에 위치한 무장약공과 그 주위에 다수의 장약공을 배치시킨 심발공과, 상기 심발공의 주위에 일정간격으로 배치되는 다수의 장약공으로 형성되는 1차 및 2차 확대공과, 터널의 자유면 바닥부분에 일정간격으로 배치되는 다수의 장약공으로 형성되는 바닥공과, 상기 2차 확대공의 외주에 배치되며 터널의 자유면 양측 벽면과 천정에 일정간격으로 다수 천공되는 장약공으로 형성되는 벽면 및 천정 외곽공으로 터널발파공을 구성하는 터널발파공법에 있어서, 상기 심발공의 중앙에는 일정간격을 가지며 수직상으로 3개의 상,중,하부 무장약공을 배치하며; 상기 상,중,하부 무장약공들 중 중간부 무장약공 양측에 수평하게 2개의 1차발파 장약공을 배치하고; 상기 상,하부 무장약공 각각의 좌,우 양측에는 대각선 방향으로 4개의 2차발파 장약공을 배치하고, 상기 1차발파 및 2차발파 장약공 주위에는 정사각형을 이루도록 배치되는 8개의 3차발파 장약공과, 능형을 이루도록 배치되는 4개의 4차발파 장약공 및 정사각형을 이루도록 배치되는 4개의 5차발파 장약공들을 차례로 형성시킨 것을 특징으로 하는 발명이다.

