KR100367765B1 - plasma display panel and manufacturing method there of - Google Patents
plasma display panel and manufacturing method there of Download PDFInfo
- Publication number
- KR100367765B1 KR100367765B1 KR10-2000-0019140A KR20000019140A KR100367765B1 KR 100367765 B1 KR100367765 B1 KR 100367765B1 KR 20000019140 A KR20000019140 A KR 20000019140A KR 100367765 B1 KR100367765 B1 KR 100367765B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrode
- black matrix
- forming
- front glass
- rear surface
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/241—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases the vessel being for a flat panel display
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/22—Electrodes, e.g. special shape, material or configuration
- H01J11/24—Sustain electrodes or scan electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
- H01J2211/444—Means for improving contrast or colour purity, e.g. black matrix or light shielding means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/26—Sealing together parts of vessels
- H01J9/261—Sealing together parts of vessels the vessel being for a flat panel display
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 전면기판에 있어서, 블랙 매트릭스의 패턴 형상을 균일하게 유지토록 하고, 콘트라스트를 향상시키도록 하며, 유전체층의 절연 유지 및 셀 디펙트를 방지하도록 하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 이를 구현하기 위한 구성은, 전면글라스 후면의 단위 셀 경계 부위에 스캔전극 또는 서스테인전극을 구성하는 투명전극 소재를 이용하여 소정 폭과 두께로 증착하여 연장 형성되는 베이스막과; 상기 베이스막 후면을 따라 빛 흡수 물질이 소정 두께로 증착 형성되는 블랙 매트릭스를 포함하여 이루어진다.The present invention relates to a plasma display panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, in the front substrate constituting the plasma display panel, to maintain the pattern shape of the black matrix uniformly, to improve the contrast, The present invention relates to a plasma display panel for preventing insulation and preventing cell defects, and a method for manufacturing the same, using a transparent electrode material constituting a scan electrode or a sustain electrode at a unit cell boundary of the front glass rear surface. A base film formed by evaporation to a predetermined width and thickness; And a black matrix on which a light absorbing material is deposited to have a predetermined thickness along a rear surface of the base layer.
따라서, 본 발명에 의하면, 블랙 매트릭스가 투명전극의 재질의 얇은 두께를 이루는 베이스막 상에 형성됨으로써 베이스막과의 계면반응으로 그 패턴 형상이 균일하게 형성될 뿐 아니라 유동 변형됨이 방지되며, 베이스막의 두께에 의해 블랙 매트릭스가 전면글라스에 근접하여 위치됨으로써 콘트라스트가 향상됨과 동시에 블랙 매트릭스의 패턴 형상에 의한 화상이 정상적으로 표현되는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, the black matrix is formed on the base film having a thin thickness of the material of the transparent electrode, and thus the pattern shape is prevented from being uniformly formed by the interface reaction with the base film, and the flow deformation is prevented. The black matrix is positioned close to the front glass by the thickness of the film, so that the contrast is improved and the image by the pattern shape of the black matrix is normally expressed.
Description
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 디스플레이 패널을 구성하는 전면기판에 있어서, 블랙 매트릭스의 패턴 형상을 균일하게 유지토록 하고, 콘트라스트를 향상시키도록 하며, 유전체층의 절연 유지 및 셀 디펙트를 방지하도록 하는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, in the front substrate constituting the plasma display panel, to maintain the pattern shape of the black matrix uniformly, to improve the contrast, The present invention relates to a plasma display panel and a method of manufacturing the same to prevent insulation retention and cell defects.
일반적으로 음극선관이 이용된 종래의 디스플레이 수단에는 화상 표현의 대형화 추세에 대응하여 제작의 어려움이 있고, 크기에 따른 넓은 설치 공간이 요구될 뿐 아니라 무거워 취급의 어려움이 있으며, 완전 평면화를 구현할 수 없는 등 그 한계에 봉착되어 있다.In general, the conventional display means using a cathode ray tube is difficult to manufacture in response to the trend of increasing the size of the image representation, requires a large installation space according to the size, is heavy and difficult to handle, it is impossible to implement a completely flat It is encountered at its limit.
이에 비교하여 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel ;이하 PDP라 약칭함)은 가스 방전 현상을 이용하여 화상을 표현하는 것으로서, 화면의 완전 평면화와 대형화를 구현할 수 있다는 점과 두께를 얇게 형성할 수 있어 벽 등의 공간 확보와 활용이 용이하다는 이점 및 그 무게 또한 이용에 불편이 없는 정도로 제작됨에 따라 차세대 디스플레이 수단으로 각광받고 있다.In comparison, a plasma display panel (abbreviated as PDP) expresses an image by using a gas discharge phenomenon, and can realize perfect flatness and enlargement of the screen and can form a thin wall. As the advantage of easy to secure and utilize the space and the weight is also produced to the extent that it is not inconvenient to use, it is spotlighted as the next generation display means.
이러한 PDP의 일반적인 구성 중 화상을 표현하기 위한 종래 기술 구성에 대하여 그 일부를 첨부된 도 1 내지 도 3b를 참조하여 설명하기로 한다.A part of the prior art configuration for representing an image among the general configurations of such a PDP will be described with reference to FIGS. 1 to 3B.
