KR100374469B1 - 감소된 전력 요건을 갖는 리소그래피 이미징 - Google Patents

감소된 전력 요건을 갖는 리소그래피 이미징 Download PDF

Info

Publication number
KR100374469B1
KR100374469B1 KR10-2000-0002535A KR20000002535A KR100374469B1 KR 100374469 B1 KR100374469 B1 KR 100374469B1 KR 20000002535 A KR20000002535 A KR 20000002535A KR 100374469 B1 KR100374469 B1 KR 100374469B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
imaging
layer
substrate
printing member
lithographic printing
Prior art date
Application number
KR10-2000-0002535A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20000076491A (ko
Inventor
카시디케니스알.
루이스토마스이.
디'아마토리차드제이.
Original Assignee
프레스텍, 인크.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 프레스텍, 인크. filed Critical 프레스텍, 인크.
Publication of KR20000076491A publication Critical patent/KR20000076491A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100374469B1 publication Critical patent/KR100374469B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1033—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials by laser or spark ablation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • B41N1/14—Lithographic printing foils

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

고체 기판과, 기판 상의 가스 생성 및 방사 흡수층과, 리소그래피 친화성 관점에서 기판과 상반되는 최상층을 갖는 인쇄 부재를 사용하여, 감소된 플루언스(fluence) 요건을 갖는 인쇄 플레이트의 이미징이 달성된다. 방사 흡수층에 대한 레이저 광의 노광에 따라, 이 층이 집중적으로 가열된다. 이에 따라 가스 생성층이 활성화 되어 가스 분해 생성물의 급속한 발생 및 팽창을 야기하게 된다. 가스는 상측의 최상층을 연신하여, 이미징 층들이 파괴된 노광 영역에 걸쳐 기포를 생성한다. 이런 공정이 충분히 폭발적인 경우, 기포의 네크(neck)는 입사 레이저 빔의 직경이 넘어 확장하고 노광 영역의 외측에서 기판으로부터 최상층 및 하부 이미징 층을 찢게 된다. 작용을 받은 전 영역은 이미징 후 세정 공정 동안에 용이하게 제거되고, 이에 따라 입사 빔 직경보다 큰 이미지 스폿이 얻어진다.