Description

터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법{Smooth Blasting Tunnels}
본 발명은 터널발파공법(S.B.T : Smooth Blasting Tunnels)에 있어 터널 자유면 중심에 형성되는 심발공의 암석발파가 잘 이루어지도록 함과 동시 발파진동과 폭음 등의 발파공해를 저감시킬 수 있는 심발공의 배치방법에 관한 것이다.
산악지역을 관통하는 도로 또는 철로를 건설하기 위해서는 터널을 뚫고 있으며, 산악지역은 통상 여러 종류의 암류로 구성된 연암층과 경암층의 지질구조를 가지고 있다.
따라서 터널굴착공사는 주로 폭약을 폭발시키는 발파공법이 널리 사용되고 있다.
일반적으로 암발파의 경우 발파로 인하여 발생하는 에너지 중에서 0.5∼20%가 탄성파로 변환되어 발파진동(Ground Shock)으로 소비되는 것으로 밝혀졌으며, 상기한 발파진동은 지반속으로 전파되면서 지면에서는 진폭과 주기를 갖는 진동으로 나타나 발파현장 주변의 건축물과 구조물에 피해를 주게 되며, 또한 인체 및 가축에도 피해를 주게 되므로 터널굴착공사에는 유익한 발파공법이 그 주변환경과 인체 등에는 심한 부작용으로 나타나고 있으므로 이의 개선이 시급히 요구되고 있는 실정이다.
이를 위해 종래 기술은 터널의 자유면에 발파공을 뚫어줌에 있어서 터널의 중심부에 천공되는 심발공을 도 3의 도시와 같이 배치하고 있는 바, 이는 심발공(100)의 중앙에 대략 350mm 내외의 대구경을 가지는 무장약공(101)을 뚫어준 다음 상기 무장약공(101)에 인접한 주위의 가장 가까운 위치에 정사각형 모양을 이루도록 4개의 1차발파 장약공(102)과, 상기 1차발파 장약공(102)보다는 멀리 떨어진 위치에 능형모양으로 4개의 2차발파 장약공(103)을 배치하고, 이어서 상기 2차발파 장약공(103)보다 더 먼 위치에 정사각형 모양으로 4개의 3차발파 장약공(104)을 배치한 다음 발파시에는 대구경의 무장약공(101)에 가장 가까운 위치에 형성된 4개의 1차발파 장약공(102)이 먼저 발파되고 이어서 4개의 2차발파 장약공(103)과 3차발파 장약공(104)이 일정한 시차를 가지고 차례로 발파되는 구조로 되어 있다.
상기와 같은 종래 기술은 심발공(100)의 중앙에 배치된 대구경의 무장약공(101)은 비어있는 상태이므로 4개의 1차발파 장약공(102)이 동시에 발파될 때 그 발파압력이 무장약공(101)으로 작용하게 되므로서 4개의 1차발파 장약공(102) 안쪽에 있는 암석이 비어있는 무장약공(101)을 향해 파괴가 순조롭게 진행될 수 있으며, 또한 상기 무장약공(101)이 1차발파 장약공(101)의 발파시 발생된 발파진동 및 발파소음의 진행을 차단 및 흡수하는 작용을 기대할 수 있는 장점이 있는 반면에 다음과 같은 문제점을 내포하고 있다.
즉, 종래 기술의 무장약공(101)의 내경은350mm 내외로서 기존의 천공장비로서 가장 큰 구멍을 천공하는 점보드릴로 천공할 수 있는102mm 보다 훨씬 크기 때문에 무장약공(101)을 천공하기 위해서는 특수하게 제작된 고가의 천공장비를 사용하여야 하므로 이로 인하여 무장약공(101)을 천공하는 데 많은 비용이 소요되는 문제점이 있으며, 또한 발파작업시 무장약공(101) 주위에 가장 가까운 위치에 정사각형 모양으로 배치되어 있는 4개의 1차발파 장약공(102)이 동시에 발파될 때 그 발파압력이 무장약공(101) 사방에서 동시에 작용되기 때문에 무장약공(101) 주위의 암석이 큰 덩어리 상태로 파괴되지 않고 잘게 부서지는 현상이 나타나게 되는데, 이렇게 암석이 잘게 부서지게 될 경우에는 잘게 부서진 세립 암석은무장약공(101)을 메우게 되어 암반의 굴착효율을 떨어뜨리게 되고, 또 무장약공(101)을 메우게 되는 세립 암석에 의하여 발파진동과 발파소음을 차단 및 흡수하는 효과가 저하되는 문제점이 발생되며, 심한 경우 세립 암석이 무장약공(101) 내에서 소결되는 현상이 나타나는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술에서 나타나는 제반 문제점을 해결하고자 창출한 것으로, 터널굴착공사시 암반의 자유면에 다수의 터널발파공을 설계에 맞추어 천공 배치함에 있어 심발공에 배치되는 무장약공을 기존의 천공장비인 점보드릴로서 천공할 수 있도록 하므로서 별도의 특수천공장비를 제작하는데 소요되는 비용을 절감시키면서 심발공의 천공작업을 수행할 수 있도록 하는 한편 발파시 무장약공이 소결되는 현상없이 효율적으로 굴착될 수 있도록 하는데 목적을 두고 발명한 것이다.
본 발명은 상기와 같은 목적을 달성하기 위한 수단으로서,