도 1은 종래 기술에 따른 스트라이프 타입의 격벽을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널의 구성 중 단위 셀 부위를 개략적으로 확대하여 나타낸 분해 사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 전면기판과 후면기판의 결합 관계를 개략적으로 나타낸 단면도이며, 도 3a 내지 도 3b는 도 1에 도시된 전면기판의 구성 중 블랙 매트릭스의 형성 관계를 나타낸 부분 단면도이다.1 is an exploded perspective view schematically illustrating an enlarged unit cell portion of a configuration of a plasma display panel having a stripe-type partition wall according to the related art, and FIG. 2 schematically illustrates a coupling relationship between a front substrate and a rear substrate of FIG. 1. 3A to 3B are partial cross-sectional views illustrating a relationship of formation of a black matrix in the front substrate shown in FIG. 1.
먼저, 도 1 또는 도 2를 참조하여 PDP의 구성을 설명하면, PDP의 화상 표시면인 전면기판(10)이 있고, 이 전면기판(10)의 후면측으로 이격된 위치에는 후면기판(12)이 전면기판(10)에 대향하여 결합되어 진다.First, referring to FIG. 1 or FIG. 2, the configuration of the PDP includes a front substrate 10, which is an image display surface of the PDP, and a rear substrate 12 at a position spaced apart from the rear side of the front substrate 10. It is coupled to the front substrate 10.
상술한 전면기판(10)의 구성은, 도 1 내지 도 3b에 도시된 바와 같이, 전면글라스(14) 후면에 소정 폭과 두께 및 길이를 갖는 투명전극(16a, 18a)과 그 후면 소정 위치에 형성되는 도전성전극(16b, 18b)으로 구성되는 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)이 상호 소정 간격으로 교번하여 전면글라스(20)의 유효 부위를 가로지르는 형상으로 배열된다.As described above, the front substrate 10 may include transparent electrodes 16a and 18a having a predetermined width, thickness, and length on the rear surface of the front glass 14 and the predetermined positions on the rear surface thereof, as shown in FIGS. The scan electrodes 16 and the sustain electrodes 18, which are formed of the conductive electrodes 16b and 18b to be formed, are alternately arranged at predetermined intervals so as to cross the effective portion of the front glass 20.
이들 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)은, 각 단위 셀 부위에 대하여 상호 이웃하여 한 쌍으로 배열되고, 이들 각 단위 셀의 경계 부위에는 블랙 매트릭스(20)가 스캔전극(16) 또는 서스테인전극(18)에 대하여 소정 간격을 이루며 나란하게 배열된다.These scan electrodes 16 and the sustain electrodes 18 are arranged in pairs adjacent to each unit cell portion, and a black matrix 20 is arranged at the boundary portions of these unit cells with the scan electrode 16 or the sustain. The electrodes 18 are arranged side by side at a predetermined interval.
또한, 스캔전극(16)과 서스테인전극(18) 및 블랙 매트릭스(20)는 이들 외측 부위를 포함한 전면글라스(14)의 후면을 커버하는 유전체층(22)에 의해 덮혀지고, 이 유전체층(22)의 후면은 다시 보호층(24)에 의해 덮혀지게 된다.In addition, the scan electrode 16, the sustain electrode 18, and the black matrix 20 are covered by a dielectric layer 22 covering the rear surface of the front glass 14 including these outer portions, and the dielectric layer 22 The back side is again covered by the protective layer 24.
한편, 상술한 전면기판(14)에 대향하는 후면기판(12)의 구성은, 도 1에 도시된 바와 같이, 후면글라스(26)의 전면 상에 절연 재질의 하지막(28)이 도포되고, 이 하지막(28)의 전면에는 데이터전극(30)이 상술한 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)에 대하여 수직하게 교차하는 형상으로 배열된다.On the other hand, the configuration of the rear substrate 12 facing the front substrate 14 described above, as shown in Figure 1, the base film 28 of an insulating material is applied on the front surface of the rear glass 26, On the front surface of the base film 28, the data electrodes 30 are arranged in a shape perpendicular to the scan electrodes 16 and the sustain electrodes 18 described above.
또한, 이들 데이터전극(30)은 다시 전면기판(10) 방향으로의 반사 효율을 높이도록 함과 동시에 데이터전극(30)의 방전전류를 제한하는 제 2 유전층(32)에 의해 덮혀진다.In addition, these data electrodes 30 are again covered by a second dielectric layer 32 which increases the reflection efficiency toward the front substrate 10 and limits the discharge current of the data electrodes 30.
그리고, 상술한 제 2 유전층(32)의 전면의 유효 부위에는, 소정 폭과 두께를 갖는 복수개의 격벽(34)이 데이터전극(30) 사이 즉, 단위 셀의 경계 부위에 배열되고, 이들 격벽(34) 사이에는 각 색상의 형광체(36a, 36b, 36c)가 도포되어 이루어진다.In addition, a plurality of partition walls 34 having a predetermined width and a thickness are arranged between the data electrodes 30, that is, at the boundary portions of the unit cells, in the effective portion of the front surface of the second dielectric layer 32 described above. The phosphors 36a, 36b, and 36c of each color are applied between the 34).
이렇게 구성되는 전면기판(10)과 후면기판(12)은 상호 대향하여 결합되고, 그 내부 공간을 소정의 진공압 상태로 형성하여 그 공간에 방전가스를 투입 밀봉 작업을 포함하는 일련의 과정을 통해 PDP로 제작된다.The front substrate 10 and the rear substrate 12 configured as described above are coupled to face each other, and form an internal space in a predetermined vacuum pressure state through a series of processes including a sealing operation injecting discharge gas into the space. It is made of PDP.