Description

감소된 전력 요건을 갖는 리소그래피 이미징{LITHOGRAPHIC IMAGING WITH REDUCED POWER REQUIRMENT}
본 발명은 디지탈 인쇄 방법 및 재료에 관한 것으로, 특히 디지탈 제어되는 레이저 출력을 사용하여 온 또는 오프 프레스(on- or off-press)로 리소그래피 인쇄 플레이트 구조체를 이미징하는 것에 관한 것이다.
오프셋 리소그래피에서, 인쇄가능한 이미지는 잉크 수용 성[친유성(oleophilic)] 및 잉크 거부성[소유성(oleophobic)]의 표면 영역의 패턴으로서 인쇄 부재 상에 나타난다. 이들 영역에 잉크가 가해질 때, 잉크는 상당한 정확도(fidelity)의 이미지화 패턴으로 기록 매체에 효과적으로 전사될 수 있다. 건식 인쇄 시스템은 잉크 방수부가 잉크의 직접 인가를 허용하도록 잉크에 대해 충분히 거부하는 인쇄 부재를 활용한다. 인쇄 부재에 균일하게 가해진 잉크는 이미지화 패턴으로만 기록 매체에 전사된다. 통상적으로, 인쇄 부재는 블랭킷 실린더(blanket cylinder)라 불리는 컴플라이언트성(compliant) 중간 표면과 먼저 접촉하고, 다음에 블랭킷 실린너가 이미지를 종이 또는 다른 기록 매체에 인가한다. 전형적인 시트 공급 프레스 시스템에서, 기록 매체는 이것이 블랭킷 실린더와 접촉하게 하는 압축 실린더에 고정된다.
습식 리소그래피 시스템에서, 비-이미지 영역은 친수성이며, 필요한 잉크 반발성(ink-repellency)은 잉킹(inking) 전에 플레이트에 댐프닝(dampening)(또는 "파운튼(fountain)") 용액의 초기 인가에 의해 제공된다. 파운튼 용액은 잉크가 비-이미지 영역에 부착되는 것을 방지하지만, 이미지 영역의 친유성 특성에 영향을 미치지 않는다.
전형적인 플레이트 제작 프로세스는 시간이 소비되며, 필요한 화학 반응을 지지하는데 적합한 시설 및 설비를 요구한다. 이런 단점을 극복하기 위하여, 플레이트 이미징에 대하여 많은 대체적 전자 장비가 개발되었다. 이런 시스템에서는, 디지탈 제어 장치가, 인쇄될 이미지를 나타내는 패턴에서의 블랭크 플레이트의 잉크 수용성(ink-receptivity)을 변경한다. 미국 특허(U.S. Patent Nos. 5,339,737, 5,783,364, 및 5,807,658)는 참고로 본 명세서에 합체되며, 레이저 방전에 의해 동작되는 이미징 장치에 사용되는 다양한 리소그래피 플레이트 구성을 개시하고 있다. 이들 특허는 상술한 바와 같은 웨트 플레이트, 및 잉크가 직접 인가되는 드라이 플레이트를 포함한다. 이 플레이트들은 스탠드-얼론 플레이트메이커(stand-alone platemaker) 상에 또는 온-프레스(on-press)로 직접 이미징될 수 있다.
레이저 이미지가능한 재료는 저가의 고체 레이저로부터의 근적외선(near-IR)광의 펄스에 의해 이미징될 수 있다. 이런 재료는 통상 near-IR 노광에 대해 비선형 응답, 즉 단시간의 레이저 펄스에 대해 비교적 가파른 이미징 플루언스(fluence) 임계값을 나타내지만 주변광에 대해서는 본질적으로 응답하지 않는다. 플레이트 설계자들의 오랜 기간 동안의 과제는, 내구성, 제작용이성, 및 내부 호환성과 같은 바람직한 특성을 유지하면서도 이미징 응답을 생성하는데 필요한 임계 레이저 플루언스를 감소시키는 것에 있다.
광열(photothemal) 재료와 관련되어 종종 제안되고 있는 한 방안은, 사실상 이미지 프로세스에 화학 에너지를 도입하는, 고에너지성의(예컨대, 자기 산화성의) 성분을 포함하는 것이다. 예컨대, 상술한 '737 특허는 가열에 응답하여 고에너지 화학 분해가 발생하는 니트로셀룰로오스(nitrocellulose)층을 개시하고 있다. 그러나 유감스럽게도, 이들 재료는 이미징에 필요한 플루언스 임계값의 감소를 나타내고 있지는 않다. 대신에, 이들은 고에너지성이 아닌 재료와 기본적으로 교환가능한 대체물로서, 또는 전사형 재료에 있어서의 추진층(propellant layer)으로서 사용되고 있다(미국특허 제5,308,737, 5,278,023, 5,156,938 및 5,171,650호 참조).
놀랍게도, 열적으로 활성화되는 가스 형성 성분과 이미징 방사를 집중적으로 흡수하는 재료를 조합하여, 레이저로 이미지가능한 구조에서 상호작용적인 이미징 층으로서 사용한 결과, 레이저 펄스에 의해 영향받는 영역이 실질적으로 확대된다(이미징 층으로서 어느 한 구성 요소만을 사용하는 구조와 비교하여)는 사실이 발견되었다. 그 결과, 소정 크기의 이미지 스폿을 생성하는데 필요한 플루언스가 상당히 감소된다.
본 발명에 따른 인쇄 부재는 고체 기판, 기판 상의 가스 생성층 및 방사 흡수층, 및 리소그래피 친화성 관점에서 기판과 상반되는 최상층을 포함한다. 가스 생성 및 방사 흡수층이 나타나는 순서는 이미징의 모드, 즉 레이저 방사가 최상층 통해 인가되는지 또는 기판을 통해 인가되는지의 여부에 따르게 된다. 동작시, 방사 흡수층은 레이저 광에 의해 노광되어 강하게 가열된다. 이에 따라 차례로 가스 생성층이 활성화되고 가스상의 분해 산물의 급속한 발생 및 팽창이 야기된다. 이 가스는 상측의 최상층을 연신하여, 이미징 층들이 파괴된 노광 영역 전체에 걸쳐 기포를 형성한다. 이런 프로세스가 충분히 폭발적이라면, 기포의 네크는 입사 레이저 빔의 직경을 넘어 확장되고 노광 영역 외측에서 기판으로부터 최상층과 하측의 이미징 층들을 찢게 된다. 이러한 작용을 받은 전 영역은 이미징 후 세정 처리(post-imaging cleaning process) 동안 용이하게 제거되고 그 결과 입사 빔 직경 보다 큰 이미지 스폿이 형성된다. 또한, 분해 가스가 기포 내에 잔류하기 때문에, 환경 오염의 위험이 없게 된다.
이미징 후 세정 처리는 수작업(미국 특허 5,540,150에 개시된 바와 같은, 세정액을 사용한 마찰(rubbing) 또는 건식 마찰), 또는 접촉 세정 장치(예컨대, 미국 특허 5,148,746에 개시된 바와 같은 회전 브러시) 또는 다른 적당한 수단(예컨대, 미국 특허 5,755,158에 개시된 바와 같은)을 사용하여 달성될 수 있다.