터널의 자유면 중심부분에는 중앙에 위치한 무장약공과 그 주위에 다수의 장약공을 배치시킨 심발공과, 상기 심발공의 주위에 일정간격으로 배치되는 다수의 장약공으로 형성되는 1차 및 2차 확대공과, 터널의 자유면 바닥부분에 일정간격으로 배치되는 다수의 장약공으로 형성되는 바닥공과, 상기 2차 확대공의 외주에 배치되며 터널의 자유면 양측 벽면과 천정에 일정간격으로 다수 천공되는 장약공으로 형성되는 벽면 및 천정 외곽공으로 터널발파공을 구성하는 터널발파공법에 있어서,
상기 심발공의 중앙에는 일정간격을 가지며 수직상으로 3개의 상,중,하부 무장약공을 배치하며; 상기 상,중,하부 무장약공들 중 중간부 무장약공 양측에 수평하게 2개의 1차발파 장약공을 배치하고; 상기 상,하부 무장약공 각각의 좌,우 양측에는 대각선 방향으로 4개의 2차발파 장약공을 배치하고, 상기 1차발파 및 2차발파 장약공 주위에는 정사각형을 이루도록 배치되는 8개의 3차발파 장약공과, 능형을 이루도록 배치되는 4개의 4차발파 장약공 및 정사각형을 이루도록 배치되는 4개의 5차발파 장약공들을 차례로 형성시킨 것을 특징으로 하는 것이다.
도 1은 본 발명을 설명하기 위한 터널발파공법의 천공 배공도.
도 2는 본 발명의 요부인 심발공 배치구조의 상세도.
도 3은 종래 기술의 심발공 배치구조도.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 터널 자유면 2 : 심발공
21a,21b,21c : 상,중,하부 무장약공
22 : 1차발파 장약공 23 : 2차발파 장약공
24 : 3차발파 장약공 25 : 4차발파 장약공
26 : 5차발파 장약공 3 : 1차 확대공
4 : 2차 확대공 5 : 좌,우 양측 벽면 외곽공
6 : 천정 외곽공 7 : 바닥공
본 발명의 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명을 설명하기 위한 터널발파공법의 천공 배공도이며, 도 2는 본 발명의 요부인 심발공 배치구조의 상세도를 도시한 것으로,
도면부호 1은 터널 자유면을 나타내는 것으로, 터널발파공법으로 터널굴착공사를 시공하고자 할 때에는 먼저 터널 자유면(1)의 중심부에 심발공(2)을 형성하는 천공작업을 한 다음 상기 심발공(2) 주위에는 설계에 맞추어 일정거리로 이격되며 터널굴착 단면형상에 맞추어 다수의 장약공들이 일정간격으로 천공되는 1차 확대공(3)과, 2차 확대공(4), 좌,우 양측 벽면 외곽공(5), 천정 외곽공(6) 및 바닥공(7)을 형성한다.
본 발명의 특징은 터널 자유면(1)의 중심부에 형성되는 심발공(2)에 무장약공과 장약공을 배치하는 방법에 있다.
상기 심발공(2)은 면적은 대략 2m2를 기준하여 형성된다.
상기 심발공(2)의 중앙에는 3개의 상,중,하부 무장약공(21a)(21b)(21c)을 수직상으로 배치하며, 상,중,하부 무장약공들 중 중간부 무장약공(21b)의 좌,우 양측 각각에 수평하게 2개의 1차발파 장약공(22)을 배치하는 한편, 상,하부 무장약공(21a)(21c)의 양측 각각에는 대각선방향으로 4개의 2차발파 장약공(23)을 배치시킨다.
상기 1차발파 및 2차발파 장약공(22)(23)들은 상,중,하부 무장약공(21a,21b.21c)의 좌,우 양측에 거의 수직상으로 배치되는 구조로 형성되는데, 상기 1차 발파 장약공(22)이 중간부 무장약공(21b)의 양측에 가장 가까운 간격으로 배치되어 있다.
상기 1차발파 및 2차발파 장약공(22)(23)의 사방 주위에는 8개의 3차발파 장약공(24)이 일정간격을 유지한 채 정사각형 모양으로 배치되어 있으며, 상기 3차발파 장약공(24)의 사방 주위에는 각각 4개씩으로 된 4차발파 및 5차발파 장약공(25)(26)이 배치되는데, 상기 4차발파 장약공(25)들은 능형 모양으로 배치되는 한편 상기 5차발파 장약공(26)들은 정사각형 모양으로 배치된다.
그리고 상기한 1차발파 내지 5차발파 장약공들 각각에는 정해진 량의 폭약이 충진된 상태에서 일정한 시차로 연속하여 발파되도록 구성되어 있다. 즉, 1차발파 장약공(22)이 발파가 개시되면 일정한 시차로 순차적으로 발파되도록 구성된 것이다.
한편, 상기한 심발공(2)의 각 장약공들이 순차적으로 발파가 진행된 후에는 1차 확대공(3), 2차 확대공(4), 좌,우 양측 벽면 외곽공(5), 천정 외곽공(6) 및 바닥공(7)들의 각 장약공들이 정해진 순서에 맞추어 일정한 시차로 연속하여 발파되도록 구성되어 있다.
이와 같이 구성된 본 발명으로 터널굴착공사를 시행함에 있어 심발공(2)의 작용을 설명하면 다음과 같다.
