KR100315222B1 - A manufacturing method of anode for a flat display panel and the flat display panel having the anode - Google Patents
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Abstract
대형화 및 양산에 유리하며 보다 뛰어난 막품질을 구현할 수 있는 평판 표시소자의 애노드와 이 애노드의 제조방법으로서, 평판 표시소자의 애노드는 전면 기판에 스트라이프 패턴으로 형성되는 애노드 전극과, 이 애노드 전극에 형성되며 In2O3가 코팅된 형광체로 이루어지는 형광막을 포함한다. 이러한 애노드의 제조방법은 투명 플레이트에 스트라이프 패턴의 애노드 전극을 형성하고, 애노드 전극 패턴 사이로 격벽을 형성하며, In2O3가 코팅된 형광체에 증점제, 감광제, 분산제, 순수 등을 혼합하여 형광체 슬러리액을 제조하고, 제조된 형광체 슬러리액을 투명 플레이트에 도포하고 건조하며, 투명 플레이트를 노광하여 형광체 슬러리액을 선택적으로 경화시키고, 저압 노즐로 현상하여 경화되지 않은 형광체 슬러리액을 제거하고 건조시켜 형광막 패턴을 완성하는 단계를 포함한다.An anode of a flat panel display element and a method of manufacturing the anode, which are advantageous for large size and mass production, and which can realize excellent film quality, wherein the anode of the flat panel display element is formed on the front substrate with an anode electrode formed on a stripe pattern, and the anode electrode is formed on the anode electrode. And a fluorescent film made of In 2 O 3 coated phosphor. In the method of manufacturing the anode, a stripe pattern anode electrode is formed on a transparent plate, a partition wall is formed between the anode electrode patterns, and a phosphor slurry solution is mixed with a thickener, a photosensitizer, a dispersant, and a pure water in a phosphor coated with In 2 O 3. The phosphor slurry solution was applied to a transparent plate and dried, and the transparent plate was exposed to selectively cure the phosphor slurry solution, and developed with a low pressure nozzle to remove the uncured phosphor slurry solution and dried to form a fluorescent film. Completing the pattern.
Description
본 발명은 평판 표시소자의 애노드에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 대형화 및 양산에 유리하며 보다 뛰어난 막품질을 구현할 수 있는 애노드 및 이 애노드의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anode of a flat panel display device, and more particularly, to an anode and a method of manufacturing the anode, which are advantageous in size and mass production and which can realize excellent film quality.
일반적으로 평판 표시소자(FPD;Flat Panel Display)는 큰 부피와 고전압을 요구하는 음극선관과는 달리, 두께가 얇고 저전압으로 구동되는 표시소자를 통칭하며, 이러한 평판 표시소자에는 액정 표시소자(LCD;Liquid Crystal display)와 전계 방출 표시소자(FED;Field Emission Display) 및 플라즈마 표시소자(PDP;Plasma Display Panel)와 형광 표시관(VFD;Vacuum Fluorescent Display)이 대표적이다.In general, a flat panel display (FPD) refers to a display device that is thin and driven at a low voltage, unlike a cathode ray tube requiring a large volume and a high voltage. Such a flat panel display includes a liquid crystal display (LCD); Liquid crystal displays, field emission displays (FEDs), plasma display panels (PDPs) and fluorescent display tubes (VFDs) are typical.
상기한 평판 표시소자는 종류에 따라 세부적인 구조가 상이하지만, 기본적으로 투명한 두장의 플레이트와, 이들 플레이트 내부에 각기 형성되는 캐소드부 및 애노드부와, 상기한 플레이트 주위에 도포되어 플레이트를 밀봉시키는 시일재 등으로 이루어진다. 그리고 평판 표시소자의 내부 공간은 전자의 방출과 유동을 원활하게 하기 위하여 진공 상태로 유지되고 있다.The flat panel display device has a detailed structure depending on the type, but basically two transparent plates, a cathode portion and an anode portion respectively formed in these plates, and a seal applied around the plate to seal the plate. Ash and so on. In addition, the internal space of the flat panel display device is maintained in a vacuum state to facilitate the emission and flow of electrons.