본 명세서에 사용된 용어 "플레이트(plate)" 또는 "부재(member)"는, 잉크 및/또는 댐프닝 유체에 대해 상이한 친화성을 나타내는 영역으로 정의된 이미지를 기록할 수 있는 임의 유형의 인쇄 부재 또는 표면을 뜻하는 것으로; 그 적당한 구성으로서는, 인쇄 프레스의 플레이트 실린더 상에 장착되는 통상의 평면상 또는 만곡상의 리소그래피 플레이트를 포함하지만, 또한 시임리스(seamless) 실린더(예컨대, 플레이트 실린더의 롤 표면), 엔들리스 벨트(endless belt), 또는 다른 구성을 포함할 수 있다.
또한, "친수성(hydrophilic)"이라는 용어는, 잉크가 부착되는 것을 방지하는 유체에 대한 표면 친화성을 암시하는 인쇄적 의미로 본 명세서에서 사용되고 있다. 이러한 유체로는 물, 수성 및 비수성 댐프닝 유체, 단일 유체 잉크 시스템의 비잉크상을 포함한다. 따라서, 본 발명에 따른 친수성 표면은 이러한 재료들 중 어떤 것에 대해서도 오일 베이스 재료에 비해 우선적인 친화성을 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따라 이미지화 가능한 리소그래피 플레이트를 도시한 확대 단면도.
도 2a 내지 2c는 도 1에 도시된 플레이트에 대한 작용의 관점에서 본 발명의 이미징 프로세스를 도시한 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 최상층
12 : 방사 흡수층
14 : 가스 생성층
20 : 기판
이상의 기재 내용은, 첨부된 도면을 참고로 하여, 이하의 본 발명의 상세한 설명으로부터 보다 용이하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 인쇄 기판의 대표적 실시예는 최상층(10), 방사 흡수층(12), 가스 생성층(14), 및 기판(20)을 포함한다. 층(10 및 20)은 잉크 또는 잉크가 부착되지 않는 잉크 또는 유체에 대해 상반되는 친화성을 나타내며, 일반적으로 층(10)은 중합체이다. 이 플레이트의 한 형태에 있어서, 최상층(10)은 잉크를 반발하는 실리콘 폴리머이며, 반면에 기판(20)은 친유성 폴리에스테르 또는 알루미늄 재료이고, 그 결과는 건식 플레이트이다. 두번째로, 습식 플레이트 형태에 있어서, 표면층(10)은 친수성 재료이며, 반면에 기판(20)은 친유성이고 소수성이다.
바람직한 실리콘 배합물은, 그 전 개시 내용이 본 명세서에 참고로 합체되는 미국특허 Re. 35,512에 개시된 바와 같은 부가 경화형 폴리실록산(addition-cure-polysiloxanes)이며; 적당한 친수성 폴리머로는 폴리비닐 알코올 재료(예컨대, PA, Allentown의 Air Product사에 의해 제공되는 Airvol 125 재료)을 포함한다.
기판(20)은 바람직하게는 강하고 안정되며 유연하고, 폴리머 막, 또는 종이, 또는 금속 시트일 수 있다. 폴리에스터 막(바람직한 실시예에서, DE, Wilmington의 E.I. duPont de Nemours Co.에 의해 판매되는 MYLAR 또는 MELINEX)은 유용한 예를 제공한다. 바람직한 폴리에스터 막 두께는 0.007 인치이나, 보다 얇고 두꺼운 형태도 효율적으로 사용될 수 있다. 종이 기판은 물 저항, 크기 안정성 및 세기를 제공하기 위하여 고분자 재료로 "포화"된다. 알루미늄은 바람직한 금속 기판이 된다.
이미징 층(12 및 14)의 두께 및 광 밀도에 따라서, 기판(또는 그 아래 층)은 이미징 방사에 대해 반사성이 있어, 이미징 방사를 이미징 층으로 다시 향하게 한다. 예컨대, 알루미늄 기판(20)은 이미징 방사를 반사하도록 연마될 수 있다. 금속 반사 기판(20)에 대한 대안으로서 이미징(예컨대, IR) 방사를 반사하는 안료 함유 층을 또한 채택할 수 있다. IR 반사 기판으로서 사용하는데 적합한 물질은 백색 안료로서 IR 반사성 바륨 황화물을 사용하는 DE, Wilmington, ICI Films에 의해 제공되는 백색 329 막이다. 바람직한 두께는 구성이 하나의 금속 지지체 상에 적층되는 경우 0.007 인치 또는 0.002 인치이다(예컨대, '512 특허에 개시된 바와 같이).
본 명세서에 그 전 개시 내용이 참고로 합체된 동시 계속중인 (제 09/122,261호)(1998년 7월 24일자 출원, "METHOD OF LITHOGRAPHIC IMAGING WITH REDUCED DEBRIS-GENERATED PERFORMANCE DEGRADATION AND RELATED CONSTRUCTIONS")에 따르면, 잔해(debris) 관리 목적으로 최상층(10)과 층(12 및 14) 간에 절연체(예컨대, 폴리실란)층을 부가하는 것이 가능하다. 동일한 목적으로, 최상층(10) 내에 미립자상 실리카와 같은 고체 충전재를 분산하여 친수성 부위를 갖는 잔해를 발생시킴으로써, 잔해가 세정액과 섞일 수 있도록 할 수 있다.
층(12)은 공기에 노출시 자연 산화 표면(12s)으로 발전하거나 또는 발전하지 않을 수 있는 금속의 매우 얇은(50-500Å, 티타늄에 대해서는 바람직하게 250Å)층일 수 있다. 이 층은 IR 방사에 응답하여 융제되며, 극도로 과열되어 층(14)을 연소시키게 된다. 비록 바람직한 재료가 티타늄이지만, 층(12)에 적당한 다른 재료로는 다른 d-블럭(전이) 금속, 알루미늄, 인듐, 주석, 실리콘, 및 비소를 단일로 또는 조합하여 포함한다. 혼합물의 경우, 금속들은 합금 또는 금속간 화합물로서 표현된다.