심발공(2)의 중앙에 상,하로 일정간격이 유지된 채 수직상으로 형성된 상,중,하부 무장약공(21a)(21b)(21c)의 주위에 도 2의 도시와 같이 배치된 각 장약공들은 정해진 순서에 따라 연차적으로 발파되는 것으로, 먼저 첫번째로 발파되는 2개의 1차발파 장약공(22)의 발파압력이 사방으로 전달되는데 우선 가장 가까운 거리에 있는 중간부 무장약공(21b)의 양측으로 작용하게 되므로 중간부 무장약공(21b)양측의 암석은 크게 균열되면서 큰 덩어리 상태로 파괴되는 것이며, 또한 1차발파 장약공(22)의 발파압력이 상,하부 무장약공(21a)(21c)으로도 작용하게 되는데, 상기한 상,하부 무장약공은 중간부 무장약공보다 1차발파 장약공(22)에서 조금 더 먼 위치에 배치되어 있기 때문에 1차발파 장약공의 발파압력의 영향을 덜 받는 상태가 된다.
따라서 상,하부 무장약공(21a)(21c) 주위의 암석은 1차발파 장약공(22)에서 가장 가까운 위치에 있는 중간부 무장약공(21b) 주위의 암석보다는 덜 군열 내지 파괴되는 상태가 되는데, 이때 1차발파 장약공(22)이 발파된 후 극히 짧은 시차를 두고 4개의 2차발파 장약공(23)이 발파되므로 앞서 1차발파 장약공(22)의 발파진동이 상,하부 무장약공 주위의 암석으로 진행되고 있는 상태에서 두번째로 발파되는 2차발파 장약공(23)의 발파압력이 상,하부 무장약공(21a)(21c)에 작용하게 되는 상태가 되므로서 상기 상,하부 무장약공(21a)(21c) 주위의 암석은 1차발파 장약공의 발파압력과 2차발파 장약공의 발파압력의 영향을 연쇄적으로 받게 되며, 이와 같이 연쇄적인 발파압력을 받는 상,하부 무장약공(21a)(21c) 주위의 암석은 무장약공의 빈 공간에 의하여 균열 내지 파괴가 잘 이루어지게 된다.
상기와 같이 심발공(2)의 중앙에 수직상으로 배치된 3개의 상,중,하부 무장약공(21a)(21b)(21c)는 1차발파 장약공(22) 및 2차발파 장약공(23)이 연쇄적으로 발파될 때 그 발파압력에 의하여 암석이 밀려날 수 있는 공간을 제공해주는 작용으로 균열 및 파괴가 원활하게 진행되게 함과 동시 터널 자유면(1)의 전방을 향해 떨어져 나가게 하므로서 다음의 연쇄적인 발파작동 즉, 8개의 3차발파 장약공(24)과 4개의 4차발파 장약공(25) 및 4개의 5차발파 장약공(26)들이 연쇄적으로 발파됨에 따라 심발공(2)의 암석이 상,중,하부 무장약공(21a)(21b)(21c)이 형성된 중앙부분부터 균열과 파괴 및 굴착되면서 점차로 5차발파 장약공(26)이 배치된 암석으로 확장되므로서 심발공(2)의 암석굴착작업이 정확하게 이루어지게 되는 것이다.
상기와 같이 심발공(2)의 각 장약공이 순차적이고 연쇄적인 발파가 완료되면 이어서 상기 심발공(2) 주위에 배치된 1차 및 2차 확대공(3)(4), 좌,우 양측 벽면 외곽공(5), 천정 외곽공(6) 및 바닥공(7)들을 구성하는 다수의 장약공들이 정해진 순서에 따라 연쇄적으로 발파되면서 터널 자유면(1)을 일정한 깊이로 굴착 절개시키게 되는 것이다.
한편, 상기와 같이 심발공(2)의 중앙에 수직상으로 배치된 상,중,하부 무장약공들은 속이 빈 상태이므로 2개의 1차발파 장약공(22)이 발파될 때 발생되는 발파진동과 발파소음을 차단 및 흡수하는 작용을 하게 되며, 또한 1차발파 장약공(22)의 발파시에는 중간부 무장약공(21b) 주위의 암석이 파괴되어 절개된 상태이므로 이어서 연쇄적으로 발파되는 2차발파 장약공(23)이 발파진동과 발파소음 역시 상,하부 무장약공(2a)(2c)의 빈 공간과 앞서 파괴된 절개공에 의하여 차단 및 흡수되는 상태가 되는 것이며, 이와 같이 1차발파 및 2차발파 장약공(22)(23)의 연쇄적인 발파로 인하여 파괴됨과 동시 절개되는 절개공간은 그 다음으로 연쇄적으로 발파되는 3차발파 내지 5차발파 장약공(24)(25)(26)의 발파진동과 발파소음을 차단 및 흡수하는 작용을 하게 되는 것이며, 또한 심발공(2)의 모든 장약공들이 연쇄적으로 발파가 완료된 후에는 심발공(2)의 암석 전체가 절개된 상태가 되므로 이후에 연쇄적으로 발파되는 1차 및 2차 확대공(3)(4), 좌,우 양측의 벽면 외곽공(5), 천정 외곽공(6) 및 바닥공(7)들의 발파진동과 발파소음도 앞서 진행된 발파에 의하여 점차로 확장되면서 형성되는 절개공간에 의하여 차단 및 흡수되므로서 터널굴착공사시 폭약의 발파진동과 발파소음을 저감시킬 수 있는 것이다.
상기와 같은 본 발명에 의하면 터널 자유면의 중심부에 형성되는 심발공의 중앙에 수직상으로 3개의 상,중,하부 무장약공을 배치하는 수단으로 심발공의 발파작업시 암석이 크게 균열되면서 파괴되도록 하므로서 무장약공이 소결되는 현상없이 균열 및 파괴되면서 터널 자유면에서 떨어져 나가도록 하여 터널발파공법의 효율성을 향상시키는 효과가 있을 뿐 아니라 발파진동 및 발파소음을 현저하게 저감시키는 효과를 가져다주어 터널굴착현장의 주변의 각종 건축물이나 구조물 또는 교량 그리고 가축 등에 피해를 입히지 않고 터널굴착공사를 발파공법으로 시공할 수 있게 하는 유용한 발명이다.

