KR100331188B1 - A thin film magnetic head, a recording/reproduction separation type head and a magnetic recording and reproducing apparatus using the head - Google Patents

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모리아끼 후야마
데쯔오 이또
히로시 후꾸이
요흐지 마루야마
미끼 하라
히사시 다까노
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가나이 쓰도무
가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
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Abstract

본 발명은 불명료함이 적으며 기록 자계가 높은 기록용 박막 자기 헤드와 그것을 이용한 기록 재생 분리형 자기 헤드 및 자기 기억 재생을 제공하는 것이다. 본 발명은, 기록 헤드의 갭막 및 갭막과 접한 자성막을 같은 트랙 폭으로 가공하고, 상기 트랙 폭보다도 넓은 폭으로 기록 헤드의 상부 자성막과 자기 저항 효과막의 상부 실드막을 지니고, 상부 자성막의 부상면에 평행한 단면적이 부상면과 갭깊이 이하의 위치로 작게 한 박막 자기 헤드이다. 또한, 본 발명은, 제1 자성막과 제4 자성막과의 사이에 끼워진 코일 도체와, 제1 자성막에 자기적으로 결합한 제2 자성체와, 상기 제4 자성막에 자기적으로 결합한 제3 자성체와, 제2 자성막과 제3 자성막의 사이에 끼워진 자기 갭을 지니고, 제2 자성막과 제3 자성막에 접하는 절연성으로 비자성의 단일막이 적어도 제1 자성막을 덮고 있는 박막 자기 헤드이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a thin film magnetic head for recording with low clarity and a high recording magnetic field, a recording / reproducing separate magnetic head and magnetic memory reproduction using the same. According to the present invention, the gap film of the recording head and the magnetic film in contact with the gap film are processed to have the same track width, and the width of the upper magnetic film of the recording head and the upper shield film of the magnetoresistive effect film are wider than the track width, and the floating surface of the upper magnetic film is provided. The thin film magnetic head has a small cross-sectional area parallel to the floating surface and a position below the gap depth. The present invention also provides a coil conductor sandwiched between a first magnetic film and a fourth magnetic film, a second magnetic body magnetically coupled to the first magnetic film, and a third magnetically coupled to the fourth magnetic film. A thin film magnetic head having a magnetic gap sandwiched between a magnetic material, a second magnetic film, and a third magnetic film and having at least a nonmagnetic single film covering the first magnetic film with an insulating property in contact with the second magnetic film and the third magnetic film.

Description

박막 자기 헤드, 기록/재생 분리형 헤드 및 이를 이용한 자기 기록 및 재생 장치{A THIN FILM MAGNETIC HEAD, A RECORDING/REPRODUCTION SEPARATION TYPE HEAD AND A MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS USING THE HEAD}Thin film magnetic head, recording / playback separation type head and magnetic recording and playback device using the same {A THIN FILM MAGNETIC HEAD, A RECORDING / REPRODUCTION SEPARATION TYPE HEAD AND A MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS USING THE HEAD}

본 발명은 신규한 박막 자기 헤드 및 이를 이용한 기록/재생 분리형 자기 헤드와 자기 기록/재생 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a novel thin film magnetic head, a recording / reproducing separate magnetic head and a magnetic recording / reproducing apparatus using the same.

자기 디스크 장치용 박막 자기 헤드는 고속 회전하는 디스크 상에서 유지된 슬라이더 상에 형성된다. 자기 헤드는 강자성 재료의 박막인 자극층(magnet pole layer)을 갖는다. 부상면(air beating surface; ABS)에서, 층의 상하로 하부 자극층과 상부 자극층이 있다. 기록 헤드의 상하의 자극층은 후방부의 갭으로 접촉한다. 기록 밀도를 높이기 위해서는 자기 디스크의 표면에 많은 데이타를 기록할 필요가 있다. 이 때문에, 트랙폭을 좁게 해서 기록 밀도를 높이는 방법이 있다. 박막 자기 헤드로 자극단의 폭 즉, 트랙폭이 2㎛ 이하의 헤드를 제공하는 방법이 특개평 7-296328호 명세서에 기재되어 있다. 이 방법에 따르면, 자성막을 도금법으로 형성할 때에 이산화 규소층을 도금 프레임으로서 이용하고 있다. 또한 상기 발명에는 ABS면에서 후방의 제로 쓰롯트(zero throat) 레벨까지의 자극층은 자극 단층보다도 넓고 또한 평행하며 자극단 영역과의 자속의 교환을 위해 평행 경로를 제공하여, 자속 전달 능력을 높인다고 기재되어 있다. 또한, 도 24 및 도 25의 헤드 구조도에는 상부 자성막 (도 24에서는 P2(T), 도 25에서는 P2에서 도시하고 있음)의 형상이 명확하게 도시되어 있다. 갭 깊이 위치(프레임의 상부)의 부상면에서 본 상부 자성막의 단면적은 일정하다.A thin film magnetic head for a magnetic disk device is formed on a slider held on a disk that rotates at high speed. The magnetic head has a magnet pole layer, which is a thin film of ferromagnetic material. On the air beating surface (ABS), there is a lower magnetic pole layer and an upper magnetic pole layer above and below the layer. Upper and lower magnetic pole layers of the recording head are in contact with the gap in the rear part. In order to increase the recording density, it is necessary to record a lot of data on the surface of the magnetic disk. For this reason, there is a method of increasing the recording density by narrowing the track width. A method of providing a thin film magnetic head with a head having a width of the pole end, i. According to this method, when forming a magnetic film by the plating method, the silicon dioxide layer is used as a plating frame. In addition, the present invention is that the magnetic pole layer from the ABS plane to the rear zero throat level is wider and parallel than the magnetic pole monolayer and provides a parallel path for the exchange of magnetic flux with the magnetic pole region, thereby enhancing the magnetic flux transmission capability. It is described. 24 and 25 clearly show the shape of the upper magnetic film (shown at P2 (T) in FIG. 24 and at P2 in FIG. 25). The cross-sectional area of the upper magnetic film seen from the floating surface at the gap depth position (upper part of the frame) is constant.

본 발명의 목적은 기록함에 번짐(blur)이 적으며 기록 자계가 높은 박막 자기 헤드 및 그것을 이용한 기록 재생 분리형 자기 헤드와 자기 기록 재생 장치를 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a thin film magnetic head having a small blur in recording and a high recording magnetic field, a recording reproducing separate magnetic head and a magnetic recording and reproducing apparatus using the same.

본 발명의 다른 목적은 1㎛ 이하의 자극폭을 갖는 고주파 구동의 자기 헤드 및 이것을 이용한 초고밀도의 자기 기록 재생 장치를 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide a high frequency drive magnetic head having a magnetic pole width of 1 m or less and an ultra high density magnetic recording and reproducing apparatus using the same.

본 발명은 비자성의 자기 갭막(non-magnetic gap film)을 통해 상부 자성막과 하부 자성막을 구비한 박막 자기 헤드에서 상기 상부 자성막 및 하부 자성막 중 적어도 한쪽은 상기 자기 갭측에 상기 자기 갭을 통해 상기 자기 갭을 형성하는 단부에 상기 상부 자성막에 상단부 자성막 및 상기 하부 자성막에 하단부 자성막이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.The present invention provides a thin film magnetic head having an upper magnetic layer and a lower magnetic layer through a non-magnetic gap film, wherein at least one of the upper magnetic layer and the lower magnetic layer is formed through the magnetic gap on the magnetic gap side. The upper magnetic film is formed on the upper magnetic film and the lower magnetic film is formed on the lower magnetic film at the end of the magnetic gap.

본 발명은 또한 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막 중 적어도 한쪽은 그 부상면에 평행한 단면적이 상기 상부 자성막 및 하부 자성막의 상기 자기 갭을 갖는 부분으로 그 상기 단면적보다 작고; 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막 중 적어도 한쪽은 그 트랙폭이 상기 상부 자성막 및 하부 자성막의 트랙폭보다도 작고; 및 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막 중 적어도 한쪽은 상기 상부 자성막 및 하부 자성막보다도 부상면에서의 부상면측으로 돌출하고 있는 1개 또는 2개 이상의 조합으로 이루어진 것을 특징으로 하는 것이다.The present invention also provides that at least one of the upper magnetic film and the lower magnetic film has a cross-sectional area parallel to its floating surface, the portion having the magnetic gap of the upper magnetic film and the lower magnetic film, which is smaller than the cross-sectional area; At least one of the upper magnetic film and the lower magnetic film has a track width smaller than that of the upper magnetic film and the lower magnetic film; And at least one of the upper magnetic film and the lower magnetic film is formed of one or two or more combinations protruding toward the floating surface side from the floating surface than the upper magnetic film and the lower magnetic film.

본 발명은 전술한 박막 자기 헤드는 다음의 두 가지; 즉, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 포화 자속 밀도 1. 5 테슬라(tesla) 이상의 도금 자성막으로 이루어지며 상기 도금 자성막의 프레임폭보다도 넓은 폭으로 비저항이 50μΩ㎝이상인 도금 혹은 스퍼터링법으로 형성된 상기 상부 자성막으로 이루어진 것; 및 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 서로 같은 트랙폭을 갖으며, 상기 상부 자성막 및 자기 저항 효과막을 자기 실드(magnetically shield)하는 상부 실드막은 상기 트랙폭보다도 넓은 폭을 갖으며, 상기 상부 자성막은 다층의 자성막으로 이루어진 것 중 1개 또는 2개의 조합으로 이루어진 것을 특징으로 하는 것이다.The above-described thin film magnetic head includes the following two types; That is, the upper magnetic film and the lower magnetic film is formed of a plating magnetic film having a saturation magnetic flux density of 1. 5 Tesla or more, and is formed by a plating or sputtering method having a specific resistance of 50 μΩcm or more with a width wider than the frame width of the plating magnetic film. Consisting of an upper magnetic film; And the upper magnetic film and the lower magnetic film have the same track width, and the upper shield film that magnetically shields the upper magnetic film and the magnetoresistive effect film has a width wider than the track width. It is characterized by consisting of one or a combination of two consisting of a multilayer magnetic film.

본 발명은 정보의 기록을 행하는 기록 헤드와 판독을 행하는 재생 헤드가 일체로 형성된 기록 재생 분리형 자기 헤드에서 상기 기록 헤드는 전술한 박막 자기 헤드로 이루어진 것을 특징으로 한다.The present invention is characterized in that the recording head is made of the above-described thin film magnetic head in a recording / reproducing separate magnetic head in which a recording head for recording information and a reproduction head for reading are integrally formed.

본 발명의 전술한 기록 재생 분리형 자기 헤드에서, 상기 재생 헤드가 자기 저항 효과를 갖는 강자성체와 상기 강자성체에 밀착하고 상기 강자성체에 한방향 이방성을 발현시키는 반강자성체를 포함하고 상기 반강자성체가 Cr-Mn계 합금으로 이루어진 것을 특징으로 한다.In the above-described recording and reproducing separate magnetic head of the present invention, the reproducing head includes a ferromagnetic material having a magnetoresistive effect and an antiferromagnetic material in close contact with the ferromagnetic material and expressing unidirectional anisotropy in the ferromagnetic material, wherein the antiferromagnetic material is a Cr-Mn-based alloy. Characterized in that consisting of.

본 발명은 정보를 기록하는 박막 자기 디스크와 상기 박막 자기 디스크의 회전 수단과 부동형 슬라이더에 설치되어 정보의 기록을 행하는 기록 헤드와 판독을 행하는 재생 헤드를 갖는 기록 재생 분리 자기 헤드와 상기 부동형 슬라이더를 지지하고 박막 자기 디스크에 대해 억세스하는 이동 수단을 구비하고 상기 자기 디스크가 기록·재생 시에 4000rpm 이상으로 회전하고 기록 주파수가 45㎒ 이상인 자기 기록 재생 장치에서 상기 기록 재생 분리형 자기 헤드는 전술한 기록 재생 분리형 자기 헤드로 이루어진 것을 특징으로 하는 것이다.The present invention relates to a recording / reproducing separation magnetic head having a thin film magnetic disk for recording information, a rotating means of the thin film magnetic disk, a recording head for recording information, and a reproducing head for reading information, and a floating head. In the magnetic recording / reproducing apparatus having a moving means for supporting the magnetic disk and having access to the thin film magnetic disk, the magnetic disk rotating at 4000 rpm or more during recording and reproducing, and having a recording frequency of 45 MHz or more, It is characterized by consisting of a regeneratively separated magnetic head.

본 발명은 기록 밀도 4Gb/in2이상의 자기 디스크 장치에 이용하는 것이 바람직하다.The present invention is preferably used for a magnetic disk device having a recording density of 4 Gb / in 2 or more.

기록 헤드를 부상면에서 본 경우, 도 1에 도시한 바와 같이, 갭 상에 있는 자성막(1)은 갭 근방에서 트랙폭 Tw로 좁아지며 도 2의 상단부 자성막(16)이 오버행 의 길이 t만큼 트랙의 양측으로 넓어진 구조가 되고 있다. 포토 레지스트와 폴리 디메틸 글루탈이미드(polydimethylglutarimide)를 이용한 2층막에 자외선 및 원자외선의 조사와 2회의 현상의 조합으로 언더 컷트(undercut)를 갖는 프레임 부재를 제작하고, 포토 레지스트층 간에 갭막을 형성하고 하부 자극막을 언더 컷트부에 형성한다.When the recording head is seen from the floating surface, as shown in FIG. 1, the magnetic film 1 on the gap is narrowed to the track width Tw in the vicinity of the gap and the upper magnetic film 16 of FIG. The structure has become wider on both sides of the track. A frame member having an undercut is formed on a two-layer film using photoresist and polydimethylglutarimide by combining ultraviolet and ultraviolet rays and two phenomena, and a gap film is formed between the photoresist layers. And a lower magnetic pole film is formed in the undercut portion.

본 발명의 도 3의 구조의 자기 헤드를 제작하면 이산화 규소 등의 프레임 부재를 사용하지 않기 때문에, 상기 내마모성이나 프레임 부재의 형성 장치를 필요로 하지 않는다. 도 3과 같이 부상면에 상부 자성막(11)이 나오지 않기 때문에 상부 자성막으로부터 부상면으로의 자속의 누설이 적어서, 매체상의 기록함에 있어서 번짐을 적게 할 수 있다. 또한, 도 6에 도시한 바와 같이, 쓰롯트 하이트(throat height)에서 상부 자성막의 형상이 변하는 경우, 부상면측의 부상면에 평행한 단면적을 작게 하고, 쓰롯트 하이트의 도중에서 단면적을 크게한다. 이에 따라서, 상부 자성막(11)으로부터 부상면에 누설하는 자계를 작게 하고, 상부 자성막(11)으로부터 상단부 자성막(17)을 통해서 누설하는 자계를 늘리는 것이 가능하다. 이 헤드를 면기록 밀도가 4Gb/in2이상의 고기록 밀도의 자기 기록 장치에 이용할 수 있다.상부 자성막(11)의 부상면 근방의 오버행 t를 작게 하는 것이 협(narrow) 트랙 헤드에는 중요한 문제이다. 본 발명에서는 오버행을 갭막(17)의 막 두께의 5배 이하로 설정함으로써 기록함에 있어서 번짐을 작게 한다.When the magnetic head of the structure of FIG. 3 of the present invention is manufactured, a frame member such as silicon dioxide is not used, and thus the wear resistance and the apparatus for forming the frame member are not required. Since the upper magnetic film 11 does not come out on the floating surface as shown in Fig. 3, there is less leakage of magnetic flux from the upper magnetic film to the floating surface, so that bleeding can be reduced in recording on the medium. In addition, as shown in FIG. 6, when the shape of the upper magnetic film changes in the throat height, the cross-sectional area parallel to the floating surface on the floating surface side is reduced, and the cross-sectional area is increased in the middle of the throat height. . Accordingly, it is possible to reduce the magnetic field leaking from the upper magnetic film 11 to the floating surface and to increase the magnetic field leaking from the upper magnetic film 11 through the upper magnetic film 17. This head can be used for a magnetic recording apparatus having a high recording density of 4 Gb / in 2 or more in surface recording density. It is important to reduce the overhang t near the floating surface of the upper magnetic film 11 in a narrow track head. to be. In the present invention, by setting the overhang to 5 times or less the film thickness of the gap film 17, the bleeding is reduced in recording.