상술한 바와 같은 금속층(12)과 연관되어 또는 금속층 대신에 사용될 수 있는 다른 재료는 적어도 하나의 금속과 적어도 하나의 비금속과의 화합물, 또는 이런 화합물의 혼합물을 포함하는 금속 무기층이다. 이런 층은 50-500Å의 두께로 일반적으로 도포되며, 최적의 두께는 주로 레이저 에너지의 흡수시 매우 높은 온도로의 급격한 가열에 대한 대한 요구와, 기능적 관심사 - 즉, 인쇄 프로세스에 사용되는 유체의 영향에 대한 저항성 및 층간 접착에 대한 요구에 의해 결정된다. 적당한 금속성 무기층의 금속 성분은 d-블럭(전이)금속, f-블럭(란탄족)금속, 알루미늄, 인듐 또는 주석, 또는 이들의 혼합(합금, 또는 보다 명확한 조성물이 존재하는 경우에는 금속간 화합물)일 수 있다. 바람직한 금속은 티타늄, 지르코늄, 바나듐, 니오븀, 탄탈륨, 몰리브덴 및 텅스텐을 포함한다. 비금속 성분은 하나 이상의 p-블럭 원소 붕소, 탄소, 질소, 산소, 및 실리콘일 수 있다. 본 발명의 금속/비금속 화합물은 명확한 화학량론양(stoichiometry)을 갖거나 또는 갖지 않을 수 있으며, 몇몇 경우(예컨대, Al-Si 화합물)에는 합금일 수 있다. 바람직한 금속/비금속 조합은 TiN, TiON, TiOX(여기서 0.9 ≤X≤ 2.0), TiC, 및 TiCN을 포함한다.
층(14)은 급속 가열시 가스(예컨대, N2)를 발생하는 재료를 포함하거나 또는 이로써 구성된다. 질소 가스를 발산하는 열 반응 폴리머는 열분해가능한 작용기를 포함한다. 이 폴리머는 그 자체가 가스를 발산할 수 있으며, 또는 폴리머 매트릭스내에 통합되거나 분산된 분해가능한 물질(예컨대, 디아조늄 염 또는 다른 폴리머)에 집적된다. 열분해가능한 작용기는 아조(azo), 아지드(azid) 및 질소를 포함한다(미국 특허 5,308,737 및 5,278,023 참조). 열적으로 분해가능한 작용기들은 중합 이전에 또는 기존 폴리의 변성에 의해[예컨대, 아질산나트륨에 의한 방향족 고리의 디아조화(diazotization), 또는 트리에틸아민(triethylamine)의 존재 하에서의 토실 아지드(tosyl azide)에 의한 아민 또는 β-디케톤(diketone) 상으로의 디아조 전이(diazo transfer)]에 의해 가스 생성 폴리머로 통합될 수도 있다.
가스 생성 재료는 "고에너지 폴리머(energetic polymer)"일 수 있으며, 이는 임계 온도 이상으로 급속 가열될 때(일반적으로 나노초(nanoseconds)에서 밀리초(milliseconds) 범위의 시간 스케일 상에서), 발열성 분해를 행하여 가압 가스를 발생하는 폴리머 함유 작용기로서 본 명세서에서 정의된다. 이러한 폴리머는 예컨대, 아지도(azido), 니트라토(nitrato), 및/또는 니트라미노(nitramino) 작용기를 포함할 수 있다. 고에너지 폴리머의 예로서, 폴리[비스(bis)(아지도메틸)]옥세탄(BAMO), 글리시딜 아지드(glycidyl azide) 폴리머(GAP), 아지도메틸 메틸옥세탄(azidomethyl methyloxetane)(AMMO), 폴리비닐 질화물(polyvinyl nitrate)(PVN), 니트로셀룰로오스, 아크릴 및 폴리카보네이트를 포함한다.
층(14)의 재료는 이미징 방사에 대한 감응성(즉, 흡수성) 화합물을 포함할 수 있다. 이는, 층(12)을 통과하는 방사(또는 층(12)의 융제에 후속하는 이미징 펄스의 나머지)가 층(14)을 가열하는데 기여한다. 예컨대, IR 이미징의 경우에, IR 흡수성 염료(예컨대, Rochester, NY, Eastman Kodak Co., Eastman Fine Chemicals로부터 얻을 수 있는 Kodak IR-810 염료) 또는 안료(예컨대, Holland, MI, BASF Corp., Chemicals Division에 의해 제공되는 Heliogen Green L 8730 녹색 안료)가 이롭게 사용될 수 있다.
본 발명의 인쇄 부재와 연관되어 사용하는데 적합한 이미징 장치는 최대 플레이트 응답 - 즉 lambdaMAX가, 층(12)이 가장 강하게 흡수하는 파장 영역을 가까운 근사치로 나타냄 - 의 범위에서 방출하는 적어도 하나의 레이저 장치를 포함한다. 이 장치는 다이오드 레이저, 또는 보다 큰 속도용으로는 Q-스위칭 YAG 레이저일 수 있다. near-IR 영역에서 방출되는 다이오드 레이저에 대한 상세는 '512 특허 및 미국 특허(제5,385,092, 5,822,345, 4,577,932, 5,517,359, 5,802,034, 5,475,416, 및 5,521,748호)에 충분히 개시되고 있다(그 전체 개시 내용이 여기에 참조로 합체됨)(유럽 공개 특허공보 No. 0601485 참조). 전자기 스펙트럼의 다른 영역에서 방출되는 YAG 레이저 및 레이저는 본 기술의 숙련자들에게 공지되있다.
층(14)의 두께는 선택된 재료에 따른다. 일반적으로, 그러나, 두께는 0.5-3μm 정도이다.
적당한 이미징 구성은 '512, '092, '345 특허 및 상술한 다른 특허에 상세히 또한 개시된다. 간략하게 말하자면, 레이저 출력은 렌즈 또는 다른 빔유도 성분을 통해 플레이트 표면에 직접 제공되거나, 또는 광섬유 케이블을 이용하여 멀리 떨어져 위치한 레이저로부터 블랭크 인쇄 플레이트의 표면에 전송될 수 있다. 제어기 및 관련된 위치 결정 하드웨어는 플레이트 표면에 대한 정확한 배향에서 빔 출력을 유지하며, 표면에 걸쳐 출력을 주사하고, 선택된 포인트에 인접한 위치 또는 플레이트의 영역에서 레이저를 활성화한다. 제어기는 플레이트 상에 복사될 원 문서 또는 화상에 대응하는 인입 이미지 신호에 응답하여 원래의 정확한 음 또는 양의 이미지를 생성한다. 이미지 신호는 컴퓨터 상에 비트맵 데이타 파일로서 저장된다. 이런 파일은 래스터(raster) 이미지 프로세서(RIP) 및 다른 적당한 수단에 의해 발생될 수 있다. 예컨대, RIP는 인쇄 플레이트 상에 전달되는데 요구되는 모든 특징들을 정의하는 페이지-기술 언어(page-description language), 또는 페이지-기술 언어와 하나 이상의 이미지 데이타 파일의 조합으로 입력 데이타를 수용할 수 있다. 비트맵은 스크린 주파수 및 앵글 뿐만 아니라 컬러의 색조를 정의하도록 구성된다.
이미징 장치는 플레이트메이커만으로서 기능하면서 스스로 동작하거나, 또는 리소그래피 인쇄 프레스에 직접 통합될 수 있다. 후자의 경우, 이미지가 블랭킹 플레이트에 인가된 후 즉시 인쇄가 개시될 수 있어, 프레스 설정 시간을 상당히 감소시키게 된다. 이미징 장치는 드럼의 내부 또는 외부 실린더 표면에 장착되는 리소그래피 플레이트 블랭크를 갖춘채, 플랫베드(flatbed) 레코더 또는 드럼 레코더로서 구성될 수 있다. 구체적으로, 외부 드럼 설계는 리소그래피 프레스 상에서 본래의 위치에 사용하는데 더욱 적당하며, 이 경우 인쇄 실린더 그 자체가 레코더 또는 플로터의 드럼 성분을 구성한다.
