KR100346409B1 - Stage driving method of electron probe micro analyzer - Google Patents

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Abstract

본 발명은 요철이 있는 시료면의 선분석이나 매핑분석에서 항상 X선 분광기의 집광조건을 만족하도록 Z축방향 높이를 정밀도 높게 제어하는 것으로서, 선분석이나 매핑분석에서 미리 정해진 조건에 기초하여 시료스테이지의 높이방향의 Z축 좌표를 보정하는 것이고, 분석중에 구동하는 Z축 좌표를 계단형상의 함수로 정하여 이 계단형상의 Z축 보정함수에 기초하여 Z축 좌표값을 순차적으로 제어하는 것이며, 분석방향의 각 분석위치에서 X선 분광기의 집광조건을 만족시키는 시료스테이지의 Z축 보정값을 계단형상의 Z축 보정함수로서 구비하여, Z축 보정함수와 현재의 분석방향의 분석위치에 기초하여 다음 분석방향의 분석위치에서의 Z축 보정값을 구하고 구한 Z축 보정값에 시료스테이지의 Z축을 구동한다.The present invention is to control the height of the Z-axis with high accuracy to always meet the condensing conditions of the X-ray spectrometer in the line analysis or mapping analysis of the uneven surface, the sample stage based on a predetermined condition in the line analysis or mapping analysis The Z-axis coordinates in the height direction of C are corrected, the Z-axis coordinates driven during the analysis are defined as a step function, and the Z-axis coordinate values are sequentially controlled based on the Z-axis correction function of the step shape. The Z-axis correction value of the sample stage that satisfies the condensing conditions of the X-ray spectrometer at each analysis position of the step is provided as a step-shaped Z-axis correction function. Obtain the Z-axis correction value at the analysis position in the direction and drive the Z-axis of the sample stage to the obtained Z-axis correction value.

Description

전자프로브 마이크로 애널라이저의 스테이지 구동방법{Stage driving method of electron probe micro analyzer}Stage driving method of electron probe micro analyzer

본 발명은 전자프로브 마이크로 애널라이저의 제어방법에 관한 것으로, 특히 시료스테이지의 높이방향의 구동제어방법에 관한 것이다.The present invention relates to a control method of an electronic probe microanalyzer, and more particularly, to a drive control method in the height direction of a sample stage.

파장분산형 분광기를 이용한 전자프로브 마이크로 애널라이저(EPMA)에서는 전자선 조사(照射)에 의해서 시료에서 방출되는 특성 X선을 검출하기 위한 집광조건으로서 시료 및 분광결정, 검출기의 X선 분광기가 로랜드원의 원주상에 정밀도 높게 배치되는 것이 요구되고 있다. 통상, 이 X선 분광기의 집광조건은 시료면의 높이를 위치맞춤 함으로써 행하고 있다.In the Electron Probe Microanalyzer (EPMA) using a wavelength-dispersive spectrometer, the X-ray spectrometer of a sample, a spectral crystal, and a detector is a condensing condition for detecting characteristic X-rays emitted from a sample by electron beam irradiation. It is required to arrange the columnar with high accuracy. Usually, condensing conditions of this X-ray spectrometer are performed by aligning the height of a sample surface.

전자프로브 마이크로 애널라이저 등을 이용한 표면분석에서는 시료면의 한점을 분석하는 점분석 외에, 시료면상에서 분석위치를 하나하나 변경하면서 그때마다 X선 신호를 검출함으로써 X선 신호의 일차원 또는 이차원의 분포를 얻는 선분석이나 매핑(mapping)분석이 있다.In surface analysis using an electronic probe microanalyzer, etc., one-dimensional or two-dimensional distribution of an X-ray signal is obtained by detecting an X-ray signal at each time while changing the analysis position one by one in addition to the point analysis that analyzes a point of a sample surface. There is a line analysis or mapping analysis.

선분석이나 매핑분석에서는 시료를 X, Y 평면상에서 일정속도로 이동시켜 이 이동의 사이에 일정간격으로 X선 신호를 측정한다. 요철이 있는 시료면에 대하여선분석이나 매핑분석을 하는 경우에는 시료가 X, Y 평면상에서 이동함으로써 분석위치에서의 시료면의 높이가 변화한다. 그 때문에 정밀도가 높은 측정을 행하는데는 각 분석위치에서 시료면의 높이가 X선 분광기의 집광조건을 만족하도록 항상 시료스테이지의 높이방향을 제어할 필요가 있다.In line analysis or mapping analysis, the sample is moved at a constant speed on the X and Y planes, and the X-ray signal is measured at regular intervals between the movements. In the case of performing line analysis or mapping analysis on the uneven surface of the sample, the height of the sample surface at the analysis position changes as the sample moves on the X and Y planes. Therefore, in order to perform highly accurate measurement, it is always necessary to control the height direction of a sample stage so that the height of a sample surface at each analysis position may satisfy the condensing conditions of an X-ray spectrometer.

또한, 종래 시료스테이지의 높이방향을 제어하는 방법으로서 시료면의 높이가 X선의 집광조건을 만족할 때의 시료스테이지의 Z축 좌표값의 실측값 혹은 근사(近似)값을 분석영역 전면에 걸쳐서 미리 구하여 두고, 구한 Z축 좌표값에 기초하여 시료스테이지의 Z축 좌표를 제어하는 방법이 알려져 있다.In addition, as a method of controlling the height direction of the conventional sample stage, the actual value or approximation of the Z-axis coordinate value of the sample stage when the height of the sample surface satisfies the X-ray condensing condition is obtained in advance over the entire analysis area. The method of controlling the Z-axis coordinate of a sample stage is known based on the obtained Z-axis coordinate value.

