KR100383440B1 - Apparatus for eliminating semi-conductor or electrical device moliding comfound and the method of the same - Google Patents

Apparatus for eliminating semi-conductor or electrical device moliding comfound and the method of the same Download PDF

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KR100383440B1 KR10-2001-0031685A KR20010031685A KR100383440B1 KR 100383440 B1 KR100383440 B1 KR 100383440B1 KR 20010031685 A KR20010031685 A KR 20010031685A KR 100383440 B1 KR100383440 B1 KR 100383440B1
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Abstract

본 발명은 전자부품의 표면 몰딩 수지부위를 기계적인 밀링법과 화학적인 습식에칭을 통해 일괄적으로 제거하는 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지 제거기에 관한 것으로, 패키지된 반도체 또는 전자부품을 고정하는 지지수단; 패키지된 반도체 또는 전자부품을 촬영하여 외부에서 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면을 볼 수 있도록 하는 카메라; 표면 몰딩 수지를 기계적으로 제거하는 밀링수단; 표면 몰딩 수지를 화학적으로 제거하는 습식에칭수단; 습식에칭수단의 일단면과 연결되어 습식에칭수단에 에칭액을 공급하는 에칭액공급수단; 밀링수단 또는 습식에칭수단에 의해 연마되고 습식에칭된 패키지된 반도체 또는 전자부품을 세척하는 세척수단; 및 지지수단의 일단면과 연결되어 지지수단이 3차원적인 움직임을 갖을 수 있도록 하여 카메라, 밀링수단, 습식에칭수단 또는 세척수단으로 지지수단이 이동할 수 있도록 하고, 상기 카메라 상기 밀링수단, 상기 습식에칭수단 또는 상기 세척수단에서 소정의 동작을 할 수 있도록 하는 이동수단을 구비하는 것을 특징으로 하여 몰딩수지를 효과적으로 제거한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a packaged semiconductor or electronic component surface remover remover for collectively removing the surface molding resin portion of an electronic component through mechanical milling and chemical wet etching. Support means; A camera for photographing the packaged semiconductor or electronic component to view the surface of the packaged semiconductor or electronic component from the outside; Milling means for mechanically removing the surface molding resin; Wet etching means for chemically removing the surface molding resin; Etching solution supply means connected to one end surface of the wet etching means and supplying the etching solution to the wet etching means; Cleaning means for cleaning the packaged semiconductor or electronic component that is ground and wet etched by the milling means or the wet etching means; And connected to one end of the support means so that the support means can have a three-dimensional movement to move the support means to the camera, milling means, wet etching means or cleaning means, the camera means milling means, the wet etching Means or moving means for providing a predetermined operation in the washing means is characterized in that it effectively removes the molding resin.

Description

패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지 제거기 및 제거방법{APPARATUS FOR ELIMINATING SEMI-CONDUCTOR OR ELECTRICAL DEVICE MOLIDING COMFOUND AND THE METHOD OF THE SAME}FIELD OF ELIMINATING SEMI-CONDUCTOR OR ELECTRICAL DEVICE MOLIDING COMFOUND AND THE METHOD OF THE SAME

본 발명은 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지를 제거하는 제거기에 관한 것으로, 더욱 상세히 설명하면, 반도체 칩이나 전자부품이 습기나 진동에 의한 열화나 고장 등의 발생 방지와 집적회로의 구성부분을 배치 접속, 보호하기 위해 매입하는 수지를 제거하기 위한 전자부품의 표면 몰딩 수지부위를 기계적인 밀링법과 화학적인 습식에칭을 통해 일괄적으로 제거하는 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지 제거기에 관한 것이다.The present invention relates to a remover for removing the surface molding resin of a packaged semiconductor or electronic component. More specifically, the semiconductor chip or electronic component prevents deterioration or failure due to moisture or vibration, and a component part of an integrated circuit. For surface-molding resin removal of packaged semiconductors or electronic components which collectively removes the surface-molding resin parts of the electronic parts to remove the resins to be placed, connected, and protected by mechanical milling and chemical wet etching. will be.

반도체 또는 전자부품의 품질검사에서 불량으로 판정 받은 제품의 불량분석을 위해서는 반도체 칩이나 회로를 구성하는 기판을 관찰할 필요가 있다. 따라서, 반도체 및 전자부품의 패키지된 몰딩 수지를 제거하여 관찰을 하는데, 종래에는 수작업을 통하여 패키지된 몰딩 수지를 제거 하였다. 현재 사용되는 반도체 또는 전자부품의 종류는 수천 가지에 이르며 그 형태도 다양하고 그 양도 많다. 이러한 수작업을 통한 몰딩 수지를 제거하는 것은 화학물질을 사용하므로 수작업으로 하기에 위험하고, 공정이 복잡하여 다량의 작업을 하기가 곤란하다.In order to analyze a defect of a product which is judged to be defective by quality inspection of a semiconductor or an electronic component, it is necessary to observe a semiconductor chip or a substrate constituting a circuit. Accordingly, the packaged molding resin of the semiconductor and the electronic component is removed and observed. In the related art, the packaged molding resin is removed by manual operation. There are thousands of kinds of semiconductors or electronic components currently used, and their shapes vary and are many. Removal of the molding resin through such manual work is dangerous because it uses chemicals, and it is difficult to carry out a large amount of work due to the complicated process.

따라서, 본 발명의 목적은 상기 종래기술의 문제점을 해결하기 위해서 창출된 것으로, 패키지된 반도체 또는 전자부품의 몰딩수지를 제거하기 위한 단위공정들을 자동화, 규격화 시켜 기존에 사용되는 여러 다양한 반도체 및 전자부품에 적용 가능한 장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and to automate and standardize the unit processes for removing the molding resin of the packaged semiconductor or electronic components, various various semiconductor and electronic components used in the past. It is to provide a device applicable to.

또한, 본 발명의 또다른 목적은, 패키지된 반도체 또는 전자부품의 몰딩수지를 제거하기 위한 단위공정들을 자동화, 규격화 시켜 기존에 사용되는 여러 다양한 반도체 및 전자부품에 적용 가능한 방법을 제공하는 것이다.In addition, another object of the present invention is to provide a method that can be applied to a variety of conventional semiconductor and electronic components used by automating and standardizing the unit processes for removing the molding resin of the packaged semiconductor or electronic component.