드럼 구성에 있어서, 레이저 빔과 플레이트 간의 필수불가결한 상대적인 움직임은 축에 대해 드럼(및 드럼 상에 장착된 플레이트)을 회전하며, 회전 축에 평행한 빔을 이동함으로써 달성되어, 이미지가 축 방향으로 "성장(grows)"하도록 플레이트를 주위로 주사하게 된다. 또한, 빔은 드럼 축에 평행하게 움직일 수 있고, 각각이 플레이트를 가로질러 통과한 후 플레이트 상의 이미지가 주위로 "성장"하도록 각도로 증분한다. 두 경우에 있어서, 빔에 의한 완전 주사 후에, 원 문서 또는 화상에 대응하는(양으로 또는 음으로) 이미지는 플레이트의 표면에 인가된다.
플랫베드 구성에서, 빔은 플레이트의 어느 한 축을 따라 유도되며, 각각의 통과 후 다른 축을 따라 인덱스된다. 물론, 빔과 플레이트 간의 필수불가결한 상대적 움직임은 빔의 이동 보다(또는 이동에 덧붙여) 오히려 플레이트의 움직임에 의해 생성될 수 있다.
빔이 주사되는 방식에 무관하게, 복수의 레이저를 이용하며 그들 출력을 단일 기록 어레이에 가이드하는 것이 일반적으로 바람직하다. 기록 어레이는 플레이트를 가로지르거나 또는 이를 따라 각각 통과 완료된 후 인덱싱되며, 어레이로부터 발산된 빔의 수 및 소정의 해상도(즉, 길이당 이미지 포인트의 수)에 의해 거리가 결정된다. 매우 급속한 플레이트 이동(예컨대, 고속 모터의 사용을 통해)을 수용하도록 설계될 수 있어 높은 레이저 펄스 레이트를 이용하는 오프-프레스(off-press) 어플리케이션은 이미징 소스로서 단일 레이저를 자주 사용할 수 있다.
도 2a 내지 2c는 본 발명의 동작 모드를 도시한다. 레이저 출력은 층(10)을 통하며, 따라서 흡수층(12)은 가스 생성층(14)의 상측에 있다. TAG 레이저는 "단일 모드" 방사, 즉 반경 방향으로 대칭인 가우스(Gausian) 에너지 분포를 갖는 빔을 방출한다. 빔 에너지의 대부분은 중앙의 단일 피크에 집중되며, 가우스 함수에 따라 모든 방향에서 완만하게 반경 방향으로 감소한다. 단일 모드 레이저 펄스는 반경 방향 에너지 분포를 나타내는 화살표와 함께 50으로 도시된다. 이와 상반되게 다이오드 레이저는 빔 주변에서 일어나는 급경사의 떨어짐을 갖는 "탑 햇(top hat)"형 에너지 프로파일을 방출한다. 중앙에 집중되는 빔 에너지를 갖는 가우시안 YAG 프로파일이 보다 짧은 지속 시간 펄스로 이미징을 행하는 능력이 있지만, 본 발명은 사실상 임의의 레이저 프로파일에 의해서도 실현될 수 있다.
어느 경우에서나, 이미징 펄스가 층(12)을 타격하고, 이 층이 에너지를 흡수하여 하부의 층(14)이 급속히 가열되도록 한다. 다음에 층(14)은 기상의 열분해 생성물을 생성하고 이는 최상층(10) 아래에 포획된다. 층(10)은 탄성이 있으며, 그 결과 기포(60)가 형성된다(도 2b 참조). 기포의 네크 또는 베이스는 기판(10)의 면 내에 있으며, 층(12 및 14)은 기포의 초기 직경d(입사 레이저 빔(50)의 직경과 일치됨) 내에서 실질적으로 융제된다.
층(14)이 충분한 압력하에서 충분한 용량의 가스를 방출하면, 기포(60)의 네크는 층(14)과 기판(20) 사이의 부착력을 넘어서면서 노광 영역(d)를 지나 확대된다. 이러한 영향을 받은 영역은 직경d'〉d가 되며, 층(12 및 14)이 떨어진(de-anchored) 부분은 이미징 후 세정 처리에 의해 상부의 층(10)과 함께 제거된다. 그 결과, 이미지 스폿은 입사 레이저 빔 보다 큰 직경을 갖게 된다.
입사 빔의 면적을 넘어서는 이미지 면적의 증가는 층(14)의 재료에 매우 의존하는 것을 실험적으로 알아냈다. 예컨대, 실리콘층(10) 및 아크릴 폴리머층(14)에, 10μJ의 에너지를 갖는 110 nsec 레이저 펄스의 YAG 레이저를 인가하는 경우,층(14)을 생략한 구성에서 얻는 것 보다 50% 큰 면적을 갖는 이미지 스폿이 생성된다. 보다 고에너지성의 니트로셀룰로오스층(14)으로 대체하는 경우, 이미지 스폿의 면적은 100% 이상 크게 되는 것으로 관찰된다. 다이오드 레이저를 사용하여, 실리콘층(10) 및 니트로셀룰로오스층(14)의 구조에 4 μsec 펄스를 인가하면, 이미지 스폿 크기가 50% 증가하게 된다.
이런 효과는 이미징 펄스의 인가 시간에 또한 의존한다. 에너지는 응답을 생성하기 위하여 신속히 전달되어야 한다. 매우 긴 펄스(즉, 30 μsec를 초과하는 시간)의 경우, 히트 싱크(heat-sinking) 및 열확산 작용에 의해, 소정의 이미징 효과를 야기하는데 충분한 열을 집중시키지 못하게 되고, 이런 이유로 본 발명에 따른 레이저 이미징가능한 플레이트는 주변광에 자발적으로 응답하지 못하게 된다. 10 μsec 정도의 노광 시간의 경우, 금속층(12)을 녹이고 반경 방향으로 후퇴시키며, 그 후 세정시 이미지 스폿을 생성하여도, 이미지 스폿은 실제로 입사 빔 직경 보다 작게 된다. 5 μsec 이하 정도의 노광 시간에서, 바람직한 효과, 즉 유효 빔 영역 보다 큰 이미지 스폿이 생성됨을 발견하였다. 이 시간은, 다이오드 레이저 또는 YAG 시스템을 사용하여 얻을 수 있는데, 현재로서는, 후자쪽이 보다 높은 출력 전력으로 인한 보다 짧은 시간(즉, nsec 범위)의 펄스를 생성하는 것이 가능하며; 단 시간 펄스는 전체 에너지가 보다 적게 전달될지라도 열 소산 가능성이 감소됨으로 인해 확대의 정도가 보다 크게 된다.
따라서, 상술한 내용은, 감소된 플루언스 요구로 신뢰성 있는 이미징을 용이하게 하는, 레이저 기록에 대한 보다 발전된 방식을 개시하고 있음을 알 수 있다. 본 명세서에서 사용된 용어 및 표현은 서술 목적에서 사용되는 것으로 제한을 위한 것이 아니며, 이런 용어 및 표현의 사용에 있어서 도시되고 설명된 특징 또는 그 부분에 대한 임의의 균등물을 제외하고자 하는 의도가 없고, 이하의 청구되는 발명의 범위 내에서 다양한 변경이 가능함을 이해해야 한다.

