KR100334016B1 - Electron-reflecting paste composition for shadow mask of cathode ray tube - Google Patents
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Abstract
본 발명은 음극선관 섀도우 마스크용 전자 반사 페이스트 조성물에 관한 것으로서, 상기 페이스트 조성물은 전자 방사 물질 30∼60 중량%, Fe3O4의 산화 제어제, 전색제 15∼50 중량% 및 유리 원료 물질 7∼35 중량%를 포함한다.The present invention relates to an electron reflecting paste composition for a cathode ray tube shadow mask, wherein the paste composition comprises 30 to 60% by weight of an electron emitting material, an oxidation control agent of Fe 3 O 4 , 15 to 50% by weight of a colorant, and 7 to 7 glass raw materials. 35 weight percent.
상기 전자 반사 물질 페이스트 조성물은 섀도우 마스크 표면에 인쇄법으로 코팅될 수 있으며, 흑화 후 마스크의 코팅 품질이 향상되었다.The electron reflective material paste composition may be coated on the surface of the shadow mask by printing, and the coating quality of the mask is improved after blackening.
Description
[산업상 이용 분야][Industrial use]
본 발명은 음극선관 섀도우 마스크용 전자 반사 페이스트 조성물에 관한 것으로서, 상세하게는 흑화 공정에서 균일한 흑화 피막을 형성시킬 수 있는 음극선관 섀도우 마스크용 전자 반사 페이스트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an electron reflective paste composition for a cathode ray tube shadow mask, and more particularly, to an electron reflective paste composition for a cathode ray tube shadow mask capable of forming a uniform blackening film in a blackening process.
[종래 기술][Prior art]
음극선관은 전자총에서 방출된 전자빔이 패널(panel) 내면의 형광체에 충돌하여 화상을 얻는 장치이다. 이때 섀도우 마스크는 세 개의 전자총에서 나온 전자빔을 각각 R, G, B 형광체 도트(dot)에 일치시키는 교량 역할을 한다. 따라서 상기 섀도우 마스크의 위치가 기준 위치에서 벗어나면 전자빔의 경로가 어긋나게 되어 주변의 원하지 않는 형광체를 발광시키게 되는 문제가 발생된다.A cathode ray tube is an apparatus in which an electron beam emitted from an electron gun collides with a phosphor on an inner surface of a panel to obtain an image. In this case, the shadow mask serves as a bridge to match the electron beams from the three electron guns to the R, G, and B phosphor dots, respectively. Therefore, when the position of the shadow mask is out of the reference position, the path of the electron beam is shifted, causing a problem of causing the surrounding unwanted phosphor to emit light.
전자총에서 조사된 전자빔의 약 20%는 상기 섀도우 마스크에 형성된 구멍을 통과하며, 나머지 약 80%는 섀도우 마스크에 충돌하게 되며, 이에 따라 섀도우 마스크의 온도가 상승되어 섀도우 마스크의 도밍(doming) 현상이 발생한다. 또한, 외부로부터 섀도우 마스크에 강한 충격이 가해지면, 섀도우 마스크의 일부분에 영구 변형이 생긴다. 이러한 이유로, 전자빔이 통과하는 섀도우 마스크 구멍의 위치가 기준 위치로부터 변경되고, 이에 따라 색순도가 저하된다.About 20% of the electron beam irradiated from the electron gun passes through the hole formed in the shadow mask, and about 80% of the electron beam collides with the shadow mask. Thus, the temperature of the shadow mask is increased, which causes the shadowing of the shadow mask to be domed. Occurs. In addition, when a strong impact is applied to the shadow mask from the outside, permanent deformation occurs in a portion of the shadow mask. For this reason, the position of the shadow mask hole through which the electron beam passes is changed from the reference position, thereby degrading the color purity.