이러한 평판 표시소자의 구성과 작동을 도 6에 도시된 전계 방출 표시소자를 예로 하여 설명하면 다음과 같다.The configuration and operation of such a flat panel display device will be described with reference to the field emission display device shown in FIG. 6 as an example.
전계 방출 표시소자는 전면 플레이트(1)와, 후면 플레이트(3)와, 이들 플레이트를 일체로 밀봉시키는 시일재(5) 및 플레이트 내부를 지지하는 격벽(7)으로 이루어지며, 표시소자 내부는 약 1×10-7토르(torr)의 고진공으로 유지되고 있다.The field emission display device includes a front plate 1, a rear plate 3, a sealing material 5 for integrally sealing these plates, and a partition wall 7 for supporting the inside of the plate. It is maintained at a high vacuum of 1 × 10 −7 Torr.
상기한 전면 플레이트(1)와 후면 플레이트(3)는 각각 애노드 플레이트와 캐소드 플레이트라고도 하는데, 전면 플레이트(1)의 하부 표면에는 스트라이프 패턴의 애노드 전극(9)이 위치하고, 애노드 전극(9)상에 형광막(11)이 위치한다. 그리고 후면 플레이트(3)의 상부 표면에는 애노드 전극(9)과 수직으로 교차하는 스트라이프 패턴의 캐소드 전극(13)이 위치하며, 캐소드 전극(13)상에 전자 방출 물질로 이루어진 에미터(15)가 위치한다.The front plate 1 and the back plate 3 are also referred to as an anode plate and a cathode plate, respectively, and a stripe pattern anode electrode 9 is located on the lower surface of the front plate 1, and on the anode electrode 9. The fluorescent film 11 is located. A stripe pattern cathode electrode 13 intersects the anode electrode 9 at the upper surface of the back plate 3, and an emitter 15 made of an electron emission material is formed on the cathode electrode 13. Located.
이와 같은 구성에 의해, 애노드 전극(9)과 캐소드 전극(13)의 교차 부분이 각각의 화소를 이루게 된다. 도시하지 않은 구동 회로에 의해 애노드 전극(9)과 캐소드 전극(13)으로 각 화소에 필요한 펄스 전압을 인가하면, 양전극 사이에 형성된 강한 전계에 의해 에미터(15)에서 전자(점선으로 도시)를 방출하며, 방출된 전자는 형광막(11)의 형광체를 여기시켜 화상을 표현한다.With this configuration, the intersections of the anode electrode 9 and the cathode electrode 13 form respective pixels. When a pulse voltage required for each pixel is applied to the anode electrode 9 and the cathode electrode 13 by a driving circuit (not shown), electrons (shown in dashed lines) are emitted from the emitter 15 by a strong electric field formed between both electrodes. The emitted electrons excite the phosphor of the fluorescent film 11 to represent an image.
이로서 캐소드 전극(13)과 에미터(15)로 이루어지는 캐소드부는 전자를 제공하고, 애노드 전극(9)과 형광막(11)으로 이루어지는 애노드부는 전자를 제공받아 가시광을 방출하여 화상을 구현하는 역할을 한다.As a result, the cathode part including the cathode electrode 13 and the emitter 15 provides electrons, and the anode part including the anode electrode 9 and the fluorescent film 11 receives electrons and emits visible light to implement an image. do.
이 때, 전면 플레이트에 형광막을 형성하는 방법으로는 일반적으로 전기 영동법(Electrophoresis)과 인쇄법이 알려져 있다. 그러나 상기 전기 영동법은 블랙 매트릭스막을 형성하기 어려우므로 화면의 콘트라스트를 저하시키는 단점이 있다.At this time, electrophoresis and printing methods are generally known as a method of forming a fluorescent film on the front plate. However, since the electrophoresis method is difficult to form a black matrix film, there is a disadvantage in reducing the contrast of the screen.
그리고 인쇄법은 스크린 메쉬를 이용하여 형광체 페이스트를 스퀴이즈로 밀어내면서 인쇄하는 방식이기 때문에, 형광막을 미세한 폭으로 형성하기가 공정상 불가능하며, 형광막이 치밀하지 못하고 두껍게 되어 화면의 휘도를 저하시킴은 물론 표시소자의 품질을 저하시키는 단점이 있다.In addition, the printing method is a method in which the phosphor paste is printed by pushing the squeeze using the screen mesh, and thus it is impossible to form the phosphor film in a small width, and the phosphor film is not dense and thick, which lowers the brightness of the screen. Of course, there is a disadvantage in reducing the quality of the display device.