일례로서 트랙폭(Tw)이 1.0㎛이고 상부 자성막의 두께(Pu)가 4㎛이고 갭막의 막 두께가 0. 2㎛인 경우, 상부 자성막(11)의 단부로부터 누설하는 자계 H와 오버행 t의 관계는 도 7에 나타낸다. 누설 자계는 작을수록 좋다. 그러나, 오버행 t를 작게 하면 상부 자성막의 두께를 일정하게 할 때에 부상면의 갭 근방의 자계 강도가 감소한다. 자계 강도가 높고 또한 누설 자계를 작게 하기 위해서는 이 경우, H ≤ 1000Oe가 되는 t의 범위 즉 t≤1㎛이며 갭막의 막 두께(0. 2㎛)의 5배 이하가 바람직하다. t≤1㎛로서 상기 자계 강도를 높게 하기 위해서는 상부 자성막(11)의 막 두께를 두껍게 하면 좋다. 상부 자성막(11)의 막 두께를 두껍게 하면 상부 자성막(11)을 형성하기 위한 도금 프레임의 형상 및 정밀도가 문제가 된다. 즉, 도금 프레임이 두꺼워지면 형상 제어가 곤란해지는 것 및 하의 자성막(상단부 자성막(16))과의 위치 정밀도가 문제가 된다. 따라서, 도금 프레임의 형상, 정밀도의 점에서 t=0㎛는 곤란하다. t=0.05 ∼ 0.1㎛로서 상부 자성막(11)을 두껍게 하는 것이 바람직하다. 상기예는 상부 자성막(11)이 부상면으로부터 10㎚ 떨어져 있는 경우이다. 상부 자성막(11)은 10㎚ 이상 부상면으로부터 떨어짐으로써 부상면에서의 상부 자성막 단부로부터의 자계가 감소한다. 따라서, 종래의 기록 헤드 구조인 도 2의 구조로부터 본 발명인 도 3의 구조로 함으로써 상단부 자성막으로부터의 누설 자계에 의한 기록데이타의 소거나 인접 트랙으로의 영향은 없어진다.도 3의 구조와 마찬가지의 효과가 상부 자성막(11)의 단면적을 갭 깊이(도 3의 갭막의 부상면으로부터의 폭) 이하의 위치로 부상면으로부터 떨어진 단면적을 크게하고, 부상면의 단면적을 작게함으로써 얻어진다.As an example, when the track width Tw is 1.0 mu m, the upper magnetic film thickness Pu is 4 mu m, and the gap film thickness is 0.2 mu m, the magnetic field H leaking from the end of the upper magnetic film 11 and the overhang The relationship of t is shown in FIG. The smaller the leakage magnetic field, the better. However, if the overhang t is made small, the magnetic field strength near the gap on the floating surface decreases when the thickness of the upper magnetic film is made constant. In order to increase the magnetic field strength and reduce the leakage magnetic field, in this case, a range of t where H ≦ 1000Oe, i.e., t ≦ 1 μm, is preferably 5 times or less of the thickness of the gap film (0.2 μm). In order to increase the magnetic field strength at t ≦ 1 μm, the thickness of the upper magnetic film 11 may be increased. If the thickness of the upper magnetic film 11 is increased, the shape and precision of the plating frame for forming the upper magnetic film 11 become a problem. That is, when the plating frame becomes thick, shape control becomes difficult and positional accuracy with the lower magnetic film (upper magnetic film 16) becomes a problem. Therefore, t = 0 micrometers is difficult in the point of shape and precision of a plating frame. It is preferable to thicken the upper magnetic film 11 as t = 0.05-0.1 micrometer. In the above example, the upper magnetic film 11 is 10 nm away from the floating surface. The upper magnetic film 11 is separated from the floating surface by 10 nm or more, so that the magnetic field from the end of the upper magnetic film on the floating surface is reduced. Therefore, the structure of FIG. 3, which is the present invention from the structure of FIG. 2, which is a conventional recording head structure, eliminates the influence of the recording data due to the leakage magnetic field from the upper magnetic film on the adjacent tracks or the adjacent tracks. The effect is obtained by increasing the cross-sectional area of the upper magnetic film 11 away from the floating surface to a position equal to or less than the gap depth (width from the floating surface of the gap film in FIG. 3) and decreasing the cross-sectional area of the floating surface.

본 발명에서는 박막 자기 헤드의 기록 헤드의 자극 단부를 프레임 도금으로 제작한다. 즉, 도 2나 도 3에 도시한 상단부 자성막(16), 갭막(17) 및 하단부 자성막(18)의 3종류의 막은 동일 프레임을 이용하여 도금된다. 도 2 및 도 3의 상부 자성막(11)은 부상면측에서 상단부 자성막(16)에 접하고 있다. 종래 구조에 따르면, 상단부 자성막(16)의 형상은 부상면에 수직 방향의 단면도로서 도 2에 도시된 바와 같고 막면의 위로부터 보면 도 4에 도시된 바와 같다. 도 4에 도시한 바와 같이 갭막(17)과 상단부 자성막(16)의 형상은 부상면으로부터 갭 깊이(프레임 단부)까지 같으며 부상면에 평행 단면은 부상면에서 갭 깊이까지 (갭막이 있는 장소의 단면)와 동일해진다. 이 종래 형상에 대해 도 5 혹은 도 6에 도시한 바와 같은 상단부 자성막(16)의 부상면측의 단면적을 작게 한 경우에는 부상면에서 상단부 자성막(16)으로부터의 누설 자계가 적어지며 기록 자계가 급격해지며 트랙 엣지의 자계 분포가 날카롭게 되어 백그라운드도 작아진다.In the present invention, the magnetic pole end of the recording head of the thin film magnetic head is fabricated by frame plating. That is, three kinds of films of the upper magnetic film 16, the gap film 17, and the lower magnetic film 18 shown in Figs. 2 and 3 are plated using the same frame. The upper magnetic film 11 of FIGS. 2 and 3 is in contact with the upper magnetic film 16 on the floating surface side. According to the conventional structure, the shape of the upper magnetic film 16 is a cross-sectional view in the direction perpendicular to the floating surface as shown in FIG. 2 and as shown in FIG. 4 when viewed from above the membrane surface. As shown in FIG. 4, the shape of the gap film 17 and the upper magnetic film 16 is the same from the floating surface to the gap depth (frame end), and the cross section parallel to the floating surface is from the floating surface to the gap depth (where the gap film is located). Cross section). When the cross-sectional area of the floating surface side of the upper magnetic film 16 as shown in FIG. 5 or FIG. 6 is reduced with respect to this conventional shape, the leakage magnetic field from the upper magnetic film 16 is reduced at the floating surface and the recording magnetic field is reduced. It sharpens and the edges of the track edges become sharp, resulting in a smaller background.

반강자성막에는 산화 니켈, 철 망간 합금 박막, 크롬-망간, 크롬-망간-백금, 크롬 알루미늄 합금막 등을 이용해도 좋다. 혹은 강자성의 코발트 백금, 코발트-크롬-백금, 철-코발트-테르븀 합금막과 같은 경자성막도 이용할 수 있다. 경자성막이란 외부 자계에 대해 그 자화의 변화하기 어려운 자성막이다. 보자력이 예를 들면, 100 에르스테드(oersted) 이상이라고 하는 50 에르스테드의 자계를 더해도그 자화의 방향은 거의 변화하지 않으므로 반강자성막과 마찬가지의 효과가 있다. 즉, 다른 자성막에 밀착하여 형성할 때 교환 결합 바이어스에 의한 한 방향 이방성을 인가할 수 있는 특성을 갖는 것이면 반드시 반강자성일 필요는 반드시 없다. 일반적으로 바이어스막으로 부르는 막을 사용하는 것이 바람직하다.Nickel oxide, iron manganese alloy thin film, chromium-manganese, chromium-manganese-platinum, chromium aluminum alloy film, etc. may be used for an antiferromagnetic film. Alternatively, hard magnetic films such as ferromagnetic cobalt platinum, cobalt-chromium-platinum, and iron-cobalt-terbium alloy films may also be used. The hard magnetic film is a magnetic film whose magnetization hardly changes with respect to an external magnetic field. Even if the coercive force adds a magnetic field of 50 Ersted, for example, 100 orersed or more, the direction of magnetization hardly changes, and thus has the same effect as the antiferromagnetic film. That is, it is not necessarily antiferromagnetic as long as it has a property of applying one-way anisotropy by exchange coupling bias when formed in close contact with another magnetic film. In general, it is preferable to use a film called a bias film.

자성막에는 Ni 70 ∼ 95원자%, Fe 5 ∼ 30원자% 및 Co 1 ∼ 5원자%의 합금, 또는 Co 30 ∼ 85원자%, Ni 2 ∼ 30원자% 및 Fe 2 ∼ 50원자%의 합금을 이용하는 것이 바람직하다. 이외에 퍼멀로이(permalloy), 퍼멘더(permender) 합금 등을 이용해도 좋다. 즉, 양호한 연자기 특성을 갖는 강자성 재료를 이용하는 것이 바람직하다.In the magnetic film, alloys of 70 to 95 atomic% Ni, 5 to 30 atomic% Fe and 5 to 5 atomic% Co, or 30 to 85 atomic% Co, 2 to 30 atomic% Ni, and 2 to 50 atomic% Fe It is preferable to use. In addition, a permalloy, a permender alloy, etc. may be used. That is, it is preferable to use a ferromagnetic material having good soft magnetic properties.

상기 비자성 도전막에는 Au, Ag, Cu를 이용하는 것이 바람직하다. 이외에 Cr, Pt, Pd, Ru, Rh 등 또는 이들의 합금을 이용해도 좋다. 즉, 실온으로 자발자화(spontaneous magnetization)를 갖지 않고 전자가 양호한 투과성을 갖는 것을 이용하는 것이 바람직하다. 이상의 막은 각각 2 ∼ 1000Å 정도의 막 두께를 갖는 것이 바람직하다.Au, Ag, Cu is preferably used for the nonmagnetic conductive film. In addition, Cr, Pt, Pd, Ru, Rh, or an alloy thereof may be used. That is, it is preferable to use the one which does not have spontaneous magnetization at room temperature and the electron has a favorable permeability. It is preferable that the above films each have a film thickness of about 2 to 1000 kPa.

본 발명은 제1 자성체막과 제4 자성체막과의 사이에 코일 도체를 갖으며 제1 자성막에 대해 자기적으로 결합한 제2 자성체와 제4 자성막에 대해 자기적으로 결합한 제3 자성체를 갖으며 또한 이들 제2 자성막과 제3 자성막의 사이에 자기적인 갭을 갖는 자기 헤드에 관한 것이다. 후술하는 고주파 특성 및 협 트랙화를 양립시키는 구조에서 특히 제조 비용을 저감시킬 목적으로 미끄럼 이동면(sliding face)에 노출하는 절연성 또한 비자성의 막이 적어도 제1 자성막을 포함한다.The present invention has a coil conductor between the first magnetic film and the fourth magnetic film, the second magnetic material magnetically coupled to the first magnetic film, and the third magnetic material magnetically coupled to the fourth magnetic film. The present invention also relates to a magnetic head having a magnetic gap between the second magnetic film and the third magnetic film. In a structure that achieves both high frequency characteristics and narrow tracking described later, an insulating and nonmagnetic film exposed to a sliding face, in particular for the purpose of reducing manufacturing costs, includes at least a first magnetic film.

또한, 상기 구조에서 자기 헤드의 기본 기능을 만족시킬 목적으로 상기 비자성 또한 절연성막면에 제3 자성막의 일부를 노출시키고, 제3 자성막과 제4 자성막을 자기적으로 결합시켰다.Further, in the above structure, a part of the third magnetic film is exposed to the nonmagnetic and insulating film surface in order to satisfy the basic function of the magnetic head, and the third magnetic film and the fourth magnetic film are magnetically coupled.

또한, 자기 헤드 제조 비용을 저감시킬 목적으로, 자기적인 갭을 형성하는 제2 자성막과 제3 자성막 중 적어도 3쪽을 비자성 또한 절연성의 막으로 둘러싸고, 이 비자성 또한 절연성막 표면 상에 제2 비자성 또한 절연성막을 적층하고 상기 제2 비자성 또한 절연성막 내에 코일 도체를 설치하는 구조로 하였다.Further, for the purpose of reducing the cost of manufacturing the magnetic head, at least three of the second magnetic film and the third magnetic film forming the magnetic gap are surrounded by a nonmagnetic and insulating film, and the nonmagnetic and insulating film surfaces A second nonmagnetic insulating film was laminated and a coil conductor was provided in the second nonmagnetic insulating film.

또한, 제조 비용을 저감시킬 목적으로 상기 제2 자성막과 제3 자성막의 2차원적 형상을 같이 하고 이들 제2 자성막과 제3 자성막의 적층 구조로부터 기록 트랙폭을 규정하는 자극부와 제1 자성막과 제4 자성막을 자기적으로 결합하는 이면 접촉(back contact)부를 구성하였다.Further, a magnetic pole portion for forming a recording track width from the laminated structure of the second magnetic film and the third magnetic film in the same two-dimensional shape as the second magnetic film and the third magnetic film for the purpose of reducing the manufacturing cost; The back contact part which magnetically couples the 1st magnetic film and the 4th magnetic film was comprised.

또한, 고주파 특성을 향상시킬 목적으로 제2 자성막 및 제3 자성막의 존재 영역 외에 코일 도체를 배치하였다.In addition, in order to improve the high frequency characteristics, a coil conductor was disposed in addition to the presence region of the second magnetic film and the third magnetic film.

또한, 고주파 특성을 향상시킬 목적으로 제1 자성막 및 제4 자성막의 비저항을 제3 자성막의 비저항보다도 높게 설정하였다.Moreover, the specific resistance of the 1st magnetic film and the 4th magnetic film was set higher than the specific resistance of a 3rd magnetic film in order to improve the high frequency characteristic.

또한, 고주파 특성을 향상시킬 목적으로 상기 제3 자성막의 체적을 제1 및 제4 자성막의 체적의 10E-4 이하로 설정하였다.In addition, the volume of the third magnetic film was set to 10E-4 or less of the volumes of the first and fourth magnetic films for the purpose of improving the high frequency characteristics.

또한, 고주파 특성의 향상과 필요 강도의 기록 자계를 발생 시킬 목적으로 제4 자성막의 포화 자속 밀도 Bs1, 막 두께 t, 제3 자성막의 포화 자속 밀도 Bs2, 제3 자성막과 제4 자성막과의 부상 방향의 중복(overlapped) 길이 Dg에 관해 0.8 <Bs1 × t /Bs2 × Dg < 1.5를 만족시켰다.In addition, the saturation magnetic flux density Bs1 of the fourth magnetic film, the thickness t, the saturation magnetic flux density Bs2 of the third magnetic film, the third magnetic film and the fourth magnetic film for the purpose of improving the high frequency characteristics and generating a recording magnetic field of the required strength. 0.8 <Bs1 × t / Bs2 × Dg <1.5 was satisfied for the overlapped length Dg in the direction of flotation.

또한, 인접 트랙으로의 불필요한 기록 현상을 저감시키고 고밀도 기록을 실현할 목적으로 헤드 부상면에 노출한 제2 자성막과 제3 자성막의 면적이 같게 노출하는 제1 및 제4 자성막의 면적에 비교해서 넓게하였다.In addition, compared to the areas of the first and fourth magnetic films exposed to the same area of the second magnetic film and the third magnetic film exposed on the head floating surface in order to reduce unnecessary recording to the adjacent track and to realize high density recording. I made it wider.

또한, 고주파 특성을 향상시킬 목적으로 제1 자성막과 제4 자성막을 구성하는 재료의 비저항을 ρ(μΩ-㎝), 5㎒에서의 비투자율(realitive magnetic permeability)을 μ, 막 두께를 t(㎛)로 할 때, ρ/(μ×t2)>0. 0064를 만족시켰다.In addition, for the purpose of improving the high frequency characteristics, the resistivity of the materials constituting the first magnetic film and the fourth magnetic film is ρ (μΩ-cm), the relative magnetic permeability at 5 MHz is μ, and the film thickness is t ( Μm), p / (μ x t2)> 0. Satisfied 0064.

이 조건을 만족시키는 자기 헤드를 제조하고 동일 자기 헤드를 이용하여 자기 기록 장치를 조립하였다.A magnetic head satisfying this condition was manufactured and a magnetic recording device was assembled using the same magnetic head.

또한, 주파수 특성을 개선한 자기 헤드를 탑재한 자기 기록 장치에 구동 주파수 150㎒ 이상의 제어 신호를 입력함으로서 상기 구동 주파수에서의 자기 기록 장치의 구동을 가능하게 하였다.Further, by inputting a control signal having a driving frequency of 150 MHz or more to a magnetic recording apparatus equipped with a magnetic head having improved frequency characteristics, it is possible to drive the magnetic recording apparatus at the driving frequency.

또한, 고밀도 기록을 실현하기 위해 미끄럼 이동면에 노출하는 제3 자성막의 폭을 1. 0㎛ 이하로 하였다. 주파수 특성, 필요한 기록 자계 강도를 만족시킬 목적으로 그 두께를 1. 0㎛ 이하로 하였다. 이러한 자기 헤드를 제조하고 자기 헤드를 탑재한 자기 기록 장치를 조립하였다.In addition, in order to realize high density recording, the width of the third magnetic film exposed on the sliding surface was set to 1.0 mu m or less. The thickness was set to 1.0 mu m or less for the purpose of satisfying the frequency characteristic and the required recording magnetic field strength. This magnetic head was manufactured and a magnetic recording device equipped with the magnetic head was assembled.

또한, 기록 장치의 신뢰성, 수명을 만족시킬 목적으로 상기에 기재하는 제1 절연성 또한 비자성막을 알루미나막 내지는 다이아몬드 입자를 포함하는 막을 주성분으로 하는 막으로부터 구성하였다.Further, in order to satisfy the reliability and life of the recording apparatus, the above-described first insulating and nonmagnetic film is constituted from a film mainly containing a film containing alumina film or diamond particles.

또한, 고주파 특성 및 필요한 기록 자계 강도의 양립을 목적으로서 제1 자성체막 및 제4 자성체막을 자성막과 비자성막을 적층한 다층막 또는 비저항 50μΩ㎝ 이상의 고전기 저항의 비정질 합금막으로부터 구성하였다. 또한, 제3 자성막을 비저항 20μΩ㎝ 이하의 Co-Ni-Fe를 주성분으로 하는 합금막으로부터 구성하였다. 또한, 상기 구조를 갖는 자기 헤드를 기록 장치에 탑재함으로서 고속이며 또한 고밀도의 자기 기록 장치를 실현하였다.In order to achieve both high frequency characteristics and required recording magnetic field strengths, the first magnetic film and the fourth magnetic film are composed of a multilayer film in which the magnetic film and the nonmagnetic film are laminated or an amorphous alloy film having a high resistivity of 50 μΩcm or more. Moreover, the 3rd magnetic film was comprised from the alloy film which has Co-Ni-Fe of a specific resistance of 20 microohm-cm or less as a main component. Further, by mounting the magnetic head having the above structure in the recording apparatus, a high speed and high density magnetic recording apparatus has been realized.

또한, 제조 비용 저감과 주파수 특성의 개선을 목적으로서 제1 자성막과 제2 자성막을 동일한 재료로 구성하였다. 동일 자기 헤드를 자기 기록 장치에 탑재함으로써 고속의 자기 기록 장치를 염가로 제조하였다.In addition, the first magnetic film and the second magnetic film were made of the same material for the purpose of reducing the manufacturing cost and improving the frequency characteristics. By mounting the same magnetic head on a magnetic recording apparatus, a high speed magnetic recording apparatus was manufactured at low cost.

또한, 제조 비용의 저감과 필요 기록 자계 강도의 양립을 실현하기 위해 제3 자성막의 포화 자속 밀도를 제2 자성막의 포화 자속 밀도에 비해 높게 하였다. 이 구성은 제3 자성막이 제2 자성막에 대해 매체의 회전 방향에 따라서 유출단측에 위치시키는 조건하에서 사용된다.In addition, in order to reduce the manufacturing cost and to realize the required recording magnetic field strength, the saturation magnetic flux density of the third magnetic film is made higher than that of the second magnetic film. This configuration is used under the condition that the third magnetic film is located on the outlet end side in accordance with the rotation direction of the medium with respect to the second magnetic film.