이러한 상태에서 상술한 각 전극(16a, 16b, 18a, 18b, 30)은 구동장치(도면의 단순화를 위하여 생략함)로부터 신호를 인가받아 상호 선택적으로 방전하게 되고, 이 과정에서 특정 단위 셀 부위에 위치되는 방전가스는 선택적인 방전에 의해여기되어 자외선을 방출하게 된다.In this state, the above-described electrodes 16a, 16b, 18a, 18b, and 30 are selectively discharged by receiving a signal from a driving device (not shown for simplicity of the drawing). The discharge gas located is excited by the selective discharge to emit ultraviolet rays.
이러한 자외선의 영향을 받은 각 부위의 형광체(36a, 36b, 36c)는 발광하여 그 빛이 전면기판(10)을 통해 방출되도록 함으로써 화상으로 표현된다.Phosphors 36a, 36b, and 36c in each region affected by the ultraviolet rays emit light and are emitted through the front substrate 10 to represent an image.
여기서, 상술한 블랙 매트릭스(20)는 통상 흑색을 띠고 있으며, PDP의 구동 과정에서 이웃하는 단위 셀 부위의 형광체(36a, 36b, 36c)가 발광함에 따른 각 색상의 빛을 선명하게 구분하여 표현되도록 하는 기능을 수행하게 되며, 이러한 블랙 매트릭스(20)는 그 형성 위치에 따라 그 특성이 다르게 나타나게 된다.Here, the above-described black matrix 20 is usually black, so that the phosphors 36a, 36b, and 36c of neighboring unit cell portions emit light of each color as they are clearly emitted during the driving of the PDP. The black matrix 20 has different characteristics depending on the formation position thereof.
이러한 블랙 매트릭스(20)의 형성 및 그 위치에 따른 특성 관계에 있어서, 먼저 도 3a에 도시된 바와 같이, 블랙 매트릭스(20)가 전면글라스(14)의 후면 상에 직접적으로 형성되는 경우를 살펴보면, 블랙 매트릭스(20)가 전면글라스(14)의 후면에 밀착되어 단위 셀 부위의 방전 위치로부터 이격 위치됨에 따라 형광체(36a, 36b, 36c)의 발광에 의한 빛이 전면글라스(14)를 투과하여 나오는 각도를 제한하게 됨에 따라 그 색상의 선명도 구분 즉, 콘트라스트(contrast)가 향상되는 이점이 있다.In the characteristic relationship according to the formation and position of the black matrix 20, first, as shown in FIG. 3A, when the black matrix 20 is directly formed on the rear surface of the front glass 14, As the black matrix 20 is in close contact with the rear surface of the front glass 14 and is spaced apart from the discharge position of the unit cell part, the light emitted by the phosphors 36a, 36b, and 36c is emitted through the front glass 14. As the angle is limited, the sharpness of the color, that is, the contrast, is improved.
한편, 이러한 블랙 매트릭스(20)는, 통상 빛을 흡수하기 위한 흑색의 입자가 소정의 케미컬에 혼합되어 액상으로 존재하는 소재를 인쇄법 또는 사진법 등으로 전면글라스(14) 상에 형성되어 소성 과정을 거쳐 형성된다.On the other hand, such a black matrix 20, a black particle for absorbing light is usually mixed with a predetermined chemical to form a material present in the liquid phase on the front glass 14 by a printing method or a photographing method, etc. It is formed through.
그러나, 상술한 액상의 블랙 매트릭스(20)는 전면글라스(14)에 형성되는 과정에서 전면글라스(14)와의 계면반응에 의해 표면으로부터 그 형상을 유지하지 못하고 그 폭이 부분적으로 수축하는 형상을 이루고, 또 전면글라스(14)의 표면을 따라 쉽게 유동하게 됨으로써 블랙 매트릭스(20)의 길이 방향에 대하여 그 폭이 넓거나 좁은 형상 또는 굴곡된 형상을 이루는 등 정상적인 패턴 형상을 형성하기 어려우며, 이에 따라 화상이 정상적으로 표현되지 못하는 등의 문제가 있었다.However, the liquid black matrix 20 described above does not maintain its shape from the surface due to the interfacial reaction with the front glass 14 in the process of being formed on the front glass 14, and the width thereof partially contracts. In addition, since it easily flows along the surface of the front glass 14, it is difficult to form a normal pattern shape such as forming a wide or narrow shape or a curved shape with respect to the length direction of the black matrix 20, and thus an image There was a problem such as not being represented normally.
그리고, 상술한 블랙 매트릭스(20)는 소성 과정에서 길이 방향 중심 부위가 전면글라스(14)에 침투하는 형상을 이루고, 상대적으로 가장자리 부위는 전면글라스(14)의 후면에 대하여 돌출된 형상을 이루는 등 불균일한 형상을 이루게 된다.In addition, the above-described black matrix 20 forms a shape in which the longitudinal center portion penetrates the front glass 14 in the firing process, and a relatively edge portion forms a shape protruding with respect to the rear surface of the front glass 14. Uneven shape is achieved.
이러한 형상은 블랙 매트릭스(20) 입자를 결합하는 바인더(binder)가 소성 과정에서 충분히 이탈하지 못하고 형성되는 블랙 매트릭스(20)의 계면과 유전체층(22) 사이에서 기포 형태로 잔존하게 됨으로써 이들 기포가 형성된 부위는 기포가 없는 부위에 비교하여 상대적으로 절연을 파괴시키게 되고, 셀 디펙트를 유발하는 등의 문제가 있었다.This shape is such that bubbles are formed between the interface of the black matrix 20 and the dielectric layer 22 formed by a binder that binds the particles of the black matrix 20 without being sufficiently released during the firing process. Compared with a bubble free site, the site breaks insulation relatively and causes cell defects.