따라서, 상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 패키지된 반도체 및 전자부품의 표면 몰딩 수지 제거기는 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지를 기계적인 밀링법과 화학적인 습식에칭을 통해 일괄적으로 제거하는 몰딩 수지 제거기로, 패키지된 반도체 또는 전자부품을 고정하는 지지수단; 패키지된 반도체 또는 전자부품을 촬영하여 외부에서 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면을 볼 수 있도록 하는 카메라; 표면 몰딩 수지를 기계적으로 제거하는 밀링수단; 표면 몰딩 수지를 화학적으로 제거하는 습식에칭수단; 습식에칭수단의 일단면과 연결되어 습식에칭수단에 에칭액을 공급하는 에칭액공급수단; 밀링수단 또는 습식에칭수단에 의해 연마되고 습식에칭된 패키지된 반도체 또는 전자부품을 세척하는 세척수단; 및 지지수단의 일단면과 연결되어 지지수단이 3차원적인 움직임을 갖을 수 있도록 하여 카메라, 밀링수단, 습식에칭수단 또는 세척수단으로 지지수단이 이동할 수 있도록 하고, 상기 카메라 상기 밀링수단, 상기 습식에칭수단 또는 상기 세척수단에서 소정의 동작을 할 수 있도록 하는 이동수단을 구비하는 것을 특징으로 하고,Accordingly, in order to achieve the above object, the surface molding resin remover of the packaged semiconductor and electronic component according to the present invention collectively removes the surface molding resin of the packaged semiconductor or electronic component through mechanical milling and chemical wet etching. A molding resin remover comprising: support means for fixing the packaged semiconductor or electronic component; A camera for photographing the packaged semiconductor or electronic component to view the surface of the packaged semiconductor or electronic component from the outside; Milling means for mechanically removing the surface molding resin; Wet etching means for chemically removing the surface molding resin; Etching solution supply means connected to one end surface of the wet etching means and supplying the etching solution to the wet etching means; Cleaning means for cleaning the packaged semiconductor or electronic component that is ground and wet etched by the milling means or the wet etching means; And connected to one end of the support means so that the support means can have a three-dimensional movement to move the support means to the camera, milling means, wet etching means or cleaning means, the camera means milling means, the wet etching And means for moving to allow a predetermined operation in the cleaning means or means.

또한, 상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 패키지된 반도체 및 전자부품의 표면 몰딩 수지 제거방법은, 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지를 기계적인 밀링법과 화학적인 습식에칭을 통해 일괄적으로 제거하는 몰딩 제거방법으로, 몰딩 수지의 제거될 영역을 결정하는 범위결정단계; 몰딩 수지의 제거될 영역의 부피를 산출하는 부피산출단계; 몰딩 수지의 제거될 영역을 밀링수단에 의해 기계적으로 제거하는 단계; 몰딩 수지의 제거될 영역을 습식에칭수단을 이용해서 화학적으로 제거하는 단계; 몰딩수지를 습식에칭수단에 의해 화학적으로 제거하는 단계; 및 몰딩수지를 제거한 패키지된 반도체 또는 전자부품을 세척하는 단계를 수행하는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to achieve the above object, the method of removing the surface molding resin of the packaged semiconductor and electronic component according to the present invention, the surface molding resin of the packaged semiconductor or electronic component through a mechanical milling method and chemical wet etching. In the molding removal method to remove by, a range determination step of determining the region to be removed of the molding resin; Calculating a volume of a region to be removed of the molding resin; Mechanically removing, by milling means, a region to be removed of the molding resin; Chemically removing the region to be removed of the molding resin using wet etching means; Chemically removing the molding resin by wet etching means; And cleaning the packaged semiconductor or electronic component from which the molding resin is removed.

도 1은 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기의 평면도를 도시한다.1 shows a plan view of a molding resin remover according to the invention.

도 2는 도 1에서 B-B지점에서 화살표 방향으로 바라볼 때의 측면도를 도시한다.FIG. 2 shows a side view when viewed in the direction of the arrow at point B-B in FIG. 1.

도 3은 본 발명에 따른 몰딩 수지제거기의 정면도를 도시한다.3 shows a front view of the molding resin remover according to the present invention.

도 4는 도 1에서 레일을 따라 X,Y,Z축 스테이지(41,42,43)를 밀링장치(43)까지 이동시킨 상태에서 A-A 지점에서 화살표 방향으로 바라볼 때의 측면도를 도시한다.FIG. 4 shows a side view of the X, Y, Z axis stages 41, 42, 43 along the rail in FIG. 1 when viewed in the direction of the arrow from the A-A point with the milling device 43 moved.

도 5는 본 발명에서 사용하는 에칭액 주입관의 횡단면도를 도시한다.Fig. 5 shows a cross sectional view of an etchant injection tube used in the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기를 컴퓨터와 연결한 구조도를 도시한다.6 shows a structural diagram in which a molding resin remover according to the present invention is connected to a computer.

도 7는 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기를 제어하는 컴퓨터의 프로그램에서 수행하는 순서도를 도시한다.Figure 7 shows a flowchart executed in a program of a computer for controlling a molding resin remover according to the present invention.

*도면의 간단한 설명** Brief description of drawings *

10: 지지기 20: 밀링장치10: support 20: milling apparatus

30: CCD 카메라 41: X 축 스테이지30: CCD camera 41: X axis stage

42: Y 축 스테이지 43: Z 축 스테이지42: Y axis stage 43: Z axis stage

50: 화학물 토출관 60: 에칭액 주입관50: chemical discharge tube 60: etching liquid injection tube