종래, 시료스테이지의 Z축 좌표를 제어하는 구동방법으로서, 분석영역 전체를 일평면으로 근사하고, X, Y 축방향의 일정속도의 이동에 대하여 Z축을 일정속도로 이동시킴으로써 평면의 경사에 부합되는 구동방법이 알려져 있다.Conventionally, as a driving method for controlling the Z-axis coordinates of a sample stage, the entire analysis area is approximated to one plane, and the Z-axis is moved at a constant speed with respect to a constant speed movement in the X and Y-axis directions so as to meet the inclination of the plane. Driving methods are known.

분석영역 전체를 일평면으로 근사하고, Z축을 평면의 경사에 기초하여 일정속도로 이동시키는 구동방법에서는 시료의 분석영역면을 일평면으로서 근사하는 것을 전제로 하고 있기 때문에, 일평면에서의 근사가 곤란한 복잡한 요철면에 대하여 분석면의 높이를 보정하는데는 분석영역을 세분할하고 각 분할영역을 평면근사시킴으로써 대응할 필요가 있다.The driving method of approximating the whole analysis area to one plane and moving the Z axis at a constant speed based on the inclination of the plane assumes that the analysis area plane of the sample is approximated as one plane. In order to correct the height of the analysis surface with respect to the difficult complicated uneven surface, it is necessary to respond by subdividing the analysis region and planar approximation of each divided region.

이 구동방법에 의해서 복잡한 요철면의 매핑분석을 행하는 경우에는 (a)각 분할영역에서 근사평면의 경사에 맞추어서 복수회의 분할된 매핑분석을 행하고, 각 매핑분석으로 얻어진 결과를 최종적으로 합성하거나 혹은 (b)한번의 매핑동작으로 전 분석영역을 분석하는 제어를 행할 필요가 있다.In the case of performing a mapping analysis of a complex uneven surface by this driving method, (a) a plurality of divided mapping analyzes are performed in accordance with the inclination of the approximate plane in each divided area, and finally the results obtained from each mapping analysis are synthesized (or b) It is necessary to perform control to analyze the entire analysis area in one mapping operation.

(a)의 분할매핑에 의한 제어방법에서는, 분할마다에 시료스테이지를 정지와 재기동을 반복하기 때문에 분할을 하지 않는 경우와 비교하여 분석시간이 장시간화된다는 문제가 있다. 또, (b)의 한번의 매핑에 의한 제어방법에서는, 분석위치가 새로운 분할영역으로 이동할 때마다, 분할영역의 근사평면의 경사에 맞추어서 Z축의 구동속도를 하나하나 변경할 필요가 있다. 또 Z축의 구동조건이 이동장소의 좌표가 아니라 이동속도로 주어진다. 그 때문에 이동속도 변경의 타이밍 지연이나 속도계산의 오차 등에 의해서 목적하는 좌표로부터 어긋남이 발생한다. 또한 이 어긋남의 양은 구동속도의 변경을 반복할 때마다 축적되기 때문에 정확한 보정이 곤란하게 될 위험이 있다.In the control method by the division mapping (a), the sample stage is stopped and restarted repeatedly for each division, so that the analysis time becomes longer compared with the case where no division is performed. In addition, in the control method by one mapping in (b), it is necessary to change the driving speed of the Z axis one by one in accordance with the inclination of the approximate plane of the divided region each time the analysis position moves to a new divided region. In addition, the driving condition of the Z axis is given by the moving speed, not by the coordinates of the moving place. Therefore, a deviation occurs from the target coordinates due to the timing delay of the movement speed change, the error of the speed calculation, or the like. In addition, since the amount of this shift is accumulated each time the change of the drive speed is repeated, there is a risk that accurate correction becomes difficult.

도 5는 상기 (b)의 제어로 발생하는 Z축 방향의 위치오차를 설명하기 위한 그래프이다. 도 5의 (a)는 평면근사한 시료면에 대하여 X, Y 방향의 이동에 대한 시료스테이지의 Z축 방향의 제어값인 Z축 보정값(D)을 나타내고 있다. 시료스테이지의 Z축은 각 분할한 평면에 있어서 도 5의 (b)에 나타낸 속도(F)와 같이 일정속도로 상하로 이동시킨다. 이 일정속도에 의한 제어로는 각 분석영역의 절환에 있어서 제어의 지연시간(T)이 발생하고, 도 5의 (c)의 실선(G)으로 나타낸 바와 같이 파선으로 나타낸 목표값(D)으로부터 어긋남이 발생하게 된다. 도 5(d)는 이 Z축 방향의 위치오차(H)를 나타내고 있고 그 위치오차(H)는 X, Y 방향의 이동에 따라서 축적되게 된다.5 is a graph for explaining a position error in the Z-axis direction generated by the control of (b). FIG. 5A shows a Z-axis correction value D, which is a control value in the Z-axis direction of the sample stage with respect to the movement in the X and Y directions with respect to the plane of the plane approximation. The Z axis of the sample stage is moved up and down at a constant speed in each divided plane as shown in the speed F shown in Fig. 5B. As the control by the constant speed, the control delay time T is generated in the switching of the respective analysis regions, and as shown by the solid line G in FIG. Offset occurs. Fig. 5 (d) shows the position error H in the Z axis direction, and the position error H is accumulated in accordance with the movement in the X and Y directions.