Claims (1)

  1. 터널의 자유면 중심부분에는 중앙에 위치한 무장약공과 그 주위에 다수의 장약공을 배치시킨 심발공과, 상기 심발공의 주위에 일정간격으로 배치되는 다수의 장약공으로 형성되는 1차 및 2차 확대공과, 터널의 자유면 바닥부분에 일정간격으로 배치되는 다수의 장약공으로 형성되는 바닥공과, 상기 2차 확대공의 외주에 배치되며 터널의 자유면 양측 벽면과 천정에 일정간격으로 다수 천공되는 장약공으로 형성되는 벽면 및 천정 외곽공으로 터널발파공을 구성하는 터널발파공법에 있어서,
    상기 심발공의 중앙에는 일정간격을 가지며 수직상으로 3개의 상,중,하부 무장약공을 배치하며; 상기 상,중,하부 무장약공들 중 중간부 무장약공 양측에 수평하게 2개의 1차발파 장약공을 배치하고; 상기 상,하부 무장약공 각각의 좌,우 양측에는 대각선 방향으로 4개의 2차발파 장약공을 배치하고, 상기 1차발파 및 2차발파 장약공 주위에는 정사각형을 이루도록 배치되는 8개의 3차발파 장약공과, 능형을 이루도록 배치되는 4개의 4차발파 장약공 및 정사각형을 이루도록 배치되는 4개의 5차발파 장약공들을 차례로 형성시킨 것을 특징으로 하는 터널발파공법의 심발공 배치방법.
KR10-2001-0003093A 2001-01-19 2001-01-19 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법 KR100395409B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0003093A KR100395409B1 (ko) 2001-01-19 2001-01-19 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2001-0003093A KR100395409B1 (ko) 2001-01-19 2001-01-19 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2020010001778U Division KR200229396Y1 (ko) 2001-01-22 2001-01-22 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치구조