한편, 상술한 후자의 경우에는, 도 3b에 도시된 바와 같이, 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)을 소정 두께로 덮는 유전체층(22) 상에 형성한 것으로써 이 경우에 있어서는 블랙 매트릭스(20) 소재가 유전체층(22)의 표면에 대한 계면반응에 의해 퍼지게 됨과 동시에 잘 유동하지 못하는 관계로 그 패턴 형상이 균일하게 형성시킬 수 있는 장점을 갖고 있으나, 전자에 비교하여 발광 위치에 대하여 상대적으로 근접 위치됨에 의해 콘트라스트가 저하되는 단점을 갖고 있다.On the other hand, in the latter case described above, as shown in Fig. 3B, the scan electrode 16 and the sustain electrode 18 are formed on the dielectric layer 22 covering the predetermined thickness, and in this case the black matrix ( 20) Since the material spreads due to the interfacial reaction with the surface of the dielectric layer 22 and does not flow well, the pattern shape can be uniformly formed. There is a disadvantage that the contrast is lowered by being located in proximity.
또한, 블랙 매트릭스(20)가 형성되는 위치의 주연에는 그 형성 위치로부터 분리된 블랙 매트릭스(20) 입자가 넓은 범위에 걸쳐 다수의 점 형태의 잔사로 존재하게 되고, 이들 잔사의 표면에는 미쳐 이탈하지 못하는 기포 형태의 바인더가 흡착된 형상으로 잔존하는 경우가 확대되어 그에 따른 유전체층(22)의 절연을 파괴하는 등의 문제가 있었다.In addition, at the periphery of the position where the black matrix 20 is formed, the particles of the black matrix 20 separated from the formation position exist as a plurality of point-like residues over a wide range, and do not leave the surface of these residues. There is a problem in that a bubble-type binder that remains in an adsorbed shape is enlarged, thereby destroying insulation of the dielectric layer 22.
본 발명의 목적은, 종래의 문제를 해결하기 위하여 착안된 것으로서, 전면기판을 구성하는 전면글라스 상에 블랙 매트릭스의 패턴 형상을 균일하게 형성함과 동시에 콘트라스트를 향상시키도록 하는 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법을 제공함에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and to form a black matrix pattern shape on the front glass constituting the front substrate and to improve the contrast, and to manufacture the plasma display panel. In providing a method.
또한, 블랙 매트릭스 입자의 의한 잔사가 없도록 하고, 균일한 패턴 형상과 잔사의 방지를 통해 소성 과정에서의 바인더의 이탈을 촉진토록 하고, 셀 디펙트를 방지토록 하여 정상적인 화상 구현을 실현토록 하는 플라즈마 디스플레이 패널과 그 제조방법을 제공함에 있다.In addition, the plasma display prevents residue caused by the black matrix particles, promotes the release of the binder during the firing process through uniform pattern shape and prevention of the residue, and prevents the cell defect to realize a normal image. The present invention provides a panel and a method of manufacturing the same.
도 1은 일반적인 스트라이프 타입의 격벽을 갖는 플라즈마 디스플레이 패널의 구성 일부를 개략적으로 나타낸 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view schematically showing a part of a configuration of a plasma display panel having a partition type barrier rib.
도 2는 도 1에 도시된 전면기판과 후면기판의 결합 관계를 개략적으로 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view schematically illustrating a coupling relationship between a front substrate and a rear substrate illustrated in FIG. 1.
도 3a 또는 도 3b는 종래 기술에 따른 블랙 매트릭스의 형성 관계를 나타낸 단면도이다.3A or 3B are cross-sectional views illustrating a relationship of forming a black matrix according to the prior art.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 블랙 매트릭스의 형성 관계를 개략적으로 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view schematically illustrating a relationship of a black matrix of a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 5a 내지 도 8e는 도 4에 도시된 블랙 매트릭스의 형성 과정을 설명하기 위한 공정도이다.5A through 8E are process charts for describing a process of forming the black matrix shown in FIG. 4.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10: 전면기판 12:10: front substrate 12:
14: 전면글라스 16: 스캔전극14: Front glass 16: Scan electrode
18: 서스테인전극 20a, 20b: 유전층18: sustain electrode 20a, 20b: dielectric layer
22: 보호층 24: 후면글라스22: protective layer 24: rear glass
26: 데이터전극 28: 격벽26: data electrode 28: partition wall
30a, 30b, 30c: 형광체 32: 실링부재30a, 30b, 30c: phosphor 32: sealing member
34: 하지막 36: 돌기34: base 36: projection
42: 알루미늄막 44: 산화알루미늄막42: aluminum film 44: aluminum oxide film
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 특징은, 전면글라스 후면의 단위 셀 경계 부위에 스캔전극 또는 서스테인전극을 구성하는 투명전극 소재를 이용하여 소정 폭과 두께로 증착하여 연장 형성되는 베이스막과; 상기 베이스막 후면을 따라 빛 흡수 물질이 소정 두께로 증착 형성되는 블랙 매트릭스를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.A feature of the plasma display panel according to the present invention for achieving the above object is to extend to a predetermined width and thickness by using a transparent electrode material constituting a scan electrode or a sustain electrode on the unit cell boundary of the front glass back A base film; And a black matrix in which a light absorbing material is deposited to have a predetermined thickness along the back surface of the base layer.