그래서 본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하여 요철이 있는 시료면의선분석이나 매핑분석에서 항상 X선 분광기의 집광조건을 만족하도록 Z축 방향 높이를 정밀도 높게 제어하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to control the height of the Z-axis with high precision so that the light condensing conditions of the X-ray spectrometer are always satisfied in the ray analysis or the mapping analysis of the uneven surface of the sample.

도 1은 본 발명의 전자프로브 마이크로 애널라이저의 스테이지 구동방법을 적용한 구성예의 개략블록도,1 is a schematic block diagram of a configuration example to which a stage driving method of an electronic probe microanalyzer of the present invention is applied;

도 2는 본 발명의 스테이지 구동방법의 개략예를 설명하기 위한 플로우챠트,2 is a flowchart for explaining a schematic example of the stage driving method of the present invention;

도 3은 본 발명의 스테이지 구동방법의 개략예를 설명하기 위한 그래프,3 is a graph for explaining a schematic example of the stage driving method of the present invention;

도 4는 본 발명의 스테이지 구동방법에 의한 오차와 종래의 스테이지 구동방법에 의한 오차의 비교를 행하기 위한 그래프,4 is a graph for comparing the error by the stage driving method of the present invention with the error by the conventional stage driving method;

도 5는 종래의 제어로 발생하는 Z축 방향의 위치오차를 설명하기 위한 그래프이다.5 is a graph for explaining a position error in the Z-axis direction generated by the conventional control.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

1 : 전자프로브 마이크로 애널라이저 2 : 컴퓨터1: electronic probe micro analyzer 2: computer

3 : 스테이지컨트롤러 4 : 드라이버3: stage controller 4: driver

5 : 촬상수단 6 : 모니터5: imaging means 6: monitor

11 : 필라멘트 12 : 전자선11 filament 12 electron beam

13 : 콘덴서렌즈 14 : 대물렌즈13 condenser lens 14 objective lens

15 : 분광소자 16 : 검출부15 spectroscopic element 16 detection unit

17 : 시료스테이지 21 : Z축 보정함수17: Sample stage 21: Z axis correction function

22 : Z축 보정값 형성부 23 : 카운터부22: Z-axis correction value forming unit 23: counter unit

24 : 인터럽트처리부 25 : 데이터메모리24: interrupt processor 25: data memory

26 : 데이터처리부26: data processing unit

본 발명의 전자프로브 마이크로 애널라이저의 스테이지 구동방법은 선분석이나 매핑분석에서 미리 정한 조건에 기초하여 시료스테이지의 높이방향의 Z축 좌표값을 보정하는 것이고, 분석중에 구동하는 Z축 좌표를 계단형상의 함수로 정하여 이 계단형상의 Z축 보정함수에 기초하여 Z축 좌표값을 순차적으로 제어하는 것이며, 전자프로브 마이크로 애널라이저의 스테이지 구동방법에 있어서, 분석방향의 각 분석위치에서 X선 분광기의 집광조건을 만족시키는 시료스테이지의 Z축 보정값(Zm)을 계단형상의 Z축 보정함수로서 구비하는 제1 단계와, 상기 Z축 보정함수와 현재의 분석방향의 분석위치(m)에 기초하여 다음 분석방향의 분석위치(m)에서의 Z축 보정값(Zm)을 구하는 제2 단계와, 상기 구해진 Z축 보정값(Zm)에 의하여 이에 해당하는 펄스수(Nm)만큼 시료스테이지의 Z축을 구동하는 제3 단계와, 상기 제2 단계 및 제3 단계를 계단의 총수(M)만큼 반복하는 제4 단계로 구성되는 것이다.분석방향의 각 분석위치에 있어서 X선 분광기의 집광조건을 만족시키는 시료스테이지의 Z축 보정값을 계단형상의 Z축 보정함수로서 구비하여 Z축 보정함수와 현재의 분석방향의 분석위치에 기초하여 다음 분석방향의 분석위치에서의 Z축 보정값을 구하고 구한 Z축 보정값으로 시료스테이지의 Z축을 구동한다.The stage driving method of the electronic probe microanalyzer of the present invention is to correct the Z-axis coordinate value in the height direction of the sample stage based on a predetermined condition in line analysis or mapping analysis. The Z-axis coordinate values are sequentially controlled based on the step-shaped Z-axis correction function determined by the function. In the stage driving method of the electronic probe microanalyzer, the condensing conditions of the X-ray spectrometer are determined at each analysis position in the analysis direction. A first step of including a Z-axis correction value (Zm) of the sample stage to be satisfied as a step-shaped Z-axis correction function and a next analysis direction based on the analysis position (m) of the Z-axis correction function and the current analysis direction; A second step of obtaining a Z-axis correction value (Zm) at the analysis position (m) of the sample, and the sample by the number of pulses (Nm) corresponding to the corresponding Z-axis correction value (Zm) And a fourth step of driving the z-axis of the stage and a fourth step of repeating the second and third steps by the total number of steps (M). Condensing of the X-ray spectrometer at each analysis position in the analysis direction The Z-axis correction value of the sample stage that satisfies the condition is provided as a step-shaped Z-axis correction function, and the Z-axis correction value at the analysis position in the next analysis direction is based on the Z-axis correction function and the analysis position in the current analysis direction. Drive the Z-axis of the sample stage with the calculated Z-axis correction value.