도 1은 오버행을 갖는 자기 기록 헤드의 부상면측으로부터 본 자성막의 형상의 설명도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Explanatory drawing of the shape of the magnetic film seen from the floating surface side of the magnetic recording head which has an overhang.

도 2는 자기 기록 헤드의 부상면에 수직면으로부터 본 단면도.2 is a sectional view seen from a plane perpendicular to the floating surface of the magnetic recording head.

도 3은 자기 기록 헤드의 부상면에 수직면으로부터 본 단면도.Fig. 3 is a sectional view seen from a plane perpendicular to the floating surface of the magnetic recording head.

도 4는 자기 기록 헤드 상면에서 본 상부 자성막과 상단부 자성막의 형상의 설명도.4 is an explanatory diagram of shapes of an upper magnetic film and an upper magnetic film seen from an upper surface of a magnetic recording head;

도 5는 자기 기록 헤드 상면에서 본 상부 자성막과 상단부 자성막의 형상의 설명도.Fig. 5 is an explanatory diagram of the shapes of the upper magnetic film and the upper magnetic film seen from the upper surface of the magnetic recording head;

도 6은 자기 기록 헤드 상면에서 본 상부 자성막과 상단부 자성막의 형상의 설명도.Fig. 6 is an explanatory diagram of the shapes of the upper magnetic film and the upper magnetic film seen from the upper surface of the magnetic recording head;

도 7은 자계(H)와 오버행 (t)와의 관계를 나타낸 선도.7 is a diagram showing a relationship between a magnetic field H and an overhang t.

도 8은 기록 재생 분리형 자기 헤드의 부분 단면 사시도.Fig. 8 is a partial sectional perspective view of the recording / reproducing separable magnetic head.

도 9는 기록용 박막 자기 헤드의 평면도.9 is a plan view of a thin film magnetic head for recording;

도 10은 자기 저항 효과형 자기 헤드의 막 구성을 나타낸 사시도.Fig. 10 is a perspective view showing the film configuration of a magnetoresistive effect magnetic head.

도 11은 자기 저항 효과형 자기 헤드의 막 구성도.11 is a film configuration diagram of a magneto-resistive effect type magnetic head.

도 12는 자기 기록 재생 장치의 평면도 및 단면도.12 is a plan view and a sectional view of the magnetic recording and reproducing apparatus.

도 13은 자기 기록 재생 장치의 동작 원리도.13 is an operation principle diagram of a magnetic recording and reproducing apparatus.

도 14는 자기 기록 헤드의 단면도.14 is a sectional view of a magnetic recording head.

도 15는 자기 기록 헤드의 단면도.Fig. 15 is a sectional view of the magnetic recording head.

도 16은 본 발명의 자기 헤드를 나타낸 개념도.16 is a conceptual diagram showing a magnetic head of the present invention.

도 17은 본 발명의 자기 헤드의 제조 방법을 나타낸 공정도.17 is a process chart showing the manufacturing method of the magnetic head of the present invention.

도 18은 본 발명의 일부를 구성하는 자성막 패턴의 형상을 나타낸 도면.18 is a view showing the shape of a magnetic film pattern constituting part of the present invention;

도 19는 제1 및 제4 자성막 패턴의 비저항을 변화시킨 경우의 주파수 특성도.Fig. 19 is a frequency characteristic diagram when the specific resistances of the first and fourth magnetic film patterns are changed.

도 20은 코어 부분의 비저항과 구동 주파수의 상한과의 관계를 나타낸 선도.20 is a diagram showing a relationship between a specific resistance of a core portion and an upper limit of a driving frequency.

도 21은 본 발명의 자기 헤드의 단면 구조도.21 is a cross-sectional structural view of the magnetic head of the present invention.

도 22는 자극(magnetic pole) 조건과 자계 강도의 관계 및 자계 경사의 관계를 나타낸 도면.Fig. 22 is a diagram showing a relationship between magnetic pole conditions, magnetic field strengths, and magnetic field gradients;

도 23은 제3 자성막의 체적과 주파수 특성의 관계를 나타낸 선도.Fig. 23 is a graph showing the relationship between the volume and the frequency characteristic of the third magnetic film.

도 24는 제3 자성막의 체적과 기록 가능한 주파수의 상한과의 관계를 나타낸 선도.Fig. 24 is a graph showing the relationship between the volume of the third magnetic film and the upper limit of the recordable frequency.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

1, 11, 15, 16, 18, 101, 103, 107 : 자성막1, 11, 15, 16, 18, 101, 103, 107: magnetic film

12, 14 : 절연막12, 14: insulating film

13, 109 : 코일13,109: coil

17, 102 : 갭막17, 102: gap film

21 : 비자성 금속층21: nonmagnetic metal layer

22, 45, 47 : 자성층22, 45, 47: magnetic layer

23 : 반강자성층23: antiferromagnetic layer

31 : 접속부31: connection

32 : 리드32: lead

40 : 자기 헤드40: magnetic head

43 : 기판43: substrate

51 : 박막 자기 디스크51: thin film magnetic disk

52 : 스핀들52: spindle

53, 202 : 헤드 위치 결정 기구53, 202: Head Positioning Mechanism

55 : 기록/재생 신호 처리계55: recording / playback signal processing system

104 : 자기 저항 효과막104: magnetoresistive film

105 : 전극105: electrode

106, 108 : 실드막106, 108: shield film

201 : 기록/재생 분리형 자기 헤드201: Separate recording / playback magnetic head

203 : 기록 매체203: recording medium

204 : 재생 신호 처리계204: reproduction signal processing system

<실시예 1><Example 1>

도 3은 본 발명의 기록 재생 분리형 자기 헤드의 기록 헤드 부분을 나타낸 단면도이다.3 is a sectional view showing a recording head portion of the recording / reproducing separate magnetic head of the present invention.

도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명은 기록 헤드에 관한 것이다. 비자성의 자기 갭막(17)을 통해 상부 자성막(11)과 하부 자성막(15)을 구비한 박막 자기 헤드에서, 상기 상부 자성막(11)은 상기 자기 갭측에 상기 자기 갭(17)을 형성하는단부에 상기 상부 자성막(11)에 상단부 자성막(16)이 형성되어 있다.As shown in Fig. 3, the present invention relates to a recording head. In a thin film magnetic head having an upper magnetic film 11 and a lower magnetic film 15 through a nonmagnetic magnetic gap film 17, the upper magnetic film 11 forms the magnetic gap 17 on the magnetic gap side. The upper magnetic film 16 is formed on the upper magnetic film 11 at one end.

그리고, 본 발명은 상기 상단부 자성막(16)의 부상면에 평행한 단면적이 상기 상부 자성막(11)의 상기 자기 갭을 갖는 부분으로 그 상기 단면적보다 작은 것이다.In the present invention, the cross-sectional area parallel to the rising surface of the upper magnetic film 16 is a portion having the magnetic gap of the upper magnetic film 11, which is smaller than the cross-sectional area.

또한, 상기 상단부 자성막(16)은 그 트랙폭 Tw가 상기 상부 자성막(11)의 트랙폭 Tw 보다도 작은 것이다.In addition, the track width Tw of the upper magnetic film 16 is smaller than the track width Tw of the upper magnetic film 11.

더욱, 본 발명은 상기 상단부 자성막(16)이 상기 상부 자성막(11) 보다도 부상면에서 부상면측에 돌출하고 있는 것이다.Further, in the present invention, the upper magnetic film 16 is more protruding from the floating surface to the floating surface side than the upper magnetic film 11.

본 발명의 박막 자기 헤드는 상기 상단부 자성막 포화 자속 밀도 1. 5 테슬라 이상의 도금 자성막으로 이루어지며 상기 도금 자성막의 프레임폭 보다도 넓은 폭으로 비저항이 50μΩ㎝ 이상인 도금 혹은 스퍼터링법으로 형성된 상기 상부 자성막으로 이루어지는 것이다.The thin film magnetic head of the present invention comprises a plated magnetic film having a magnetic flux saturation magnetic flux density of 1.5 tesla or higher and the upper magnetic field formed by a plating or sputtering method having a specific resistance of 50 μΩcm or more at a width wider than the frame width of the plated magnetic film. It consists of the tabernacle.

또한, 본 발명은 상기 상단부 자성막(16) 및 하단부 자성막(18)은 서로 같은 트랙폭을 갖으며 상기 상부 자성막 및 자기 저항 효과막을 자기 실드하는 상부 실드막은 상기 트랙폭보다도 넓은 폭을 갖으며 상기 상부 자성막(11)은 다층의 자성막으로 이루어질 수 있다.In the present invention, the upper magnetic film 16 and the lower magnetic film 18 have the same track width, and the upper shield film that magnetically shields the upper magnetic film and the magnetoresistive effect film has a width wider than the track width. The upper magnetic layer 11 may be formed of a multilayer magnetic layer.

본 발명은 도시하지 않았지만 정보의 기록을 행하는 기록 헤드와 판독을 행하는 재생 헤드가 일체로 형성된 기록 재생 분리형 자기 헤드로 이루어진 것이다.Although the present invention is not shown, the recording and reproducing magnetic head is formed integrally with the recording head for recording information and the reproducing head for reading.

이하에 본 발명의 기록 헤드를 제작하는 공정에 대해 설명한다. 도 3의 하부 자성막(15)의 아래에는 갭막을 통해 거대 자기 저항 효과형 헤드가 있다. 하부자성막(15)은 거대 자기 저항 효과형 헤드의 실드의 역할을 한다. 혹은 자기 터널 스핀 밸브(magnetic tunnel spin valve; 산화물막을 이용한 거대 자기 저항 효과형) 헤드가 아래에 형성되는 경우에는 실드(shield)와 전극을 겸한 막으로서의 역할이 있다. 이들의 막에는 고투자율의 강자성막이 이용된다. Co나 Ni나 Fe를 포함하는 강자성막과 산화물막의 다층막이라도 좋다. 그 위에, 프레임을 레지스트 혹은 부분적으로 산화물막을 포함하는 레지스트로 형성하여, 프레임과 프레임 간에 강자성막을 전기 도금하여 하단부 자성막(18)을 형성한다. 쓰롯트 하이트는 10㎛ 이하이다. 이 도금막에는 Co·Ni·Fe합금, Co·Fe합금, Ni·Fe합금 혹은 이들의 합금에 반금속 (metalloid)원소를 첨가한 합금이 적합하다. 이 하단부 자성막(18) 상에 갭막(17)을 도금한다. 갭막(17)에는 Cr 합금이나 Ta, W, Ti, Mo 등의 합금이 이용된다. 갭막(17) 상에는 상단부 자성막(16)을 도금한다. 갭막에 접한 도금막에 필요한 자기 특성은 포화 자속 밀도가 높은 것이다. 포화 자속 밀도 1.5T 이상의 막을 사용함으로써 4Gb/in2의 기록을 달성할 수 있다. 상단부 자성막(16)은 하단부 자성막(18)과 마찬가지의 자성막으로 좋다. 도 5의 구조의 기록 헤드를 제작하기 위해서는 프레임을 제거 후, 하부 절연막(14)을 형성하고 그 위에 코일(13)을 형성 후, 절연막(12) 상에 상부 자성막을 도금 혹은 스퍼터링법으로 제작한다. 상부 자성막에 필요한 자기 특성은 높은 비저항이다. 비저항이 50μΩ㎝ 이상, 포화 자속 밀도 1. 0T 이상의 막일 필요가 있다. 상기한 도금막의 특성과 상부 자성막(하부 자성막(15)도 상부 자성막의 특성과 동등한 것이 바람직함)의 특성을 조합함으로써, 트랙폭 0. 5㎛에서 2000Oe 이상의 기록 자계가 발생하는 것을 확인하였다. 또한, 도 4의 구조보다도 도 5 혹은 도 6의 구조의 기록 헤드쪽이 쓰기에 번짐이 적은 것을 확인함과 동시에 기록 자계 강도에서 현저한 차는 보이지 않았다. 자계 강도의 값은 상부 자성막(11)의 포화 자속 밀도에도 의존하기 때문에, 상부 자성막의 포화 자속 밀도는 높은 쪽이 바람직하다. 또한, 도 5의 구조의 헤드의 상부 자성막의 부상면측의 위치는 부상면에서 10㎚ 이상 떨어짐으로써 효과가 있는 것이 확인되고 있다. 도 6의 경우도 상부 자성막의 위치는 부상면에서 10㎚ 떨어짐으로써 효과가 확인된다. 실시한 오버행 t의 값은 10㎚ 내지 100㎛의 범위이다.The following describes the process for producing the recording head of the present invention. Below the lower magnetic film 15 of FIG. 3, there is a giant magnetoresistive head through a gap film. The lower magnetic layer 15 serves as a shield of the giant magnetoresistive head. Alternatively, when a magnetic tunnel spin valve (large magnetoresistance effect type) head using an oxide film is formed below, it serves as a film that serves as a shield and an electrode. For these films, high magnetic permeability ferromagnetic films are used. A multilayer film of a ferromagnetic film and an oxide film containing Co, Ni, or Fe may be used. On the frame, a frame is formed of a resist or a resist partly comprising an oxide film, and the ferromagnetic film is electroplated between the frame and the frame to form the lower magnetic film 18. The throat height is 10 μm or less. Co-Ni, Fe alloys, Co-Fe alloys, Ni-Fe alloys or alloys in which a metalloid element is added to these alloys are suitable for this plating film. The gap film 17 is plated on the lower magnetic film 18. As the gap film 17, an alloy such as Cr alloy, Ta, W, Ti, Mo, or the like is used. The upper magnetic film 16 is plated on the gap film 17. The magnetic property required for the plating film in contact with the gap film is that of high saturation magnetic flux density. By using a film with a saturation magnetic flux density of 1.5T or more, recording of 4Gb / in 2 can be achieved. The upper magnetic film 16 may be the same magnetic film as the lower magnetic film 18. In order to fabricate the recording head of FIG. 5, after removing the frame, the lower insulating film 14 is formed and the coil 13 is formed thereon. The upper magnetic film is then plated or sputtered on the insulating film 12. . The magnetic properties required for the upper magnetic film are high resistivity. It is necessary that the film has a specific resistance of 50 µ? Cm or more and a saturation magnetic flux density of 1.0T or more. By combining the above-described properties of the plated film and the properties of the upper magnetic film (the lower magnetic film 15 is also preferably equivalent to that of the upper magnetic film), it is confirmed that a recording magnetic field of 2000Oe or more occurs at a track width of 0.5 mu m. It was. In addition, it was confirmed that the recording head of the structure of FIG. 5 or FIG. 6 had less blurring in writing than the structure of FIG. 4 and no significant difference was observed in the recording magnetic field strength. Since the value of the magnetic field strength also depends on the saturation magnetic flux density of the upper magnetic film 11, the higher the saturation magnetic flux density of the upper magnetic film is preferable. In addition, it has been confirmed that the position on the floating surface side of the upper magnetic film of the head of the structure of FIG. 5 is effective by falling 10 nm or more from the floating surface. Also in the case of Figure 6, the position of the upper magnetic film is confirmed by the effect of falling 10nm away from the surface. The value of the performed overhang t is 10 nm-100 micrometers.

도 5 및 도 6에 도시한 바와 같이, 상부 자성막(11)은 모두 부상면이 되는 선단부가 폭이 좁고 삼각 플라스크 형태와 같이 전체적으로 둥그스름한 형상을 갖는 것이다.As shown in Figs. 5 and 6, the upper magnetic film 11 has a narrow front end portion, which is a floating surface, and has a rounded shape as a triangular flask.

도 8은 기록 재생 자기 헤드의 부상면 근방의 구조를 나타낸 사시도이다. 거대 자기 저항 효과막(104)은 하부 실드막(106)과 상부 실드막(108)의 사이에 절연막을 통해 배열되며 전극(105)을 통해서 센스(sense) 전류가 흐른다. 또한, 기록 헤드는 상부 실드막(108) 상에 하단부 자성막(103), 갭막(102), 상단부 자성막(101), 상부 자성막(107) 및 코일(109)로 이루어진다. 상부 자성막(107)은 부상면으로부터 안 쪽(10㎚ 이상) 위치에 형성되어 있다. 이러한 구성으로 함으로써 갭막(102)의 부상면 부근의 자계의 계곡선(isomagnetic line)은 상부 자성막(107) 단부의 영향이 적으며 또한 높은 자계 경사가 얻어지며 양호한 기록 특성을 갖는다.8 is a perspective view showing the structure near the floating surface of the recording / reproducing magnetic head. The giant magnetoresistive film 104 is arranged between the lower shield film 106 and the upper shield film 108 through an insulating film, and sense current flows through the electrode 105. The recording head also includes a lower magnetic film 103, a gap film 102, an upper magnetic film 101, an upper magnetic film 107, and a coil 109 on the upper shield film 108. The upper magnetic film 107 is formed inward (10 nm or more) from the floating surface. With such a configuration, the magnetic lines of the magnetic field near the floating surface of the gap film 102 have less influence of the upper magnetic film 107 end portion, high magnetic field inclination is obtained, and have good recording characteristics.

본 실시예에서는 전술한 고비저항막을 기록 헤드에 이용하여 기록 헤드와 이하에 나타낸 재생 헤드를 조합한 것이다. 재생 헤드에는 거대 자기 저항 효과막(104)이 이용되며 전류를 흘리기 위한 전극(105)이 거대 자기 저항 효과막(104)에 전기적으로 접촉하고 있다. 전극(105) 및 거대 자기 저항 효과막(104) 아래에는 하부 갭막을 통해 하부 실드막(106)이 있다. 거대 자기 저항 효과막(104) 상에는 상부 갭막을 통해 상부 실드막이 되는 고비저항 하부 자성막(108)이 있으며 고비저항 하부 자성막(108)은 기록 헤드의 하부 자극의 일부가 되고 있다. 이 고비저항 하부 자성막(108)의 일부를 고비저항막으로 해서 기록 헤드의 고주파 특성을 개선하는 것이 가능하다. 기록 헤드의 갭막(102)은 그 상하의 자성막과 폭이 같고 상하의 고포화 자속 밀도막(101, 103)은 다른 자극 부분보다도 고포화 자속 밀도의 재료가 바람직하다. 이 고포화 자속 밀도막(101) 상에 고비저항 상부 자성막(107)을 형성한다. 기록 헤드의 코일(109)에 전류를 흘리고 데이타는 기록 헤드로부터의 자계에 의해 기록 매체(110)에 기록된다. 또한, 재생 헤드는 강자성 터널막을 이용한 다른 구조의 헤드라도 좋다.In this embodiment, the recording head and the reproduction head shown below are combined using the above-described high resistivity film for the recording head. The giant magnetoresistive film 104 is used for the regeneration head, and the electrode 105 for flowing current is in electrical contact with the giant magnetoresistive film 104. Below the electrode 105 and the giant magnetoresistive film 104 is a lower shield film 106 through a lower gap film. On the giant magnetoresistive film 104, there is a high resistivity lower magnetic film 108 that becomes an upper shield film through the upper gap film, and the high resistivity lower magnetic film 108 becomes part of the lower magnetic pole of the recording head. It is possible to improve the high frequency characteristics of the recording head by using a part of the high resistivity lower magnetic film 108 as a high resistivity film. The gap film 102 of the recording head has the same width as the upper and lower magnetic films, and the upper and lower highly saturated magnetic flux density films 101 and 103 are preferably of a higher saturated magnetic flux density than other magnetic pole portions. A high resistivity upper magnetic film 107 is formed on the highly saturated magnetic flux density film 101. A current flows through the coil 109 of the recording head, and data is recorded on the recording medium 110 by the magnetic field from the recording head. Also, the regeneration head may be a head having another structure using a ferromagnetic tunnel membrane.

도 9는 도 8의 기록 헤드 부분을 위에서 본 평면도이다. 상부 자성막(107)은 부상면에 전술한 상단부 자성막이 돌출한 형상을 갖으며 선단부의 폭이 좁아진 3각 플라스크와 같이 전체적으로 둥그스름한 평면 형상을 갖는다. 코일(109)은 평면도와 같은 나선형으로 권취하고 있으며 외부 리드(32)에 접속부(31)로 접속되어 있다. 상부 실드막(108)은 하부 자성막으로서 역할을 한다. 하단부 자성막이 갭막(102)과 접하는 상부 실드막(108)의 단부에 형성되어 있다.9 is a plan view of the recording head portion of FIG. 8 viewed from above. The upper magnetic film 107 has a shape in which the above-mentioned upper magnetic film protrudes on the floating surface, and has an overall rounded flat shape, such as a triangular flask whose tip portion is narrowed. The coil 109 is wound in a spiral like a plan view, and is connected to the external lead 32 by a connecting portion 31. The upper shield film 108 serves as the lower magnetic film. The lower magnetic film is formed at the end of the upper shield film 108 in contact with the gap film 102.

도 10은 본 발명의 기록 재생 분리형 자기 헤드의 재생 헤드에 이용한 스핀 밸브 자기 저항 효과막을 이용한 소자의 부분 단면 사시도이다.Fig. 10 is a partial cross-sectional perspective view of the element using the spin valve magnetoresistive film used for the reproducing head of the recording / reproducing separate magnetic head of the present invention.

본 발명의 MR 센서는 유리, 세라믹과 같은 적절한 기판(43) 상에 연질 강자성체의 제1 자성층(45), 비자성 금속층(21) 및 강자성체의 제2 자성층(22)을 부착시킨 구조이다. 강자성층(45, 22)은 자계가 인가되어 있지 않은 경우는 개개의 자화 방향이 약 90도의 각도차가 되도록 한다. 또한, 제2 자성층(22)의 자화 방향은 자성 매체의 자계 방향과 동일한 방향으로 고정된다. 자계가 인가되어 있지 않은 경우의 연질 강자성체의 제1 자성층(45)의 자화 방향은 제2 자성층의 자계 방향에 대해 90도 기울어져 있다. 인가된 자계에 감응하여 제1 자성층(45)에 자화 회전이 생긴다.The MR sensor of the present invention has a structure in which the first magnetic layer 45 of the soft ferromagnetic material, the nonmagnetic metal layer 21 and the second magnetic layer 22 of the ferromagnetic material are attached to a suitable substrate 43 such as glass or ceramic. The ferromagnetic layers 45 and 22 have respective magnetization directions of about 90 degrees when no magnetic field is applied. In addition, the magnetization direction of the second magnetic layer 22 is fixed in the same direction as the magnetic field direction of the magnetic medium. The magnetization direction of the first magnetic layer 45 of the soft ferromagnetic material when no magnetic field is applied is inclined 90 degrees with respect to the magnetic field direction of the second magnetic layer. In response to the applied magnetic field, magnetization rotation occurs in the first magnetic layer 45.

본 실시예에서의 제1 자성층(45), 비자성 금속층(21), 제2 자성층(22) 및 반강자성체층(23)은 후술하는 도 11에 도시한 적층 구조로 이용한 막 구성을 이용할 수 있다. 또한 경질 강자성층(47)에는 Co82Cr9Pt9, Co80Cr8Pt9(ZrO2)3등을 이용할 수 있다. 도 16의 막 구성은 본 실시예에서의 제1 자성층(45)과 제2 자성층(22)에 상당하는 막구성을 갖으며 이들의 자계 방향은 전술한 것과 마찬가지로 형성되어 있다.In the present embodiment, the first magnetic layer 45, the nonmagnetic metal layer 21, the second magnetic layer 22, and the antiferromagnetic layer 23 can use a film structure used in the laminated structure shown in FIG. . In addition, Co 82 Cr 9 Pt 9 , Co 80 Cr 8 Pt 9 (ZrO 2 ) 3, or the like may be used for the hard ferromagnetic layer 47. The film structure in FIG. 16 has a film structure corresponding to the first magnetic layer 45 and the second magnetic layer 22 in this embodiment, and their magnetic field directions are formed in the same manner as described above.

본 실시예에서는 연질 강자성체의 제1 자성층(45)의 부착을 행하기 전에 예를 들면, Ta, Ru 또는 CrV와 같은 적절한 하부막(24)을 기판(43) 상에 부착시킨다. 하부막(24)을 부착시킬 목적은 후에 부착시키는 층의 조직, 결정 입도 및 형태를최적화시키기 위해서이다. 층의 형태는 큰 MR 효과를 얻는데 매우 중요하다. 그것은 층의 형태에 따라 비자성 금속층(21)의 매우 얇은 스페이서층을 이용할 수 있기 때문이다. 또한, 분류(shunt current)에 의한 영향을 최소로 하기 위해서 하부층 전극은 고전기 저항이 좋다. 하부층은 상술한 바와 같이 역구조로서도 사용할 수 있다. 기판(43)은 충분한 고전기 저항으로 충분히 편평하다. 또한 적절한 결정 구조를 갖는 기판(43)의 하부막(24)은 불필할 수 있다.In this embodiment, a suitable lower film 24 such as, for example, Ta, Ru, or CrV is attached on the substrate 43 before the first magnetic layer 45 of the soft ferromagnetic material is attached. The purpose of attaching the underlying film 24 is to optimize the organization, crystal grain size and shape of the layer to be deposited later. The shape of the layer is very important for obtaining a large MR effect. This is because a very thin spacer layer of the nonmagnetic metal layer 21 may be used depending on the form of the layer. In addition, in order to minimize the effect of shunt current, the lower layer electrode has a high electric resistance. The lower layer can also be used as an inverse structure as described above. The substrate 43 is sufficiently flat with sufficient high electric resistance. In addition, the lower layer 24 of the substrate 43 having an appropriate crystal structure may be unnecessary.

제1 자성층(45)은 지면에 평행한 방향으로 단일의 도메인 상태로 유지시키기 위한 세로 방향으로 바이어스를 생기게 하는 수단이 이용된다. 세로 방향으로 바이어스를 생기게 하는 수단은 고포화 보자력(coercive force), 고직각도 또한 고전기 저항을 갖는 경질 강자성층(47)이 이용된다. 경질 강자성층(47)은 연질 강자성체의 제1 자성층(45)의 단부의 영역에 접촉하고 있다. 경질 강자성층(47)의 자화 방향은 지면에 평행하다.The first magnetic layer 45 is a means for causing a bias in the longitudinal direction to maintain the single domain state in a direction parallel to the ground. As a means for generating the bias in the longitudinal direction, a hard ferromagnetic layer 47 having high coercive force, high squareness and high electric resistance is used. The hard ferromagnetic layer 47 is in contact with the region of the end portion of the first magnetic layer 45 of the soft ferromagnetic material. The magnetization direction of the hard ferromagnetic layer 47 is parallel to the ground.

반강자성층을 제1 자성층(45)의 단부의 영역에 접촉시켜서 부착시킬 수 있으며 필요한 세로 방향에 필요한 바이어스를 생기게 한다. 이들 반강자성층은 강자성체의 제2 자성층(22)의 자화 방향을 고정시키기 위해서 이용되는 반강자성층(23)보다도 충분히 다른 블로킹(blocking) 온도를 갖는 것이 좋다.The antiferromagnetic layer can be attached by contacting the area of the end of the first magnetic layer 45 and creates the necessary bias in the required longitudinal direction. These antiferromagnetic layers preferably have a blocking temperature sufficiently different from that of the antiferromagnetic layer 23 used to fix the magnetization direction of the second magnetic layer 22 of the ferromagnetic material.

다음에, 예를 들면 Ta와 같은 고저항의 재료의 캡핑층(capping layer)을 MR 센서 상부 전체에 부착시키는 것이 바람직하다. 전극(28)이 구비되며 MR 센서 구조체와 전류원 및 검지 수단 간에 회로가 형성된다.Next, it is preferable to attach a capping layer of a high resistance material such as, for example, Ta to the entire top of the MR sensor. An electrode 28 is provided and a circuit is formed between the MR sensor structure and the current source and the detection means.

도 11은 도 10의 비자성 금속층(21), 제2 자성층(22) 및 반강자성체층(23)의각 막 대신에 형성한 본 발명의 자기 저항 효과 소자를 구성하는 막으로 고주파 마그네트론(magnetron) 스퍼터링 장치에 의해 이하와 같이 제작하였다. 아르곤 3밀리토르의 분위기 중에서 두께 1 mm, 직경 3 inch의 세라믹 기판에 이하의 재료를 순차 적층하여 제작하였다. 스퍼터링 타겟으로서 탄타르, 니켈 -20at% 철 합금, 동, 코발트, 크롬 -50at% 망간의 각 타겟을 이용하였다. 크롬 - 망간 합금막의 제작으로는 크롬 - 망간 타겟 상에 첨가 원소의 1 ㎤의 칩을 배치하고 칩의 수를 증가 혹은 감소시킴으로서 조성을 조정하였다. 또한, 강자성층으로서 Co-Fe-Ni층을 만들 때는 코발트 타겟 상에 니켈, 철의 1㎤의 칩을 배치하여 조성을 조정하였다.FIG. 11 is a film constituting the magnetoresistive element of the present invention formed in place of the respective films of the nonmagnetic metal layer 21, the second magnetic layer 22, and the antiferromagnetic layer 23 of FIG. 10. FIG. It produced by the apparatus as follows. In the atmosphere of 3 millitorr of argon, the following materials were sequentially laminated | stacked and produced on the ceramic substrate of thickness 1mm and 3inch in diameter. As the sputtering target, each target of tantar, nickel-20 at% iron alloy, copper, cobalt, and chromium-50 at% manganese was used. In the production of the chromium-manganese alloy film, the composition was adjusted by arranging 1 cm 3 chips of additional elements on the chromium-manganese target and increasing or decreasing the number of chips. In addition, when making a Co-Fe-Ni layer as a ferromagnetic layer, 1 cm <3> chips of nickel and iron were arrange | positioned on a cobalt target, and the composition was adjusted.

적층막은 다음과 같이 형성한다. 각 타겟을 배치한 캐소드에 고주파 전력을 인가하여 장치 내에 플라즈마를 발생시킨다. 각 캐소드마다 배치된 셔터(shutter)를 하나씩 개폐하여 순차적으로 각 층을 형성하였다. 막 형성 시에는 영구 자석을 이용하여 기판에 평행하게 약 30Oe의 자계를 인가하여 일축 이방성(uniaxial anisotropy)을 가지게 함과 동시에, 크롬-망간막의 교환 결합 자계의 방향을 인가 자계의 방향으로 유도하였다.The laminated film is formed as follows. High frequency power is applied to the cathode on which each target is disposed to generate plasma in the apparatus. Each layer was formed by sequentially opening and closing one shutter disposed at each cathode. In forming the film, a magnetic field of about 30Oe was applied in parallel to the substrate using a permanent magnet to have uniaxial anisotropy, and the direction of the exchange coupling magnetic field of the chromium-manganese film was induced in the direction of the applied magnetic field.

도 12는 본 발명의 기록 재생 분리형 자기 헤드를 이용한 자기 디스크 장치의 일례를 나타낸다. 기록 재생 분리형 자기 헤드(40)는 Al2O3소결체로 이루어진 슬라이더에 설치되며 스핀들(spindle; 52)로 회전하는 기록 매체로서 박막 자기 디스크(51)를 부상하고 헤드 위치 결정 기구(53)에 의해 고정밀도로 위치 제어되어 있다. 기록 재생 분리형 자기 헤드(40)에 의해 판독된 재생 신호나 기록 신호는기록 재생 신호 처리계(55)에 의해서 신호 처리된다.Fig. 12 shows an example of a magnetic disk apparatus using the recording / reproducing separate magnetic head of the present invention. The recording / reproducing separate magnetic head 40 is mounted on a slider made of an Al 2 O 3 sintered body and floats on the thin film magnetic disk 51 as a recording medium which is rotated by a spindle 52 and is moved by the head positioning mechanism 53. Highly accurate position control. The reproduction signal and the recording signal read out by the recording reproduction separation type magnetic head 40 are signal processed by the recording reproduction signal processing system 55.

도 13은 도 12에 도시한 기록 재생 분리형 자기 헤드를 이용한 자기 디스크 장치의 동작 원리도이다. 기록 재생 분리형 자기 헤드(201)는 모터로 회전하는 기록 매체(203)인 자기 디스크 상에서 헤드 위치 결정 기구(202)에 의해 기록 매체(203) 상에서의 위치가 제어된다. 기록 재생 분리형 자기 헤드(201)는 재생 신호 처리계(204)와 접속되어 있다.FIG. 13 is an operation principle diagram of the magnetic disk device using the recording / reproducing separate magnetic head shown in FIG. In the recording / reproducing type magnetic head 201, the position on the recording medium 203 is controlled by the head positioning mechanism 202 on the magnetic disk, which is the recording medium 203 rotating by a motor. The recording / reproducing separate magnetic head 201 is connected to the reproduction signal processing system 204.

본 장치는 자기 디스크를 회전하는 DC모터, 정보를 기록하고 판독하기 위한 자기 헤드, 이것을 지지하여 자기 디스크에 대해 위치를 바꾸는 수단의 위치 결정 장치 즉, 액튜에이터(actuator)와 음성 코일 모터 및 장치 내부를 청정하게 유지하기 위한 에어 필터(air filter) 등으로 이루어진다. 액튜에이터는 캐리지(carriage)와 레일(rail), 베어링(bearing)으로 이루어지며 음성 코일 모터는 음성 코일, 마그네트로 이루어진다. 이들의 도면에서는 동일한 회전축으로 8매의 자기 디스크를 부착하고 합계의 기억 용량을 크게한 예를 도시하고 있다.The apparatus includes a DC motor for rotating a magnetic disk, a magnetic head for recording and reading information, a positioning device of a means for supporting and changing a position with respect to the magnetic disk, that is, an actuator, a voice coil motor, and an inside of the device. It consists of an air filter (air filter) etc. to keep it clean. The actuator consists of a carriage, a rail and a bearing, and the voice coil motor consists of a voice coil and a magnet. These figures show an example in which eight magnetic disks are attached to the same rotation axis and the total storage capacity is increased.

자기 디스크는 표면 거칠기 RMAX가 100Å 이하, 바람직하게는 50Å 이하의 표면성이 양호한 매체로 한다. 자기 디스크는 강성기체(rigid substrate)의 표면에 진공 성막(vaccum film formation)법에 의해서 자기 기록층을 형성하고 있다. 자기 기록층으로서는 자성 박막이 이용된다. 진공 성막법에 의해서 형성되는 자기 기록층의 막 두께는 0.5㎛ 이하이므로, 강성 기체의 표면성이 그대로 기록층의 표면성으로서 반영된다. 따라서, 강성기체는 표면 거칠기 RMAX가 100Å 이하인 것을사용한다. 그와 같은 강성 기체로서는 유리, 화학강화된 소다 알루미늄노규산(chemically strenthened soda aluminosilicate) 유리 또는 세라믹을 주성분으로 하는 강성기체가 적합하다.A magnetic disk is to be a surface roughness R MAX is 100Å or less, preferably the surface of the medium favorable than 50Å. The magnetic disk forms a magnetic recording layer on the surface of a rigid substrate by a vacuum film formation method. A magnetic thin film is used as the magnetic recording layer. Since the film thickness of the magnetic recording layer formed by the vacuum film forming method is 0.5 m or less, the surface property of the rigid substrate is reflected as the surface property of the recording layer as it is. Therefore, the rigid gas uses a surface roughness R MAX of 100 GPa or less. As such a rigid gas, a rigid gas mainly composed of glass, chemically-strengthened soda aluminosilicate glass or ceramic is suitable.

또한, 자성층이 금속이나 합금 등의 경우에는 표면에 산화물층, 질화물층을 설치하거나 표면을 산화피막으로 하는 것이 바람직하다. 또한, 탄소 보호층의 사용 등도 바람직하다. 이렇게 함에 따라 자기 기록층의 내구성이 향상된다. 극히 저부상량으로 기록 재생하는 경우나 접촉, 스타트, 스톱 시에서도 자기 디스크의 손상을 방지할 수 있다.In the case where the magnetic layer is a metal, an alloy, or the like, it is preferable to provide an oxide layer and a nitride layer on the surface or to make the surface an oxide film. Moreover, use of a carbon protective layer is also preferable. By doing so, the durability of the magnetic recording layer is improved. Damage to the magnetic disk can be prevented even in the case of recording / reproducing at an extremely low float amount or in contact, start and stop.

이러한 구성으로 평가한 본 발명에 의한 기록 헤드의 성능 (overwrite characteristic; 오버라이트 특성)을 측정한 결과, 40㎒ 이상의 고주파 영역에서도 -50㏈ 정도의 우수한 기록 성능이 얻어졌다.As a result of measuring the performance (overwrite characteristic) of the recording head according to the present invention evaluated in such a configuration, excellent recording performance of about -50 Hz was obtained even in a high frequency region of 40 MHz or more.

본 실시예에 의하면, 고보자력 매채에 대해서도 고주파 영역에서도 충분히 기록 가능하며 미디어 전송 속도 15MB/초 이상, 기록 주파수 45㎒ 이상, 자기 디스크 4000rpm 이상의 데이타의 고속 전송, 억세스 시간 단축, 기록 용량의 증대와 이방성 자기 저항 효과를 기초로서 우수한 MR 효과를 갖는 고감도의 MR 센서가 얻어진다. 따라서, 면기록 밀도로서 3Gb/in2이상의 자기 디스크 장치가 얻어진다.According to this embodiment, even a high coercive force can be sufficiently recorded even in the high frequency range, and the data transfer speed of 15MB / sec or more, recording frequency of 45MHz or more, high speed transfer of data of magnetic disk 4000rpm or more, shortening of access time, increase of recording capacity, On the basis of the anisotropic magnetoresistance effect, a highly sensitive MR sensor having an excellent MR effect is obtained. Thus, a magnetic disk device of 3 Gb / in 2 or more as the surface recording density is obtained.

<실시예 2><Example 2>

도 14는 도 3 대신에 비자성의 자기 갭막(17)을 통해 상부 자성막(11)과 하부 자성막(15)을 구비한 기록용 박막 자기 헤드의 단면도이다. 하부 자성막(15)의자기 갭측에 상기 자기 갭을 통해 상기 자기 갭을 형성하는 단부에 하단부 자성막(18)이 형성된 것이다.FIG. 14 is a cross-sectional view of the recording thin film magnetic head having the upper magnetic film 11 and the lower magnetic film 15 through the nonmagnetic magnetic gap film 17 instead of FIG. The lower magnetic film 18 is formed at an end of the lower magnetic film 15 to form the magnetic gap through the magnetic gap on the magnetic gap side.

그리고, 하단부 자성막은 그 부상면에 평행한 단면적이 하부 자성막의 상기 자기 갭을 갖는 부분으로 그 상기 단면적보다 작게 한 것이다.The lower end magnetic film is a portion having the magnetic gap of the lower magnetic film in a cross-sectional area parallel to the floating surface thereof and smaller than the cross-sectional area.

또한, 하단부 자성막은 그 트랙폭 하부 자성막의 트랙폭보다도 작게한 것이다.The lower magnetic film is smaller than the track width of the track width lower magnetic film.

또한, 하단부 자성막은 하부 자성막보다도 부상면에서 부상면측에 돌출시킨 것이다.In addition, the lower magnetic film protrudes from the floating surface to the floating surface side than the lower magnetic film.

본 실시예의 하단부 자성막은 포화 자속 밀도 1. 5 테슬라 이상의 도금 자성막으로 이루어진 것이다. 하단부 자성막은 도금 자성막의 프레임폭보다도 넓은 폭으로 비저항이 50μΩ㎝ 이상인 도금 혹은 스퍼터링법으로 형성된 것이다.The lower magnetic film of this embodiment is composed of a plated magnetic film having a saturation magnetic flux density of 1.5 Tesla or more. The lower magnetic film is formed by a plating or sputtering method having a specific resistance of 50 mu OMEGA cm or more at a width wider than that of the plating magnetic film.

상단부 자성막(16) 및 하단부 자성막(18)은 서로 같은 트랙폭을 갖고 있다. 상기 상부 자성막 및 자기 저항 효과막을 자기 실드하는 상부 실드막은 상기 트랙폭보다도 넓은 폭을 갖으며 상기 상부 자성막은 다층의 자성막에 의해서 구성할 수 있다.The upper magnetic film 16 and the lower magnetic film 18 have the same track widths. The upper shield film which magnetically shields the upper magnetic film and the magnetoresistive effect film has a width wider than the track width, and the upper magnetic film can be constituted by a multilayer magnetic film.

<실시예 3><Example 3>

위와 유사하게, 도 15는 도 3 대신에 비자성의 자기 갭막(17)을 통해 상부 자성막(11)과 하부 자성막(15)을 구비한 박막 자기 헤드의 단면도이다. 상부 자성막(11) 및 하부 자성막(15)은 상기 자기 갭측에 상기 자기 갭을 통해 상기 자기 갭을 형성하는 단부의 상기 상부 자성막에 상단부 자성막 및 상기 하부 자성막에 하단부 자성막이 형성된 것이다.Similarly, FIG. 15 is a cross-sectional view of a thin film magnetic head having an upper magnetic film 11 and a lower magnetic film 15 through a nonmagnetic magnetic gap film 17 instead of FIG. 3. The upper magnetic film 11 and the lower magnetic film 15 are formed with an upper magnetic film on the upper magnetic film and an lower magnetic film on the lower magnetic film at the end of forming the magnetic gap on the magnetic gap side through the magnetic gap. .

또한, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 그 부상면에 평행한 단면적이 상기 상부 자성막 및 하부 자성막의 상기 자기 갭을 갖는 부분으로 그 단면적보다 작게 한 것이다.In addition, the upper magnetic film and the lower magnetic film have a cross-sectional area parallel to their floating surface and have a smaller magnetic cross section than the upper magnetic film and the lower magnetic film.

상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 그 트랙폭이 상기 상부 자성막 및 하부 자성막의 트랙폭보다도 더욱 작게 한 것이다.The track width of the upper magnetic film and the lower magnetic film is smaller than that of the upper magnetic film and the lower magnetic film.

그리고, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 상기 상부 자성막 및 하부 자성막보다도 부상면에서 부상면측에 돌출시킨 것이다. 본 실시예에서는 하부 자성막(15)은 상부 자성막(11)의 선단보다 약간 돌출되어 있지만, 동일한 상태 그대로가 좋다.The upper magnetic film and the lower magnetic film protrude from the surface of the floating surface to the surface of the floating surface than the upper magnetic film and the lower magnetic film. In the present embodiment, the lower magnetic film 15 slightly protrudes from the tip of the upper magnetic film 11, but may be left in the same state.

또한, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 포화 자속 밀도 1. 5 테슬라 이상의 도금 자성막으로 이루어지며 상기 도금 자성막의 프레임폭보다도 넓은 폭으로 비저항이 50μΩ㎝ 이상인 도금 혹은 스퍼터링법으로 형성시켰다.The upper magnetic film and the lower magnetic film are each formed of a plated magnetic film having a saturation magnetic flux density of 1.5 Tesla or more, and are formed by a plating or sputtering method having a specific resistance of 50 μΩcm or more at a width wider than the frame width of the plated magnetic film.

또한, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 서로 같은 트랙폭을 갖고 있다. 상기 상부 자성막 및 자기 저항 효과막을 자기 실드하는 상부 실드막은 상기 트랙폭보다도 넓은 폭을 갖으며 상기 상부 자성막은 다층의 자성막에 의해서 구성할 수 있다.In addition, the upper magnetic film and the lower magnetic film have the same track width. The upper shield film which magnetically shields the upper magnetic film and the magnetoresistive effect film has a width wider than the track width, and the upper magnetic film can be constituted by a multilayer magnetic film.

<실시예 4><Example 4>

본 발명을 적용한 자기 헤드의 실시예를 도 16에 진술한다. 도 16a는 단면 구조도, 도 16b는 평면도, 도 16c는 부상면의 평면도이다.An embodiment of a magnetic head to which the present invention is applied is shown in FIG. FIG. 16A is a cross-sectional structural view, FIG. 16B is a plan view, and FIG. 16C is a plan view of the floating surface.

본 발명에서 진술한 제1 자성막은 도면에 나타낸 하부 코어(125)에 대응한다. 또한, 제4 자성막은 상부 코어(127)에 대응한다. 제1 자성막과 제4 자성막과의 사이에는 코일(26)이 존재한다. 코일(126)은 두께 2㎛의 Cu, Au, Al, Ta, Mo 등을 주성분으로 하는 도전성의 재료로 형성되어 있다. 절연재(138)는 코일(126)과 코어(127)와의 전기적인 절연을 유지하는 목적으로 충전되어 있다.The first magnetic film stated in the present invention corresponds to the lower core 125 shown in the drawing. In addition, the fourth magnetic film corresponds to the upper core 127. The coil 26 exists between the first magnetic film and the fourth magnetic film. The coil 126 is formed of a conductive material mainly composed of Cu, Au, Al, Ta, Mo, etc. having a thickness of 2 m. The insulating material 138 is filled for the purpose of maintaining electrical insulation between the coil 126 and the core 127.

또한, 제4 자성막으로서 역할을 하는 상부 코어(127)와 제1 자성막으로서 역할을 하는 하부 코어(125)의 사이에 제2 자성막(132)과 제3 자성막(133)이 삽입되어 있다. 이들 부재에 의해서 자기 갭(혹은 기록갭 ; 110)이 형성된다. 여기까지의 구성은 종래 기술에 의한 자기 헤드와 같다.In addition, a second magnetic film 132 and a third magnetic film 133 are inserted between the upper core 127 serving as the fourth magnetic film and the lower core 125 serving as the first magnetic film. have. These members form a magnetic gap (or recording gap) 110. The configuration so far is the same as the magnetic head according to the prior art.

본 발명에서는, 종래 기술에 기재되는 노치(notch) 구조체가 존재하지 않는다. 그대신에, 본 발명에서는 제2 자성막 패턴(132)과 제3 자성막 패턴(133)에 접하여 단일 구조로 이루어지는 비자성막(131)을 설치하였다. 이 비자성막(131)은 적어도 제1 자성막의 거의 전 영역을 커버한다.In the present invention, there is no notch structure described in the prior art. Instead, in the present invention, a nonmagnetic film 131 having a single structure is provided in contact with the second magnetic film pattern 132 and the third magnetic film pattern 133. This nonmagnetic film 131 covers at least almost the entire area of the first magnetic film.

또한, 코일(126)은 비자성 또한 절연성막(131) 상에 적층된 절연재(138) 내에 설치하였다.In addition, the coil 126 was provided in the insulating material 138 laminated on the nonmagnetic and insulating film 131.

또한, 상부 코어(127)와 하부 코어(125)와의 사이에 자로재(magnetic path member :141, 142) 및 자기적 갭(140)을 설치하고 있다. 이 구조는, 절연성 또한 비자성막(131)에 알루미나막 등, 고경도의 막을 적용하는 경우에 바람직하며, 제조 비용을 저감시키는 장점이 있다.Further, magnetic path members 141 and 142 and a magnetic gap 140 are provided between the upper core 127 and the lower core 125. This structure is preferable when a high hardness film such as an alumina film is applied to the insulating and nonmagnetic film 131, and has an advantage of reducing the manufacturing cost.

즉, 알루미나막은, 스퍼터링법 등으로 형성한다. 알루미나막을 형성할 때에는 제3 자성막상에도 적층된다. 자기 헤드의 기본 기능을 달성하기 위해서는, 제3 자성막 상으로부터 알루미나막을 선택적으로 제거할 필요가 있는 것은 물론이다. 그러나, 알루미나막은 고경도라는 문제가 있다. 본 발명의 구조를 도입함으로써, 이 처리를 후술하는 염가의 방법으로 행할 수 있다.That is, the alumina film is formed by sputtering method or the like. When forming an alumina film, it also laminates on a 3rd magnetic film. It is of course necessary to selectively remove the alumina film from the third magnetic film in order to achieve the basic function of the magnetic head. However, the alumina film has a problem of high hardness. By introducing the structure of this invention, this process can be performed by the inexpensive method mentioned later.

또한, 부재(140, 141, 142)를 제2 자성막(132) 및 제3 자성막(133)과 동시에 형성함으로써, 제조 비용의 상승을 막을 수 있다.In addition, by forming the members 140, 141, and 142 simultaneously with the second magnetic film 132 and the third magnetic film 133, an increase in manufacturing cost can be prevented.

그 밖에, 도 16a에 도시한 참조 번호(137)는, 자기 헤드 기능부를 보호하는 것(보호막)이고, 참조 번호(138)는 전기적인 절연층, 참조 번호(130)는 코일에 기록 전류를 흘리기 위한 전극, 참조 번호(136)는 자기 헤드 본체(슬라이더)이다.In addition, reference numeral 137 shown in Fig. 16A is to protect the magnetic head function (protective film), reference numeral 138 denotes an electrical insulating layer, and reference numeral 130 denotes a flow of writing current through the coil. The reference numeral 136 denotes a magnetic head body (slider).

도 16b는 제4 자성막에 대응하는 상부 코어측으로부터 자기 헤드를 본 도면이다. 코일(126)이 나선형으로 감겨 있는 모습을 알 수 있다. 이 코일(126)은 접촉구멍(134)에서 전극(130: 도 16a)과 결합되어 있다. 여기서, 제2 자성막(132) 및 제3 자성막(133)의 존재 영역 밖에 코일 도체(126)가 배치되어 고주파수 특성을 개선시킨다. 또한, 상부 코어(127)와 하부 코어(125)는 자기 접촉 구멍(135)으로 결합되어 있다. 이 자기 접촉 구멍(135)이 앞에서 나타낸 자로재(141, 142)를 포함시킨 구성으로 되어 있다.16B is a view of the magnetic head from the upper core side corresponding to the fourth magnetic film. It can be seen that the coil 126 is wound in a spiral shape. The coil 126 is coupled to the electrode 130 (Fig. 16A) in the contact hole 134. Here, the coil conductor 126 is disposed outside the presence regions of the second magnetic film 132 and the third magnetic film 133 to improve the high frequency characteristics. In addition, the upper core 127 and the lower core 125 are coupled to the magnetic contact hole 135. This magnetic contact hole 135 is configured to include the magnetic material 141, 142 described above.

본 자기 헤드의 특징인 제2 자성막(132) 및 제3 자성막(133)은 제4 자성막(127)과 제1 자성막(125)의 선단(기록 매체에 접근하는 단부)에 위치하고, 일부가 미끄럼 이동면에서 노출하는 구조(엄밀하게는, 미끄럼 이동면 보호층을 통하는 경우가 많음)로 되어 있다. 도 16c는 상기 부재의 구조를 α 방향으로부터본 것을 도시한다. 즉, 제4 자성막(127)과 제1 자성막(125)의 사이에 폭의 좁고, 제2 자성막(132)과 제3 자성막(133)이 끼워져 있다.The second magnetic film 132 and the third magnetic film 133, which are the characteristics of the magnetic head, are located at the front ends (ends approaching the recording medium) of the fourth magnetic film 127 and the first magnetic film 125, It has a structure which a part exposes from a sliding surface (strictly passes through a sliding surface protective layer in many cases). Fig. 16C shows the structure of the member as seen from the α direction. That is, the width | variety is narrow between the 4th magnetic film 127 and the 1st magnetic film 125, and the 2nd magnetic film 132 and the 3rd magnetic film 133 are sandwiched.

제2 자성막(132)은 제1 자성막(125)에, 제3 자성막(133)은 제4 자성막(127)에, 각각 자기적으로 결합[자로(magnetic path) 저항소의 상태]되어 있다. 또한, 제2 자성막(132)과 제3 자성막(133)으로 둘러싸여 자기 갭이 형성되어 있다. 본 실시예에서는, 자기 갭 길이를 0. 3㎛로 하였지만, 본 발명은 다른 조건에도 적용시킬 수 있는 것은 물론이다. 이 자기 갭에는, Cu막, 알루미나막, 산화 규소 등의 비자성막을 이용할 수 있다.The second magnetic film 132 is magnetically coupled to the first magnetic film 125 and the third magnetic film 133 is magnetically coupled to the fourth magnetic film 127 (a state of magnetic path resistance). have. In addition, a magnetic gap is formed by being surrounded by the second magnetic film 132 and the third magnetic film 133. In the present embodiment, the magnetic gap length is set to 0.3 µm, but it goes without saying that the present invention can also be applied to other conditions. As the magnetic gap, a nonmagnetic film such as a Cu film, an alumina film, or silicon oxide can be used.

또한, 도면에 도시한 바와 같이 단일 구조막인 절연성 비자성막(131)이 미끄럼 이동면에서 노출하는 구조로 된다. 여기서, 절연성 비자성막(131)을 알루미나막 또는 다이아몬드를 소량 포함하는 막으로 함으로써 기계적 강도를 높일 수 있다. 이에 따라, 신뢰가 높은 자기 헤드가 실현된다.Further, as shown in the drawing, the insulating nonmagnetic film 131, which is a single structure film, is exposed on the sliding surface. In this case, the mechanical non-magnetic film 131 can be made into a film containing a small amount of alumina film or diamond. This realizes a highly reliable magnetic head.

또한, 고밀도 기록을 실현하기 위해 미끄럼 이동면에서 노출하는 제3 자성막의 폭을 1. 0㎛ 이하로 하고, 주파수 특성, 기록 자계 강도를 만족시킬 목적으로 그 두께를 1. 0㎛ 이하로 하였다.In order to realize high density recording, the width of the third magnetic film exposed on the sliding surface is set to 1.0 µm or less, and the thickness is set to 1.0 µm or less for the purpose of satisfying the frequency characteristics and the recording magnetic field strength.

이것은, 제3 자성막의 형성에 전해 도금법(electrolyte plating)을 적용할 수 있던 효과이다. 또한, 후술하는 조건으로 자극을 구성함으로써 고주파 구동도 가능한 자기 헤드가 실현된다.This is the effect that the electrolytic plating method can be applied to the formation of the third magnetic film. In addition, a magnetic head capable of high frequency driving is realized by configuring the magnetic poles under the conditions described below.

본 발명에서는, 제1 자성막과 제4 자성막의 양쪽의 전기 저항을 높이기 위해 설정하였다(비저항치; 50μΩ㎝ 이상, 이유에 대해서는 후술). 구체적으로는,CoTa Zr 비정질 합금막, 센더스트(sandust), CoZrNbTa 비정질 합금막, 다층막 등으로부터 패턴을 형성하였다.In this invention, it set in order to raise the electrical resistance of both a 1st magnetic film and a 4th magnetic film (specific resistance value: 50 micro ohm-cm or more, the reason mentioned later). Specifically, a pattern was formed from a CoTa Zr amorphous alloy film, a sanddust, a CoZrNbTa amorphous alloy film, a multilayer film, or the like.

막 형성에는, 스퍼터링법을 이용하였다. 또한, 막 패턴에는, 리프트 오프법이나 드라이 에칭법 등의 건식법을 이용하였다. 이들 비저항이 높은 막은, 미세 가공성에 뛰어난 전해 도금법에 의한 패턴 형성이 곤란하다. 따라서, 종래, 자극 폭을 좁힌 자극재에의 적용이 곤란하다고 생각되고 있었다.The sputtering method was used for film formation. In addition, dry methods, such as a lift-off method and a dry etching method, were used for the film pattern. These high resistivity films are difficult to form patterns by the electroplating method which is excellent in fine workability. Therefore, it is conventionally considered that application to the magnetic pole material which narrowed the magnetic pole width is difficult.

본 구조에 따르면 패턴 면적(패턴폭)이 넓은 부분에만 이러한 재료가 적용되기 때문에, 건식법에 의한 패턴 형성이 가능해진다. 또한, 이들 자성막 패턴은 면적이 넓기 때문에, 굳이, 포화 자속 밀도가 높은 재료를 선택하지 않더라도, 기록에 필요한 자계를 자극 선단부(미끄럼 이동면측)로 유도할 수 있었다.According to this structure, since such a material is applied only to the part with a large pattern area (pattern width), pattern formation by a dry method becomes possible. In addition, since these magnetic film patterns have a large area, even if a material having a high saturation magnetic flux density is not selected, the magnetic field required for recording can be guided to the magnetic pole tip portion (sliding surface side).

제2 자성막과는 다르게, 유출단측(트레이링측)에 위치하는 제3 자성막은, 포화 자속 밀도 1. 5T 이상의 재료를 이용하였다. 이것은, 유출 단측으로부터의 자계가 매체에 기록되는 자구 정보의 품질(오버라이트 특성, 자화 반전 길이 등)에 영향을 주기 때문이다. 단순하게는 충분한 기록 자계를 발생시키는 기능이 중요해진다. 포화 자속 밀도가 높은 재료로부터는, 충분한 기록 자계가 발생하는 것이 잘 알려져 있다.Unlike the second magnetic film, the third magnetic film located at the outflow end side (the trailing side) used a material having a saturated magnetic flux density of 1.5T or more. This is because the magnetic field from the outflow end side affects the quality (overwrite characteristics, magnetization inversion length, etc.) of the magnetic domain information recorded on the medium. Simply, the function of generating a sufficient recording magnetic field becomes important. It is well known from a material having a high saturation magnetic flux density that a sufficient recording magnetic field is generated.

구체적으로는, 제3 자성막에 Co Ni Fe, Ni Fe, 합금막 내지는 순철, 질화철 등을 이용하였다. 또한, 이들 막의 전기 저항은, 대강 50μΩ㎝ 이하에서 상기한 제1 자성막이나 제4 자성막에 비해 낮은 것을 선택해서, 고밀도 기록을 실현하기 위해 전해 도금법에 의한 패턴 형성을 가능하게 할 수 있다.Specifically, Co Ni Fe, Ni Fe, an alloy film or pure iron, iron nitride, or the like was used for the third magnetic film. Further, the electrical resistance of these films is lower than that of the first magnetic film or the fourth magnetic film described above at approximately 50 mu OMEGA cm or less, and the pattern formation by the electroplating method can be made possible to realize high density recording.

고저항막은, 그 이름처럼 전기를 통과시키기 어려운 성질이 있다. 이 때문에, 전해 도금시에 편중 퇴적(segregation)이 일어나기 쉬워 양질의 막을 성장시킬 수 없다. 또한, 절연성의 물질을 포함한 막 등은 도금법으로 성장시키는 것이 불가능하다. 이상의 이유로부터 제3 자성막으로서 절연성 물질을 포함하지 않은 저전기 저항 또한, 고포화 자속 밀도의 재료를 선택하였다.The high-resistance film, as its name implies, is difficult to pass electricity through. For this reason, segregation will occur easily at the time of electroplating, and a quality film cannot be grown. In addition, it is impossible to grow a film containing an insulating substance by the plating method. For the above reasons, a material having a low electric resistance and a high saturation magnetic flux density that did not contain an insulating substance as the third magnetic film was selected.

다음에 제1 자성막 및 제4 자성막의 비저항치를 50μΩ㎝ 이상으로 한 이유를 진술한다. 도 19는, 제1 자성막과 제4 자성막의 비저항을 바꿔 제작한 자기 헤드의 주파수 특성을 측정한 결과이다. 이 측정에는, 전자선 단층 촬영법을 이용하였다. 여기서, 자성막의 비투자율 μ는 대략 1000으로 고정하였다. 막 두께는, 어느것이나 2. 8㎛로 고정하였다. 또한, 제4 자성막과 제3 자성막과의 중첨 부분(도 21에 도시한 Dg)을 2㎛로 하였다.Next, the reason for setting the specific resistance values of the first magnetic film and the fourth magnetic film to 50 μΩcm or more is described. 19 is a result of measuring the frequency characteristics of the magnetic head produced by changing the specific resistance of the first magnetic film and the fourth magnetic film. The electron beam tomography method was used for this measurement. Here, the magnetic permeability µ of the magnetic film was fixed at approximately 1000. All the film thicknesses were fixed at 2.8 micrometers. In addition, the middle portion (Dg shown in FIG. 21) between the fourth magnetic film and the third magnetic film was 2 m.

도 19로부터, 비저항 16μΩ㎝의 재료(일반적인 Ni·Fe 재료)를 이용한 경우,구동 주파수 90㎒에서는, 구동 주파수 10㎒의 결과[대체로 정자적(magnetostatic) 결과와 같음]에 비해 발생(누설) 자계가 50% 이하로 저하하는 것을 알 수 있다. 비저항 60μΩ㎝ 이하의 재료에서는, 발생 자계의 감소는 적어 대체로 200㎒ 정도까지 강한 자계가 발생하고 있는 것을 알 수 있다.From Fig. 19, when a material having a specific resistance of 16 mu OMEGA cm (general Ni-Fe material) is used, at a driving frequency of 90 MHz, it is generated (leak) magnetic field as compared with a result of driving frequency of 10 MHz (which is almost the same as a magnetostatic result). It can be seen that the lowering to 50% or less. In a material having a specific resistance of 60 μΩcm or less, the decrease in the generated magnetic field is small, and it is understood that a strong magnetic field is generated up to about 200 MHz.

자기 디스크 장치에서는, 고속의 기록이 요구되어 있다. 이 요구를 만족시키기 위해서는, 고주파의 기록 자계를 발생시키는 자기 헤드가 필요해진다. 이 이유로부터, 제1 및 제4 자성막에 고비저항의 재료를 이용하였다.In a magnetic disk device, high speed recording is required. In order to satisfy this demand, a magnetic head for generating a high frequency recording magnetic field is required. For this reason, a high resistivity material was used for the first and fourth magnetic films.

도 20은 고주파 구동에 필요한 코어 부분(본 발명에서 진술하는 제1과 제4자성막에 대응함)의 비저항치를 견적하기 위한 것이다. 도면의 종축은 1㎒정도의 저주파 구동시의 발생 자계에 대해 65%의 발생 자계가 얻어지는 주파수의 상한을 나타내고 있다(도 19로부터 판독됨). 65%의 발생 자계는 정상적인 기록이 행해지는 필요 자계의 하한치로, 장치 제조의 경험으로부터 얻어지는 값이다.20 is for estimating the resistivity of the core portion (corresponding to the first and fourth magnetic films stated in the present invention) required for high frequency driving. The vertical axis of the figure shows the upper limit of the frequency at which a 65% generated magnetic field is obtained with respect to the generated magnetic field during low frequency driving of about 1 MHz (read from Fig. 19). The generated magnetic field of 65% is the lower limit of the required magnetic field for which normal recording is performed, and is a value obtained from the experience of device manufacturing.

도면으로부터 코어 부분의 비저항을 50μΩ㎝로 높임으로써 150㎒ 구동이 가능해지는 것을 알 수 있다.From the figure, it can be seen that driving 150 MHz can be achieved by increasing the specific resistance of the core portion to 50 mu OMEGA cm.

이 비저항의 값은, 본 검토에 이용한 헤드 조건의 경우에 대해 성립하지만, 하기의 논리에 의해 일반 값으로 발전시킬 수 있다.Although the value of this specific resistance is satisfied about the case of the head condition used for this examination, it can develop to a general value by the following logic.

자기 헤드의 주파수 특성은, 자극 조건이 변화하더라도 값 fg(ρ, μ, t)에 의존하고, 여기서, ρ는 자극 재료의 비저항치, μ는 자극 재료의 비투자율, t는 자극막 두께이고The frequency characteristic of the magnetic head depends on the value fg (ρ, μ, t) even if the stimulus conditions change, where ρ is the resistivity of the stimulus material, μ is the specific permeability of the stimulus material, t is the thickness of the stimulation film

의 관계가 있다. 이 식에 150㎒ 구동이 가능해지는 상기 헤드 조건(자극 조건)을 대입하면There is a relationship. Substituting the above head condition (stimulation condition), which enables 150 MHz driving,

로 된다. 따라서, 자성막의 조건이 변화하더라도 150㎒ 구동이 가능해지는 헤드 조건은It becomes Therefore, even if the condition of the magnetic film changes, the head condition that enables 150 MHz driving is

를 만족할 필요가 있는 것을 알 수 있다. 이 식으로부터, t2의 자극을 이용한 경우에, ρ<50μΩ㎝의 재료를 적용할 수 있는 것도 알 수 있다.It can be seen that it is necessary to satisfy. From this equation, it can also be seen that when a magnetic pole of t2 is used, a material of ρ <50 μΩcm can be applied.

이 식은, 상부 코어의 두께와 하부 코어의 두께가 같은 조건하에서 만족한다. 그러나, 두께에 차가 있는 경우, 두꺼운 쪽의 막 두께를 이용함으로써 상기 식이 성립됨이 확인된다. 이와 같이, 이 식은, 본 발명의 구성을 취하는 모든 자기 헤드에 적용하는 것이 가능해진다.This equation is satisfied under the same condition that the thickness of the upper core and the thickness of the lower core are the same. However, when there is a difference in thickness, it is confirmed that the above equation is established by using the thicker film thickness. In this manner, this equation can be applied to all magnetic heads having the configuration of the present invention.

또한, 150㎒을 넘는 고주파 구동 조건에 대해서도 도 20에 도시한 결과로부터 구해질 수 있다. 즉, 도면으로부터 정자계에 대해 65% 이상의 자계를 발생할 수 있는 ρ의 값을 판독하고, 이 값을 (2) 식에 대입함으로써 fg'를 구한다. 이 값으로부터 (3) 식을 만족하는 자성막 조건(ρ, μ, t)을 얻을 수 있다.In addition, high frequency driving conditions exceeding 150 MHz can be obtained from the results shown in FIG. 20. That is, fg 'is obtained by reading the value of rho that can generate a magnetic field of 65% or more with respect to the static magnetic field from the drawing, and substituting this value into equation (2). From this value, magnetic film conditions (ρ, μ, t) satisfying the expression (3) can be obtained.

특히 막 두께를 얇게 하지 않는 한, 150㎒의 구동은 비저항치 50μΩ㎝ 이상의 재료를 이용함으로써 실현한다. 비저항치 50μΩ㎝ 이상의 재료는, 지금까지 개발이 행해지고 있지만, 이 재료를 이용한 자기 디스크 장치는 실현되지 않고 있는데, 그 이유는, 고주파 구동이 장치의 고밀도화와 함께 진행되어지고 있기 때문이다.Unless the film thickness is especially thin, driving at 150 MHz is realized by using a material having a resistivity of 50 mu OMEGA cm or more. Although a material with a resistivity of 50 μΩcm or more has been developed so far, a magnetic disk device using this material has not been realized because high frequency driving is being progressed with higher density of the device.

즉, 구동 주파수의 향상에 의해 미끄럼 이동 방향(원주 방향)에서 고밀도화가 진행되어도 데이타가 직렬화하는 것만으로, 억세스 시간이 증대(릴(reel) 메모리형으로 됨)되어, 자기 디스크의 특징인 랜덤 억세스성에 지장이 생긴다. 이 때문에, 고밀도화에는 미끄럼 이동 방향과 함께 자극폭을 좁힘으로써 트랙 폭 방향으로의 고밀도화도 필요하게 된다.In other words, even if the density increases in the sliding direction (circumferential direction) due to the improvement of the driving frequency, the data is serialized, thereby increasing the access time (reel memory type), thereby providing random access characteristic of the magnetic disk. The castle is disturbed. For this reason, high density also requires high density in the track width direction by narrowing the magnetic pole width together with the sliding movement direction.

비저항이 높고, 전해 도금법으로 형성할 수 있는 막은, 자화 왜곡 상수가 높고, 미세한 패턴을 형성할 때에 마스크재에 균열이 생기기 쉬운 결점이 있다. 또한, 비저항이 높은 비정질이나 산화막 등이 샌드위치된 다층막은, 전해 도금법에 의한 패턴 형성을 할 수 없는 결점이 있다. 이 때문에, 좁은 자극폭을 실현할 수 없는 결점이 있다. 이 때문에, 고주파화와 고밀도화를 동시에 얻을 수 없다. 이 이유로부터 고전기 저항의 재료를 이용한 150㎒ 구동의 자기 헤드 및 상기 자기 헤드를 적용한 자기 디스크 장치는 실현되지 않는다.The film which has a high specific resistance and can be formed by the electroplating method has a high magnetization distortion constant, and has the drawback which a crack occurs easily in a mask material when forming a fine pattern. Moreover, the multilayer film in which the amorphous, oxide film, etc. with high specific resistance were sandwiched has the fault which pattern formation by an electroplating method cannot be performed. For this reason, there exists a fault which cannot implement | achieve a narrow magnetic pole width. For this reason, high frequency and high density cannot be obtained simultaneously. For this reason, the magnetic head of the 150 MHz drive using a material of high electric resistance and the magnetic disk device to which the magnetic head is applied are not realized.

본 발명에서 기본으로 하는 자기 헤드 구조에 있어서, 특히 제1 및 제4 자성막의 재료, 구조에 상기 수학식 3을 만족시키는 조건을 적용함으로써, 처음에 150㎒이상의 주파수로 구동하는 자기 헤드 및 상기 자기 헤드를 이용한 자기 디스크 장치를 실현할 수 있다. 이 지견은, 종래까지 개시되어 있지 않고, 도 19 및 도 20의 결과로써 마침내 명백해진 것이다.In the magnetic head structure based on the present invention, the magnetic head initially driven at a frequency of 150 MHz or more by applying the conditions satisfying the above expression (3) to the materials and structures of the first and fourth magnetic films, in particular. A magnetic disk device using a magnetic head can be realized. This knowledge is not disclosed until now, and finally becomes clear as a result of FIGS. 19 and 20.

그런데, 도 19에 도시한 결과는, 제3 자성막의 비저항의 값에 영향받지 않았다. 이것은, 본 실시예에서 진술한 제3 자성막의 체적이 제1 자성막 및 제4 자성막의 체적과 비교하여, 작은 경우에 한한 현상이었다.By the way, the result shown in FIG. 19 was not influenced by the value of the specific resistance of a 3rd magnetic film. This phenomenon was limited to the case where the volume of the third magnetic film stated in the present embodiment was small compared with the volumes of the first magnetic film and the fourth magnetic film.

도 23은, 도 19와 동일한 주파수 특성이지만, 제3 자성막의 체적과 제1 및 제4 자성막의 체적의 비를 파라미터로 하고 있다. 도면으로부터, 체적비가 1에 접근하는 만큼, 주파수 특성이 열화하는 것을 알 수 있다 (체적비 1은, 단순히 막 두께가 같은 패턴이 중복된 상태를 의미함). 이 결과를 요약한 것이 도 24 (도 20과 동일한 표시를 하고 있음)이다. 도 24로부터 발생 자계가 정자계에 대해 65% 이상으로 되는 주파수의 상한은, 체적비를 작게 하는 만큼 향상한다. 포화 경향에 있는 것을 알 수 있다. 그리고, 제3 자성막의 체적을 제1 및 제4 자성막의 체적의 10-4이하로 설정하면, 대개 제3 자성막의 존재를 무시할 수 있는 것을 알 수 있다. 그래서, 본 발명에서는, 제3 자성막의 체적을 이 범위 내에 규정하였다.Although FIG. 23 is the same frequency characteristic as FIG. 19, it uses as a parameter the ratio of the volume of a 3rd magnetic film and the volume of a 1st and 4th magnetic film. From the figure, it can be seen that the frequency characteristic deteriorates as the volume ratio approaches 1 (volume ratio 1 simply means a state in which patterns having the same film thickness overlap). This result is summarized in FIG. 24 (the same display as that in FIG. 20). 24, the upper limit of the frequency at which the generated magnetic field becomes 65% or more with respect to the static magnetic field is improved by decreasing the volume ratio. It can be seen that there is a tendency to saturation. When the volume of the third magnetic film is set to 10 −4 or less of the volumes of the first and fourth magnetic films, it can be seen that the existence of the third magnetic film can usually be ignored. Therefore, in the present invention, the volume of the third magnetic film is defined within this range.

제3 자성막으로서는, 기록용의 강자계를 발생시키는 필요로부터 다른 재료 조건도 필요하였다. 도 22는 제3 자성막의 포화 자속 밀도 Bs (여기서는 제2 자성막의 Bs도 동일한 것으로 하였음)와 발생 자계 강도의 관계를 구한 것이다. 파라미터로서 제1 및 제4 자성막의 Bs를 바꾼 결과를 나타낸다. 결과로부터, 제3 자성막의 Bs를 높일수록 강자계가 발생하는 것을 알 수 있다. 일반적으로 고밀도 기록에는 보자력이 높은 매체가 바람직하다는 것이 알려져 있다. 보자력이 높은 매체만큼 기록에 강자계가 필요해지는 것이 알려져 있다. 이들로부터, 제3 자성막에 고Bs의 재료를 선택할 필요성을 이해할 수 있다.As the third magnetic film, other material conditions were also required from the necessity of generating a ferromagnetic field for recording. Fig. 22 shows the relationship between the saturation magnetic flux density Bs of the third magnetic film (here, Bs of the second magnetic film is also the same) and the generated magnetic field strength. The result of changing Bs of a 1st and 4th magnetic film as a parameter is shown. As a result, it can be seen that the ferromagnetic field is generated as the Bs of the third magnetic film is increased. In general, it is known that a medium having a high coercive force is preferable for high density recording. It is known that a strong magnetic field is required for recording as much as a medium having high coercivity. From these, the necessity of selecting a material of high Bs for the third magnetic film can be understood.

그러나, 제3 자성막의 Bs를 일부러 높이더라도 분해능이 높은 기록은 실현되지 않았다. 이 이유는, 자계 경사가 열화하기 때문인 것을 알 수 있었다. 도 22에 자계 경사를 구한 결과를 함께 나타낸다. 도면으로부터, 자계 경사가 높고 (규격치0. 9이상) 분해능이 높은 기록을 할 수 있던 Bs의 범위 (실험 결과; 30㏈의 오버라이트 특성이 얻어진 범위)는, 제1 및 제4 자성막의 Bs가 1T인 경우, 제3 자성막의 Bs 치가 1T로부터 1. 7T의 범위, 제1 및 제4 자성막의 Bs가 1. 3T인 경우, 제3 자성막의 Bs 치가 1. 2T로부터 2. 3T의 범위였다.However, even if the Bs of the third magnetic film was deliberately increased, recording with high resolution was not realized. This reason was found to be due to deterioration of the magnetic field gradient. The result of having calculated | required the magnetic field inclination is also shown in FIG. From the figure, the range of Bs (experimental result; the range where the overwrite characteristic of 30 Hz) was obtained with high magnetic field inclination (standard value 0.9 or more) and high resolution was recorded as Bs of the first and fourth magnetic films. Is 1T, the Bs value of the third magnetic film is in the range of 1T to 1.7T, and the Bs value of the third magnetic film is from 1.2T to 2.3T when the Bs of the first and fourth magnetic films is 1.3T. Was in the range of.

이 범위는, 자기 헤드의 자로(magnetic path)를 고려하면 일반적인 관계식으로 정리할 수 있다. 도 21에 도시한 자기 헤드의 단면에 있어서 자속은 제1 자성막(25)으로부터 제2 자성막(32) 그리고 제3 자성막(33)으로부터 제4 자성막(27)으로 흐른다. 각 자로를 흐르는 자속의 트랙 폭 방향의 단위 길이당 양은, 자로의 두께 t(자극 두께)와 Bs의 곱으로부터 근사적으로 요구할 수 있다. 따라서, 제1 자성막과 제4 자성막의 Bs와 t가 같으면, 함께 Bs1×t에 비례한 자속이 흐른다. 이 자속이 제2 자성막과 제3 자성막에 전부 흐르는 것은, 도 21에 도시한 깊이 길이 Dg (제1 자성막과 제2 자성막과의 중첩 길이, 혹은 제4 자성막과 제3 자성막과의 중복 길이)와 Bs 2와의 곱이 같은 경우인 것이 이해된다.This range can be summarized by a general relation in consideration of the magnetic path of the magnetic head. In the cross section of the magnetic head shown in FIG. 21, the magnetic flux flows from the first magnetic film 25 to the second magnetic film 32 and from the third magnetic film 33 to the fourth magnetic film 27. The quantity per unit length of the track width direction of the magnetic flux which flows through each magnetic path can be calculated | required approximately from the product of the thickness t (stimulation thickness) and Bs of a magnetic path. Therefore, when Bs and t of the first magnetic film and the fourth magnetic film are the same, magnetic flux proportional to Bs1 × t flows together. This magnetic flux flows entirely through the second magnetic film and the third magnetic film by using the depth length Dg (the overlap length between the first magnetic film and the second magnetic film, or the fourth magnetic film and the third magnetic film) shown in FIG. 21. It is understood that the product of the overlap length) and the product of Bs 2 are the same.

여기서, 제3 자성막은 제2 자성막에 대해 유출 단측에 위치하기 때문에, 이곳곳으로부터의 자계가 기록 상태에 가장 영향을 준다. 따라서, 제3 자성막의 조건에 대해 이하에 진술한다.Here, since the third magnetic film is located on the outflow end side with respect to the second magnetic film, the magnetic field from here affects the recording state most. Therefore, the conditions of the third magnetic film are stated below.

본 실시예의 경우, Dg=2㎛, t=2. 8㎛로 고정하였기 때문에, 제1 및 제4 자성막의 Bs1을 1T로 한 경우에, 제3 자성막의 Bs2를 약 1. 4T로 함으로써, 이 관계를 만족시킨다. 이 조건으로부터 멀어질수록, 제3 자성막에서 자속의 부족, 혹은 과다(자극의 포화)가 발생된다. 이 때문에, 자계 분포가 열화한다.In the case of this example, Dg = 2 mu m, t = 2. Since it is fixed at 8 micrometers, when Bs1 of a 1st and 4th magnetic film is set to 1T, this relationship is satisfied by setting Bs2 of a 3rd magnetic film to about 1.4T. The farther from this condition, the shortage or excess of magnetic flux (saturation of magnetic poles) occurs in the third magnetic film. For this reason, magnetic field distribution deteriorates.

따라서, 양호한 자계 분포를 얻기 위한 범위는, Bs1, t, Dg, Bs2의 값을 이용하여 기술할 수 있다. 우선, 상기한 양호한 자계 분포가 얻어지는 범위에 대해Bs1×t, Dg×Bs2를 계산해 보면,Therefore, the range for obtaining a good magnetic field distribution can be described using the values of Bs1, t, Dg, and Bs2. First, when Bs1xt and DgxBs2 are calculated about the range from which the above-mentioned good magnetic field distribution is obtained,

Bs1×t=2. 8인 경우Bs1xt = 2. 8

Dg×Bs2=2 내지 3. 4Dg × Bs2 = 2 to 3.4

Bs1×t=3. 64인 경우Bs1 x t = 3. 64

Dg×Bs 2=2. 4 내지 4. 6Dg x Bs 2 = 2. 4 to 4. 6

의 범위인 것을 알 수 있다. 여기서 Bs1×t/Dg×Bs2를 이용하여 상기 범위를 기술하면, 양호한 자계 경사가 얻어지는 범위는,It can be seen that the range of. If the above range is described using Bs1 × t / Dg × Bs2, the range in which a good magnetic field gradient is obtained is

로 된다. 이 조건을 만족시킴으로써, 본 발명의 자기 헤드 구조로 고분해능의 기록을 실현할 수 있다.It becomes By satisfying this condition, high resolution recording can be realized with the magnetic head structure of the present invention.

이상, 본 발명 제1 및 제4 자성막의 비저항은, 제3 자성막에 비해 일반적으로 높아진다. 또한, 제1 자성막의 체적은, 제3 자성막의 어느 것보다 커진다. 또한, 자극 구조는 수학식 4를 만족시키는 것이 바람직하다.As described above, the specific resistance of the first and fourth magnetic films of the present invention is generally higher than that of the third magnetic film. In addition, the volume of the first magnetic film is larger than that of any of the third magnetic films. In addition, it is preferable that the stimulus structure satisfies the expression (4).

다음에 본 발명의 자기 헤드의 다른 특징을 이하에 진술한다. 도 18은 제4 자성막(127)과 다른 자성막(125, 132, 133)과의 관계를 모식적으로 나타낸 것이다. 도18a의 예에서는, 제4 자성막(127)의 형상이 집 형태에 가깝고, 이 형태는 종래의 자기 헤드의 상부 코어의 형태와 일치한다. 이 형태에 있어서는, 자기적 갭의 단면에 노출하는 제2 자성막(132)과 제3 자성막(133)의 면적은, 동일하게 노출하는제4 자성막(127)의 면적에 비해 좁게 되는 것은 명백하다.Next, other features of the magnetic head of the present invention are described below. FIG. 18 schematically illustrates a relationship between the fourth magnetic film 127 and other magnetic films 125, 132, and 133. In the example of Fig. 18A, the shape of the fourth magnetic film 127 is close to the shape of a house, and this shape corresponds to the shape of the upper core of the conventional magnetic head. In this embodiment, the areas of the second magnetic film 132 and the third magnetic film 133 exposed to the end face of the magnetic gap are narrower than the areas of the fourth magnetic film 127 exposed to the same. It is obvious.

이 구조는, 일반적인 매체를 이용한 경우, 양호한 기록 동작을 실현할 수 있었다. 그러나, 보자력이 특히 작은 매체에는, 부적합하다는 것을 알 수 있었다. 원인은, 도 18에 도시한 영역(151)으로부터의 자계에 의해 기록 동작이 행해지기 때문이다 (제4 자성막 127로부터 제1 자성막 125로 누설하는 미약 자계에 의해 기록이 발생). 도 18a로부터 명백한 바와 같이, 제4 자성막(127)의 폭은 (매체면에 접근하는 단면으로부터 보아) 넓기 때문에, 기록 동작이 발생하면 인접하는 정보를 소실시키게 된다.This structure was able to realize good recording operation when a general medium was used. However, it has been found that the medium is not suitable for particularly small coercive force. The reason is that the recording operation is performed by the magnetic field from the region 151 shown in FIG. 18 (recording is caused by the weak magnetic field leaking from the fourth magnetic film 127 to the first magnetic film 125). As is apparent from Fig. 18A, since the width of the fourth magnetic film 127 is wide (as seen from the cross section approaching the medium surface), adjacent information is lost when a recording operation occurs.

그래서 본 발명에서는, 도 18b에 도시한 바와 같이 제4 자성막(127)에 변경을 가하였다. 구체적으로는, 미끄럼 이동면에 접근하는 측의 단부에 곡율을 갖게 함으로써 미끄럼 이동면에 제4 자성막의 엣지(각)가 나타나지 않도록 하였다. 엣지는, 자하(magnetic charge)가 집중하기 쉽고, 필연적으로 이곳으로부터의 누설 자계는 강하게 된다. 도 18에 도시한 바와 같이 제4 자성막(127)에 곡율을 갖게 하면, 자하의 집중은 없고, 상기에서 문제로 된 인접 트랙에의 기록 오동작은 일어나지 않는다. 이 경우, 미끄럼 이동면으로부터 보아 제4 자성막(127)의 면적은 제2 및 제3 자성막의 면적에 비해 좁게 할 수도 있다. 또한, 도 18c에 도시한 바와 같이 제4 자성막(12)7의 단부를 α만큼 미끄럼 이동면으로부터 후퇴시킴으로써, 미끄럼 이동면에 서 노출시키지 않는 형상에 있어서도 마찬가지의 효과가 얻어졌다. 이것은, 매체면에 대해 제4 자성막의 엣지가 멀어짐으로써 기록 동작이 행해지지 않기 때문이라고 이해할 수 있다.Therefore, in the present invention, the fourth magnetic film 127 is changed as shown in Fig. 18B. Specifically, the edge (angle) of the fourth magnetic film was prevented from appearing on the sliding surface by providing a curvature at an end portion near the sliding surface. At the edge, magnetic charge tends to concentrate, and inevitably the leakage magnetic field from this becomes strong. As shown in Fig. 18, when the fourth magnetic film 127 has a curvature, there is no concentration of magnetic charges, and no recording malfunction occurs in the adjacent track in question. In this case, the area of the fourth magnetic film 127 may be narrower than that of the second and third magnetic films when viewed from the sliding surface. Also, as shown in Fig. 18C, the end of the fourth magnetic film 12 is retracted from the sliding surface by α, so that the same effect is obtained even in the shape of not exposing the sliding surface. This can be understood that the recording operation is not performed because the edge of the fourth magnetic film is far from the medium surface.

이상의 실시예는 제4 자성막에 대해서만 행하였지만, 제1 자성막에 대해서도 변경 가능한 것은 물론이다. 그러나, 제4 자성막을 굳이 변경하지 않아도 된다. 제4 자성막의 형상을 변경함으로써 대향 자극 간 거리(도 18a에 도시한 영역 151에 있어서의 자극 간 거리)를 넓힐 수 있어, 이 효과로부터 인접 트랙에 누설 자계가 영향받지 않게 된다. 다음에, 도 17을 이용하여 제2 자성막과 제3 자성막에 접하는 단일 구조로 이루어지는 비자성막을 설치한(본 발명의) 자기 헤드를 제작하는 방법에 대해 진술한다. 도면에 따른 순서로 공정을 진술한다.Although the above embodiment was performed only with respect to the fourth magnetic film, it is of course possible to change the first magnetic film. However, it is not necessary to change the fourth magnetic film. By changing the shape of the fourth magnetic film, the distance between the opposite magnetic poles (the distance between the magnetic poles in the region 151 shown in Fig. 18A) can be widened, so that the leakage magnetic field is not affected by the adjacent track. Next, a method of manufacturing a magnetic head (of the present invention) provided with a nonmagnetic film having a single structure in contact with the second magnetic film and the third magnetic film will be described with reference to FIG. The processes are stated in the order according to the drawings.

도 17a는, 기초 구조 상에 하부 코어를 구성하는 제1 자성층(125)을 적층한 후, 제2 자성막과 제3 자성막의 형상을 결정하는 프레임 패턴(171-1)을 형성한 상태를 나타낸다. 이 때, 이면 접촉 패턴을 동시에 형성하기 위해서는, 프레임(171-2)을 형성한다. 이들 프레임 패턴(171-1, 171- 2)은, 레지스트 등의 고분자 수지 내지는 산화 규소 등이다. 프레임 패턴의 단면은 수직이고, 또한 미세할 필요가 있다. 이 이유로부터 일단, 박막의 레지스트 패턴을 형성하고, 그것을 무기물의 막에 전사한 후, 동 박막 패턴을 마스크로 하여 하부층의 고분자 수지 등을 에칭한다. 이 에칭에는, 산소, 불소 가스 등을 이용한 이방성 에칭이 바람직하다(반도체 소자 제작에 이용되는 다층 프로세스가 바람직하다).FIG. 17A illustrates a state in which a frame pattern 171-1 for determining the shapes of the second magnetic film and the third magnetic film is formed after stacking the first magnetic layer 125 constituting the lower core on the base structure. Indicates. At this time, in order to simultaneously form a back contact pattern, the frame 171-2 is formed. These frame patterns 171-1 and 171-2 are polymer resins, such as a resist, silicon oxide, etc. The cross section of the frame pattern needs to be vertical and fine. For this reason, once a thin resist pattern is formed and transferred to an inorganic film, the polymer resin of the lower layer is etched using the thin film pattern as a mask. For this etching, anisotropic etching using oxygen, fluorine gas, or the like is preferable (a multilayer process used for semiconductor element fabrication is preferable).

이 후, 도 17b에 도시한 바와 같이 제2 자성막, 기록 갭을 형성하는 비자성의 도전성 막(구체적으로는 Cu, Ta 등), 제3 자성막을 적층한다. 이 성막에는 전해 도금법(혹은 무전해 도금법)을 이용한다. 이 후, 프레임 패턴(171-1, 171-2)을 적어도 덮을 수 있는 영역에 레지스트 패턴(172-1, 172-2)을 중첩시킨다.Thereafter, as shown in Fig. 17B, a second magnetic film, a nonmagnetic conductive film (specifically Cu, Ta, etc.) forming a recording gap and a third magnetic film are laminated. Electrolytic plating (or electroless plating) is used for this film formation. Thereafter, the resist patterns 172-1 and 172-2 are superimposed on a region that can at least cover the frame patterns 171-1 and 171-2.

상기 패턴을 형성한 후, 레지스트 패턴에 의해 덮을 수 없는 영역을 습식법으로 제거한다. 그러한 후, 도 17c에 도시한 바와 같이 프레임 및 레지스트 패턴을 제거함으로써, 제2 자성막(132), 자기 갭(110), 제3 자성막(133) 및 자로재(141, 142), 자기 갭(140)을 형성할 수 있다.After the pattern is formed, a region which cannot be covered by the resist pattern is removed by a wet method. Thereafter, as shown in FIG. 17C, the second magnetic film 132, the magnetic gap 110, the third magnetic film 133, the magnetic material 141 and 142, and the magnetic gap are removed by removing the frame and the resist pattern. 140 may be formed.

여기서, 상기 제2 자성막과 제3 자성막의 2차원적 형상은 같게 된다. 이 때, 패턴 형성이 한번에 끝나기 때문에, 효율이 좋다.Here, the two-dimensional shape of the second magnetic film and the third magnetic film are the same. At this time, since pattern formation is completed at once, efficiency is good.

이 후, 도 17d에 도시한 바와 같이 알루미나막 등으로 구성되는 절연층(131)을 제1 자성막의 전 영역을 덮어 피착하였다. 그 후, 제3 자성막(133)과 자로재(142: 이면 접촉)의 표면을 노출시켰다. 이 처리에는, 표면을 기계적으로 연마하는 방법이나 반도체 소자 등의 제작에 사용되는 평탄화(planarization) 공정 (수지를 두껍게 도포하고, 단차를 평활화한다. 그 후, 평활면을 유지하면서 건식 에칭법으로 원하는 두께까지 에칭을 진행시킨다. 수지와 돌기부의 에칭 스피드를 1:1로 유지함으로써 평활면 상에 돌기부의 일부를 노출시키는 방법)을 이용하였다. 어느 것이나, 단일 공정으로 절연층의 선택적인 제거를 할 수 있기 때문에 생산성에 뛰어나고, 또한 제조 장치의 비용을 저감시킬 수 있다.Thereafter, as shown in Fig. 17D, an insulating layer 131 made of an alumina film or the like was deposited covering the entire region of the first magnetic film. Thereafter, the surfaces of the third magnetic film 133 and the magnetic material 142 (back contact) were exposed. In this treatment, a planarization step (a resin is thickly applied and a step is smoothed) used to mechanically polish the surface or to fabricate a semiconductor device. Then, a dry etching method is desired while maintaining the smooth surface. Etching is carried out to thickness The method of exposing a part of a projection part on the smooth surface by maintaining the etching speed of resin and a projection part at 1: 1) was used. In any case, since the insulating layer can be selectively removed in a single step, the productivity can be excellent and the cost of the manufacturing apparatus can be reduced.

이 후, 도 17e에 도시한 바와 같이 코일(126)을 형성한 후, 절연층(138)을 형성하였다. 절연층(138)은, 제3 자성막을 향해 테이퍼(taper)를 갖는다. 또한, 이면 접촉부(자로재 142의 표면을 노출시키기 위한) 및 코일(126)과 전극과의 접촉부에 개구부(134)를 형성하였다.After that, as shown in FIG. 17E, the coil 126 was formed, and then the insulating layer 138 was formed. The insulating layer 138 has a taper toward the third magnetic film. In addition, an opening portion 134 was formed in the back contact portion (for exposing the surface of the material 142) and the contact portion between the coil 126 and the electrode.

이 후, 이온 밀링법 내지는 리프트 오프법을 이용하여 제4 자성막(127)을 형성하였다. 이 후, 접촉 구멍(134)에 전극을 연결함으로써 자기 헤드의 주요부(기록부만)의 제조를 종료하였다.Thereafter, the fourth magnetic film 127 was formed by ion milling or lift off. Thereafter, the production of the main portion (recording portion only) of the magnetic head was completed by connecting the electrode to the contact hole 134.

이상 진술한 공정에 의해, 도 16에 도시한 자극 구조를 형성할 수 있다. 상기 자기 헤드를 알루미나와 티탄카바이드와의 소결체를 기계 가공한 웨이퍼 상에 형성함으로써 자기 헤드 슬라이더를 제조하였다.By the above-mentioned steps, the magnetic pole structure shown in FIG. 16 can be formed. The magnetic head slider was manufactured by forming the magnetic head on a wafer on which a sintered body of alumina and titanium carbide was machined.

또, 도 17c의 구조는, 제3 자성막을 전해 도금법으로 형성한 후, 상기 패턴을 마스크에 에칭하여도 형성은 가능하다. 이 에칭으로는 이온 밀링법이 바람직하다. 또한, 이 방법으로 자기 갭과 제2 자성막을 형성하기 위해서는, 미리, 제3 자성막 하에, 알루미나막 등의 절연막(기록 갭을 구성)과 자성막을 적층해 놓을 필요가 있는 것은 물론이다. 또한, 이 자성막이, 더욱 아래에 위치하는 제1 자성막과 동일한 재료라도 지장은 없다. 이것은, 제3 자성막이 제2 자성막에 대해 유출단측에 위치하는 것이 조건이다.In addition, the structure of FIG. 17C can be formed even if the third magnetic film is formed by an electroplating method and then the pattern is etched in a mask. As this etching, the ion milling method is preferable. In addition, in order to form a magnetic gap and a 2nd magnetic film by this method, it is a matter of course that the insulating film (constituting a recording gap) and a magnetic film, such as an alumina film, need to be laminated | stacked previously under a 3rd magnetic film. In addition, even if this magnetic film is the same material as the 1st magnetic film further located below, it will not interfere. This is a condition that the third magnetic film is located on the outflow end side with respect to the second magnetic film.

상기 공정으로부터 형성한 본 발명의 자기 헤드를 도 12에 도시한 바와 같이현수 부재(117)에 부착하였다. 현수 부재(117)의 선단에 부착된 자기 헤드(40)를 기록 매체(51) 상의 임의의 장소에 위치 결정하기 위해 로터리 액튜에이터(53)를 이용하였다. 로터리 액튜에이터(53)와 현수 부재(117)를 결합하기 위해 이용하였다. 이 아암(114)의 존재는 2. 5 인치 이하의 기록 장치에서는 불필요해진다.The magnetic head of the present invention formed from the above process was attached to the hanging member 117 as shown in FIG. The rotary actuator 53 was used to position the magnetic head 40 attached to the tip of the hanging member 117 at any place on the recording medium 51. It was used to couple the rotary actuator 53 and the suspension member 117. The presence of this arm 114 becomes unnecessary in a recording device of 2.5 inches or less.

상기 구조의 자기 헤드를 탑재한 자기 기록 장치는, 미끄럼 이동면측에 고경도의 알루미나막 등이 노출되기 때문에, 매우 신뢰성이 높은 장치로 된다. 또한, 자기 헤드를 구성하는 기록부의 트랙 폭(자극폭)은, 제3 자성막의 폭으로 결정되고, 상기 패턴은 전해 도금법에 의한 형성이 가능하기 때문에, 1㎛ 이하의 협트랙 대응의 자기기록 장치를 용이하게 제조할 수 있다.In the magnetic recording apparatus equipped with the magnetic head of the above structure, a high hardness alumina film or the like is exposed on the sliding surface side, thereby making the apparatus highly reliable. In addition, since the track width (stimulus width) of the recording portion constituting the magnetic head is determined by the width of the third magnetic film, and the pattern can be formed by the electroplating method, magnetic recording corresponding to a narrow track of 1 μm or less is possible. The device can be easily manufactured.

또한, 제1 자성막 및 제4 자성막에 비저항이 높은 재료를 적용함으로써 150㎒ 이상의 주파수로 구동하는 자기 헤드가 실현된다.In addition, by applying a material having a high specific resistance to the first magnetic film and the fourth magnetic film, a magnetic head driving at a frequency of 150 MHz or more is realized.

이상의 효과로부터, 종래 불가능하다고 생각되고 있는 고속이고 또한, 고밀도(10Gb/in2 이상)의 자기 기록 장치를 실현할 수 있다. 이것은, 절연막 구조의 최적화와 자성막의 최적화 등에 의해 이루어진 성과이다. 이 특징을 갖는 본 발명의 자기기록 장치(자기 헤드)는, 복잡한 제조 수단이 불필요해서 염가로 제조할 수 있다.From the above effects, it is possible to realize a high-speed, high-density (10 Gb / in 2 or more) magnetic recording apparatus which is conventionally considered impossible. This is the result of optimization of the insulating film structure, optimization of the magnetic film, and the like. The magnetic recording apparatus (magnetic head) of the present invention having this feature can be manufactured at low cost because no complicated manufacturing means is required.

본 발명에 의하면, 불명료함이 적으며 기록 자계가 높은 기록용 박막 자기 헤드가 얻어지고, 면기록 밀도 4Gb/in2이상의 자기 기록 재생 장치를 달성할 수 있는 현저한 효과가 얻어진다.According to the present invention, a thin film magnetic head for recording having less ambiguity and a high recording magnetic field is obtained, and a remarkable effect of achieving a magnetic recording and reproducing apparatus having a surface recording density of 4 Gb / in 2 or more is obtained.

Claims (14)

상부 및 하부 자성막을 구비하고, 비자성 갭 막이 그 사이에 개재되어 있는 박막 자기 헤드에 있어서,A thin film magnetic head having upper and lower magnetic films, and having a nonmagnetic gap film interposed therebetween, 상단부 자성막은 상기 상부 자성막의 단부와 상기 비자성 갭 막의 일측에서의 상기 상부 자성막 상에 형성되고, 하단부 자성막은 상기 하부 자성막의 단부와 상기 비자성 갭막의 타측에서의 상기 하부 자성막 상에 형성되며,An upper magnetic film is formed on the end of the upper magnetic film and the upper magnetic film on one side of the nonmagnetic gap film, and a lower magnetic film is on the end of the lower magnetic film and on the lower magnetic film on the other side of the nonmagnetic gap film. Formed, 상기 상단부 자성막과 상기 하단부 자성막 및 상기 비자성 갭 막은 결합시 자기 기록 매체의 트랙 폭의 경계를 정하며, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막중 적어도 하나는 상기 상부 및 하부 자성막중 적어도 하나보다 에어 베어링면(air bearing surface)을 향해 더 돌출되어 있고,The upper magnetic film, the lower magnetic film, and the nonmagnetic gap film define a boundary of a track width of a magnetic recording medium when combined, and at least one of the upper magnetic film and the lower magnetic film is an air bearing than at least one of the upper and lower magnetic films. Protrude more towards the air bearing surface, 상기 상단부 자성막 및 상기 하단부 자성막의 포화가능한 자속 밀도는 상기 상부 및 하부 자성막의 포화가능한 자속 밀도보다 높은 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드.And the saturable magnetic flux density of the upper magnetic film and the lower magnetic film is higher than the saturable magnetic flux density of the upper and lower magnetic films. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막 각각은 적어도 1.5 테슬라(tesla)의 포화가능한 자속 밀도를 갖는 도금 자성막으로 이루어지며, 상기 박막 자기 헤드가 선정된 고 구동 주파수로 선정된 고 밀도 기록을 수행하는 조건하에서, 상기 상부 자성막은 상기 도금 자성막의 프레임 폭보다 넓은 폭과 적어도 50μΩ·㎝의 특정저항을 갖도록 도금하거나 스퍼터링함으로써 형성된 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드.Each of the upper magnetic film and the lower magnetic film is made of a plated magnetic film having a saturable magnetic flux density of at least 1.5 tesla, and the thin film magnetic head performs a predetermined high density recording at a predetermined high driving frequency. And wherein the upper magnetic film is formed by plating or sputtering to have a width wider than the frame width of the plating magnetic film and a specific resistance of at least 50 μΩ · cm. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 상단부 자성막 및 하단부 자성막은 동일한 트랙 폭을 가지고, 상기 상부 및 하부 자성막은 상기 트랙 폭보다 넓은 폭을 각각 가지며, 상기 상부 자성막은 다층 자성막인 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드.And the upper magnetic film and the lower magnetic film have the same track width, the upper and lower magnetic films each have a width wider than the track width, and the upper magnetic film is a multilayer magnetic film. 정보를 기록하기 위한 기록 헤드와 정보를 판독하기 위한 재생 헤드가 일체로 형성된 기록/재생 분리형 자기 헤드에 있어서,A recording / playback separation type magnetic head in which a recording head for recording information and a reproduction head for reading information are integrally formed, 상기 기록 헤드는 청구항 제7항에 따른 박막 자기 헤드로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기록/재생 분리형 자기 헤드.The recording head according to claim 7, wherein the recording head comprises a thin film magnetic head according to claim 7. 제4항에 있어서, 상기 재생 헤드는 자기 저항 효과를 갖는 강자성층과, 상기 강자성층이 일 방향 이방성을 나타낼 수 있도록 하는 반강자성층을 포함하며, 상기 반강자성층은 Cr-Mn계 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 기록/재생 분리형 자기 헤드.The method of claim 4, wherein the regeneration head comprises a ferromagnetic layer having a magnetoresistive effect, and an anti-ferromagnetic layer to allow the ferromagnetic layer to show one-way anisotropy, wherein the anti-ferromagnetic layer is made of a Cr-Mn-based alloy Magnetic recording head, characterized in that the recording / playback. 자기 기록 /재생 장치에 있어서,In the magnetic recording / reproducing apparatus, 정보가 기록되는 박막 자기 디스크;A thin film magnetic disk on which information is recorded; 상기 박막 자기 디스크를 회전시키기 위한 회전 수단;Rotating means for rotating the thin film magnetic disk; 부동형(floating type) 슬라이더에 부착되어 정보를 기록하는 기록 헤드와 정보를 판독하는 재생 헤드를 구비한 기록/재생 분리형 자기 헤드; 및A recording / playback separation type magnetic head having a recording head attached to a floating type slider for recording information and a reproduction head for reading information; And 상기 부동형 슬라이더를 지지하고 상기 박막 자기 디스크를 액세스하기 위한 이동 수단Moving means for supporting said floating slider and accessing said thin film magnetic disk 을 구비하고,And 상기 자기 디스크는 기록/재생시 적어도 4000rpm으로 회전하고, 적어도 45 MHz의 기록 주파수를 가지며,The magnetic disk rotates at least 4000 rpm during recording / reproducing, and has a recording frequency of at least 45 MHz, 상기 기록/재생 분리형 자기 헤드는 청구항 제9항에 따른 기록/재생 분리형 자기 헤드로 이루어진 것을 특징으로 하는 자기 기록/재생 장치.The magnetic recording / reproducing apparatus according to claim 9, wherein the recording / reproducing separate magnetic head comprises a recording / reproducing separation magnetic head according to claim 9. 자기 헤드에 있어서,In the magnetic head, 제1 자성막 및 제4 자성막에 의해 샌드위치된 코일 도체;A coil conductor sandwiched by the first magnetic film and the fourth magnetic film; 상기 제1 자성막에 자기적으로 접속된 제2 자성막;A second magnetic film magnetically connected to the first magnetic film; 상기 제4 자성막에 자기적으로 접속된 제3 자성막; 및A third magnetic film magnetically connected to the fourth magnetic film; And 상기 제2 자성막 및 상기 제3 자성막에 의해 샌드위치된 자기 갭 형성막Magnetic gap forming film sandwiched by the second magnetic film and the third magnetic film 을 구비하되,Provided with 상기 제2 및 상기 제3 자성막, 및 상기 자기 갭 형성막의 폭은 결합시 자기 기록 매체의 트랙 폭의 경계를 정하며,The widths of the second and third magnetic films and the magnetic gap forming film define a boundary of the track width of the magnetic recording medium upon bonding; 상기 제2 및 상기 제3 자성막, 및 상기 자기 갭 형성막과 접하는 절연성 비자성 단일막은 적어도 상기 제1 자성막을 도포하고, 상기 코일 도체를 지지하는 한편, 상기 절연성 비자성 단일막의 단면을 에러 베어링면(air bearing surface)을 향하여 노출되도록 하며,The second and third magnetic films and the insulating nonmagnetic single film in contact with the magnetic gap forming film apply at least the first magnetic film and support the coil conductor, while bearing an end surface of the insulating nonmagnetic single film in error bearing. To be exposed towards the air bearing surface, 상기 제1 및 제4 자성막 각각의 특정 저항은 상기 제3 자성막의 특정 저항보다 높은 것을 특징으로 하는 자기 헤드.The specific resistance of each of the first and fourth magnetic films is higher than the specific resistance of the third magnetic film. 제7항에 있어서, 상기 제3 자성막의 체적은 상기 제1 자성막 및 상기 제4 자성막의 체적의 10-4이하인 것을 특징으로 하는 자기 헤드.8. The magnetic head of claim 7, wherein the volume of the third magnetic film is less than or equal to 10 -4 of the volumes of the first magnetic film and the fourth magnetic film. 제7항에 있어서, 상기 제4 자성막의 포화가능한 자속 밀도를 Bs1(T), 막 두께를 t(㎛)로 하고, 상기 제3 자성막의 포화가능한 자속 밀도를 Bs2(T), 상기 제3 자성막과 상기 제4 자성막과의 부동 방향의 중첩 길이를 Dg(㎛)로 표시하는 경우,The method of claim 7, wherein the saturable magnetic flux density of the fourth magnetic film is Bs1 (T), the film thickness is t (µm), and the saturable magnetic flux density of the third magnetic film is Bs2 (T), When the overlapping length in the floating direction between the three magnetic films and the fourth magnetic film is expressed in Dg (µm), 0.8 < Bs1×t / Bs2×Dg < 1.5의 관계식를 만족시키는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.A magnetic head satisfying a relation of 0.8 <Bs1 x t / Bs2 x Dg <1.5. 제9항에 있어서, 상기 제2 자성막은 상기 제1 자성막과 동일한 재료로 형성된 것을 특징으로 하는 자기 헤드.The magnetic head of claim 9, wherein the second magnetic film is formed of the same material as the first magnetic film. 제9항에 있어서, 상기 제2 자성막은 상기 제3 자성막을 마스크로 사용하여상기 제1 자성막의 일부를 에칭함으로써 형성된 것을 특징으로 하는 자기 헤드.10. The magnetic head as claimed in claim 9, wherein the second magnetic film is formed by etching a portion of the first magnetic film using the third magnetic film as a mask. 제9항에 있어서, 상기 제3 자성막의 포화가능한 자속 밀도는, 상기 제3 자성막이 상기 자기 기록 매체의 회전 방향의 아웃플로우 단부측에 상기 제2 자성막보다 더 위치하는 조건하에서, 상기 제2 자성막의 포화가능한 자속 밀도보다 높은 것을 특징으로 하는 자기 헤드.10. The magnetic flux density of claim 3, wherein the saturable magnetic flux density of the third magnetic film is lower than the second magnetic film under the condition that the third magnetic film is located on the outflow end side of the rotation direction of the magnetic recording medium. 2 A magnetic head characterized by being higher than the saturable magnetic flux density of a magnetic film. 청구항 제7항에 따른 자기 헤드를 사용한 자기 기록 장치에 있어서,In the magnetic recording apparatus using the magnetic head according to claim 7, 상기 제1 자성막 및 상기 제4 자성막의 특정 저항이 ρ(μΩ·㎝), 5㎒에서의 비투자율이 μ, 막 두께가 t(㎛)로 표시될 때,When the specific resistance of the first magnetic film and the fourth magnetic film is expressed as ρ (μΩ · cm), specific permeability at 5 MHz, and film thickness is expressed as t (μm), ρ/(μ×t2) > 0.0064의 관계식를 만족하는 것을 특징으로 하는 자기 기록 장치.A magnetic recording apparatus satisfying a relational expression of ρ / (μ x t2)> 0.0064. 제13항에 있어서, 상기 제1 자성막 및 상기 제4 자성막 각각은 자성막 및 비자성막이 적층된 다층막, 적어도 50μΩ·㎝의 특정 저항을 갖는 고 전기-저항 비정질 합금막중 하나에 의해 형성되고, 상기 제3 자성막은 상기 자기 헤드가 선정된 고 구동 주파수로 선정된 고 밀도 기록을 수행하는 조건하에서 20μΩ·㎝ 이하의 특정 저항을 갖는 Co-Ni-Fe를 주성분으로 하는 합금막인 것을 특징으로 하는 자기 기록 장치.15. The magnetic film of claim 13, wherein each of the first magnetic film and the fourth magnetic film is formed by one of a multilayer film in which magnetic films and nonmagnetic films are stacked, and a high electrical-resistance amorphous alloy film having a specific resistance of at least 50 µΩ · cm. And the third magnetic film is an alloy film mainly composed of Co-Ni-Fe having a specific resistance of 20 μΩ · cm or less under the condition that the magnetic head performs a high density recording selected at a predetermined high driving frequency. Magnetic recording device.
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