또한 음극선관 등의 고전압 구동 표시장치에서는 형광체 슬러리액을 사용하여 형광막을 형성하고 있는데, 상기한 음극선관의 애노드에는 약 25 kV 정도의 고압이 걸리며, 패널에 전극이 형성되어 있지 않는 등, 저전압 구동 표시장치와는 형광막에 요구되는 특성이 상이하다. 따라서 음극선관 등에 사용되는 형광체 슬러리액은 저전압 구동 표시장치에 적합하지 않은 단점이 있다.In addition, in a high voltage driving display device such as a cathode ray tube, a fluorescent film is formed using a phosphor slurry solution. The anode of the cathode ray tube is subjected to a high voltage of about 25 kV, and there is no electrode formed on the panel. The characteristics required for the fluorescent film differ from the display device. Therefore, the phosphor slurry liquid used for the cathode ray tube or the like has a disadvantage in that it is not suitable for a low voltage driving display device.
따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해소하기 위하여 고안된 것으로서, 본 발명의 목적은 균일한 형상으로 치밀하게 형성되어 막품질이 뛰어나며, 애노드 전극과의 부착력 및 발광 효율이 뛰어난 형광막을 갖는 평판 표시소자의 애노드를 제공하는데 있다.Therefore, the present invention has been devised to solve the above problems, and an object of the present invention is to form a densely uniform shape with excellent film quality, and to provide an anode of a flat panel display device having a fluorescent film having excellent adhesion to the anode electrode and excellent luminous efficiency. To provide.
또한 본 발명의 목적은 대형화에 유리하고, 미세 패턴 형상이 용이하며, 제조 단가가 낮고 양산에 적합한 평판 표시소자의 애노드 제조방법을 제공하는데 있다.It is also an object of the present invention to provide an anode manufacturing method of a flat panel display device, which is advantageous in size, easy to form a fine pattern, low in manufacturing cost, and suitable for mass production.
도 1은 본 발명의 제 1실시예에 의한 애노드 제조방법의 공정 순서도.1 is a process flowchart of an anode manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 애노드 제조방법의 각 단계들을 도시한 평판 표시소자의 단면도.2 is a cross-sectional view of a flat panel display device showing respective steps of the anode manufacturing method.
도 3은 본 발명의 제 2실시예에 의한 애노드 제조방법의 공정 순서도.3 is a process flowchart of an anode manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.
도 4는 애노드 제조방법의 각 단계들을 도시한 평판 표시소자의 단면도.4 is a cross-sectional view of a flat panel display device showing respective steps of the anode manufacturing method.
도 5는 본 발명에 의해 완성된 애노드를 포함하는 평판 표시소자의 단면도.5 is a cross-sectional view of a flat panel display device including an anode completed by the present invention.
도 6은 일반적인 평판 표시소자의 단면도.6 is a cross-sectional view of a general flat panel display element.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,In order to achieve the above object, the present invention,
투명 플레이트에 인듐 틴 옥사이드를 스퍼터링하고 에칭하여 스트라이프 패턴의 애노드 전극을 형성하는 단계와, 상기한 애노드 전극 패턴 사이로 격벽용 페이스트를 인쇄하고 열처리하여 격벽을 형성하는 단계와, In2O3가 코팅된 형광체에 증점제, 감광제, 분산제, 순수 등을 혼합하여 형광체 슬러리액을 제조하는 단계와, 제조된 형광체 슬러리액을 투명 플레이트에 도포하고 건조시키는 단계와, 상기한 투명 플레이트를 노광하여 형광체 슬러리액을 선택적으로 경화시키는 단계와, 저압 노즐로 현상하여 경화되지 않은 형광체 슬러리액을 제거하고 건조시켜 형광막 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 평판 표시소자의 애노드 제조방법을 제공한다.Sputtering and etching the indium tin oxide on the transparent plate to form an anode electrode having a stripe pattern, and printing the barrier rib paste between the anode electrode patterns and performing heat treatment to form the barrier rib, and In 2 O 3 coated Preparing a phosphor slurry by mixing thickeners, photosensitizers, dispersants, pure water, and the like with the phosphor, applying and drying the prepared phosphor slurry onto a transparent plate, and exposing the transparent plate to selectively expose the phosphor slurry solution. It provides a method of manufacturing an anode of a flat panel display device comprising the step of curing with, and developing with a low pressure nozzle to remove the uncured phosphor slurry liquid and dried to form a fluorescent film pattern.