한편, 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은, 스캔전극과 서스테인전극이 형성된 전면글라스 후면에 스캔전극 또는 서스테인전극을 구성하는 투명전극 소재를 단위 셀 경계 부위를따라 소정 폭과 두께의 베이스막을 형성하는 단계와; 상기 베이스막의 후면을 따라 소정 두께로 블랙 매트릭스를 형성하는 단계;를 포함하여 이루어진다.On the other hand, the plasma display panel manufacturing method according to an embodiment of the present invention for achieving the above object, the unit cell boundary of the transparent electrode material constituting the scan electrode or the sustain electrode on the back of the front glass formed with the scan electrode and the sustain electrode Forming a base film having a predetermined width and thickness along the portion; And forming a black matrix with a predetermined thickness along the rear surface of the base layer.
이하, 상기 구성에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a plasma display panel and a method of manufacturing the same according to the above configuration will be described with reference to the accompanying drawings.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면기판의 구성 일부를 확대하여 나타낸 부분 단면도이고, 도 5a 내지 도 8c는 도 4에 도시된 블랙 매트릭스를 형성함에 따른 각 실시예를 나타낸 공정도로서, 종래와 동일한 부분에 대하여 동일한 부호를 부여하고, 그에 따른 상세한 설명은 생략하기로 한다.4 is an enlarged partial cross-sectional view showing a part of a configuration of a front substrate of a plasma display panel according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 5A to 8C illustrate respective embodiments of forming the black matrix shown in FIG. 4. As the process drawing, the same reference numerals are given to the same parts as in the prior art, and detailed description thereof will be omitted.
본 발명에 따른 블라즈마 디스플레이 패널 구성은, 도 4에 도시된 바와 같이, 전면기판(40)을 구성함에 있어서, 전면글라스(14)의 후면에 투명전극과 도전성전극으로 이루어진 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)이 단위 셀 부위를 상호 이웃하여 가로지르는 형상으로 배열 형성된다.The plasma display panel configuration according to the present invention, as shown in Figure 4, in the configuration of the front substrate 40, the scan electrode 16 consisting of a transparent electrode and a conductive electrode on the back of the front glass 14 and The sustain electrodes 18 are arranged in a shape so as to cross the unit cell portions adjacent to each other.
또한, 상술한 단위 셀의 경계 부위에는, 도 4에 도시된 바와 같이, 스캔전극(16) 또는 서스테인전극(18)을 구성하는 투명전극(16a, 18a) 소재로 이루어진 베이스막(42)이 50∼500㎛의 폭과 500∼1500Å두께로 스캔전극(16) 또는 서스테인전극(18)에 대하여 나란하도록 배열 형성된다.In addition, as shown in FIG. 4, the base film 42 made of the transparent electrodes 16a and 18a forming the scan electrode 16 or the sustain electrode 18 is formed at the boundary of the unit cell described above. It is formed so as to be parallel to the scan electrode 16 or the sustain electrode 18 at a width of ˜500 μm and a thickness of 500 to 1500 Å.
이렇게 형성된 베이스막(42)의 후면에는, 도 4에 도시된 바와 같이, 액상의 블랙 매트릭스(20)가 인쇄법 또는 사진법에 의해 증착 형성되고, 이들 스캔전극(16)과 서스테인전극(18) 및 블랙 매트릭스(44)의 외측 부위를 포함하는 전면글라스(14)의 후면에는 통상의 방법으로 유전체층(22) 덮혀지고, 이 유전체층(22)의 후면에는 다시 보호층(24)이 덮혀지게 된다.As shown in FIG. 4, the liquid black matrix 20 is deposited by a printing method or a photographing method on the rear surface of the base film 42 thus formed, and these scan electrodes 16 and the sustain electrodes 18 are formed. And the back surface of the front glass 14 including the outer portion of the black matrix 44 is covered with the dielectric layer 22 in a conventional manner, and the back surface of the dielectric layer 22 is covered with the protective layer 24 again.
상술한 구성에서와 같이 블랙 매트릭스(44)를 형성하기 위한 방법을 살펴보면, 도 5a에 도시된 바와 같이, 전면글라스(14)의 후면에 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)이 형성된 상태에서 스캔전극(16) 또는 서스테인전극(18)을 구성하는 투명전극(16a, 18a) 소재를, 도 5b와 같이, 단위 셀의 경계 부위를 따라 50∼500㎛의 폭과 500∼1500Å두께로 증착한 베이스막(42)을 연장 형성하게 된다.Looking at the method for forming the black matrix 44 as in the above configuration, as shown in Figure 5a, in the state in which the scan electrode 16 and the sustain electrode 18 is formed on the rear surface of the front glass 14 The transparent electrodes 16a and 18a constituting the scan electrode 16 or the sustain electrode 18 were deposited to have a width of 50 to 500 μm and a thickness of 500 to 1500 μm along the boundary of the unit cell as shown in FIG. 5B. The base film 42 is extended.
이러한 과정을 통해 형성된 베이스막(42)의 후면에 액상의 블랙 매트릭스(44)를 소정 두께 증착 형성하고, 이어 이들 구성을 일괄 소성시킴으로써 블랙 매트릭스(44)의 형성 과정이 이루어진다.The liquid black matrix 44 is formed by depositing a predetermined thickness on the back surface of the base film 42 formed through this process, and then, the process of forming the black matrix 44 is performed by collectively baking these components.
이후 통상의 방법으로 유전체층(22)과 보호층(24)을 순차적으로 형성하게 됨으로써 전면기판(40)을 완성시키게 된다.After that, the dielectric layer 22 and the protective layer 24 are sequentially formed by the conventional method, thereby completing the front substrate 40.