상술한 현상을 도 1 및 도 2에 구조적으로 나타내었다. 도 1에 나타낸 것과 같이, 음극선관의 패널 어셈블리는 패널(1), 이 패널(1) 내면에 형성된 형광막(2) 및 이 형광막(2)과 소정의 간격을 두고 형광막(2) 뒷면에 설치되고 있어 있으며, 다수개의 전자빔 통과 구멍(9)이 형성된 섀도우 마스크(6)를 포함한다. 이 섀도우 마스크(6)는 마스크 프레임(5)에 의해 지지되며, 이 마스크 프레임(5)은 상기 패널(1)의 옆면으로부터 돌출되어 있는 스터드 핀(3)과 상기 마스크 프레임(5)과 이 스터드 핀(3) 사이에 삽입되어 있는 스프링(4)과 결합되어 있다.The above phenomenon is structurally shown in FIGS. 1 and 2. As shown in Fig. 1, the panel assembly of the cathode ray tube is formed of a panel 1, a fluorescent film 2 formed on the inner surface of the panel 1, and a rear surface of the fluorescent film 2 at a predetermined distance from the fluorescent film 2; And a shadow mask 6 having a plurality of electron beam through holes 9 formed therein. The shadow mask 6 is supported by a mask frame 5, which has a stud pin 3 protruding from the side surface of the panel 1 and the mask frame 5 and the stud. It is engaged with the spring 4 inserted between the pins 3.
이러한 구성을 갖는 섀도우 마스크는 상술한 바와 같이, 전자빔의 약 80%가섀도우 마스크에 충돌함에 따라 도밍되어 섀도우 마스크의 위치가 초기 위치(6)에서 도밍 후 위치(7)로 이동하게 된다. 따라서, 전자총(11)에서 방출된 전자빔(10)이 섀도우 마스크를 통과하지 못하게 되거나 동일한 홀을 통과하더라도 그 홀의 위치가 초기 위치(P2)에서 진동 후의 위치(P1)로 변경됨에 따라 전자빔의 일부만이 이동된 홀(8)을 통과하게 된다. 즉, 도 1에 나타낸 것과 같이 전자빔의 경로가 이동되는 것과 같은 현상이 발생되어 원하는 형광체의 일부만 발광시키거나 초기의 전자빔 발광 위치(P2)가 진동 후의 발광 위치(P1)로 이동되어 원하지 않는 형광체를 발광시키게 된다. 이로 인하여 화면의 떨림이나 색순도 저하 등 품질이 나빠지는 문제점이 있다.As described above, the shadow mask having this configuration is doped as about 80% of the electron beam collides with the shadow mask so that the position of the shadow mask moves from the initial position 6 to the post-doming position 7. Therefore, even if the electron beam 10 emitted from the electron gun 11 does not pass through the shadow mask or passes through the same hole, only a part of the electron beam changes as the position of the hole is changed from the initial position P2 to the position P1 after vibration. Passed through the moved hole (8). That is, as shown in FIG. 1, a phenomenon such as the path of the electron beam is shifted to emit only a portion of the desired phosphor, or the initial electron beam emission position P2 is moved to the emission position P1 after vibration, thereby causing unwanted phosphor. It will emit light. As a result, there is a problem that the quality is degraded, such as the shaking of the screen or deterioration of color purity.
또한, 강한 충격이 음극선관에 가해지면, 도 2와 같이, 섀도우 마스크(6)의 일부분에 영구 변형(12)이 생긴다. 이와 같이, 섀도우 마스크의 일부 형상이 변형되면, 전자총(11)에서 방출된 전자빔(10)이 변형된 부분(12)을 통과하는 경우, 화면의 떨림이나 색순도 저하 등의 상술한 바와 같은 품질 저하의 문제점이 발생한다.In addition, when a strong impact is applied to the cathode ray tube, as shown in FIG. 2, a permanent deformation 12 occurs in a portion of the shadow mask 6. As such, when a part of the shape of the shadow mask is deformed, when the electron beam 10 emitted from the electron gun 11 passes through the deformed portion 12, the above-described deterioration of the quality such as the vibration of the screen or the deterioration of the color purity is caused. A problem occurs.