계단형상의 Z축 보정함수를 이용하여, 이것에 의해서 Z축 방향에 대하여 순차적으로 위치제어를 행함으로써 속도제어를 행하는 경우에 발생하는 누적(累積)되는 위치오차를 줄여서 Z축 방향 높이를 정밀도 높게 제어한다.By using the step-shaped Z-axis correction function, the position control is sequentially performed in the Z-axis direction, thereby reducing the accumulated position error that occurs when the speed control is performed. To control.

본 발명의 시료스테이지는 X축, Y축 및 Z축의 각 방향의 구동을 행할 수 있어, X축과 Y축으로 형상되는 X, Y 평면상에 시료를 배치하는 경우 X축과 Y축의 구동에 의해서 시료면상의 분석위치를 선분석 혹은 매핑분석에서의 분석방향으로 이동하고, 또 Z축의 구동에 의해서 X선 분광기의 집광조건을 만족시킨다.The sample stage of the present invention can drive in each direction of the X, Y and Z axes, and when the sample is placed on the X and Y planes formed in the X and Y axes, the X and Y axes are driven. The analysis position on the sample surface is moved in the analysis direction in the line analysis or mapping analysis, and the light condensing condition of the X-ray spectrometer is satisfied by driving the Z axis.

Z축 보정함수는 측정대상인 시료에 대하여 분석방향에 따른 각 분석위치에서 X선 분광기의 집광조건을 만족시키기 위해서 시료스테이지를 보정하는 Z축 보정값을 미리 구해 두고, 이 Z축 보정값을 계단형상의 함수로 한 것이다. 따라서 각 분석위치에서의 Z축 보정함수의 값을 구함으로써 그 분석위치에서 시료스테이지를 보정하기 위한 Z축 보정값을 취득할 수 있고, 이 Z축 보정값을 이용하여 시료스테이지의 높이방향을 제어함으로써 X선 분광기의 집광조건을 만족시킬 수 있다. 계단형상의 함수로 주어지는 Z축 보정값은 각 분석위치에 대한 높이방향의 위치데이터이고, 소정의 분석위치에 대하여 높이를 지시하는 제어이기 때문에, Z축 방향의 제어는 순차적으로 위치제어가 되어 속도제어와 같은 제어지연에 따른 위치오차를 줄일 수 있다.The Z-axis correction function obtains the Z-axis correction value for correcting the sample stage in advance in order to satisfy the condensing conditions of the X-ray spectrometer at each analysis position according to the analysis direction for the sample to be measured. Is a function of. Therefore, by calculating the value of the Z-axis correction function at each analysis position, the Z-axis correction value for correcting the sample stage at the analysis position can be obtained. The Z-axis correction value is used to control the height direction of the sample stage. By doing so, the light condensing conditions of the X-ray spectrometer can be satisfied. Since the Z-axis correction value given as a step function is position data in the height direction for each analysis position, and is a control for instructing the height for a predetermined analysis position, the control in the Z-axis direction is sequentially controlled by position Position error due to control delay such as control can be reduced.

시료스테이지를 스테핑 모터로 구동하는 경우에는, 스테핑 모터에 Z축 보정값의 크기에 대응하는 위치펄스(pulse)를 공급하여 높이방향의 위치보정을 행한다. 같은 크기의 Z축 보정값을 이용하여 행하는 분석방향의 폭은 보정함수의 계단형상부분의 스텝폭으로 정해지고, 이 스텝폭은 분석방향의 이동을 행하게 하기 위해서 스테핑 모터에 공급하는 펄스수를 카운트함으로써 구할 수 있다.When the sample stage is driven by a stepping motor, a position pulse corresponding to the magnitude of the Z-axis correction value is supplied to the stepping motor to perform position correction in the height direction. The width of the analysis direction performed using the same Z-axis correction value is determined by the step width of the stepped portion of the correction function, and this step width counts the number of pulses supplied to the stepping motor in order to cause the movement in the analysis direction. It can be obtained by

따라서, Z축 보정값으로 높이방향의 위치보정을 행한 후, X축, Y축을 구동하기 위해 공급하는 펄스수를 계수(計數)하고, 그 계수값이 계단형상부분의 스텝폭에 상당하는 수로 될 때마다 다음에 계단형상부분의 Z축 보정값으로 높이방향의 위치보정을 행하고, 그 Z축 보정값에 대응하는 스텝폭을 X축, Y축을 구동하는 펄스수로 계수한다. 이 처리를 반복함으로써 계단형상 Z축 함수에 의한 스테이지구동을 행할 수 있다.Therefore, after correcting the position in the height direction with the Z-axis correction value, the number of pulses supplied to drive the X-axis and the Y-axis is counted, and the count value becomes a number corresponding to the step width of the stepped portion. Each time, the position correction in the height direction is performed with the Z axis correction value of the stepped portion, and the step width corresponding to the Z axis correction value is counted by the number of pulses driving the X and Y axes. By repeating this process, stage driving by a stepped Z-axis function can be performed.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail, referring drawings.