또한 상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,In addition, the present invention to achieve the above object,
일정한 간격을 두고 대향 배치되는 전면 및 후면 플레이트와, 상기 후면 플레이트의 일면에 스트라이프 패턴으로 형성되는 캐소드 전극과, 상기 전면 플레이트의 저면에 캐소드 전극과 수직으로 교차하는 스트라이프 패턴으로 형성되는 애노드 전극과, 전자방출 물질로 이루어지며 상기 캐소드 전극 위에 형성되어 전계 형성에 의해 전자를 방출하는 에미터와, 상기 애노드 전극에 형성되어 에미터에서 방출된 전자를 제공받아 발광하며 In2O3가 코팅된 형광체로 이루어지는 형광막을 포함하는 평판 표시소자를 제공한다.A front electrode and a rear plate disposed to face each other at regular intervals, a cathode electrode formed in a stripe pattern on one surface of the back plate, an anode electrode formed in a stripe pattern perpendicular to the cathode electrode on the bottom surface of the front plate; An emitter formed of an electron-emitting material and formed on the cathode to emit electrons by electric field formation, and an anode formed on the anode to emit and receive electrons emitted from the emitter and coated with In 2 O 3 . Provided is a flat panel display device comprising a fluorescent film.
이하, 첨부한 도면을 참고하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 보다 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 제 1실시예에 의한 평판 표시소자의 애노드 제조방법을 순차적으로 나타낸 공정 순서도이고, 도 2는 애노드 제조방법의 각 단계들을 개략적으로 나타낸 평판 표시소자의 단면도이다.FIG. 1 is a process flowchart sequentially illustrating an anode manufacturing method of a flat panel display device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the flat panel display device schematically showing the steps of the anode manufacturing method.
평판 표시소자의 애노드를 제조하기 위하여, 먼저 투명한 글래스 플레이트(2)의 표면에 인듐 틴 옥사이드(ITO)를 일정 두께로 스퍼터링한 다음, 공지의 사진 식각법으로 ITO막을 부분 에칭하여 스트라이프 패턴의 애노드 전극(4)을 형성한다. (도 2a 참고)In order to manufacture the anode of the flat panel display device, first, indium tin oxide (ITO) is sputtered to a predetermined thickness on the surface of the transparent glass plate 2, and then the ITO film is partially etched by a known photolithography method to form an anode electrode having a stripe pattern. (4) is formed. (See Figure 2A)
그리고 애노드 전극(4) 패턴 사이사이로 격벽용 페이스트를 인쇄하고 열처리하여 격벽(6)을 형성한다. 상기 격벽(6)은 표시소자의 두께를 일정하게 유지하며, 표시소자 내부를 외압으로부터 지지하는 역할을 한다. (도 2b 참고)The partition paste is printed and heat-treated between the anode electrode 4 patterns to form the partition 6. The partition wall 6 maintains a constant thickness of the display device and supports the inside of the display device from external pressure. (See Figure 2b)
다음으로, In2O3가 코팅된 형광체에 증점제, 감광제, 분산제 및 순수 등을 혼합 및 교반하여 형광체 슬러리액(8)을 제조한다. 상기한 In2O3는 비수용성 물질이므로 형광체 슬러리액에 단순히 일정 비율로 혼합하면 최종 형광막에서 In2O3가 분리되는 등, 형광막의 품위를 저하시키므로, 상기와 같이 In2O3가 코팅된 형광체를 사용하는 것이 저전압 구동 표시소자에 적합하다.Next, a phosphor slurry solution 8 is prepared by mixing and stirring a thickener, a photosensitizer, a dispersant, a pure water, and the like with the phosphor coated with In 2 O 3 . Since In 2 O 3 is a non-aqueous material, simply mixing the phosphor slurry with a certain ratio reduces the quality of the fluorescent film, such as separation of In 2 O 3 from the final fluorescent film. Thus, In 2 O 3 is coated as described above. It is suitable for the low voltage driving display element to use the phosphor.
상기한 In2O3가 코팅된 형광체는 In2O3가 균일하게 분산된 용액과 젤라틴이 코팅된 형광체 용액을 혼합, 교반 및 건조하는 과정으로 제조될 수 있는데, In2O3와 순수 및 분산제를 혼합한 다음 볼밀(ball mill)하여 In2O3가 균일하게 분산된 용액을 제조하고, 형광체와 순수 및 젤라틴을 혼합하여 젤라틴이 코팅된 형광체 용액을 제조할 수 있다.The above-In 2 O 3 is coated with fluorescent material may be prepared by the process of mixing, stirring and drying the phosphor solution is a solution and the gelatin is In 2 O 3 a uniformly dispersed coating, In 2 O 3 and pure water and dispersing agents After mixing and then ball mill (ball mill) to prepare a solution in which In 2 O 3 is uniformly dispersed, a phosphor solution coated with a gelatin can be prepared by mixing the phosphor, pure water and gelatin.
상기와 같이 제조된 형광체 슬러리액(8)을 500rpm/5초의 조건으로 플레이트(2)에 스핀 코팅한 다음, 3분 동안 90℃의 조건에서 형광체 슬러리액(8)을 건조시킨다. (도 2c 참고)The phosphor slurry solution 8 prepared as described above is spin-coated to the plate 2 at 500 rpm / 5 sec, and then the phosphor slurry solution 8 is dried at 90 ° C. for 3 minutes. (See Figure 2C)
다음으로, 아이-라인(I-line) 초고압 수은등에 30초 동안 플레이트(2)를 노출시킨다. 이러한 노광 공정에는 일반적으로 노광 마스크가 사용되지만, 단색 표시소자의 경우에는 격벽(6) 자체가 노광 마스크 역할을 대신 할 수 있다.Next, the plate 2 is exposed for 30 seconds to an I-line ultra-high pressure mercury lamp. An exposure mask is generally used in such an exposure process, but in the case of a monochrome display device, the partition wall 6 itself may serve as an exposure mask.
즉, 노광 램프(10)를 형광체 슬러리액(8)이 도포된 플레이트(2)의 하부에 장착하고 빛을 조사하면, 투명한 글래스 플레이트(2)와 애노드 전극(4)은 빛을 투과하지만, 격벽(6)은 빛을 투과하지 못한다. 이로서 애노드 전극(4) 위에 도포된 형광체 슬러리액(8)은 빛에 의해 경화되는 반면, 격벽(6) 위에 도포된 형광체 슬러리액(8)은 경화되지 못한 상태로 남게 된다. (도 2d 참고)That is, when the exposure lamp 10 is mounted on the lower part of the plate 2 coated with the phosphor slurry liquid 8 and irradiated with light, the transparent glass plate 2 and the anode electrode 4 transmit light, but the partition wall (6) does not transmit light. As a result, the phosphor slurry liquid 8 coated on the anode electrode 4 is cured by light, while the phosphor slurry liquid 8 coated on the partition 6 remains uncured. (See Figure 2d)
그리고 2분 동안 저압 노즐을 이용, 현상하여 경화되지 않은 형광체 슬러리액(8b)을 제거한 다음, 2분 동안 90℃의 조건에서 건조시켜 형광막(12) 패턴을 완성한다. (도 2e 참고)Then, using a low pressure nozzle for 2 minutes to develop and remove the uncured phosphor slurry (8b), and dried for 2 minutes at 90 ℃ conditions to complete the fluorescent film 12 pattern. (See Figure 2E)
이와 같이 격벽(6)을 먼저 형성하고 형광막(12)을 형성하면, 노광 공정에서 격벽(6)이 노광 마스크 역할을 대신 할 수 있으며, 별도의 블랙 매트릭스막 형성 없이도 격벽(6)을 블랙 매트릭스막으로 사용하여 화면의 콘트라스트를 향상시킬 수 있다.As such, when the barrier rib 6 is first formed and the fluorescent film 12 is formed, the barrier rib 6 may serve as an exposure mask in the exposure process, and the barrier rib 6 may be formed as a black matrix without forming a separate black matrix layer. It can be used as a film to improve the contrast of the screen.
다음으로 본 발명의 제 2실시예에 의한 평판 표시소자의 애노드 제조방법을 설명한다. 도 3은 제 2실시예에 의한 애노드 제조방법을 순차적으로 나타낸 공정 순서도이고, 도 4는 애노드 제조방법의 단계들을 개략적으로 나타낸 평판 표시소자의 단면도이다.Next, an anode manufacturing method of a flat panel display device according to a second embodiment of the present invention will be described. 3 is a process flowchart sequentially illustrating an anode manufacturing method according to a second embodiment, and FIG. 4 is a cross-sectional view of a flat panel display device schematically showing the steps of the anode manufacturing method.
먼저, 앞선 실시예와 동일한 방법으로 투명 글래스 플레이트(20)에 애노드 전극(22)과 격벽(24)을 형성한다. (도 4a 참고)First, the anode electrode 22 and the partition wall 24 are formed on the transparent glass plate 20 in the same manner as in the previous embodiment. (See Figure 4a)
그리고 In2O3가 코팅된 R 형광체에 증점제, 감광제, 분산제 및 순수 등을 혼합 및 교반하여 R 형광체 슬러리액을 제조하고, 이와 동일한 방법으로 In2O3가 코팅된 G 형광체를 주성분으로 하는 G 형광체 슬러리액과, In2O3가 코팅된 B 형광체를주성분으로 하는 B 형광체 슬러리액을 별도로 제조한다.And G as a main component a thickening agent, a photosensitizer, a dispersant and pure water for mixing and stirring to manufacture the R phosphor slurry, and this in the same manner as In 2 O 3 coating G phosphor to the R phosphor of the In 2 O 3 coated A phosphor slurry liquid and a B phosphor slurry liquid mainly containing B phosphor coated with In 2 O 3 are prepared separately.
다음으로, 제조된 G 형광체 슬러리액(26)을 500rpm/5초의 조건으로 플레이트(20)에 스핀 코팅한 다음, 3분 동안 90℃의 조건에서 건조시킨다. (도 4b 참고)Next, the prepared G phosphor slurry 26 is spin coated on the plate 20 at 500 rpm / 5 sec, and then dried at 90 ° C. for 3 minutes. (See Figure 4b)
그리고 플레이트의 상부에 G 노광용 마스크(28)를 장착하고, 아이-라인 초고압 수은등에 30분간 노출시켜 G 형광체 슬러리액(26)을 부분적으로 경화시킨 후(도 4c 참고), 2분 동안 저압 노즐로 현상하고 90℃/2분의 조건에서 건조시켜 G 형광막(30) 패턴을 완성한다. (도 4d 참고)The G-exposure mask 28 was mounted on the upper portion of the plate, and partially exposed to the eye line ultra-high pressure mercury lamp for 30 minutes to partially cure the G-phosphor slurry liquid 26 (see FIG. 4C). It is developed and dried under the condition of 90 ° C./2 minutes to complete the G fluorescent film 30 pattern. (See Figure 4d)
다음으로, 상기와 동일한 방법으로 B 형광체 슬러리액(32)과 B 노광용 마스크(34)를 이용하여 B 형광막(36) 패턴을 완성하며(도 4e 및 4f 참고), R 형광체 슬러리액(38)과 R 노광용 마스크(40)를 이용하여 R 형광막(42) 패턴을 완성한다. (도 4g 및 4h 참고)Next, the B fluorescent film 36 pattern was completed using the B phosphor slurry liquid 32 and the B exposure mask 34 in the same manner as described above (see FIGS. 4E and 4F), and the R phosphor slurry liquid 38 was obtained. And the R fluorescent film 42 pattern is completed using the R exposure mask 40. (See Figures 4g and 4h)
이와 같은 과정에 의해 애노드 전극(22) 위로 각각의 R, G, B 형광막(30, 36, 42)을 반복되게 형성하여 평판 표시소자의 풀 칼라화를 가능하게 하며, 별도의 블랙 매트릭스막의 형성 없이도 격벽(24)을 블랙 매트릭스막으로 사용하여 화면의 콘트라스트를 향상시킬 수 있다.Through this process, each of the R, G, and B fluorescent films 30, 36, and 42 are repeatedly formed on the anode electrode 22 to enable full colorization of the flat panel display device, and to form a separate black matrix film. Without using the partition wall 24 as a black matrix film, the contrast of the screen can be improved.
상술한 바와 같이 본 실시예는 저압 구동 표시소자에 적합한 형광체 슬러리액을 제조하고, 미세 패턴 형성이 용이한 슬러리법으로 형광막을 형성함으로써 표시소자의 막품질을 향상시키며, 표시소자의 제조 단가를 낮추어 양산에 적합한 장점을 갖는다.As described above, the present embodiment improves the film quality of the display device by lowering the manufacturing cost of the display device by manufacturing a phosphor slurry solution suitable for a low pressure driving display device, and forming a fluorescent film by a slurry method that is easy to form a fine pattern. It has a merit suitable for mass production.
도 5는 본 발명에 의해 완성된 애노드를 갖는 평판 표시소자의 단면도이다. 도시하는 바와 같이 평판 표시소자는 후면 플레이트(50)의 일면에 스트라이프 패턴의 캐소드 전극(52)과 에미터(54)를 형성하며, 에미터(54)와 마주하는 전면 플레이트(56)의 일면에 애노드 전극(58)과 형광막(60)을 형성하고, 각각의 캐소드 전극(52)과 애노드 전극(58) 사이로 격벽(62)을 형성하고 있다.5 is a cross-sectional view of a flat panel display device having an anode completed by the present invention. As shown in the figure, the flat panel display device forms a stripe pattern cathode electrode 52 and an emitter 54 on one surface of the back plate 50, and on one surface of the front plate 56 facing the emitter 54. The anode electrode 58 and the fluorescent film 60 are formed, and the partition 62 is formed between each cathode electrode 52 and the anode electrode 58.
상기한 형광막(60)은 앞에서 설명한 바와 같이, In2O3가 코팅된 형광체를 이용, 슬러리법으로 제작된다. 여기서, 상기 In2O3는 도전성 물질이므로 전자가 형광체에 쌓여 형광막에 전하가 축적(charge up)되는 현상을 방지할 수 있으며, 이러한 In2O3가 코팅된 형광체를 사용함으로써 형광막에서 In2O3가 분리되는 현상을 방지할 수 있다.As described above, the fluorescent film 60 is manufactured by a slurry method using phosphors coated with In 2 O 3 . Herein, since In 2 O 3 is a conductive material, electrons can accumulate in the phosphor to prevent charges from accumulating in the fluorescent film, and In is used in the fluorescent film by using the phosphor coated with In 2 O 3. 2 O 3 can be prevented from separating.
또한 상기 형광막(60)은 슬러리법에 의해 치밀하고 균일하게 형성되어 막품위가 뛰어나며, 미세 패턴화되어 모니터용 디바이스의 제작에 유리한 장점을 갖는다.In addition, the fluorescent film 60 is densely and uniformly formed by the slurry method, so that the quality of the film is excellent, and the micropattern is advantageous in the manufacture of the monitor device.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the range of.
이상에서와 같이, 슬러리법으로 형광막을 제작하면 보다 균일하고 치밀한 형광막을 얻을 수 있어 표시소자의 품위를 향상시키며, 색 재현 범위가 넓어 저전압용 평판 표시소자에 특히 적합한다. 그리고 스핀 코팅법으로 형광체 슬러리액을 도포하므로 대형화에 유리할 뿐만 아니라, 미세 패턴 형성이 용이하여 모니터용 디바이스 제작이 가능하다.As described above, when the fluorescent film is produced by the slurry method, a more uniform and dense fluorescent film can be obtained, which improves the quality of the display device and has a wide color reproduction range, which is particularly suitable for low voltage flat panel display devices. In addition, since the phosphor slurry is coated by spin coating, it is advantageous not only to increase the size of the phosphor slurry, but also to form a fine pattern, thereby making it possible to manufacture a monitor device.
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