이러한 현상을 감소시키기 위한 방법으로, 국내 특허 출원 제 95-40315 호에는 인쇄법을 이용하여 섀도우 마스크용 플랫 마스크 표면에 W, WC, Bi 등의 전자 반사 물질을 코팅하는 방법이 기술되어있다. 그러나 이 방법을 사용하여 전자 반사 물질로 섀도우 마스크용 플랫 마스크 표면을 코팅하는 경우, 섀도우 마스크의 제조 공정 중 흑화 공정에서 산소 분압(oxygen partial pressure)의 불균일에 의하여 다음 반응식 1과 같은 환원 반응이 발생하며, 이러한 환원 반응에 따라 발생된산소가 상기 흑화 공정에서 형성되는 흑색을 나타내는 철 산화물인 Fe3O4를 산화시켜, 적색을 나타내는 Fe2O3등을 형성하는 문제점이 있다. 이로 인하여, 섀도우 마스크 표면의 색상이 불균일하게 된다.As a method for reducing such a phenomenon, Korean Patent Application No. 95-40315 describes a method of coating an electron reflective material such as W, WC, Bi on the surface of a flat mask for a shadow mask using a printing method. However, in this case, when the flat mask surface for the shadow mask is coated with an electron reflecting material, a reduction reaction such as the following Reaction Equation 1 occurs due to uneven oxygen partial pressure during the blackening process of the shadow mask manufacturing process. In addition, there is a problem in that oxygen generated by the reduction reaction oxidizes Fe 3 O 4 , which is iron oxide, which is black, which is formed in the blackening step, to form Fe 2 O 3 , which is red, and the like. As a result, the color of the shadow mask surface becomes uneven.
[반응식 1]Scheme 1
2Bi2O3→ 2Bi + 3O2 2Bi 2 O 3 → 2Bi + 3O 2
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 음극선관 섀도우 마스크의 표면에 균일하게 도포되어 도밍 현상을 감소시킬 수 있는음극선관 섀도우 마스크용 전자 반사 페이스트 조성물을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide an electron reflection paste composition for a cathode ray tube shadow mask which is uniformly applied to the surface of the cathode ray tube shadow mask and can reduce the doming phenomenon.
도 1은 도밍 현상에 따라 섀도우 마스크가 이동하여 전자빔의 경로가 바뀌는 현상을 개략적으로 나타낸 일부 단면도.1 is a partial cross-sectional view schematically illustrating a phenomenon in which a path of an electron beam is changed due to a movement of a shadow mask according to a dominant phenomenon.
도 2는 음극선관이 강한 충격을 받아 섀도우 마스크가 국부적으로 변형된 형상을 개략적으로 나타낸 일부 단면도.FIG. 2 is a partial cross-sectional view schematically showing a shape in which a shadow mask is locally deformed due to a strong impact of a cathode ray tube; FIG.
도 3은 본 발명의 전자 반사 페이스트 조성물을 이용하여 섀도우 마스크에 인쇄하는 공정을 개략적으로 나타낸 단면도.3 is a cross-sectional view schematically showing a process of printing on a shadow mask using the electron reflection paste composition of the present invention.
도 4는 본 발명의 전자 반사 페이스트 조성물이 인쇄된 섀도우 마스크의 단면도.4 is a cross-sectional view of a shadow mask printed with the electron reflective paste composition of the present invention.
[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 전자 반사 물질 30∼60 중량%; Fe3O4의 산화 제어제; 전색제 15∼50 중량%; 및 유리 원료 물질 7∼35 중량%를 포함하는 음극선관 섀도우 마스크용 전자 반사 페이스트 조성물을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention is 30 to 60% by weight of an electron reflecting material; Oxidation control agent of Fe 3 O 4 ; 15-50 wt% of a colorant; And 7 to 35% by weight of a glass raw material, to provide an electron reflection paste composition for a cathode ray tube shadow mask.