70: 온도조절장치 80: 크리닝장치70: temperature control device 80: cleaning device

90: 아암90: arm

본 발명의 상기 및 다른 목적, 장점 및 특징은 첨부 도면을 참조하여 설명되는 다음의 기재로부터 더 명백하게 될 것이다.도 1, 도 2, 도 3, 도 4는 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기에 대한 도이다. 도 1은 몰딩 수지 제거기의 평면도를 도시하고, 도 3은 정면도를 도시한다. 도 2는 도 1에서 B-B 지점에서 화살표 방향으로 바라볼 때의 측면도를 도시한 것이고, 도 4는 도 1에서 레일을 따라 X,Y,Z축 스테이지를 이동시킨 상태에서 A-A 지점에서 화살표 방향으로 바라볼 때의 측면도를 도시한 것이다.도 1, 도 2, 도 3, 도 4를 참조해서 설명하면, 몰딩 수지 제거기(100)는 에폭시로 몰딩된 완성된 반도체 또는 전자부품을 표면의 몰딩수지를 제거하여 반도체 칩 및 전자회로를 표면에 드러나게 하여 구조적 결함이나, 전기적 결함을 분석할 수 있도록 하는 수단으로, 크게 다양한 형태의 시편을 고정하는 지지기(10), 기계적으로 표면 몰딩 수지를 제거하는 밀링 장치(milling:20), 시편의 모습을 관찰 할 수 있는 CCD 카메라(30), 시편을 원하는 위치로 이동 시키고 고정 시키기 위한 X,Y,Z 축 스테이지 (41,42,43), 에칭액을 공급하는 화학물 토출관(50), 습식에칭을 하는 에칭액 주입관(60), 에칭액 온도조절장치(70) 및 공정 전후에 시편의 세척을 위한 크리닝 (cleaning) 장치(80)로 구성된다.The above and other objects, advantages and features of the present invention will become more apparent from the following description which is described with reference to the accompanying drawings. FIGS. 1, 2, 3, and 4 are views of a molding resin remover according to the present invention. to be. 1 shows a plan view of a molding resin remover, and FIG. 3 shows a front view. FIG. 2 is a side view when viewed in the direction of the arrow at the BB point in FIG. 1, and FIG. 4 is a view in the direction of the arrow at the AA point with the X, Y, Z axis stages moved along the rail in FIG. Referring to FIGS. 1, 2, 3, and 4, the molding resin remover 100 removes a molding resin on a surface of a finished semiconductor or electronic component molded with epoxy. To expose semiconductor chips and electronic circuits on the surface to analyze structural defects and electrical defects, supporters 10 for fixing specimens of various types, and milling apparatuses for mechanically removing surface molding resin. (milling: 20), CCD camera 30 to observe the state of the specimen, X, Y, Z axis stages (41, 42, 43) to move and fix the specimen to the desired position, chemical supplying the etching solution Water discharge The tube 50, the etching liquid injection tube 60 for wet etching, the etching liquid temperature control device 70 and a cleaning device (80) for cleaning the specimen before and after the process.

지지기(10)는 다양한 형태의 시편을 고정하는 수단으로, 지지기(10)는 사용자가 시편을 지지기(70)에 고정시켜 밀링, 습식에칭, 세척 등의 작업하는 과정에서 시편이 고정되고 지지기가 X, Y,Z 축 스테이지(41,42,43)를 이용하여 움직이면서, 밀링장치(20), 에칭액 주입관(60)와 접촉하여 시편의 몰딩수지를 제거할 수 있으며, 또한, 크리닝장치(80)로 투입되어 세척작업을 수행할 수 있도록 한다. 그리고, 지지기(10)는 Z축 스테이지(43)와 축(95)으로 연결하여 축(95)이 회전하여 지지기(10)가 Z축으로 이동하여 크리닝 장치에 투입될 때 수직으로 입사하지 않고 일정한 각도를 가지고 경사지게 입사하도록 한다. 그리고, 지지기(10)가 축과 90도의 각을 가지고 회전할 수 있도록 하는 연결수단을 구비한다.Support 10 is a means for fixing the specimen of various forms, the supporter 10 is fixed to the specimen in the supporter 70, the specimen is fixed in the process of working, such as milling, wet etching, washing, As the supporter moves by using the X, Y, Z axis stages 41, 42, 43, it is possible to remove the molding resin of the specimen by contacting the milling apparatus 20 and the etching liquid injection tube 60, and also the cleaning apparatus. It is put into (80) so that cleaning can be performed. In addition, the supporter 10 is connected to the Z-axis stage 43 and the shaft 95 so that the shaft 95 is rotated so that the supporter 10 moves to the Z-axis so that the supporter 10 is not vertically incident to the cleaning apparatus. It is to be inclined at an angle with no fixed angle. And, the support 10 is provided with a connecting means to rotate with an angle of 90 degrees with the shaft.

또한, 지지기(10)에 열선을 더 구비하여 열선을 이용해서 시편을 가열하도록 한다.In addition, the supporter 10 is further provided with a heating wire to heat the specimen using the heating wire.

CCD 카메라(30)는 시편을 촬영하여 사용자가 컴퓨터 상으로 볼 수 있도록 하는 디지털카메라로, 반도체 완성품 또는 전자부품은 수천 가지에 이를 정도로 다양한 종류의 크기와 형태를 가지고 있으므로, CCD 카메라(30)를 이용하여 시편을 촬영하여 컴퓨터(200)로 전송하여 컴퓨터 모니터상에 나타난 화면을 이용하여 시편표면에서 제거해야할 범위를 결정한다.The CCD camera 30 is a digital camera that photographs a specimen so that a user can view it on a computer. Since a semiconductor product or an electronic component has various kinds and sizes of thousands, the CCD camera 30 is used. Take a picture of the specimen and send it to the computer 200 to determine the range to be removed from the surface of the specimen using the screen displayed on the computer monitor.

밀링장치(20)는 반도체 또는 전자부품의 표면의 몰딩수지를 기계적으로 제거하는 수단으로, 사용자가 임의로 컴퓨터(200)의 모니터상에 나타난 시편표면을 관찰하여 제거해야 할 범위와 깊이를 지정하여 지정한 부분을 연마 등의 기계적으로 제거한다.The milling device 20 is a means for mechanically removing the molding resin on the surface of a semiconductor or electronic component. The milling device 20 designates a range and depth to be removed by observing a specimen surface on a monitor of the computer 200 arbitrarily. The part is mechanically removed such as polishing.