Claims (31)

  1. 리소그래피 인쇄 부재를 이미징하는 방법에 있어서,
    고체 기판과, 상기 기판 상의 제1 및 제2 이미징 층과, 최상층을 구비한 인쇄 부재를 제공하는 단계 - 상기 최상층 및 상기 기판은 잉크 및 잉크가 부착되지 않는 유체 중 어느 하나 또는 둘 모두에 대해 상이한 친화성을 가지며, 상기 제1 이미징 층은 열적으로 활성화되는 가스 형성 성분을 포함하되 이미징 방사 흡수성 재료를 포함하지 않고, 상기 제2 이미징 층은 이미징 방사 흡수성 재료를 포함하며, 상기 제2 이미징 층은 상기 이미징 방사의 흡수시 충분히 가열되어 상기 제1 이미징 층으로부터 가스의 발생을 야기하는 재료를 포함함 -;
    이미지를 표현하는 패턴에서 상기 인쇄 부재를 선택적으로 노광하여, 이에 따라 상기 제1 및 제2 이미징 층들이 파괴되고, 상기 노광 영역에서 상기 발생된 가스에 의해 상기 최상층이 분리되는 단계; 및
    상기 인쇄 부재가 방사를 수용한 영역에서 상기 제1 이미징 층의 나머지를 제거하여, 상기 기판을 노출하고 리소그래피 이미지를 형성하는 단계
    를 포함하는 이미징 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 노광 단계는 상기 인쇄 부재가 상기 패턴에 따라 레이저 빔을 받게 하는 단계를 포함하되,
    상기 레이저 빔은 빔 직경을 가지며, 상기 레이저 빔에 대한 각각의 노광은 상기 빔 직경 보다 큰 영역 상에서 상기 제1 및 제2 이미징 층들의 파괴 및 상기 최상층의 분리를 야기하는 이미징 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 최상층은 소유성(oleophobic)이며, 상기 기판은 친유성(oleophilic)인 이미징 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 최상층은 실리콘인 이미징 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 최상층은 친수성(hydrophilic)이며, 상기 기판은 친유성인 이미징 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 최상층은 폴리비닐 알콜(polyvinyl alcohol)인 이미징 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제1 이미징 층은 고에너지 폴리머(energetic polymer)이며, 상기 제2 이미징 층은 금속인 이미징 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 금속층은 d-블럭 전이 금속, 알루미늄, 인듐, 및 주석 중 하나 이상을 포함하는 이미징 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 금속은 티타늄인 이미징 방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 제1 이미징 층은 고에너지 폴리머이며, 상기 제2 이미징 층은 금속 및 비금속을 포함하는 금속성 무기 화합물을 포함하는 이미징 방법.
  11. 제7항에 있어서, 상기 고에너지 폴리머는 아조(azo), 아지드(azid), 및 니트로(nitro)로부터 선택된 하나 이상의 작용기를 포함하는 이미징 방법.
  12. 제7항에 있어서, 상기 고에너지 폴리머는 폴리[비스(아지도메틸)]옥세탄(poly[bis(azidomethyl)]oxetane), 글리시딜 아지드 폴리머(glycidyl azide polymer), 아지도메틸 메틸옥세탄(azidomethyl methyloxetane), 폴리비닐 질화물, 니트로셀룰로오스, 아크릴, 및 폴리카보네이트로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 이미징 방법.
  13. 제1항에 있어서, 상기 제1 이미징 층은 상기 기판 위에 있고, 상기 제2 이미징 층은 상기 제1 이미징 층 위에 있으며, 상기 최상층은 이미징 방사에 투과성이고, 상기 최상층을 통해 이미징 방사가 인가되는 이미징 방법.
  14. 제1항에 있어서, 상기 제2 이미징 층은 상기 기판 위에 있고, 상기 제1 이미징 층은 상기 제2 이미징 층 위에 있으며, 상기 기판은 이미징 방사에 투과성이고, 상기 기판을 통해 이미징 방사가 인가되는 이미징 방법.
  15. 제1항에 있어서, 상기 노광 단계는 상기 인쇄 부재가 상기 패턴에 따라 레이저 빔을 받도록 하는 단계를 포함하되, 상기 레이저 빔은 5 μsec 보다 크지 않은 펄스 지속 시간을 갖는 이미징 방법.
  16. 제13항에 있어서, 상기 제1 이미징 층은 이미징 방사에 대한 감응성 재료를 포함하는 이미징 방법.
  17. 리소그래피 인쇄 부재에 있어서,
    고체 기판;
    상기 기판 상의 제1 및 제2 이미징 층; 및
    최상층
    을 포함하되,
    상기 최상층 및 상기 기판은 잉크 및 잉크가 부착되지 않는 유체 중 어느 하나 또는 둘 모두에 대해 상이한 친화성을 가지며, 상기 제1 이미징 층은 열적으로 활성화되는 가스 형성 성분을 포함하되 이미징 방사 흡수성 재료를 포함하지 않고, 상기 제2 이미징 층은 이미징 방사 흡수성 재료를 포함하며, 상기 제2 이미징 층은 상기 이미징 방사의 흡수시 충분히 가열되어 상기 제1 이미징 층으로부터 가스의 발생을 야기하는 재료를 포함하는 리소그래피 인쇄 부재.
  18. 제17항에 있어서, 상기 최상층은 소유성이며, 상기 기판은 친유성인 리소그래피 인쇄 부재.
  19. 제18항에 있어서, 상기 최상층은 실리콘인 리소그래피 인쇄 부재.
  20. 제17항에 있어서, 상기 최상층은 친수성이며, 상기 기판은 친유성인 리소그래피 인쇄 부재.
  21. 제20항에 있어서, 상기 최상층은 폴리비닐 알콜인 리소그래피 인쇄 부재.
  22. 제17항에 있어서, 상기 제1 이미징 층은 고에너지 폴리머이며, 상기 제2 이미징 층은 금속인 리소그래피 인쇄 부재.
  23. 제22항에 있어서, 상기 금속층은 d-블럭 전이 금속, 알루미늄, 인듐, 및 주석 중 하나 이상을 포함하는 리소그래피 인쇄 부재.
  24. 제23항에 있어서, 상기 금속은 티타늄인 리소그래피 인쇄 부재.
  25. 제17항에 있어서, 상기 제1 이미징 층은 고에너지 폴리머이며, 상기 제2 이미징 층은 금속 및 비금속을 포함하는 금속성 무기 화합물을 포함하는 리소그래피 인쇄 부재.
  26. 제25항에 있어서, 상기 고에너지 폴리머는 아조, 아지드, 및 니트로로부터 선택된 하나 이상의 작용기를 포함하는 리소그래피 인쇄 부재.
  27. 제25항에 있어서, 상기 고에너지 폴리머는 폴리[비스(아지도메틸)]옥세탄, 글리시딜 아지드 폴리머, 아지도메틸 메틸옥세탄, 폴리비닐 질화물, 니트로셀룰로오스, 아크릴, 및 폴리카보네이트로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 리소그래피 인쇄 부재.
  28. 제17항에 있어서, 상기 제1 이미징 층은 상기 기판 위에 있고, 상기 제2 이미징 층은 상기 제1 이미징 층 위에 있는 리소그래피 인쇄 부재.
  29. 제17항에 있어서, 상기 제2 이미징 층은 상기 기판 위에 있고, 상기 제1 이미징 층은 상기 제2 이미징 층 위에 있는 리소그래피 인쇄 부재.
  30. 제25항에 있어서, 상기 고에너지 폴리머는 이미징 방사에 대한 감응성 재료를 포함하는 리소그래피 인쇄 부재.
  31. 제30항에 있어서, 상기 감응성 재료는 적외선 흡수성 염료 또는 적외선 흡수성 안료인 리소그래피 인쇄 부재.
KR10-2000-0002535A 1999-01-21 2000-01-20 감소된 전력 요건을 갖는 리소그래피 이미징 KR100374469B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/245,103 US6168903B1 (en) 1999-01-21 1999-01-21 Lithographic imaging with reduced power requirements
US09/245,103 1999-01-21
US9/245,103 1999-01-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20000076491A KR20000076491A (ko) 2000-12-26
KR100374469B1 true KR100374469B1 (ko) 2003-03-04