이하 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
본 발명의 음극선관 섀도우 마스크용 전자 반사 페이스트 조성물은 전자 반사 물질과 Fe3O4의 산화 제어제를 포함한다. 또한, 본 발명의 전자 반사 페이스트 조성물은 비히클(vehicle)과 유리 원료 물질(frit)을 더욱 포함한다.The electron reflecting paste composition for cathode ray tube shadow mask of the present invention comprises an electron reflecting material and an oxidation control agent of Fe 3 O 4 . In addition, the electron reflection paste composition of the present invention further includes a vehicle and a glass raw material (frit).
본 발명에서 사용된 전자 반사 물질은 원자 번호 70 이상인 중금속 원소 및 그 산화물이 사용될 수 있으며, 그 대표적인 예로는 비스무스, 텅스텐 및 그의 산화물을 사용할 수 있다.As the electron reflecting material used in the present invention, a heavy metal element having an atomic number of 70 or more and an oxide thereof may be used, and representative examples thereof may include bismuth, tungsten and oxides thereof.
상기 전자 반사 물질을 섀도우 마스크 표면에 도포하면, 섀도우 마스크를 제조하는 후속 공정인 흑화 공정에서 환원 반응이 발생할 수 있다. 이는 흑화 공정에서 사용되는 DX-가스에 포함되어 있는 산소 분압(oxygen partial pressure)의 불균일에 의하여 하기 화학식 1과 같은 환원 반응이 발생하기 때문이다. DX-가스란 CO2약 12.4%, CO 약 0.7%, H2O 약 37∼45℃, H2약 0.3%, O2약 0.02% 이하, N2잔량을 포함하는 가스를 말한다. 이와 같이, DX-가스가 다양한 가스가 포함되어 있으므로, 섀도우 마스크의 표면에 Fe와 DX-가스를 반응시켜 Fe3O4의 산화 피막을 형성하는 공정에서, 섀도우 마스크 표면이 산소와 균일하게 접촉하기는 힘들다. 즉, 산소 분압이 불균일해지며, 이로 인하여, 하기 반응식 1과 같은 반응이 일어날 수 있다.When the electron reflective material is applied to the shadow mask surface, a reduction reaction may occur in a blackening process, which is a subsequent process of manufacturing the shadow mask. This is because a reduction reaction such as the following Chemical Formula 1 occurs due to the non-uniformity of oxygen partial pressure included in the DX-gas used in the blackening process. DX- gas refers to a gas containing CO 2 of about 12.4%, CO of about 0.7%, H 2 O of about 37~45 ℃, H 2 from about 0.3%, about 0.02% or less O 2, N 2 balance. As such, since the DX-gas contains various gases, the shadow mask surface is in uniform contact with oxygen in the process of forming Fe 3 O 4 oxide film by reacting Fe and DX-gas on the surface of the shadow mask. Is hard. That is, the partial pressure of oxygen becomes uneven, whereby a reaction such as the following Scheme 1 may occur.
[반응식 1]Scheme 1
2Bi2O3→ 2Bi + 3O2 2Bi 2 O 3 → 2Bi + 3O 2
상기 반응식에서 발생하는 산소로 인하여 흑화 공정에서 발생되는 흑색을 나타내는 철 산화물인 Fe3O4가 산화되어 적색을 나타내는 Fe2O3등으로 변할 수 있다. 이로 인하여, 섀도우 마스크의 표면에 균일하게 흑색 철 산화물이 형성되어 흑색을 나타내는 것이 아니라 부분적으로 적색 등을 나타낼 수 도 있게 되다. 따라서, 철산화물의 흑화 피막이 섀도우 마스크에 형성됨에 따른 열흡수 및 노광 빔(beam) 등의 난반사 방지 효과가 저하되며, 화면의 품질이 저하되는 문제점이 발생될 수 도 있다.Due to the oxygen generated in the reaction scheme, Fe 3 O 4, which is an iron oxide that represents black generated in the blackening process, may be oxidized to Fe 2 O 3 , which represents red. As a result, the black iron oxide is uniformly formed on the surface of the shadow mask so that the black mask may be partially red instead of black. Therefore, as the blackening film of iron oxide is formed on the shadow mask, the effect of preventing heat reflection and antireflection such as an exposure beam may be deteriorated, and the quality of the screen may be deteriorated.