화학물 토출관(50)는 에칭액을 이용하여 시편을 습식에칭하여 몰딩수지를 화학적으로 제거하도록 에칭액을 공급하는 수단으로, 에칭액을 밀링장치(20)에 의해 제거되는 몰딩수지의 양에 따라 에칭액의 양을 조절한다. 따라서, CCD 카메라 (30)를 이용하여 시편을 촬영한 후에 제거되어야할 몰딩수지의 양을 파악하여 주입될 에칭액의 양이 자동으로 결정된다. 화학물 토출관(50)을 통해서 주입되는 에칭액은 황산, 질산, 인산, 염산, 불산 등 강산을 사용한다. 그리고, 화학물 토출관의 끝단에 에칭액 주입관(60)이 부착된다.The chemical discharge tube 50 is a means for supplying the etching liquid to wet-etch the specimen using the etching liquid to chemically remove the molding resin, and the etching liquid may be removed depending on the amount of the molding resin removed by the milling apparatus 20. Adjust the amount. Therefore, the amount of etching liquid to be injected is automatically determined by grasping the amount of molding resin to be removed after photographing the specimen using the CCD camera 30. The etching solution injected through the chemical discharge tube 50 uses strong acids such as sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, and hydrofluoric acid. The etchant injection tube 60 is attached to the end of the chemical discharge tube.

에칭액 주입관(60)은 에칭액을 이용하여 시편을 습식에칭을 하는 수단으로, 수십 ㎛ 이상의 두께를 갖는 금속선 또는 금속판의 끝부분을 수 ㎚ 의 곡률반경을 갖도록 미세 가공을 한 후에, 다이아몬드 등의 물질을 코팅하고 코팅된 양끝 부분을 제거하고, 다시 기판 물질인 금속팁을 제거함으로써 에칭액 주입관(60)을 제조한다. 에칭액 주입관(60)은 화학물 토출관(50)의 끝단에 설치되어 시편의 몰딩수지에 에칭액을 투입하여 시편의 몰딩 수지를 화학적으로 절삭한다. 에칭액 주입관(60)으로부터 몰딩 수지에 습식 에칭액을 접촉시키는 방법은 에칭액 주입관(60)이 몰딩 수지와 접촉하지 않고 에칭액만 접촉시키는 비접촉방식을 채택하여 절삭하는데, 밀링장치(20)에 의하여 기계적으로 몰딩 수지에 홈을 만들고, 홈에 에칭액을 투입하여 절삭을 한다. 에칭액의 양은 기계적으로 절삭하는 몰딩 수지의 양을 자동으로 계산하여 기계적으로 제거되는 몰딩 수지의 부피만큼 에칭액의 부피를 화합물 토출관(50)에서 공급하여 화학적으로 몰딩 수지를 절삭한다.The etchant injection tube 60 is a means for wet etching the specimen using the etchant, and finely processed the end of the metal wire or metal plate having a thickness of several tens of micrometers or more to have a radius of curvature of several nm, and then a material such as diamond. The etching solution injection tube 60 is prepared by coating and removing the coated both ends and removing the metal tip, which is a substrate material. The etchant injection tube 60 is installed at the end of the chemical discharge tube 50 to inject the etchant into the molding resin of the specimen to chemically cut the molding resin of the specimen. The method of contacting the wet etching liquid with the molding resin from the etching liquid injecting tube 60 employs a non-contact method in which the etching liquid injecting tube 60 contacts only the etching liquid without contacting the molding resin, which is cut by the milling apparatus 20. The grooves are made in the molding resin, and the etching solution is added to the grooves for cutting. The amount of the etchant automatically calculates the amount of the molding resin to be mechanically cut, and chemically cuts the molding resin by supplying the volume of the etchant from the compound discharge tube 50 by the volume of the molding resin that is mechanically removed.

도 5은 본 발명에서 사용하는 에칭액 주입관(60)의 횡단면도를 도시한다. 도 3을 참조해서 설명하면, (a)는 에칭액 주입관(60)의 끝 부분이 점점 좁아지는 형상을 보여주는 에칭액 주입관의 길이방향의 종단면도이고, (b)는 에칭액 주입관의 몸체 원통부의 횡단면이 도시되며, (c)는 에칭액이 투입되는 에칭액 주입관(60)의 끝 부분 단면 형상을 도시하였다. (a) 및 (c)에 도시된 바와 같이 에칭액 주입관(60)의 끝 부분은 10 nm 내지 1mm 의 직경을 구비한다.5 shows a cross-sectional view of the etching liquid injection tube 60 used in the present invention. Referring to Figure 3, (a) is a longitudinal cross-sectional view of the etching liquid injection tube showing the shape of the end of the etching liquid injection tube 60 becomes narrower, (b) is a body cylindrical portion of the etching liquid injection tube The cross section is shown, (c) shows the cross-sectional shape of the end portion of the etchant injection tube 60 into which the etchant is introduced. As shown in (a) and (c), the end portion of the etchant injection tube 60 has a diameter of 10 nm to 1 mm.

본 발명에 따른 에칭액 주입관(60)은 습식 에칭액에 식각되지 않아야 하며 기판상에 형성된 패턴에 자주 접촉되어도 에칭액 주입관(60)이 무디어지지 않아야 하므로 다이아몬드, 큐빅 보론 나이트라이드(c-BN; Cubic Boron Nitride) 및 사파이어(Sapphire, 산화 Al) 등의 물질 중에서 선택된 적어도 하나로 형성하거나, 또는 본 발명에 따른 에칭액 주입관은 테플론(Teflon), 폴리에틸렌(Polyethelene), 폴리프로필렌(Polypropylene) 및 아세탈(Acetal) 등의 고분자(polymer) 중에서 선택된 적어도 하나의 물질로 형성하는 것이 바람직하다.The etchant injection tube 60 according to the present invention should not be etched into the wet etchant and the etchant injection tube 60 should not be blunt even when frequently contacted with the pattern formed on the substrate. Diamond, cubic boron nitride (c-BN; Cubic It is formed of at least one selected from materials such as Boron Nitride and Sapphire (Al oxide), or the etchant injection tube according to the present invention may be made of Teflon, polyethylene, polypropylene, and acetal. It is preferable to form at least one material selected from polymers, such as these.