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020061952A KR20020061952A (ko) 2002-07-25
KR100395409B1 true KR100395409B1 (ko) 2003-08-27

Family

ID=27692191

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2001-0003093A KR100395409B1 (ko) 2001-01-19 2001-01-19 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100395409B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101196700B1 (ko) 2012-07-16 2012-11-07 (주)한화 터널의 발파방법
KR101704013B1 (ko) 2016-07-19 2017-02-08 조용소 단일 및 복합 자유면에서 지연 시차를 이용하는 자유면의 위상 및 직렬 확장 발파공법

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100852959B1 (ko) * 2007-01-30 2008-08-19 선산토건주식회사 미진동 균열 파쇄 기능을 갖는 터널의 형성방법
KR100852960B1 (ko) * 2007-01-30 2008-08-20 선산토건주식회사 수퍼홀 피라미드형 노치균열 컷을 이용한 터널의 심발공부영역 형성방법
CN105021096B (zh) * 2015-07-17 2017-03-01 中铁四局集团第四工程有限公司 一种应用在高瓦斯大断面隧道爆破中的五段式毫秒电雷管二次爆破施工方法
CN106996724B (zh) * 2017-04-19 2019-03-29 江西理工大学 一种巷道光面爆破方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101196700B1 (ko) 2012-07-16 2012-11-07 (주)한화 터널의 발파방법
KR101704013B1 (ko) 2016-07-19 2017-02-08 조용소 단일 및 복합 자유면에서 지연 시차를 이용하는 자유면의 위상 및 직렬 확장 발파공법

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020061952A (ko) 2002-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100676914B1 (ko) 미진동 터널 굴착공법
KR100358780B1 (ko) 에어튜브를 이용한 진동 및 폭음제어 터널발파방법
KR101212606B1 (ko) 터널 심발공의 발파방법
KR101040787B1 (ko) 분산장약을 이용한 수평 발파공법
KR100710410B1 (ko) 터널고속굴착공법
KR102268422B1 (ko) 대지 경계선에서 소음 진동 저감을 위한 뉴 라인드릴링 공법 및 이를 포함하는 암발파 공법
CN108915694B (zh) 隧洞下层台阶全断面无保护层挤压爆破与修路保通的施工方法
CN111102892B (zh) 一种适用于深埋隧洞爆破开挖的楔形掏槽炮孔布置方法
KR100395409B1 (ko) 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치방법
KR100196634B1 (ko) 정밀기폭시차 조정이 가능한 진동제어 암반발파시스템
KR100196192B1 (ko) 인장파괴를 이용한 암반절단방법
KR101048072B1 (ko) 경사공과 평행공의 제발효과를 이용한 장공 심발패턴 형성방법
KR100852960B1 (ko) 수퍼홀 피라미드형 노치균열 컷을 이용한 터널의 심발공부영역 형성방법
KR101350065B1 (ko) 심발 발파 방법
US4135450A (en) Method of underground mining
KR100323401B1 (ko) 단계별전진식번카트발파공법
KR100438028B1 (ko) 선균열과 상부 심빼기를 이용한 환경 친화적 터널 발파 공법
KR101318362B1 (ko) 터널의 발파방법
KR0146411B1 (ko) 지중암반 발파공법
KR100312349B1 (ko) 단계별 전진식 브이 카트 발파 공법
KR200229396Y1 (ko) 터널발파공법(에스.비.티)의 심발공 배치구조
KR20020074766A (ko) V-분할 확심 발파 공법 (M-Cut공법)
KR100443578B1 (ko) 장공발파를 위한 심발공 사전절단 이완식 발파방법
CN114676604A (zh) 一种优化掏槽孔及空孔位置以提高爆破掘进进尺的方法
JP3059621B2 (ja) 岩盤等の爆破方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120808

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130808

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140808

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150810

Year of fee payment: 13

LAPS Lapse due to unpaid annual fee