이와 같이, Fe3O4의 산화를 방지하기 위하여, 본 발명에서는 Fe3O4보다 산화가 잘 일어나는 첨가물을 전자 반사 물질 조성물에 첨가하였다. 일반적으로 깁스 자유 에너지(Gibb's free energy)가 낮으면, 산화가 잘 일어나는 물질이므로, 먼저, 여러 가지 금속 산화물의 깁스 자유 에너지를 측정하여 표 1에 나타내었다.As such, in order to prevent oxidation of Fe 3 O 4 , in the present invention, an additive that is more oxidized than Fe 3 O 4 is added to the electron reflecting material composition. In general, when Gibb's free energy is low, since oxidation occurs well, first, the Gibbs free energy of various metal oxides is measured and shown in Table 1 below.
상기 표 1에 나타낸 깁스 자유 에너지에 따라, 흑화 공정시 생기는 Fe3O4산화물보다 깁스 자유 에너지가 낮은 산화물인, ZrO2, In2O3, BaO, CaO, MgO, Li2O 및 WO3를 전자 반사 물질 조성물에 첨가하면, 이 물질들이 전자 반사 물질의 산화시 발생하는 산소와 반응하므로, 철 산화물은 산화되지 않고 안정하게 Fe3O4상태를 유지할 수 있다. 이러한 효과는 철보다 쉽게 산화될 수 있는 Al, Zr, In, Mg 및 Ca 등의 순금속을 전자 반사 물질 조성물에 첨가하여도 얻을 수 있다.According to the Gibbs free energy shown in Table 1, ZrO 2 , In 2 O 3 , BaO, CaO, MgO, Li 2 O and WO 3, which are oxides having a lower Gibbs free energy than Fe 3 O 4 oxides generated during the blackening process When added to the electron reflective material composition, since these materials react with oxygen generated upon oxidation of the electron reflective material, the iron oxide can be stably maintained in the Fe 3 O 4 state without being oxidized. This effect can also be obtained by adding pure metals such as Al, Zr, In, Mg and Ca, which can be easily oxidized than iron, to the electron reflecting material composition.
본 명세서에서는, Fe3O4보다 깁스 자유 에너지가 낮은 산화물과 Fe3O4보다 산화가 용이한, 물질이 Fe3O4의 산화를 제어할 수 있으므로, Fe3O4산화 제어제라 한다. 이러한 Fe3O4산화 제어제는 Fe3O4의 산화를 제어할 수 있는 효과가 있기는 하나, 과량으로 사용될 경우 전자 반사 물질의 역할을 저하시킬 수 도 있으므로, 그 첨가량은 전자 반사 물질 중량의 5∼25 중량%가 바람직하다. Fe3O4의 산화 제어제의 함량이 5 중량% 미만인 경우에는 Fe3O4의 산화를 제어하는 효과가 없고, 25 중량%를 초과하는 경우에는 상술한 바와 같이, 전자 반사 물질의 역할을 저하시킬 수 도 있다.In the present specification, since the Fe 3 O 4 which is more readily oxidized than the Gibbs free energy is low and the oxide Fe 3 O 4, materials to control the oxidation of Fe 3 O 4, Fe 3 O 4 and geranic control oxidation. Although the Fe 3 O 4 oxidation control agent has an effect of controlling the oxidation of Fe 3 O 4 , it may reduce the role of the electron reflecting material when used in excess, so that the amount of the Fe 3 O 4 oxidation control agent 5-25 weight% is preferable. When the content of the oxidation control agent of Fe 3 O 4 is less than 5% by weight, there is no effect of controlling the oxidation of Fe 3 O 4 , and when it exceeds 25% by weight, as described above, the role of the electron reflecting material is lowered. You can also.