도 1은 본 발명의 전자프로브 마이크로 애널라이저의 스테이지 구동방법을 적용한 구성예의 개략블록도이다. 도 1에 나타낸 전자프로브 마이크로 애널라이저(1)에 있어서, 필라멘트(11)에서 발생된 전자선(12)은 콘덴서렌즈(13), 대물렌즈(14)를 통하여 시료스테이지(17)상에 배치된 시료(S)에 조사된다. 시료(S)에서 방출된 X선은 파장별로 분광하는 분광소자(15)와 분광된 특성 X선을 검출하는 검출기(16)를 포함하는 X선 분광기로 분석된다.1 is a schematic block diagram of a configuration example to which the stage driving method of the electronic probe micro analyzer of the present invention is applied. In the electron probe microanalyzer 1 shown in FIG. 1, the electron beam 12 generated from the filament 11 is disposed on the sample stage 17 through the condenser lens 13 and the objective lens 14. S) is investigated. The X-rays emitted from the sample S are analyzed with an X-ray spectrometer including a spectroscopic element 15 for spectroscopic wavelength analysis and a detector 16 for detecting spectroscopic characteristic X-rays.

시료스테이지(17)는 스테이지컨트롤러(3)로부터의 제어펄스를 받은 드라이버(4)에 의해서 X, Y, Z축 방향으로 이동할 수 있다. X축, Y축의 구동에 의해서 시료(S)를 전자선(12)에 대하여 X, Y 평면상으로 이동시켜 선분석 혹은 매핑분석을 행한다.The sample stage 17 can move in the X, Y, and Z axis directions by the driver 4 receiving the control pulse from the stage controller 3. By driving the X and Y axes, the sample S is moved with respect to the electron beam 12 on the X and Y planes to perform line analysis or mapping analysis.

스테이지컨트롤러(3)는 컴퓨터(2)로부터의 제어커맨드(command)에 의해서 X, Y축 방향의 위치결정이나 Z축 방향의 높이 조정을 행한다. 시료(S)의 관찰은 반사경(18)에서 반사된 상을 CCD카메라 등의 촬상장치(5)로 촬상하여 모니터(6)에 표시한다. 선분석 및 매핑분석은 검출기(16)에서 얻은 측정신호를 컴퓨터(2) 내의 각 기능으로 데이터처리함으로써 행해진다. 컴퓨터(2)는 데이터메모리(25)나 데이터처리부(26) 등의 기능수단을 구비하여 측정신호의 데이터처리나 모니터(6)에의 표시를 한다.The stage controller 3 performs positioning in the X and Y axis directions and height adjustment in the Z axis directions by a control command from the computer 2. In observation of the sample S, the image reflected by the reflector 18 is picked up by an imaging device 5 such as a CCD camera and displayed on the monitor 6. Preliminary analysis and mapping analysis are performed by data processing the measurement signal obtained by the detector 16 with each function in the computer 2. The computer 2 is provided with functional means, such as the data memory 25 and the data processing part 26, and performs the data processing of the measurement signal and the display to the monitor 6. As shown in FIG.

컴퓨터(2)가 Z축 방향의 높이 보정을 행하기 위하여, Z축 좌표값을 계단형상의 함수로 나타낸 Z축 보정값을 입력하여 Z축 보정함수를 구하는 Z축 보정함수수단(21), Z축 보정함수로부터 Z축 보정값 및 스텝폭에 상당하는 펄스수를 형성하는 Z축 보정값 형성부(22), 분석방향의 이동량을 계수하는 카운터부(23) 및 Z축 보정값을 스테이지컨트롤러(3)로 보내는 타이밍을 정하는 인터럽트처리부(interrupt processing;24) 등의 각 기능수단을 구비한다.Z-axis correction function means 21 for calculating the Z-axis correction function by inputting the Z-axis correction value representing the Z-axis coordinate value as a step function, in order for the computer 2 to perform the height correction in the Z-axis direction. From the axis correction function, the Z axis correction value forming unit 22 for forming the Z axis correction value and the pulse number corresponding to the step width, the counter unit 23 for counting the amount of movement in the analysis direction, and the Z axis correction value are obtained. 3) each function means such as an interrupt processing unit 24 for determining a timing to be sent to 3).

또한 도 1에서는 각 기능을 블록(21∼26)으로 나타내고 있지만, 이들의 각 기능은 소프트웨어로 실현할 수 있어 반드시 대응하는 구성부분을 구비해야 하는 것은 아니다.In addition, although each function is shown by block 21-26 in FIG. 1, each function of these can be implement | achieved by software and it does not necessarily need to provide the corresponding component part.

Z축 보정함수는 측정대상 시료의 분석방향에 따른 각 분석위치에서 X선 분광기의 집광조건을 만족시키기 위하여 시료스테이지를 보정하는 Z축 보정값을 계단형상함수로 한 것이다. 통상, 전자프로브 마이크로 애널라이저에서는 X선 분광기의 집광조건이 되는 위치와 광학현미경에 의한 관찰상의 초점위치가 일치하도록 구성되어 있다. 광학현미경에 의한 관찰상은 촬상장치(5)에 의해서 취득할 수 있고, 그 관찰상의 초점위치는 도시하지 않은 오토포커스기능에 의해서 구할 수 있다. 그래서, 전자프로브 마이크로 애널라이저(1)의 도시하지 않은 수단에 의해서 분석영역 중의 복수의 분석위치에서 시료면이 X선 분광기의 집광조건을 만족시킬 때의 Z축 좌표값을 광학현미경에 의한 관찰상의 초점위치로부터 구할 수 있다. 또한 Z축 좌표값은 광학현미경에 의한 관찰상으로부터 구하는 외에, 기타의 측정수단에 의해서 얻을 수 있다.The Z-axis correction function is a step shape function of the Z-axis correction value for correcting the sample stage to satisfy the condensing conditions of the X-ray spectrometer at each analysis position according to the analysis direction of the sample to be measured. Usually, the electron probe microanalyzer is comprised so that the position used as a condensing condition of an X-ray spectrometer and the focal position on observation by an optical microscope may correspond. The observation image by an optical microscope can be acquired by the imaging device 5, and the focal position of the observation image can be calculated | required by the autofocus function which is not shown in figure. Therefore, the Z-axis coordinate value when the sample surface satisfies the condensing conditions of the X-ray spectrometer at a plurality of analysis positions in the analysis region by means of an unillustrated means of the electron probe microanalyzer 1 is the focal point of the observation with an optical microscope. Can be obtained from the location. In addition, a Z-axis coordinate value can be calculated | required from the observation image by an optical microscope, and can be obtained by other measuring means.