에칭액 온도조절장치(70)는 습식에칭에 사용되는 에칭액이 화학반응을 효과적으로 수행할 수 있도록 적정한 온도로 에칭액을 가열할 수 있도록 하고, 또한, 일정한 온도를 유지할 수 있도록 하는 수단으로, 에칭액에 놓인 시편을 할로겐 램프에 의한 복사방식의 가열하는 방식을 이용할 수 있고, 또는, 지지기에 열선을 설치하여 열선에 의한 직접 가열하는 방식을 이용할 수 있다. 에칭액의 온도는 50℃ 이상 또는 300℃ 이하에서는 반응이 효과적으로 나타난다.The etchant temperature control device 70 is a means which allows the etchant used for wet etching to heat the etchant at an appropriate temperature so as to effectively perform a chemical reaction, and also maintains a constant temperature. The heating method of the radiation method by the halogen lamp can be used, or the heating method can be used by providing a heating wire to the supporter and heating directly by the heating wire. At the temperature of the etching solution, the reaction is effective at 50 ° C or higher or 300 ° C or lower.

크리닝 장치(80)는 일정부위의 몰딩수지를 제거한 시편을 세척하는 수단으로, 아세톤을 담은 용기를 이용해서 시편을 아세톤에 담구어 세척한다. 또한, 크리닝 장치(80)에 초음파 발진기를 부착하여 아세톤에 담긴 시편에 붙은 잔유물을 초음파를 이용해서 제거하여 세척한다. 시편은 지지기(10)에 부착되어 크리닝 장치(80)로 투입이 되는데, 일정한 경사를 가지고 투입이 되어 세척의 효과를 높인다. 또한, 크리닝 장치(80)에 시편이 투입되어 세척되는 과정에서 지지기가 Z축 스테이지위를 짧게 상하 왕복운동을 하여 세척의 효과를 높인다.The cleaning device 80 is a means for washing a specimen from which a predetermined portion of the molding resin is removed, and the specimen is immersed in acetone using a container containing acetone and washed. In addition, by attaching an ultrasonic oscillator to the cleaning device 80, the residue adhered to the specimen contained in acetone is removed and cleaned using ultrasonic waves. Specimen is attached to the support (10) is put into the cleaning device 80, it is put with a certain inclination to increase the effect of cleaning. In addition, while the specimen is put into the cleaning device 80 is washed, the supporter performs a short vertical reciprocating movement on the Z-axis stage to enhance the cleaning effect.

X,Y,Z 축 스테이지(41,42,43)는 시편을 고정한 지지기가 원하는 위치로 이동할 수 있도록 하는 수단으로, X축, Y축, Z축의 3개의 축으로 구성되고 3개의 축에 레일(41a,42a,43a)이 부착되어 있고 Z축 스테이지(43)는 아암(ARM:90)이 결합되어 있어 X,Z 축 스테이지(41,43)가 각기 독립적으로 이동하고 아암(90)의 동작에 의해 지지기(10)에 고정된 시편이 3차원적으로 이동할 수 있도록 한다. 그리고, 그리고, Z축 스테이지(13)는 아암(ARM:90)을 구비하여 아암(90)에 지지기(10)가 결합된다. X, Y, Z 축 스테이지(41,42,43)의 동작을 예를 들어 설명하면, 지지기(10)가 Z축 스테이지와 결합되어 있고, Z축 스테이지(43)는 X축 스테이지(41)에 구성되어 있는 수직방향(Z 축방향)의 레일(43a)위에 연결되어 Z축으로 이동할 수 있도록 한다. 또한, Z축 스테이지(43)와 지지기(10)사이에 Y축 방향으로 길이가 늘어나고 줄어드는 아암을 구비하여 지지기가 Y축으로 움직일 수 있도록 한다. 그리고, Y축 방향으로 Y축 스테이지(42)를 구성하여 밀링장치(20)와 습식에칭장치(60)가 Y축 스테이지(42)에 연결되어 지지기(10)에 고정된 시편이 작업 중에 밀링장치(20) 또는 습식에칭장치(60)에서 받는 힘을 지지할 수 있도록 하며, Y축 스테이지(42)에 설치되어 있는 레일(42a)은 습식에칭장치가 Y축 스테이지(42)에서 Y축 방향으로 움직일 수 있도록 한다. 그리고, Z 축 스테이지(43)와 연결된 X축 스테이지(41)는 X축방향으로 있는 레일(41a)위를 이동하여 X축 스테이지(41)가 X축 방향으로 이동할 수 있도록 한다. 따라서, 지지기(10)에 고정된 시편이 3차원적인 이동을 하여 밀링장치(20), 에칭액 주입관(60) 또는 크리닝 장치(80)를 통해서 밀링작업, 습식에칭, 세척작업 등을 할 수 있도록 한다. 또한, 시편을 CCD 카메라(30)를 이용해서 시편을 관찰할 수 있도록 CCD 카메라(30)의 위치로 이동할 수 있도록 한다. 특히, 세척작업을 하는 과정에서 세척효과를 높이기 위해 지지기(10)가 수직으로 이동하여 시편이 크리닝 장치로 투입되지 않고, 일정한 경사를 가지고 투입되도록 한다.X, Y, Z axis stages (41, 42, 43) is a means for moving the supporter fixed to the specimen to the desired position, consisting of three axes of the X-axis, Y-axis, Z-axis and the rail ( 41a, 42a, 43a are attached, and the Z-axis stage 43 is arm (ARM: 90) coupled, so that the X, Z-axis stages 41, 43 move independently of each other and the arm 90 By this, the specimen fixed to the support 10 can be moved in three dimensions. And, the Z-axis stage 13 has an arm (ARM) 90 to which the support 10 is coupled to the arm 90. Referring to the operation of the X, Y, Z axis stages 41, 42, 43, for example, the support 10 is coupled to the Z axis stage, the Z axis stage 43 is the X axis stage 41 It is connected to the rail (43a) in the vertical direction (Z axis direction) is configured to allow to move in the Z axis. In addition, between the Z-axis stage 43 and the supporter 10 is provided with an arm extending and decreasing in the Y-axis direction to enable the supporter to move in the Y-axis. Then, the Y-axis stage 42 is configured in the Y-axis direction so that the milling device 20 and the wet etching device 60 are connected to the Y-axis stage 42 so that the specimen fixed to the support 10 is milled during operation. It is possible to support the force received by the device 20 or the wet etching device 60, the rail 42a installed on the Y-axis stage 42 is the wet etching device in the Y-axis stage 42 in the Y-axis direction To move. Then, the X-axis stage 41 connected to the Z-axis stage 43 moves on the rail 41a in the X-axis direction so that the X-axis stage 41 can move in the X-axis direction. Therefore, the specimen fixed to the supporter 10 can be three-dimensionally moved to perform milling, wet etching, and cleaning operations through the milling apparatus 20, the etching solution injection tube 60, or the cleaning apparatus 80. Make sure In addition, the specimen may be moved to the position of the CCD camera 30 so that the specimen can be observed using the CCD camera 30. In particular, in order to increase the cleaning effect during the cleaning operation, the support 10 is moved vertically so that the specimen is not introduced into the cleaning apparatus, but is introduced with a constant inclination.

도 6는 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기를 컴퓨터와 연결한 구조도이다. 도 6을 참조해서 설명하면, 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기(100)에 네트워크 연결수단(110)을 구비하고 네트워크 연결수단(11)을 이용해서 컴퓨터(200)와 연결을 하여 몰딩 수지 제거기(100)가 컴퓨터(200)를 통해서 몰딩 제거과정을 자동으로 수행할 수 있도록 한다. 컴퓨터(200)는 사용자가 마우스 등의 입력수단을 이용해서 제거할 시편의 범위를 지정하면, 지정된 범위의 면적과 깊이를 추출하여 몰딩수지의 양을 측정하여 투입될 에칭액의 양을 결정하며, 시편의 기계적인 연마,화학적인 습식에칭, 세척 등의 공정을 자동으로 수행할 수 있도록, 스테이지 제어, 밀링가공, 에칭액 주입, 온도유지 프로그램을 저장하고 있어 몰딩 제거가 자동으로 이루어질 수 있도록 한다.6 is a structural diagram connecting a molding resin remover according to the present invention with a computer. Referring to FIG. 6, the molding resin remover 100 according to the present invention includes a network connecting means 110, and is connected to the computer 200 by using the network connecting means 11. ) To automatically perform the molding removal process through the computer (200). When the user specifies a range of specimens to be removed using an input means such as a mouse, the computer 200 extracts an area and a depth of a specified range, measures the amount of molding resin, and determines the amount of etching solution to be added. Stage control, milling, etchant injection and temperature maintenance programs are stored to automatically perform processes such as mechanical polishing, chemical wet etching and cleaning.

도 7은 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기를 제어하는 컴퓨터의 프로그램에서 수행하는 순서도이다. 도 7을 참조해서 설명하면,7 is a flowchart executed in a program of a computer for controlling a molding resin remover according to the present invention. Referring to Figure 7,

제 1단계(ST 100): 시편을 지지기(10)에 고정을 하고 지지기(10)가 CCD 카메라(30)의 하단부로 이동하여 시편을 촬영하고, 촬영된 시편을 컴퓨터(200)로 전송하여 컴퓨터(200)의 모니터를 통하여 시편의 제거될 부분을 파악한다. 그리고, 시편의 제거될 부분과 밀링작업을 할 깊이를 사용자가 파악하여 컴퓨터(200)의 마우스 등 입력수단을 이용해서 지정한다.First step (ST 100): The specimen is fixed to the supporter 10 and the supporter 10 moves to the lower end of the CCD camera 30 to photograph the specimen, and transfers the photographed specimen to the computer 200. To determine the portion of the specimen to be removed through a monitor of the computer 200. Then, the user grasps the part to be removed and the depth to be milled, and designates it using an input means such as a mouse of the computer 200.

제 2단계(ST 110): 사용자가 마우스 등의 입력수단을 이용해서 지정한 시편의 몰딩수지의 면적을 계산하여 제거될 몰딩수지의 면적과 사용자가 지정한 몰딩작업을 할 깊이를 이용해서 밀링작업을 통해서 제거될 몰딩수지의 양을 컴퓨터에서 자동으로 계산한다.Second Step (ST 110): Through the milling operation using the area of the molding resin to be removed and the depth of the molding operation specified by the user by calculating the area of the molding resin of the specimen specified by the user using an input means such as a mouse. The amount of molding resin to be removed is automatically calculated by the computer.

제 3단계(ST 120): 전체 공정시간의 단축 및 몰딩수지를 제거하기 위하여 시편의 제거될 부분에 대해 밀링장치(20)를 이용한 밀링작업에 의해 시편의 표면의 지정된 시편의 몰딩수지를 지정된 깊이로 제거한다. 밀링작업은 밀링장치는 Y축 스테이지에 의해 움직일 수 있으며, 시편이 지지기(10)가 연결된 스테이지를 따라 상하 좌우로 이동하면서 움직이면서 시편의 제거될 몰딩수지가 밀링장치(20)와 접촉하여 기계적으로 제거하는 밀링작업을 수행한다.Third Step (ST 120): Designation depth of the specified specimen of the specimen on the surface of the specimen by milling operation with the milling device 20 on the portion to be removed of the specimen to shorten the overall process time and remove the molding resin. Remove it. In the milling operation, the milling apparatus can be moved by the Y-axis stage, and the molding resin to be removed is brought into contact with the milling apparatus 20 while the specimen is moved up and down and left and right along the stage to which the supporter 10 is connected. Perform milling operation to remove.

제 4단계(ST 130): 밀링 작업이 종료하면 시편을 크리닝장치(80)로 이동시켜 아세톤을 이용해서 시편을 세척한다. 세척을 하는 과정에서 세척이 효율적으로 이루어지도록 시편을 회전, 왕복운동을 하도록 지지대가 움직인다. 또한, 초음파를 이용하여 시편에 붙어있는 잔류물질을 제거한다. 시편은 지지기가 X,Y,Z 축 스테이지를 따라 이동하여 크리닝장치에 투입된다.Fourth Step (ST 130): After the milling operation is completed, the specimen is moved to the cleaning device 80 to clean the specimen using acetone. During the cleaning process, the support moves to rotate and reciprocate the specimen to ensure efficient cleaning. In addition, the ultrasonic wave is used to remove the residue on the specimen. Specimens are fed into the cleaning apparatus by the supporters moving along the X, Y and Z axis stages.

제 5단계(ST 140): 크리닝장치(80)에서 세척된 시편을 에칭액 주입관(60)의 하단부로 이동시켜 에칭액 주입관과 제거될 시편의 몰딩수지를 접촉하여 에칭액을 이용해서 시편을 습식에칭을 하여 몰딩수지를 제거한다. 에칭액이 놓인 시편을 온도조절장치(70)를 이용해서 할로겐 램프에 의한 복사방식의 가열, 또는 지지기 (10)에 연결된 열선에 의한 직접 가열방식으로 가열하여 에칭이 원할히 될 수 있도록 한다. 에칭액의 온도는 열전대에 의한 온도측정 또는 적외선 측정법에 의한 온도측정으로 피드백을 하여 원하는 온도로 가열, 유지하여 에칭 공정을 시작한다. 또한, 에칭 공정시에 공정시간의 단축을 목적으로 시편과 지지기(10)가 반복운동을 할 수 있도록 하며 진동자에 의한 진동할 수 있도록 하여 에칭액과 수지의 화학적 반응을 촉진시킨다. 습식에칭에 사용되는 에칭액 주입관(60)은 극소의 굵기를 가지고 있어 세밀한 작업을 할 수 있다.Step 5 (ST 140): The specimen washed in the cleaning apparatus 80 is moved to the lower end of the etching liquid injection tube 60 to contact the etching liquid injection tube and the molding resin of the specimen to be removed, and wet etching the specimen using the etching liquid. To remove the molding resin. The specimen on which the etchant is placed is heated by radiative heating by a halogen lamp or by direct heating by a heating wire connected to the supporter 10 using the temperature controller 70 so that the etching can be smoothly performed. The temperature of the etching liquid is fed back by temperature measurement by thermocouple or infrared measurement, and is heated and maintained at a desired temperature to start the etching process. In addition, during the etching process, the specimen and the supporter 10 may be repeatedly moved for the purpose of shortening the process time and may be vibrated by the vibrator to promote chemical reaction between the etching solution and the resin. The etchant injection tube 60 used for wet etching has a very small thickness and can perform fine work.

제 6단계(ST 150): 일정시간이 경과한 후에 크리닝장치(80)로 이동하여 아세톤을 이용해서 시편을 세척한다. 그리고, 초음파를 이용해서 시편에 붙어있는 잔유물을 제거한다. 또한, 시편을 세척하는 동안 시편을 지지하고 있는 지지기(10)가 왕복운동 또는 회전운동 등을 하여 시편의 세척을 돕는다.Sixth step (ST 150): After a predetermined time passes to the cleaning device 80 to wash the specimen using acetone. Then, the ultrasonic wave is used to remove the residue on the specimen. In addition, the supporter 10 supporting the specimen while washing the specimen to perform the reciprocating or rotational movement to help the cleaning of the specimen.

제 7단계(ST 160): 시편을 관찰하여 제 4단계(ST 130)에서 제 5단계(ST 140)를 반복하여 원하는 만큼의 몰딩수지를 제거할 수 있도록 한다.The seventh step (ST 160): by observing the specimen to repeat the fifth step (ST 140) in the fourth step (ST 130) to remove as much molding resin as desired.

반도체 또는 전자부품의 품질검사에서 불량으로 판정 받은 제품의 불량분석을 위해서는 패키지된 몰딩수지를 제거하여 내부 반도체 칩이나 회로를 구성하는 기판을 관찰할 필요가 있다. 또한, 현재 사용되는 반도체 및 전자부품의 종류는 수천 가지에 이르며 그 형태도 다양하고 그 양도 많기 때문에 불량분석의 요구도 많아지게 되었다. 하지만, 몰딩수지를 제거하는 과정을 수작업으로 하였기 때문에 위험할 뿐만 아니라 복잡한 공정을 거쳐야 하는 어려움이 있다. 하지만, 본 발명에 따른 몰딩 수지 제거기(100) 및 제거방법에 의하면, 기계를 자동으로 조작하여 안전하게 작업을 할 수 있으며, 몰딩제거를 위한 단위공정들을 자동화, 규격화 시켜 기존에 사용되는 여러 다양한 반도체 및 전자부품에 적용시켜 작업을 수행할 수 있다.In order to analyze a defect of a product which is determined to be defective in a quality inspection of a semiconductor or an electronic component, it is necessary to remove a packaged molding resin and observe an internal semiconductor chip or a substrate constituting a circuit. In addition, there are thousands of kinds of semiconductors and electronic components currently used, and their shapes are various and their quantity is large, and thus the demand for defect analysis has increased. However, since the process of removing the molding resin by hand, not only dangerous, but also difficult to go through a complicated process. However, according to the molding resin remover 100 and the removing method according to the present invention, a safe operation can be performed by automatically operating a machine, and various various semiconductors that are conventionally used by automating and standardizing a unit process for removing the molding. It can be applied to electronic parts to perform work.

그리고, 밀링장치를 이용하여 몰딩 수지를 제거하고, 미세한 관인 에칭액 주입관을 이용해서 습식에칭을 하여 몰딩 수지를 제거하므로, 몰딩 수지를 제거하는 시간을 줄일 수 있으며, 또한, 정밀하게 몰딩 수지를 제거할 수 있다.In addition, the molding resin is removed using a milling apparatus, and the molding resin is removed by wet etching using an etching solution injection tube, which is a fine tube, thereby reducing the time for removing the molding resin, and precisely removing the molding resin. can do.

여기에 기술된 본 발명의 실시예에 대해 여러가지 변형이 본 발명을 실현하는데 있어 채용될 수 있는 것으로 이해되어져야 한다. 따라서, 다음의 청구범위가 본 발명의 범위를 규정하는 것으로, 그리고 이들 청구범위 내의 방법 및 구성들 그리고 그들의 등가적인 것들이 청구범위에 의해 포함되는 것으로 의도된다.It should be understood that various modifications to the embodiments of the invention described herein may be employed in implementing the invention. Accordingly, the following claims are intended to define the scope of the invention, and methods and configurations and equivalents thereof within these claims are intended to be encompassed by the claims.