또한, 본 발명의 전자 반사 조성물은 섀도우 마스크의 표면에 인쇄법(screen print method)으로 코팅될 수 있도록 페이스트 형태를 갖는 조성물이다. 이러한 페이스트 형태를 갖기 위하여, 본 발명의 조성물에는 비히클과 유리 원료 물질을 포함한다.In addition, the electron reflection composition of the present invention is a composition having a paste form to be coated on the surface of the shadow mask by a screen print method. In order to have such a paste form, the composition of the present invention includes a vehicle and a glass raw material.
비히클은 인쇄가 용이하게 되도록 조성물의 점도, 농도 등을 조절하는 역할을 하는 물질로서, 그 종류에는 점착성 부여제, 결합제 및 용제 등이 있다. 비히클은 본 발명의 전자 반사 페이스트 조성물을 섀도우 마스크 표면에 인쇄한 후, 약 250∼600℃로 열처리시 완전 휘발되어 제거된다. 점착성 부여제는 피막의 상호간의 밀착성을 좋게 하기 위하여 첨가되는 물질로서, 그 예로는 실리콘계 물질, 터피네올 등의 광유 등이 사용될 수 있다. 또한, 결합제로는 에틸 셀룰로오즈, 아크릴수지, 에폭시 수지 등의 유기 수지가 사용될 수 있다. 용제로는 부틸 카비톨, 아세테이트, 테르페놀, 에틸카비톨, 동물성 기름 및 식물성 기름과 같은 유기 용제류 등이 사용될 수 있다.The vehicle is a substance that controls the viscosity, concentration, and the like of the composition to facilitate printing, and examples thereof include a tackifier, a binder, a solvent, and the like. The vehicle is completely volatilized and removed upon heat treatment at about 250-600 ° C. after printing the electron reflective paste composition of the present invention on the shadow mask surface. A tackifier is a material added to improve adhesion between the films, and examples thereof include silicon-based materials, mineral oil such as terpineol, and the like. In addition, an organic resin such as ethyl cellulose, acrylic resin, epoxy resin, or the like may be used as the binder. As the solvent, organic solvents such as butyl carbitol, acetate, terphenol, ethyl carbitol, animal oil and vegetable oil may be used.
유리 원료 물질은 섀도우 마스크 표면에 각종 물질이 견고하게 부착되는 것을 도와주는 역할을 하는 물질로서, 본 발명의 전자 반사 물질 조성물을 인쇄한 후, 250∼600℃로 열처리시 완전 유리화하여 전자 반사 물질이 흐뜨려지지 않게 서로를 결합시켜 주고 섀도우 마스크 표면에 견고하게 부착시켜준다. 유리 원료 물질의 대표적인 예로는 산화티탄, 산화지르코늄, 알루미나, 산화납 및 산화붕소, 산화규소 등이 사용될 수 있다.The glass raw material is a material that helps to firmly attach various materials to the shadow mask surface. After printing the electron reflecting material composition of the present invention, the glass raw material is completely vitrified upon heat treatment at 250 to 600 ° C. It bonds to each other so that it doesn't get smudged and firmly attaches to the shadow mask surface. Representative examples of the glass raw material may be titanium oxide, zirconium oxide, alumina, lead oxide and boron oxide, silicon oxide and the like.
또한, 본 발명의 전자 반사 페이스트 조성물은 열반사계수가 우수한 물질을 더욱 포함할 수 도 있다. 열반사계수가 우수한 물질로는 카본, 망간, 망간산화물, 알루미늄 산화물, 기탁 흑색 안료 등을 사용할 수 있다.In addition, the electron reflection paste composition of the present invention may further include a material having an excellent heat reflection coefficient. Carbon, manganese, manganese oxide, aluminum oxide, deposited black pigment, etc. may be used as a material having excellent heat reflection coefficient.