Family

ID=22925301

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2000-0002535A KR100374469B1 (ko) 1999-01-21 2000-01-20 감소된 전력 요건을 갖는 리소그래피 이미징

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6168903B1 (ko)
EP (1) EP1022133B1 (ko)
JP (1) JP3370965B2 (ko)
KR (1) KR100374469B1 (ko)
CN (1) CN1279402C (ko)
AU (1) AU746846B2 (ko)
CA (1) CA2292472C (ko)
DE (1) DE69926211T2 (ko)
TW (1) TW496830B (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012142177A3 (en) * 2011-04-11 2013-02-28 Ndsu Research Foundation Selective laser-assisted transfer of discrete components

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6391522B1 (en) * 1998-10-23 2002-05-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Offset printing plate precursor and method for offset printing using the same
US6246025B1 (en) * 1999-04-30 2001-06-12 W. A. Whitney Co. Insulated slag collection bed for a laser-equipped machine tool
US6374738B1 (en) * 2000-05-03 2002-04-23 Presstek, Inc. Lithographic imaging with non-ablative wet printing members
US6378432B1 (en) * 2000-05-03 2002-04-30 Presstek, Inc. Lithographic imaging with metal-based, non-ablative wet printing members
DE60106894T2 (de) * 2001-06-21 2005-11-10 Agfa-Gevaert Flachdruckverfahren
US7121204B2 (en) 2001-06-21 2006-10-17 Agfa Gevaert Method of lithographic printing without dampening liquid
GB0226597D0 (en) † 2002-11-14 2002-12-24 Sun Chemical Bv Laser marking process
US10124571B2 (en) * 2011-05-17 2018-11-13 Presstek, Llc. Ablation-type lithographic printing members having improved exposure sensitivity and related methods
US20130036929A1 (en) * 2011-08-09 2013-02-14 Moshe Nakash Method for offset media system
US20180171468A1 (en) * 2016-12-21 2018-06-21 Ncc Nano, Llc Method for deposting a functional material on a substrate