한편, 도 6a 내지 도 6c에 도시된 내용은, 상술한 블랙 매트릭스(44)의 형성에 따른 다른 실시예를 나타낸 것으로서, 전면글라스(14)의 후면에 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)을 구성하는 투명전극(16a,18a)을 형성하는 과정에서 투명전극(16a, 18a) 소재로 단위 셀의 경계 부위를 따라 50∼500㎛의 폭과 500∼1500Å두께로 베이스막(42)을 동시에 형성한다.6A to 6C show another embodiment according to the formation of the black matrix 44 described above, and the scan electrode 16 and the sustain electrode 18 are disposed on the rear surface of the front glass 14. In the process of forming the transparent electrodes 16a and 18a, the base film 42 is formed at the same time as the material of the transparent electrodes 16a and 18a along the boundary of the unit cell with a width of 50 to 500 µm and a thickness of 500 to 1500 mW. Form.
이후, 도 6b에 도시된 바와 같이, 투명전극(16a, 18a) 후면 소정 위치에 도전성전극(16b, 18b)을 형성하여 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)을 형성하고, 이어 도 6c에 도시된 바와 같이, 베이스막(42) 후면 상에 액상의 블랙 매트릭스(44) 소재를 인쇄법 또는 사진법을 이용하여 블랙 매트릭스(44)를 형성시키게 되는 것이다.Thereafter, as illustrated in FIG. 6B, the conductive electrodes 16b and 18b are formed at predetermined positions on the rear surfaces of the transparent electrodes 16a and 18a to form the scan electrode 16 and the sustain electrode 18. As shown, the black matrix 44 is formed on the back surface of the base layer 42 by using a printing method or a photographing method of the liquid black matrix 44 material.
한편, 도 7a 내지 도 7e에 도시된 내용은, 도 4의 구성에 대한 블랙 매트릭스(44)의 형성에 따른 또 다른 실시예를 나타낸 것으로서, 도 6a에 도시된 내용과 마찬가지로, 전면글라스(14)의 후면에 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)을 구성하는 투명전극(16a, 18a)을 형성하는 과정에서 동시에 단위 셀의 경계 부위를 따라 투명전극(16a, 18a) 소재를 이용하여 50∼500㎛의 폭과 500∼1500Å두께로 베이스막(42)을 형성시킨다.Meanwhile, the contents shown in FIGS. 7A to 7E illustrate another embodiment according to the formation of the black matrix 44 for the configuration of FIG. 4, and the front glass 14 is similar to the contents illustrated in FIG. 6A. In the process of forming the transparent electrodes 16a and 18a constituting the scan electrode 16 and the sustain electrode 18 on the back side of the substrate, the materials 50 to 50 are formed by using the transparent electrodes 16a and 18a along the boundary of the unit cell. The base film 42 is formed with a width of 500 µm and a thickness of 500-1500 mm.
이후, 도 7b에 도시된 바와 같이, 베이스막(42)의 외측 전면과 단위 셀의 경계 부위에 근접하는 양측 단위 셀 소정 부위를 포함하여 액상의 블랙 매트릭스(44) 소재를 도포하고, 투명전극(16a, 18a)의 소정 부위를 커버하는 블랙 매트릭스(44) 소재 위에, 도 7c에 도시된 바와 같이, 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)의 도전성전극(16b, 18b)을 형성한다.Subsequently, as illustrated in FIG. 7B, the liquid black matrix 44 material is coated by including both unit cell predetermined portions adjacent to the outer front surface of the base layer 42 and the boundary portion of the unit cell, and the transparent electrode ( The conductive electrodes 16b and 18b of the scan electrode 16 and the sustain electrode 18 are formed on the black matrix 44 material covering the predetermined portions of the 16a and 18a, as shown in FIG. 7C.
이어 도 7d에 도시된 바와 같이 전면글라스(14)의 전극(16a, 16b, 18a, 18b) 형성면에 대향하여 마스크(46a)를 위치시켜 노광한 후 현상함으로써 도전성전극(16b, 18b) 부위와 베이스막(42) 후면에 위치되는 블랙 매트릭스(44)만이 존재하게 된다.Subsequently, as shown in FIG. 7D, the mask 46a is positioned and exposed to face the electrodes 16a, 16b, 18a, and 18b forming surfaces of the front glass 14 to be developed and then exposed to the portions of the conductive electrodes 16b and 18b. Only the black matrix 44 positioned behind the base layer 42 is present.
한편, 도 8a 내지 도 8e에 도시된 내용은, 블랙 매트릭스(44)를 형성하기 위한 또 다른 실시예로서, 도 8a에 도시된 바와 같이, 전면글라스(14)의 후면 상에 스캔전극(16)과 서스테인전극(18)을 구성하는 투명전극(16a, 18a)과 블랙 매트릭스(44)가 위치되는 단위 셀 경계 부위에 대하여 투명전극(16a, 18a) 소재로 이루어진 베이스막(42)을 동시에 형성한다.8A to 8E illustrate another embodiment for forming the black matrix 44. As illustrated in FIG. 8A, the scan electrode 16 is formed on the rear surface of the front glass 14. And base films 42 made of transparent electrodes 16a and 18a material are formed simultaneously on the transparent electrode 16a and 18a constituting the sustain electrode 18 and the unit cell boundary where the black matrix 44 is located. .