Z축 보정함수수단(21)은 구한 Z축 좌표값을 입력하여 분석영역 중의 각 분석위치에서 각각 집광조건을 만족시키는 Z축 좌표값을 Z축 보정값으로서 구하고, 구한 Z축 보정값의 분포를 구한다. 또한 선분석이나 매핑분석의 분석방향에 대한 Z축보정값의 변화를 계단형상의 Z축 보정함수로서 형성한다.The Z-axis correction function means 21 inputs the obtained Z-axis coordinate values to obtain Z-axis coordinate values satisfying condensing conditions at each analysis position in the analysis area as Z-axis correction values, and calculates the distribution of the obtained Z-axis correction values. Obtain In addition, the change of the Z axis correction value with respect to the analysis direction of the line analysis or the mapping analysis is formed as a step Z-axis correction function.

따라서, Z축 보정함수는 선분석이나 매핑분석의 분석영역이나 분석하는 라인에 따라서 다른 함수가 된다. 또한, Z축 좌표값의 변화폭은 임의로 설정할 수 있다.Therefore, the Z-axis correction function becomes a different function depending on the analysis region of the line analysis or the mapping analysis or the line to be analyzed. In addition, the change width of Z-axis coordinate value can be set arbitrarily.

Z축 보정값 형성부(22)는 시료스테이지(17)의 높이방향의 보정제어를 행하게 하기 위한 파라미터(parameter)를 형성하고, 그 파라미터를 스테이지컨트롤러(3)로 출력하는 부분이다. Z축 보정값 형성부(22)는 Z축 보정값의 파라미터를 스테이지컨트롤러(3)로 출력하고, 그 Z축 보정값의 스텝폭에 상당하는 펄스수를 인터럽트처리부(24)로 출력한다.The Z-axis correction value forming unit 22 forms a parameter for causing correction control in the height direction of the sample stage 17 and outputs the parameter to the stage controller 3. The Z-axis correction value forming unit 22 outputs the parameter of the Z-axis correction value to the stage controller 3, and outputs the number of pulses corresponding to the step width of the Z-axis correction value to the interrupt processing unit 24.

스테이지컨트롤러(3)는 시료스테이지(17)의 스테핑 모터를 제어하는 펄스를 드라이버(4)에 공급한다. X축 방향의 이동 및 Y축 방향의 이동거리는 보내지는 펄스수에 의해서 정해지고, 그 펄스수를 계수함으로써 선분석이나 매핑분석의 분석방향에서의 분석위치를 구할 수 있다. 또 스테이지컨트롤러(3)는 Z축 보정값 형성부(22)로부터 보내어진 Z축 보정값에 기초하여 드라이버(4)를 구동하여 시료스테이지(17)의 높이보정을 행한다.The stage controller 3 supplies a pulse for controlling the stepping motor of the sample stage 17 to the driver 4. The movement in the X-axis direction and the movement distance in the Y-axis direction are determined by the number of pulses to be sent, and the analysis position in the analysis direction of line analysis or mapping analysis can be obtained by counting the number of pulses. In addition, the stage controller 3 drives the driver 4 based on the Z-axis correction value sent from the Z-axis correction value forming unit 22 to correct the height of the sample stage 17.

카운터(23)는 스테이지컨트롤러(3)가 출력하는 X축, Y축 방향의 펄스계수(n)를 계수하여 분석위치를 구한다.The counter 23 counts the pulse coefficients n in the X-axis and Y-axis directions output by the stage controller 3 to obtain an analysis position.

인터럽트처리부(24)는 Z축 보정값 형성부(22)에서 Z축 보정값의 스텝폭에 상당하는 펄스수(N)를 받고 카운터(23)가 계수하는 펄스계수(n)를 입력받아 펄스수(N)와 펄스계수(n)의 비교를 행한다. 펄스계수(n)가 펄스수(N)에 달한 시점에서 인터럽트신호를 발생시켜 다음의 Z축 보정값에 의한 높이보정을 행하게 한다.The interrupt processing unit 24 receives the pulse number N corresponding to the step width of the Z axis correction value from the Z axis correction value forming unit 22 and receives the pulse coefficient n counted by the counter 23 to receive the pulse number. (N) and the pulse coefficient n are compared. When the pulse coefficient n reaches the pulse number N, an interrupt signal is generated to perform height correction by the next Z-axis correction value.

또한, 컴퓨터(2)와 스테이지컨트롤러(3) 사이의 송신부는 통신케이블 등을 이용하여 행할 수 있다.In addition, the transmission unit between the computer 2 and the stage controller 3 can be performed using a communication cable or the like.

도 2의 플로우챠트 및 도 3의 그래프를 이용하여 본 발명의 스테이지 구동방법의 개략예를 설명한다.A schematic example of the stage driving method of the present invention will be described using the flowchart of FIG. 2 and the graph of FIG.