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2020836A (en) * 1978-05-11 1979-11-21 Polychrome Corp Dry Processable Lithographic Printing Plate
US5339737A (en) * 1992-07-20 1994-08-23 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5506085A (en) * 1994-10-13 1996-04-09 Agfa-Gevaert N.V. Thermal imaging element

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3964389A (en) 1974-01-17 1976-06-22 Scott Paper Company Printing plate by laser transfer
US3945318A (en) 1974-04-08 1976-03-23 Logetronics, Inc. Printing plate blank and image sheet by laser transfer
EP0113167A3 (en) 1982-10-14 1986-06-18 Autotype International Limited Laser imaging materials
GB8410515D0 (en) 1984-04-25 1984-05-31 Ici Plc Laser-imageable assembly
JPS60255491A (ja) 1984-06-01 1985-12-17 Daicel Chem Ind Ltd レ−ザ−記録用フイルム
US5171650A (en) 1990-10-04 1992-12-15 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
US5156938A (en) 1989-03-30 1992-10-20 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
JPH0494937A (ja) 1990-08-13 1992-03-27 Konica Corp 熱転写による印刷版の形成方法
US5353705A (en) * 1992-07-20 1994-10-11 Presstek, Inc. Lithographic printing members having secondary ablation layers for use with laser-discharge imaging apparatus
US5308737A (en) 1993-03-18 1994-05-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Laser propulsion transfer using black metal coated substrates
US5395729A (en) 1993-04-30 1995-03-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laser-induced thermal transfer process
US5460918A (en) 1994-10-11 1995-10-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer donor and receptor with silicated surface for lithographic printing applications
US5819661A (en) 1995-01-23 1998-10-13 Presstek, Inc. Method and apparatus for laser imaging of lithographic printing members by thermal non-ablative transfer
US5704291A (en) * 1996-01-30 1998-01-06 Presstek, Inc. Lithographic printing members with deformable cushioning layers
US5691098A (en) * 1996-04-03 1997-11-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Laser-Induced mass transfer imaging materials utilizing diazo compounds
US5822345A (en) * 1996-07-08 1998-10-13 Presstek, Inc. Diode-pumped laser system and method
US5783364A (en) * 1996-08-20 1998-07-21 Presstek, Inc. Thin-film imaging recording constructions incorporating metallic inorganic layers and optical interference structures
US5786129A (en) * 1997-01-13 1998-07-28 Presstek, Inc. Laser-imageable recording constructions utilizing controlled, self-propagating exothermic chemical reaction mechanisms

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2020836A (en) * 1978-05-11 1979-11-21 Polychrome Corp Dry Processable Lithographic Printing Plate
US5339737A (en) * 1992-07-20 1994-08-23 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5339737B1 (en) * 1992-07-20 1997-06-10 Presstek Inc Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5506085A (en) * 1994-10-13 1996-04-09 Agfa-Gevaert N.V. Thermal imaging element

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012142177A3 (en) * 2011-04-11 2013-02-28 Ndsu Research Foundation Selective laser-assisted transfer of discrete components
US9862141B2 (en) 2011-04-11 2018-01-09 Ndsu Research Foundation Selective laser-assisted transfer of discrete components

Also Published As

Publication number Publication date
JP3370965B2 (ja) 2003-01-27
DE69926211T2 (de) 2006-04-20
JP2000211097A (ja) 2000-08-02
KR20000076491A (ko) 2000-12-26
EP1022133B1 (en) 2005-07-20
EP1022133A1 (en) 2000-07-26
AU746846B2 (en) 2002-05-02
CA2292472C (en) 2004-02-17
US6168903B1 (en) 2001-01-02
DE69926211D1 (de) 2005-08-25
CN1279402C (zh) 2006-10-11
CA2292472A1 (en) 2000-07-21
AU1016100A (en) 2000-08-03
CN1264851A (zh) 2000-08-30
TW496830B (en) 2002-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU739174B2 (en) Lithographic printing plates for use with laser imaging apparatus
US6497178B1 (en) Lithographic printing members having secondary non-ablative layers for use with laser imaging apparatus
US6490975B1 (en) Infrared laser-imageable lithographic printing members and methods of preparing and imaging such printing members
US6110645A (en) Method of imaging lithographic printing plates with high intensity laser
EP0969967B1 (en) Direct write waterless imaging member with improved ablation properties and methods of imaging and printing
KR100374469B1 (ko) 감소된 전력 요건을 갖는 리소그래피 이미징
CA2345856C (en) Lithographic imaging with metal-based, non-ablative wet printing members
US6279476B1 (en) Lithographic imaging with constructions having inorganic oleophilic layers
US20020124755A1 (en) Lithographic imaging with printing members having enhanced-performance imaging layers
US8198010B2 (en) Lithographic imaging with printing members having hydrophilic, surfactant-containing top layers
US8173346B2 (en) Printing members having permeability-transition layers and related methods
WO1998040213A1 (en) Method of imaging lithographic printing plates with high intensity laser
WO2000015435A1 (en) Lithographic imaging with constructions having inorganic oleophilic layers
JP2002514984A (ja) ゾル−ゲル層を有するリソグラフ印刷プレート

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20090217

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee