KR100319318B1 - Getter assembly for CRT - Google Patents
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Abstract
본 발명은 브라운관용 게터 구조체에 관한 것으로서, 게터 플레쉬 작업시 가해지는 고주파 열에 의해 게터 서포터부가 휘어지고 이러한 휘어짐으로 인한 펀넬 내장 흑연막의 탈락 및 에미션 불량 등의 발생을 감소시키고 이와 동시에 관련된 비산 특성을 개선하고자 하는데 목적이 있다.The present invention relates to a getter structure for a CRT, wherein the getter supporter is bent by the high frequency heat applied during the getter flashing operation, thereby reducing the occurrence of fallout and emission failure of the funnel-embedded graphite film due to the bending and at the same time, The purpose is to improve.
이를 실현하기 위한 본 발명은, 게터 스프링의 일단에 게터보관부의 측면과 대응될 수 있도록 소정 각도로 절곡된 제1절곡부를 형성하고, 상기 게터 스프링 상에는 제1절곡부와 반대 방향으로 150∼165°의 절곡각을 갖는 적어도 2개 이상의 절곡부를 갖게 되는 것으로,The present invention for achieving this, the first bent portion bent at a predetermined angle so as to correspond to the side surface of the getter storage portion on one end of the getter spring, and 150 to 165 ° in the opposite direction to the first bent portion on the getter spring Having at least two bent portions having a bending angle of
이로 인해 게터 구조체의 기구적, 전기적 불량을 개선할 수 있게되는 이점이 있다.This has the advantage of being able to improve the mechanical and electrical failure of the getter structure.
Description
본 발명은 브라운관용 게터(Getter) 구조체에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 음극선관의 제조공정 시 고주파 가열에 의해 비산되어 내부에 잔류하는 가스를 제거하여 내부진공도를 향상시키는 역할을 수행하는 게터 구조체의 지지구조에 관한 것이다.The present invention relates to a getter structure for a cathode ray tube, and more particularly, to a structure of a getter structure which serves to improve internal vacuum by removing gas remaining by being scattered by high frequency heating in a cathode ray tube manufacturing process. It relates to a support structure.
일반적으로, 브라운관내에는 기체분자가 많은데 이 기체 분자는 진공이 덜되어 유발되는 것이기도 하지만 브라운관을 진공 상태로 만들기 위해 펀넬 네크부를 봉입한 후에 브라운관 내부의 부품 즉 글래스 및 전자총, 내장흑연 등에서 시간이 지남에 따라 증가하는 가스들인데 이런 기체 분자가 많으면 전자빔과 충돌하여 이온화 된다.In general, there are many gas molecules in the CRT, which are caused by less vacuum, but after the funnel neck is enclosed to make the CRT vacuum, the internal parts of the CRT, such as glass and electron guns, internal graphite, etc. Gases that increase over time, many of these gas molecules collide with the electron beam and become ionized.
이 이온들은 튜브내의 고전압과 방전관계가 생겨 글로우 현상이 생기며 캐소드 측으로 역진행하여 전자를 방출하는 캐소드의 에미션 물질을 파괴한다.These ions develop a discharge relationship with the high voltage in the tube, which causes a glow phenomenon and reverses the cathode to destroy the emission material of the cathode that emits electrons.
따라서 튜브내에는 고진공 상태를 요구하며 이를 위해 게터의 바륨을 고주파로 유도 가열시켜 비산된 바륨이 화학적으로 관내의 기체를 흡착하여 튜브 내벽에 부착되므로써 진공도를 향상시키는데 이러한 작업을 게터 플래시 작업이라 한다.Therefore, a high vacuum condition is required in the tube. For this purpose, the barium of the getter is induction-heated at a high frequency so that the scattered barium chemically adsorbs the gas in the tube and is attached to the inner wall of the tube to improve the degree of vacuum.
음극선관의 크기에 따라서 게터의 비산량(Ba 증발량)이 다르게 되는데 일반적으로 음극선관의 인치에 10배를 한 정도의 량을 비산시켜 잔류가스를 흡수하게된다. 게터의 바륨을 비산시키기 위하여 게터에 고주파 가열을 하면 와류현상에 의하여 열이 발생하여 약 800℃에 도달하면 비산하기 시작하여 최대 1200℃까지 상승한다.Depending on the size of the cathode ray tube, the getter's scattering amount (Ba evaporation amount) is different. Generally, 10 times the inch of the cathode ray tube is scattered to absorb residual gas. When the getter is subjected to high frequency heating in order to scatter the barium of the getter, heat is generated by the vortex phenomenon, and when it reaches about 800 ° C, it starts to scatter and rises up to 1200 ° C.
이러한 방법에 의하여 비산되는 음극선관용 게터는 모양에 따라서 조건이 크게 변하므로 열손실이 적은 게터의 설계가 요구된다.Cathode ray tube getters scattered by this method require a design of a getter with low heat loss because conditions vary greatly depending on the shape.
게터의 종류는 전자총에 부착하는 안테나 게터와, 펀넬의 에노드(anode)측에 결합하는 에노드 게터, 그리고 마스크 프레임에 부착하는 프리터블(frittable) 게터로 크게 나누어져 있다. 안테나 게터는 패널과 펀넬을 부착시킨 상태에서 전자총을 음극선관의 네크부에 삽입할 때 전자총에 부착되어 장착되게 되고, 에노드 게터와 프리터블 게터는 패널과 펀넬을 부착시키기 전의 인너쉴드를 장착할 때 부착한다.Types of getters are broadly divided into antenna getters attached to the electron gun, anode getters coupled to the anode side of the funnel, and pretable getters attached to the mask frame. The antenna getter is attached to the electron gun when the electron gun is inserted into the neck of the cathode ray tube while the panel and the funnel are attached, and the anode getter and the prepable getter are fitted with the inner shield before the panel and the funnel are attached. When attach.
도 1 내지 도 3에 제시된 장치를 종래 기술의 에노드 게터가 구비된 평면 음극선관의 한 예로서 설명한다.The apparatus shown in FIGS. 1-3 is described as an example of a planar cathode ray tube equipped with an anode getter of the prior art.
먼저, 평면 음극선관의 개략적인 구성을 도 1을 참조하여 살펴보면, 전면부에 위치하며 내측면에 형광면이 도포된 패널(1)과, 패널(1)의 후방에 프릿글라스를 이용하여 융착되는 펀넬(2)과, 패널(1)의 전면부에 고정되는 방폭유리(6)와, 펀넬(2)의 네크부 내에 봉입되어 R,G,B 3개의 전자빔(4)을 발사시키는 전자총(9)과, 패널(1)의 내측에 결합되어 전자빔의 색선별 기능을 하도록 슬릿형상의 전자빔 통과홀이 무수히 뚫린 섀도우마스크(5)와, 섀도우마스크(5)가 패널(1)과 일정간격을 유지하도록 지지하는 레일(3)과, 음극선관내에서 전자빔(4)에 작용하는 외부자계를 차폐하는 자기쉴드(8)와, 내부진공도 향상을 위해 펀넬(2) 내측면에 결합되는 게터 구조체(7)등으로 구성되었다.First, a schematic configuration of a planar cathode ray tube will be described with reference to FIG. 1. A panel 1 positioned on a front surface and coated with a fluorescent surface on an inner surface thereof, and a funnel fused using frit glass on a rear side of the panel 1. (2), an explosion-proof glass (6) fixed to the front part of the panel (1), and an electron gun (9) enclosed in the neck portion of the funnel (2) to fire three electron beams (R, G, B). And a shadow mask 5 coupled to the inside of the panel 1 and having a slit-shaped electron beam through hole, and a shadow mask 5 to maintain a predetermined distance from the panel 1 so as to perform the color discrimination function of the electron beam. A supporting rail 3, a magnetic shield 8 shielding an external magnetic field acting on the electron beam 4 in the cathode ray tube, and a getter structure 7 coupled to the inner surface of the funnel 2 for improving the internal vacuum degree, and the like. It consisted of
특히, 게터 구조체(7)는 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 게터물질이 보관되는 게터 보관부(11)와, 에노드 버튼(10)과 결합되어 게터 보관부(11)를 지지하는 게터 스프링(12)으로 이루어지는데, 게터 스프링(12)의 끝단은 펀넬(4) 내측면의 내장흑연막(13)과 접촉된다.In particular, the getter structure 7 is coupled to the getter storage 11 and the anode button 10 in which the getter material is stored, as shown in FIGS. 2 to 4, and the getter supporting the getter storage 11. It consists of a spring 12, the end of the getter spring 12 is in contact with the embedded graphite film 13 of the inner surface of the funnel (4).
도 3은 게터 구조체의 배면도를 나타낸 것으로서, 게터 보관부(11)는 원형의 그릇모양이고, 보관부(11) 하단에는 서포터(14)가 조립되어 있으며, 서포터(14)에는 펀넬(2)의 내측면에 접촉되며 게터 보관부(11)를 일정 높이로 지지하는 크로스바(15)가 하단으로 절곡된 형태로 조립되어 있다.3 shows a rear view of the getter structure, wherein the getter storage portion 11 is a circular bowl shape, the supporter 14 is assembled at the bottom of the storage portion 11, and the funnel 2 is supported on the supporter 14. The crossbar 15, which is in contact with the inner surface of the supporter 11 and supports the getter storage unit 11 at a predetermined height, is assembled in a bent shape.
이와 같이 구성되는 평면음극선관의 제조공정에서는 패널(1) 및 펀넬(2)에 의해 형성되는 내부공간을 높은 진공상태로 만들어야 하는데, 패널(1)과 펀넬(2)를 결합시키는 융착공정 후 진공도 유지를 위해서 1차적인 배기공정으로 음극선관내의 공기를 외부로 빼내게 된다. 그리고 배기공정의 한계를 극복하기 위하여 2차적으로 게터플래싱 작업을 수행한다. 즉, 게터 보관부(11)를 펀넬(2)의 외부에서 고주파 생성코일에 의해 생성된 초고주파로 가열하면 게터물질이 음극선관의 내부공간으로 비산되면서 음극선관의 내벽에 바륨필름을 형성함과 동시에 잔류가스를 흡수하여 내부진공도를 더욱 증가시키게 된다.In the manufacturing process of the planar cathode ray tube constructed as described above, the internal space formed by the panel 1 and the funnel 2 should be made in a high vacuum state, and the degree of vacuum after the fusion process of combining the panel 1 and the funnel 2 is In order to maintain the primary air, the air inside the cathode ray tube is drawn out. In order to overcome the limitations of the exhaust process, a second getter flashing operation is performed. That is, when the getter storage part 11 is heated to the ultra-high frequency generated by the high frequency generating coil from the outside of the funnel 2, the getter material is scattered to the inner space of the cathode ray tube, and the barium film is formed on the inner wall of the cathode ray tube. The residual gas is absorbed to further increase the internal vacuum degree.
그러나, 상기 종래 기술에 따른 브라운관 진공공정에 있어서, 일정한 목표 진공도를 위해서는 많은 비산량을 필요로 하며 이러한 조건을 만족하기 위해서 기존에는 오랜 시간을 고주파 가열하여 게터의 비산량을 늘리는 방법을 사용하는데 이렇게 되면 오랫동안 게터 구조체(7)가 유도가열에 의해 열화되어서 쉽게 휘어지는 불량이 초래된다.However, in the CRT vacuum process according to the prior art, a large amount of scattering is required for a constant target vacuum degree, and in order to satisfy such conditions, conventionally, a method of increasing the scattering of the getter by high frequency heating for a long time is used. The getter structure 7 is degraded by induction heating, resulting in a defect that is easily bent.
특히, 이러한 현상은 도 5의 A로 표시된 게터 스프링(12)과 게터 보관부(11)의 경계에서 주로 발생하게 되는데, 이로 인해 휘어진 게터 서포터(14)는 인접하여 위치한 펀넬(2)면에 닿아서 순간적으로 높은 열에 의하여 펀넬을 찍어서 흠집을 내거나, 또는 펀넬 내면에 도포된 내장흑연막(13)을 긁게 된다. 이때 떨어진 내장흑연은 전자총 부위에 도달하여 에미션과 같은 심각한 악영향을 입히게 되는 문제점이 있었다.In particular, this phenomenon occurs mainly at the boundary between the getter spring 12 and the getter storage part 11 indicated by A in FIG. 5, whereby the curved getter supporter 14 touches the adjacent face of the funnel 2. At a moment, the funnel is scratched by high heat, or the internal graphite film 13 applied to the inner surface of the funnel is scratched. At this time, the fallen visceral graphite had a problem of reaching the electron gun part and causing serious adverse effects such as emission.
또한 게터 플래싱 작업을 할때 많이 사용되는 용어로는 토탈타임(total time)과 스타트 타임(start time)이 있다. 여기서 토탈타임이란 게터 플래시 작업시 전류가 전체적으로 인가되는 시간이며, 스타트 타임이란 게터의 바륨이 비산되기 시작하는 시간인데 현재 작업공정에서는 게터가 펀넬을 찍는 문제를 막기 위해서 낮은 전류를 인가하여 스타트 타임을 길게 가져가고 있다.Also commonly used when getting getter flashing is total time and start time. In this case, the total time is the time when the current is generally applied during the getter flash operation, and the start time is the time when the barium of the getter starts to scatter. I'm taking it long.
또한, 이러한 문제를 간이적으로 해결하기 위해 게터에 바륨을 비산시킬 때 사용되는 고주파 유도 코일을 게터의 중심에 맞추지 않고 어느정도 벗어난 위치(보통 2mm 벗어남)에서 오랜 시간 전류를 흐르게 하여 바륨을 비산시키는 작업을 하고 있는데, 이렇게 되면 고주파 유도 코일과 게터의 중심의 어긋남이 늘 일정하지 않는 이유로 항상 예상한 바륨 비산량이 나오지 않을 수 있으며, 또한 필요 이상의 전류를 낭비하는 결과를 초래하는 문제점이 있었다.In order to solve this problem simply, the high frequency induction coil used to scatter barium on the getter does not have to be centered on the getter so that the current flows for a long time at a position that is somewhat out of the ordinary (2 mm away). In this case, the expected barium scattering may not always come out because the misalignment of the center of the high frequency induction coil and the getter is not always constant, and there is a problem of causing a waste of more current than necessary.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 발명된 것으로, 게터 보관부를 지지하는 게터 스프링의 탄성 지지력을 전체적으로 보강하여 열화시 기구적 휘어짐 현상에 의한 펀넬 찍힘 현상을 방지하고 이를 통해 게터의 비산특성을 향상시킬 수 있도록 하는데 목적이 있다.The present invention has been invented to solve the problems of the prior art as described above, by reinforcing the elastic support force of the getter spring supporting the getter storage as a whole prevents the funnel phenomena due to mechanical bending phenomenon during deterioration and thereby getter The purpose is to improve the scattering characteristics of the.
도 1은 일반적인 평면 브라운관 단면도.1 is a general flat CRT section.
도 2는 펀넬 내면의 게터 구조체 장착 상태도.2 is a getter structure mounting state of the inner surface of the funnel;
도 3은 종래 기술에 따른 게터 구조체 배면도.3 is a rear view of a getter structure according to the prior art.
도 4는 종래 기술에 따른 게터 구조체 측면도.4 is a side view of a getter structure according to the prior art.
도 5는 상기 장착된 게터 구조체의 휘어짐 상태도.5 is a bent state diagram of the mounted getter structure.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 게터 구조체 측면도.6 is a side view of a getter structure according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 게터 구조체 배면도.7 is a rear view getter structure according to an embodiment of the present invention.
도 8은 상기 실시예에 따른 게터 구조체의 스프링 구조도.8 is a spring structure diagram of a getter structure according to the embodiment.
도 9는 상기 실시예에 따른 게터 구조체의 스프링 용접 상태도.9 is a spring welding state of the getter structure according to the embodiment;
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 절곡부 확대도.10 is an enlarged view of a bent portion according to another embodiment of the present invention.
*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ****** Explanation of symbols for the main parts of the drawing ***
101 : 게터 보관부 , 104 : 서포터 , 105 : 크로스바 , 106 : 엠보싱부101: getter storage, 104: supporter, 105: crossbar, 106: embossing
110 : 게터 스프링 , 111 : 전단부 , 111a: 절곡부 , 112 : 중단부110: getter spring, 111: front end, 111a: bend, 112: stop
113 : 후단부113: rear end
상기와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은 게터 물질이 담기는 게터보관부와, 상기 게터보관부를 펀넬 내측면에 위치시키도록 탄성력으로 지지하는 게터스프링과, 상기 게터보관부와 상기 게터스프링에 공통으로 결합되어 상호간의 지지력을 부여하는 서포터를 포함하는 브라운관용 게터 구조체에 있어서; 상기 게터스프링은, 일단이 상기 게터보관부의 측면과 대응될 수 있도록 90-110°의 각도로 절곡되고, 상기 게터보관부 측면 높이의 1/2 이상인 제1절곡부와 상기 제1절곡부와 반대 방향으로 150-165°의 절곡각을 적어도 2개 이상의 절곡부가 형성된 것을 특징으로 한다.The present invention for realizing the above object is a getter storage portion containing a getter material, a getter spring for supporting the getter storage portion with an elastic force to be located on the inner side of the funnel, and the getter storage portion and the getter spring in common In the getter structure for a CRT including a supporter coupled to each other to give each other support; The getter spring is bent at an angle of 90-110 ° so that one end thereof can correspond to the side surface of the getter storage portion, and is opposite to the first bent portion and the first bent portion that is 1/2 or more of the height of the side surface of the getter storage portion. At least two bends are formed at a bending angle of 150-165 ° in the direction.
한편, 상기 제1절곡부의 절곡 각도는 90∼110°로 형성하고, 그 길이는 상기 게터 보관부 측면 높이의 1/2 이상으로 함이 바람직하다.On the other hand, it is preferable that the bending angle of the first bent portion is formed at 90 to 110 °, and the length thereof is at least 1/2 of the height of the side surface of the getter storage portion.
또한, 상기 게터 스프링은 탄성 지지력을 더욱 증가시키기 위하여 상기 제1절곡부와 반대 방향으로 150∼165°의 절곡각을 갖는 적어도 2개 이상의 절곡부가 형성됨이 바람직하다.In addition, the getter spring is preferably formed with at least two bent portions having a bending angle of 150 to 165 ° in a direction opposite to the first bent portion in order to further increase the elastic support force.
또한, 상기 제1절곡부에는 절곡각도를 지지하기 위한 엠보싱부를 형성함이 바람직하다.In addition, the first bent portion is preferably formed with an embossed portion for supporting the bending angle.
이와 같이 하면, 게터 스프링의 지지력이 강화되면서 외부에서 인가된 유도가열에 의해 열화되더라도 서포터가 쉽게 휘어지지 않게 됨을 알 수 있다.In this way, it can be seen that the supporter is not easily bent, even though it is deteriorated by induction heating applied from the outside while the support force of the getter spring is strengthened.
그 결과, 상기 서포터가 펀넬의 내장흑연과 접촉되는 것이 방지되어 에미션 및 관련 기구적, 전기적 불량률이 개선되는 이점이 있다.As a result, the supporter is prevented from coming into contact with the embedded graphite of the funnel, thereby improving the emission and related mechanical and electrical failure rates.
그리고, 본 발명의 실시예로는 다수개가 존재할 수 있으며, 이하에서는 가장 바람직한 실시예에 대하여 상세히 설명하기로 한다.And, there may be a plurality of embodiments of the present invention, hereinafter will be described in detail with respect to the most preferred embodiment.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 의한 게터 구조체의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the getter structure according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
또한, 설명에 사용되는 도면에 있어서, 종래기술과 같은 구성성분에 관해서는 그 중복되는 설명을 생략하는 것도 있다.In addition, in the drawing used for description, the overlapping description may be abbreviate | omitted about the component similar to the prior art.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 게터 구조체 측면도이고, 도 7은 게터 구조체 배면도이며, 도 8은 본 실시예에 적용된 게터 스프링의 절곡 구조도, 도 9는 게터 보관부 지지를 위한 결합 상태도, 도 10은 다른 실시예에 따른 스프링 절곡부 구조도이다.6 is a side view of the getter structure according to the embodiment of the present invention, FIG. 7 is a rear view of the getter structure, FIG. 8 is a bending structure diagram of the getter spring applied to the present embodiment, and FIG. 9 is a coupled state for supporting the getter storage part. 10 is a structural diagram of a spring bent portion according to another embodiment.
본 실시예에 따른 게터 구조체의 게터 스프링(110)은 일측 끝단에 90°의 절곡각(θ)을 이루는 절곡부(111a)를 이루어 게터 보관부(101)의 측벽과 대응 지지될 수 있도록 하였다.The getter spring 110 of the getter structure according to the present embodiment has a bent portion 111a that forms a bend angle θ of 90 ° at one end thereof so as to be supported with the sidewall of the getter storage portion 101.
특히, 절곡각(θ)은 90∼110°범위 내에서 설계하고, 절곡부(111a)의 길이(h)는 대응되는 게터 보관부(101)의 측벽 높이(H)의 1/2 이상의 넓이로 지지될 수 있도록 설계함으로 적절한 지지력을 유지할 수 있게된다.In particular, the bend angle θ is designed within the range of 90 to 110 °, and the length h of the bent portion 111a is equal to or greater than 1/2 the width of the side wall height H of the corresponding getter storage portion 101. Designed to be supported, it is possible to maintain proper support.
이와 동시에, 게터 스프링(110)을 크게 서포터(104)가 하단에 용접 결합되는 전단부(111), 에노드 버튼이 결합되는 중단부(112), 그리고 후단부(113)로 구분하였을 때, 상호 각 경계부를 소정 각도(θ1=160°,θ2=155°)로 절곡시켜 구성함으로 탄성 지지력을 강화하게 된다.At the same time, when the getter spring 110 is largely divided into a front end 111 to which the supporter 104 is welded to the lower end, a stop part 112 to which the anode button is coupled, and a rear end 113, Each boundary portion is bent at a predetermined angle (θ 1 = 160 °, θ 2 = 155 °) to strengthen the elastic bearing force.
이는 펀넬 내면 곡률에 의한 무리한 힘이 게터 스프링(110)에 가해짐으로 인해 스프링 자체가 탄성을 잃게 되고, 이로 인해 펀넬 내부에서 게터 스프링(110)이 쉽게 유동하는 것을 방지지 하도록 하기 위함이다.This is to prevent the getter spring 110 from easily flowing inside the funnel due to the excessive force due to the inner curvature of the funnel is applied to the getter spring (110).
즉, 상기한 바와 같이 구성되는 본 실시예의 게터 구조체는, 브라운관 내부의 진공 작업을 위한 장시간의 고주파 가열시 유도 가열을 통해 생성된 열에 의해 열화되더라도, 게터 스프링(110)의 전단부(111) 끝단에 형성된 절곡부(111a)가 게터 보관부(101)의 측벽을 일정 강도로 지지함과 동시에 게터 스프링(110) 자체가 2단으로 절곡된 지지구조를 통해 서포터(104)로의 변형력 전달이 크게 감소됨을 알 수 있다.That is, even if the getter structure of the present embodiment configured as described above is deteriorated by heat generated through induction heating during a long time high frequency heating for the vacuum operation inside the CRT, the front end 111 of the getter spring 110 ends. The bent portion 111a formed in the supporter supports the sidewall of the getter storage portion 101 with a certain strength, and at the same time, the transfer of the deformation force to the supporter 104 is greatly reduced through the support structure in which the getter spring 110 itself is bent in two stages. It can be seen.
그리고 이를 통해 종래의 게터 구조체가 가졌던 기구적 단점을 보완하는 동시에 더욱 양호한 진공특성을 필요로 할 때 제조 조건에 맞는 게터 플레싱 작업을수행할 수 있게 된다.In addition to this, it is possible to compensate for the mechanical disadvantages of the conventional getter structure and to perform a getter flushing operation suitable for manufacturing conditions when a better vacuum characteristic is required.
또한, 본 발명의 다른 실시예로 도 10에 도시된 바와 같이 절곡부(111a)에 엠보싱부(106)를 추가로 형성하여 절곡부(111a)의 지지력을 더욱 향상시킬 수 있게된다.In addition, in another embodiment of the present invention, as shown in FIG. 10, the embossed portion 106 may be further formed in the bent portion 111a to further improve the bearing force of the bent portion 111a.
한편 비교 예로서, 도 3 및 도 4에 나타낸 종래의 게터 구조체는 고주파 가열시 유도된 높은 열에 의해 기구적으로 쉽게 휘어져 펀넬부의 내장흑연이 탈락되는 현상이 발생하였던 것과는 달리, 도 6 내지 도 9에 나타낸 본 발명에서는 게터 스프링의 탄성 지지력이 크게 보강되어 열화에 의한 휘어짐 현상이 발생하지 않게됨을 알 수 있다.Meanwhile, as a comparative example, the conventional getter structure shown in FIGS. 3 and 4 is easily bent mechanically due to high heat induced during high frequency heating, so that the built-in graphite of the funnel portion is dropped. In the present invention shown, it can be seen that the elastic support force of the getter spring is greatly reinforced so that a bending phenomenon due to deterioration does not occur.
이 결과에서, 본 발명에 의하면 내장흑연의 탈락에 의한 에미션 불량을 감소시키고 관련된 게터의 비산 특성을 개선할 수 있게 된다.In this result, according to the present invention, it is possible to reduce the emission failure due to the dropping of the embedded graphite and to improve the scattering characteristics of the associated getter.
그리고, 상기에서 본 발명의 특정한 실시예가 설명 및 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.In addition, while specific embodiments of the present invention have been described and illustrated above, it is obvious that the present invention may be variously modified and implemented by those skilled in the art.
이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안되며, 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 첨부된 특허청구범위 안에 속한다 해야 할 것이다.Such modified embodiments should not be individually understood from the technical spirit or the prospect of the present invention, and such modified embodiments should fall within the appended claims of the present invention.
이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명은, 게터 구조체가 열에 의해 열화되어휘어지는 힘을 견딜 수 있게 되어 내장 흑연막 찍힘에 의한 에미션 불량을 감소시키게 되고, 이로 인해 진공도 향상을 위한 비산특성을 개선할 수 있게되는 효과가 있다.As described above, the present invention can withstand the force that the getter structure is deteriorated by heat, thereby reducing the emission failure caused by the embedded graphite film, thereby improving the scattering property for improving the vacuum degree. It is effective.
Claims (2)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019990034945A KR100319318B1 (en) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | Getter assembly for CRT |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019990034945A KR100319318B1 (en) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | Getter assembly for CRT |
Publications (2)
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| KR100319318B1 true KR100319318B1 (en) | 2002-01-09 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019990034945A KR100319318B1 (en) | 1999-08-23 | 1999-08-23 | Getter assembly for CRT |
Country Status (1)
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|---|---|
| KR (1) | KR100319318B1 (en) |
-
1999
- 1999-08-23 KR KR1019990034945A patent/KR100319318B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20010018833A (en) | 2001-03-15 |
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