Claims (9)

패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지를 기계적인 밀링법과 화학적인 습식에칭을 통해 일괄적으로 제거하는 몰딩 수지 제거기로,Molding resin remover which removes the surface molding resin of packaged semiconductor or electronic parts through mechanical milling method and chemical wet etching. 상기 패키지된 반도체 또는 전자부품을 고정하는 지지수단;Support means for fixing the packaged semiconductor or electronic component; 상기 패키지된 반도체 또는 전자부품을 촬영하여 외부에서 상기 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면을 볼 수 있도록 하는 카메라;A camera for photographing the packaged semiconductor or electronic component to view the surface of the packaged semiconductor or electronic component from outside; 상기 표면 몰딩 수지를 기계적으로 제거하는 밀링수단;Milling means for mechanically removing the surface molding resin; 상기 표면 몰딩 수지를 화학적으로 제거하는 습식에칭수단;Wet etching means for chemically removing the surface molding resin; 상기 습식에칭수단의 일단면과 연결되어 상기 습식에칭수단에 에칭액을 공급하는 에칭액공급수단;Etching solution supply means connected to one end surface of the wet etching means to supply etching solution to the wet etching means; 상기 밀링수단 또는 상기 습식에칭수단에 의해 연마되고 습식에칭된 상기 패키지된 반도체 또는 전자부품을 세척하는 세척수단; 및Cleaning means for cleaning the packaged semiconductor or electronic component polished and wet etched by the milling means or the wet etching means; And 상기 지지수단의 일단면과 연결되어 상기 지지수단이 3차원적인 움직임을 갖을 수 있도록 하여 상기 카메라, 상기 밀링수단, 상기 습식에칭수단 또는 상기 세척수단으로 상기 지지수단이 이동할 수 있도록 하고, 상기 카메라 상기 밀링수단, 상기 습식에칭수단 또는 상기 세척수단에서 소정의 동작을 할 수 있도록 하는 이동수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.The support means is connected to one end surface of the support means so that the support means can have a three-dimensional movement so that the support means can move to the camera, the milling means, the wet etching means or the cleaning means, and the camera Molding resin remover characterized in that it comprises a moving means to perform a predetermined operation in the milling means, the wet etching means or the cleaning means. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지수단이 이동수단과 결합하는 결합수단과 시편을 고정하는 고정수단으로 구성되어 상기 결합수단과 결합된 상기 고정수단이 진동, 회전 또는 왕복운동을 할 수 있는 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.Molding resin remover, characterized in that the support means is composed of a coupling means for coupling with the moving means and a fixing means for fixing the specimen, the fixing means coupled with the coupling means can be vibrated, rotated or reciprocated. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 몰딩 수지 제거기에 네트워크 연결수단을 구비하여 컴퓨터와 연결할 수 있는 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.Molding resin remover, characterized in that the molding resin remover is provided with a network connection means can be connected to the computer. 제 3항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 컴퓨터에,On the computer, 상기 몰딩 수지의 제거될 영역을 결정하는 범위결정단계;A range determining step of determining a region to be removed of the molding resin; 상기 몰딩 수지의 상기 제거될 영역의 부피를 산출하는 부피산출단계;Calculating a volume of the region to be removed of the molding resin; 상기 몰딩 수지의 상기 제거될 영역을 상기 밀링수단에 의해 기계적으로 제거하는 단계;Mechanically removing, by the milling means, the region to be removed of the molding resin; 상기 몰딩 수지의 상기 제거될 영역을 상기 습식에칭수단을 이용해서 화학적으로 제거하는 단계;Chemically removing the region to be removed of the molding resin using the wet etching means; 상기 몰딩수지를 상기 습식에칭수단에 의해 화학적으로 제거하는 단계; 및Chemically removing the molding resin by the wet etching means; And 상기 몰딩수지를 제거한 상기 패키지된 반도체 또는 전자부품을 세척하는 단계를 수행하는 프로그램을 기록한 기록매체를 구비하는 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.And a recording medium on which a program for performing the step of cleaning the packaged semiconductor or electronic component from which the molding resin is removed is recorded. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 부피산출단계는 상기 몰딩 수지의 제거될 범위의 면적과 두께를 이용해서 상기 밀링수단에 의해 제거될 몰딩 수지의 양을 산출하는 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.And wherein said volume calculation step calculates the amount of molding resin to be removed by said milling means using the area and thickness of said molding resin to be removed. 제 5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 밀링수단에 의해 제거될 몰딩수지의 양에 의해 상기 에칭액공급수단에 의해 공급되는 에칭액의 양이 산출되는 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.And the amount of the etching liquid supplied by the etching liquid supplying means is calculated by the amount of the molding resin to be removed by the milling means. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 에칭액은 강산인것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.And the etching solution is a strong acid. 제 7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 에칭액의 온도범위가 50℃에서 300℃ 범위 내인 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거기.Molding resin remover, characterized in that the temperature range of the etching solution is in the range of 50 ℃ to 300 ℃. 패키지된 반도체 또는 전자부품의 표면 몰딩 수지를 기계적인 밀링법과 화학적인 습식에칭을 통해 일괄적으로 제거하는 몰딩 제거방법으로,Molding removal method to remove the surface molding resin of the packaged semiconductor or electronic parts collectively through mechanical milling and chemical wet etching, 상기 몰딩 수지의 제거될 영역을 결정하는 범위결정단계;A range determining step of determining a region to be removed of the molding resin; 상기 몰딩 수지의 상기 제거될 영역의 부피를 산출하는 부피산출단계;Calculating a volume of the region to be removed of the molding resin; 상기 몰딩 수지의 상기 제거될 영역을 상기 밀링수단에 의해 기계적으로 제거하는 단계;Mechanically removing, by the milling means, the region to be removed of the molding resin; 상기 몰딩 수지의 상기 제거될 영역을 상기 습식에칭수단을 이용해서 화학적으로 제거하는 단계;Chemically removing the region to be removed of the molding resin using the wet etching means; 상기 몰딩수지를 상기 습식에칭수단에 의해 화학적으로 제거하는 단계; 및Chemically removing the molding resin by the wet etching means; And 상기 몰딩수지를 제거한 상기 패키지된 반도체 또는 전자부품을 세척하는 단계를 수행하는 것을 특징으로 하는 몰딩 수지 제거방법.And cleaning the packaged semiconductor or electronic component from which the molding resin is removed.
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