본 발명의 전자 반사 페이스트 조성물을 이용하여 섀도우 마스크에 인쇄하는 방법을 첨부된 도 3을 참고로 설명한다.A method of printing on a shadow mask using the electron reflection paste composition of the present invention will be described with reference to FIG. 3.
전자 반사 물질과 Fe3O4의 산화 제어제를 혼합한다. 이 혼합물에 유리 원료 물질과 용매, 결합제 등의 비히클을 첨가하여 전자 반사 페이스트 조성물을 제조한다. 미세한 격자 형상의 스크린 메쉬(30)와 인쇄 기판(50)에 위치한 섀도우 마스크용 플랫 마스크(20)를 스크린 인쇄기에 장착한 다음, 스크린 메쉬(30)의 일면으로 페이스트(40)를 인쇄하는 과정으로 이루어진다. 상기 스크린 메쉬(30)는 스테인레스 스틸, 폴리에스테르 또는 나일론 등의 극히 가느다란 강선들이 미세한 격자 형상으로 조직된 구성으로 이루어지며, 도포된 페이스트(40)를 함유하여 이를 섀도우 마스크용 플랫 마스크(20)의 표면에 전달시키는 역할을 한다. 이러한 스크린 메쉬(30)는 사각형의 틀(52)에 고정되어 있어, 페이스트(40) 인쇄 공정시 이동을 방지할 수 있다.The electron reflecting material and the oxidation control agent of Fe 3 O 4 are mixed. An electron reflection paste composition is prepared by adding a glass raw material and a vehicle such as a solvent and a binder to the mixture. The process of printing the paste 40 on one surface of the screen mesh 30 by attaching a fine mesh screen screen 30 and a flat mask 20 for the shadow mask located on the printed circuit board 50 to the screen printing machine. Is done. The screen mesh 30 has a structure in which extremely thin wires, such as stainless steel, polyester or nylon, are organized in a fine lattice shape, and contains a coated paste 40 to cover the flat mask 20 for a shadow mask. It serves to transfer to the surface of the. Since the screen mesh 30 is fixed to the rectangular frame 52, the screen mesh 30 may be prevented from moving during the printing process of the paste 40.
상기 스크린 메쉬(30)에 페이스트(40)를 도포하고, 이를 스퀴이즈(42)를 이용, 가압하면서 페이스트(40)를 섀도우 마스크용 플랫 마스크(20)에 인쇄한다.The paste 40 is applied to the screen mesh 30, and the paste 40 is printed on the shadow mask flat mask 20 while pressing the squeeze 42 to press the paste 40.
인쇄 단계후 상기 페이스트는 도 4에 도시한 바와 같이, 빔 통과용 구멍(8)을 제외하고는 섀도우 마스크용 플랫 마스크(20)의 표면에 균일하게 인쇄되어, 전자 반사 층(10)이 형성된다.After the printing step, the paste is uniformly printed on the surface of the shadow mask flat mask 20 except for the beam passing hole 8, as shown in FIG. 4, whereby an electron reflecting layer 10 is formed. .
이와 같이, 전자 반사 페이스트 조성물을 스크린 인쇄법으로 섀도우 마스크용 플랫 마스크(20)에 형성한 다음, 건조 공정을 통하여 상기 페이스트(40)를 건조시킨다. 건조 과정은 일예로 260∼600℃로 유지되는 건조로에 페이스트가 도포된 본체를 대략 30분 동안 넣어서 페이스트(40)에 함유된 용제를 완전히 건조시키는 것으로 이루어진다.As described above, the electron reflective paste composition is formed on the flat mask 20 for the shadow mask by screen printing, and then the paste 40 is dried through a drying process. The drying process consists of completely drying the solvent contained in the paste 40 by putting the main body to which the paste is applied in the drying furnace maintained at 260 to 600 ° C. for about 30 minutes.
이어서, 본체를 프레스 성형기로 포밍(forming)하고, 흑화로에 투입하여 흑화 피막을 형성하는 공지의 흑화 공정을 수행한다. 생성된 흑화 피막은 이후 공정에서 섀도우 마스크의 산화를 방지하고, 열흡수를 억제하며, 노광빔의 난반사를 방지하는 역할을 한다. 이러한 흑화 공정에서 페이스트(40)의 유리 함유 물질은 완전히 유리화되어, 페이스트(40)가 본체상에 견고히 고정된다.Subsequently, a well-known blackening process of forming a blackening film is performed by forming a main body into a press molding machine, and putting into a blackening furnace. The produced blackening film serves to prevent oxidation of the shadow mask in the subsequent process, to suppress heat absorption, and to prevent diffuse reflection of the exposure beam. In this blackening process, the glass-containing material of the paste 40 is completely vitrified, so that the paste 40 is firmly fixed on the main body.
[실시예]EXAMPLE
이하 본 발명의 바람직한 실시예 및 비교예를 기재한다. 그러나 하기한 실시예는 본 발명의 바람직한 일 실시예일 뿐 본 발명이 하기한 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples and comparative examples of the present invention are described. However, the following examples are only one preferred embodiment of the present invention and the present invention is not limited to the following examples.
(실시예 1)(Example 1)
이산화티탄, 산화규소, 산화납 및 이산화지르코늄을 포함하는 유리 원료 물질 13 중량%, 비스무스와 그 산화물 51 중량% 및 ZrO2를 첨가하여 혼합하였다. 이때, ZrO2첨가량은 전자 반사 물질의 10 중량%였다. 얻어진 혼합물에 터피네올(terpineol), 에틸 셀룰로오즈, 에틸 카비톨, 부틸 카비톨의 혼합물 36 중량%를 첨가하여 페이스트를 제조하였다.13 weight% of a glass raw material containing titanium dioxide, silicon oxide, lead oxide, and zirconium dioxide, 51 weight% of bismuth and its oxide, and ZrO 2 were added and mixed. At this time, the amount of ZrO 2 added was 10% by weight of the electron reflecting material. A paste was prepared by adding 36 wt% of a mixture of terpineol, ethyl cellulose, ethyl carbitol, and butyl carbitol to the obtained mixture.
제조된 페이스트를 스크린 메시에 도포하였다. 인쇄 기판에 섀도우 마스크를 올려놓은 다음, 스퀴지로 균일한 압력을 가하면서 상기 페이스트 이동시켜 인쇄하였다. 이후, 건조공정, 포밍 공정 및 흑화 공정을 실시하여 섀도우 마스크를 제조하였다.The prepared paste was applied to the screen mesh. The shadow mask was placed on a printed board, and the paste was moved while printing with uniform pressure under a squeegee. Thereafter, a shadow mask was manufactured by performing a drying process, a forming process, and a blackening process.
(실시예 2)(Example 2)
ZrO2대신 In2O3를 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The same procedure as in Example 1 was carried out except that In 2 O 3 was added instead of ZrO 2 .
(실시예 3)(Example 3)
ZrO2대신 BaO를 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The same procedure as in Example 1 was conducted except that BaO was added instead of ZrO 2 .
(실시예 4)(Example 4)
ZrO2대신 Al을 첨가한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일하게 실시하였다.The same process as in Example 1 except that Al was added instead of ZrO 2 .
상술한 바와 같이, 본 발명의 전자 반사 물질 페이스트 조성물은 섀도우 마스크 표면에 인쇄법으로 코팅될 수 있으며, 흑화 후 마스크의 코팅 품질이 향상되었다.As described above, the electron reflecting material paste composition of the present invention can be coated on the surface of the shadow mask by printing, and the coating quality of the mask after blackening is improved.
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