이러한 상태에서 전면글라스(14)의 후면 상에, 도 8b에 도시된 바와 같이, 투명전극(16a, 18a)과 베이스막(42)을 포함하는 전면글라스(14)의 후면상에 블랙 매트릭스(44) 소재를 소정 두께도 도포하여 블랙 매트릭스층(44a)을 형하고, 이어 베이스막(42)이 형성된 부위에 대응하여 개방 또는 폐쇄된 형상의 마스크(46b)를 위치시켜 노광토록 함으로써 베이스막(42)이 형성된 부위의 블랙 매트릭스(44) 소재를 경화시킨다.In this state, the black matrix 44 is disposed on the rear surface of the front glass 14 and on the rear surface of the front glass 14 including the transparent electrodes 16a and 18a and the base film 42 as shown in FIG. 8B. ) The black matrix layer 44a is formed by applying a predetermined thickness, and then the base film 42 is positioned by exposing and opening the mask 46b having an open or closed shape corresponding to the portion where the base film 42 is formed. The black matrix 44 material of the portion where the) is formed is cured.
이후 경화된 블랙 매트릭스(44)를 제외한 나머지 부위를 현상으로 제거하지 않은 상태에서 도 8c에 도시된 바와 같이, 그 블랙 매트릭스층(44a)의 후면 상에 도전성전극층(48)을 소정 두께로 형성한다.Subsequently, the conductive electrode layer 48 is formed to a predetermined thickness on the rear surface of the black matrix layer 44a as shown in FIG. 8C without remaining portions except the hardened black matrix 44 by development. .
그리고, 도 8d에 도시된 바와 같이, 도전성전극층(48)의 후면에 대향하여 도전성전극(16b, 18b)이 형성되는 부위에 대하여 소정 폭의 홀을 갖는 마스크(46c)를 위치시키고, 다시 노광하고 이것을 도 8e에 도시된 바와 같이, 현상함에 의해 스캔전극(16)과 서스테인전극(18) 및 블랙 매트릭스(44)를 형성하게 된다.As shown in FIG. 8D, a mask 46c having holes of a predetermined width is positioned and exposed again to a portion where the conductive electrodes 16b and 18b are formed to face the rear surface of the conductive electrode layer 48. As shown in FIG. 8E, the development results in the formation of the scan electrode 16, the sustain electrode 18, and the black matrix 44.
여기서, 상술한 바와 같이, 블랙 매트릭스(44)가 형성되면 이후에는 이들을 포함하는 전면글라스(14)를 일괄적으로 소성 과정을 거치도록 하고, 계속하여 유전체층(도면의 단순화를 위하여 생략함)과 보호층을 순차적으로 형성하여 전면기판으로 형성하게 된다.Here, as described above, when the black matrix 44 is formed, the front glass 14 including the same is subjected to a sintering process at a time, and then the dielectric layer (omitted for simplification of the drawing) and the protection are continued. The layers are sequentially formed to form a front substrate.
이러한 구성에 의하면, 블랙 매트릭스(44)는 종래와 달리 전면글라스(14) 상에 또는 유전체층(22) 상에 형성되지 않고 통상 ITO(Indium Tin oxide(In2SnO3)) 또는 NESA(SnO2) 등으로 알려진 투명전극(16a, 18a) 소재로 이루어진 베이스막(42) 상에 형성된다.According to this configuration, the black matrix 44 is not formed on the front glass 14 or the dielectric layer 22, unlike the conventional art, and is usually indium tin oxide (In 2 SnO 3 ) or NESA (SnO 2 ). It is formed on the base film 42 made of transparent electrodes 16a, 18a, or the like.
이렇게 형성되는 블랙 매트릭스(44)는 접촉하는 투명전극(16a, 18a)과 계면반응에 의해 유전체층(22)과 마찬가지로 넓게 퍼지는 형상을 이룸과 동시에 투명전극(16a, 18a) 상에서 유동이 억제되고, 이 경우에 있어서 블랙 매트릭스(44)는 패턴 형상이 균일하게 형성되는 투명전극(16a, 18a)의 형상을 따라 균일한 형성되어 소성 과정에서 바인더의 이탈을 촉진하게 된다.The black matrix 44 thus formed has a shape that spreads as widely as the dielectric layer 22 by the interfacial reaction with the transparent electrodes 16a and 18a in contact, and at the same time, the flow is suppressed on the transparent electrodes 16a and 18a. In this case, the black matrix 44 is uniformly formed along the shapes of the transparent electrodes 16a and 18a in which the pattern shape is uniform, thereby facilitating separation of the binder during the firing process.
또한, 소성 과정에서 투명전극(16a, 18a)은 블랙 매트릭스(44)의 변형을 방지하기 위한 충분한 지지력을 제공하게 되고, 이에 따라 블랙 매트릭스(44)는 전면글라스(14)의 표면에 대하여 가장자리 부위가 돌출됨이 없이 그 형상을 유지할 수 있게 된다.In addition, during the firing process, the transparent electrodes 16a and 18a provide sufficient supporting force to prevent deformation of the black matrix 44, so that the black matrix 44 has an edge portion with respect to the surface of the front glass 14. It is possible to maintain the shape without protruding.
그리고, 투명전극(16a, 18a)의 두께가 충분히 얇게 형성됨에 따라 거의 전면글라스(14)의 후면에 밀착된 것과 같은 효과를 얻게 되고, 이를 통해 발산되는 형광체의 위치로부터 충분히 이격 위치됨으로써 콘트라스트를 향상시키게 된다.In addition, as the thickness of the transparent electrodes 16a and 18a is sufficiently thin, the same effect as the close contact with the rear surface of the front glass 14 is obtained, and thus the contrast is sufficiently spaced apart from the position of the phosphor emitted through this to improve the contrast. Let's go.