도 2의 플로우챠트에 있어서, Z축 보정함수수단(21)은 미리 구한 Z축 보정값을 입력하여 집광조건을 만족시키는 Z축 좌표값을 Z축 보정값으로서 구하고, 이 Z축 보정값의 분포로부터 선분석이나 매핑분석의 분석방향에 대한 Z축 보정값의 변화를 계단형상의 Z축 보정함수로서 구한다. 도 3의 (a)는 계단형상의 Z축 보정함수의 일례를 나타내고 있고, Z축 보정값(Zm)에서 스텝폭(Wm)으로 되는 계단형상으로 형성된다(스텝 S1). Z축 보정값 형성부(22)는 Z축 보정함수에 기초하여 Z축 보정값(Zm)(도 3의 (b)의 B), 그 Z축 보정값(Zm)의 스텝폭(Wm)에 상당하는 펄스수(Nm)(도 3의 (c))를 구한다(스텝 S2).In the flowchart of Fig. 2, the Z-axis correction function means 21 inputs a Z-axis correction value obtained in advance to obtain a Z-axis coordinate value that satisfies the condensing condition as a Z-axis correction value, and the distribution of this Z-axis correction value. The change in the Z-axis correction value for the analysis direction of the line analysis or the mapping analysis is obtained from the step-shaped Z-axis correction function. Fig. 3A shows an example of a staircase Z-axis correction function, and is formed in a staircase shape that is the step width Wm from the Z-axis correction value Zm (step S1). The Z-axis correction value forming unit 22 adjusts the Z-axis correction value Zm (B in Fig. 3B) and the step width Wm of the Z-axis correction value Zm based on the Z-axis correction function. The corresponding pulse number Nm (FIG. 3C) is obtained (step S2).

Z축 보정값 형성부(22)는 이하의 스텝 S3 내지 스텝 S10에 따라서 도 3의 (b)에 나타낸 Z축 보정값(Zm)을, 도 3의 (c)에 나타낸 펄스수(Nm)를 계수할 때마다 차례로 스테이지컨트롤러(3)로 출력한다.The Z-axis correction value forming unit 22 sets the Z-axis correction value Zm shown in FIG. 3B and the number of pulses Nm shown in FIG. 3C in accordance with the following steps S3 to S10. Each time it counts, it outputs to the stage controller 3 in order.

처음에, 계단의 스텝을 계수하기 위한 카운트값(m)을 1로 하고(스텝 S3), 첫번째 계단의 스텝의 스텝폭(W1)에 상당하는 펄스수(N1)를 판독하여 스텝 S5 내지 스텝 S8에 따라서 첫번째 계단에 의한 Z축의 보정을 행한다. 스텝 S5에서 펄스계수(n)를 1로 초기화한 후 스텝 S6에서 첫번째 계단의 Z축 보정값(Z1)을 스테이지컨트롤러(3)로 출력하여 Z축 보정값(Z1)에 의한 높이보정을 행한다. 그 후, 스텝 S7, 스텝 S8에 의해서 펄스계수(n)가 펄스수(N1)를 초과하기까지 스테이지컨트롤러(3)가 출력되는 펄스를 차례로 카운트한다.First, the count value m for counting the steps of the stairs is set to 1 (step S3), and the number of pulses N1 corresponding to the step width W1 of the steps of the first steps is read, and the steps S5 to S8 are read. The Z axis is corrected by the first step. After the pulse coefficient n is initialized to 1 in step S5, the Z-axis correction value Z1 of the first step is output to the stage controller 3 in step S6, and the height correction by the Z-axis correction value Z1 is performed. After that, the pulses output by the stage controller 3 are sequentially counted in steps S7 and S8 until the pulse coefficient n exceeds the pulse number N1.

스텝 S7에서 펄스계수(n)가 펄스수(N1)에 달함으로써 분석방향에서의 분석위치가 첫번째의 스텝 단부에 도달하였다는 것을 검출할 수 있다. 그 후, 카운트값(m)에 1을 가산한 후(스텝 S9), 스텝 S4에서 스텝 S8을 반복하여 다음 계단에 의한 Z축 보정을 한다.In step S7, when the pulse coefficient n reaches the pulse number N1, it can be detected that the analysis position in the analysis direction has reached the first step end. Then, after adding 1 to the count value m (step S9), step S8 is repeated in step S4 and Z-axis correction by the next step is performed.

스텝 S4에서 스텝 S9의 공정을 카운트값(m)이 계단수(M)에 달할 때까지 반복하고, 이것에 의해서 계단형상의 Z축 보정함수에 의한 Z축 보정을 한다.In step S4, the process of step S9 is repeated until the count value m reaches the step number M, and thereby Z-axis correction by the step-shaped Z-axis correction function is performed.

또한, 통상의 프로그램 중에서는 인터럽트처리가 행해진 것을 인식한 경우에 Z축이 구동중이 아닌 경우에 현재 설정되어 있는 목표로 하는 Z축 좌표값으로의 구동을 개시한다.In the normal program, when it is recognized that interrupt processing has been performed, driving to the target Z axis coordinate value currently set when the Z axis is not being driven is started.

도 4는 본 발명의 스테이지 구동방법에 의한 오차와 종래의 스테이지 구동방법에 의한 오차를 비교하기 위한 그래프이다.4 is a graph for comparing the error by the stage driving method of the present invention and the error by the conventional stage driving method.

도 4의 (a)에서 계단형상의 Z축 보정함수(A)는 D로 나타나는 Z축 좌표값을 계단형상으로 근사한다. 그 때문에 도 4의 (b)에 나타낸 바와 같이 근사에 의한 오차(E)가 발생한다. 이 오차(E)는 각 계단마다에 리세트되기 때문에 누적되지 않는다. 또, 각 계단에서 오차(E)의 크기는 근사하는 계단의 수를 증가함으로써 감소시킬 수 있고, 도 4의 (c)에 나타낸 종래의 스테이지 구동방법에 의한 오차(H)와 비교하여 작게 할 수 있다.In FIG. 4A, the step Z-axis correction function A approximates the Z-axis coordinate value represented by D to the step shape. Therefore, as shown in FIG.4 (b), the error E by approximation generate | occur | produces. This error E does not accumulate because it is reset for each step. In addition, the magnitude | size of the error E in each step can be reduced by increasing the number of approximate steps, and can be made small compared with the error H by the conventional stage drive method shown in FIG. have.

본 발명의 스테이지 구동방법에 의하면, 현재의 분석위치에 대하여 구동되어야 할 Z축 좌표값이 미리 주어져 있기 때문에 실제 Z축의 구동에서 종래의 구동방법과 같이 구동속도를 그때마다 계산할 필요가 없고, 계산시간에 의한 제어지연이 발생하지 않는다. 또, Z축 제어의 타이밍에 지연이 발생한 경우에도 제어에 사용하는 파라미터를 항상 다음 이동장소의 Z축 좌표값으로서 구비하고 있기 때문에 제어의 반복에 의한 목표위치로부터의 어긋남이 확대되지는 않는다. 이로써 분석시에 분석위치의 이동속도를 변경한 경우에도 같은 보정조건으로 동작시킬 수 있기 때문에 분석시의 시료스테이지의 이동속도에 맞추어서 보정조건을 변경할 필요가 없다.According to the stage driving method of the present invention, since the Z axis coordinate value to be driven with respect to the current analysis position is given in advance, it is not necessary to calculate the driving speed every time as in the conventional driving method in actual driving of the Z axis, and the calculation time No control delay occurs by Moreover, even when a delay occurs in the timing of Z-axis control, since the parameter used for control is always provided as the Z-axis coordinate value of the next moving place, the deviation from the target position due to the repetition of the control is not expanded. This makes it possible to operate under the same correction conditions even if the moving speed of the analysis position is changed at the time of analysis, so there is no need to change the correction conditions in accordance with the moving speed of the sample stage at the time of analysis.

본 발명의 실시예에서는 목표로 하는 Z축 좌표값의 변경을 인터럽트처리 루틴(routine)으로 행하기 때문에 현재의 목표로 하는 Z축 좌표값을 현재위치와 Z축 좌표값을 차례차례 비교하여 구할 필요가 없어 비교연산에 의한 제어지연의 위험이 없다.In the embodiment of the present invention, since the target Z axis coordinate value is changed by an interrupt processing routine, it is necessary to obtain the current target Z axis coordinate value by comparing the current position with the Z axis coordinate value sequentially. There is no risk of control delay by comparison operation.

또, 계단의 한스텝 내에서 Z축 좌표값으로 제어된 상태에서는 새롭게 Z축 구동제어를 하지 않기 때문에 Z축 구동중에 속도를 급격히 변경하거나 순식간에 정지시키는 일이 없어 시료스테이지에 기계적인 부담을 주는 일이 없다.In addition, since the Z-axis drive control is not newly performed in the state controlled by the Z-axis coordinate value within one step of the stairs, there is no sudden change of speed or stop immediately during Z-axis driving, which puts mechanical burden on the sample stage. There is no work.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면 요철이 있는 시료면의 선분석이나 매핑분석에서 항상 X선 분광기의 집광조건을 만족하도록 Z축방향 높이를 정밀도 높게 제어할 수 있다.As described above, according to the present invention, the height in the Z-axis direction can be controlled with high precision so as to always satisfy the condensing conditions of the X-ray spectrometer in the line analysis or the mapping analysis of the uneven surface of the sample.

Claims (1)

전자프로브 마이크로 애널라이저의 스테이지 구동방법에 있어서,In the stage driving method of the electronic probe micro analyzer, 분석방향의 각 분석위치에서 X선 분광기의 집광조건을 만족시키는 시료스테이지의 Z축 보정값(Zm)을 계단형상의 Z축 보정함수로서 구비하는 제1 단계와,A first step of providing a Z-axis correction value (Zm) of the sample stage satisfying condensing conditions of the X-ray spectrometer at each analysis position in the analysis direction as a step-shaped Z-axis correction function; 상기 Z축 보정함수와 현재의 분석방향의 분석위치(m)에 기초하여 다음 분석방향의 분석위치(m)에서의 Z축 보정값(Zm)을 구하는 제2 단계와,A second step of obtaining a Z-axis correction value Zm at the analysis position m in the next analysis direction based on the Z-axis correction function and the analysis position m in the current analysis direction; 상기 구해진 Z축 보정값(Zm)에 의하여 이에 해당하는 펄스수(Nm)만큼 시료스테이지의 Z축을 구동하는 제3 단계와,A third step of driving the Z-axis of the sample stage by the number of pulses (Nm) corresponding to the obtained Z-axis correction value (Zm); 상기 제2 단계 및 제3 단계를 계단의 총수(M)만큼 반복하는 제4 단계로 구성됨을 특징으로 하는 전자프로브 마이크로 애널라이저의 스테이지 구동방법.And a fourth step of repeating the second and third steps by the total number of steps (M).
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