그리고, 블랙 매트릭스(44)는 단위 셀의 경계 부위에 소정 폭을 이루며 국부적으로 형성된 베이스막(42) 이외의 전면글라스(14) 상에서는 자체적으로 뭉쳐지는 등 잔사의 생성을 억제하게 되고, 이를 통해 잔사에 의한 절연파괴 및 셀 디펙트 등을 방지하게 된다.In addition, the black matrix 44 has a predetermined width at the boundary portion of the unit cell and suppresses the generation of residues such as agglomerating itself on the front glass 14 other than the locally formed base film 42. This prevents insulation breakdown and cell defects caused by the insulation.
따라서, 본 발명에 의하면, 블랙 매트릭스가 투명전극의 재질과 동일한 재질로 얇은 두께를 이루는 베이스막 상에 형성됨으로써 베이스막과의 계면반응으로 그 패턴 형상이 균일하게 형성될 뿐 아니라 유동 변형됨이 방지되며, 베이스막의 두께에 의해 블랙 매트릭스가 전면글라스에 근접하여 위치됨으로써 콘트라스트가 향상됨과 동시에 블랙 매트릭스의 패턴 형상에 의한 화상이 정상적으로 표현되는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, the black matrix is formed on a base film having a thin thickness of the same material as that of the transparent electrode, thereby preventing the deformation of the pattern as well as forming the pattern uniformly by interfacial reaction with the base film. The black matrix is positioned close to the front glass by the thickness of the base film, so that the contrast is improved and the image by the pattern shape of the black matrix is normally expressed.
또한, 베이스막이 소성 과정에서 블랙 매트릭스의 굴곡 변형 및 형상을 충분히 유지하게 됨과 동시에 바인더의 이탈이 용이한 형상을 이루게 되어 바인더에 의한 기포의 생성을 억제하게 되고, 이를 통해 유전체층의 절연이 유지되며, 셀 디펙트가 방지하는 효과가 있다.In addition, the base film sufficiently maintains the bending deformation and the shape of the black matrix during the firing process, and at the same time forms a shape that facilitates the release of the binder, thereby suppressing the generation of bubbles by the binder, thereby maintaining the insulation of the dielectric layer. Cell defects have the effect of preventing.
그리고, 블랙 매트릭스는 베이스막 상에 형성되어 베이스막이 형성되지 않은 전면글라스 상에는 블랙 매트릭스 입자에 의한 잔사 현상이 억제되어 바인더에 의한 기포의 생성을 억제하게 되고, 유전체층의 절연이 더욱 유지될 수 있으며,In addition, the black matrix is formed on the base film, and the residue phenomenon caused by the black matrix particles is suppressed on the front glass where the base film is not formed, thereby suppressing the generation of bubbles by the binder, and the insulation of the dielectric layer can be further maintained.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.
Claims (7)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2000-0019140A KR100367765B1 (en) | 2000-04-12 | 2000-04-12 | plasma display panel and manufacturing method there of |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR10-2000-0019140A KR100367765B1 (en) | 2000-04-12 | 2000-04-12 | plasma display panel and manufacturing method there of |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20010095783A KR20010095783A (en) | 2001-11-07 |
| KR100367765B1 true KR100367765B1 (en) | 2003-01-10 |
Family
ID=19663716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR10-2000-0019140A KR100367765B1 (en) | 2000-04-12 | 2000-04-12 | plasma display panel and manufacturing method there of |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100367765B1 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100764761B1 (en) * | 2003-02-12 | 2007-10-11 | 엘지전자 주식회사 | Front-filter |
-
2000
- 2000-04-12 KR KR10-2000-0019140A patent/KR100367765B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20010095783A (en) | 2001-11-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100279255B1 (en) | Plasma Display Panel And Formation Method | |
| US6870314B2 (en) | Panel assembly for PDP and manufacturing method thereof | |
| KR100858810B1 (en) | Plasma display panel and method of manufacturing the same | |
| JP4604752B2 (en) | Photomask used for manufacturing flat display panel and flat display panel manufacturing method | |
| KR100467433B1 (en) | Plasma display panel having reduced light reflection by external light and methode thereof | |
| KR100367765B1 (en) | plasma display panel and manufacturing method there of | |
| US7955787B2 (en) | Plasma display panel manufacturing method | |
| JP4375113B2 (en) | Plasma display panel | |
| KR100477604B1 (en) | Plasma display panel and method for fabrication the same | |
| US20010015622A1 (en) | Plasma display panel and method for manufacturing the same | |
| KR100374126B1 (en) | plasma display panel and manufacturing method thereof | |
| KR101070920B1 (en) | Method for forming electrode of plasma display panel | |
| KR100416090B1 (en) | Plasma display panel and the fabrication method thereof | |
| KR100593071B1 (en) | Plasma Display Panel and Making method thereof | |
| KR100741775B1 (en) | Method for making electrode of plasma display panel | |
| JP3000970B2 (en) | Method for manufacturing plasma display panel | |
| JP2006120388A (en) | Plasma display panel | |
| JPH10172441A (en) | Plasma display panel and manufacture thereof | |
| KR100844838B1 (en) | Plasma Display Panel and Method of Fabricating a pair of Sustain Electrodes Thereof | |
| JP2000323031A (en) | Method for forming phosphor layer of gas discharge display device | |
| US20070069359A1 (en) | Plasma display panel and the method of manufacturing the same | |
| JP2002216640A (en) | Gas discharge device and manufacturing method of the same | |
| KR100823514B1 (en) | Plasma display panel | |
| KR100457619B1 (en) | Plasma display panel and the fabrication method thereof | |
| WO2007086105A1 (en) | Method for manufacturing plasma display panel |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| N231 | Notification of change of applicant | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20091127 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |