KR100315027B1 - Repair circuit of semiconductor memory device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 메모리 장치의 리페어 회로에 관한 것으로, 리페어된 메모리 칩이 배터리동작에 사용되었을 경우 리페어 퓨즈 커팅이 불완전하여 퓨즈에 잔류물이 존재하게 될때 전원을 인가하는 동안 저전압에서는 전원전압으로 부터의 전류 소스 경로를 차단하고, 디바이스 페일을 방지할 수 있는 전압 레벨 이상에서만 리페어 퓨즈 회로가 동작할 수 있게 함으로써, 리페어 효율을 향상시킬 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a repair circuit of a semiconductor memory device, wherein when a repaired memory chip is used for battery operation, the repair of the fuse fuse is incomplete, and when a residual is present in the fuse, power is applied from the power supply voltage at low voltage. Repair efficiency can be improved by breaking the current source path and allowing the repair fuse circuit to operate only above voltage levels that can prevent device failure.

Description

반도체 메모리 장치의 리페어 회로Repair circuit of semiconductor memory device

본 발명은 반도체 메모리 장치의 리페어 회로에 관한 것으로, 특히 배터리동작에 따른 퓨즈의 불완전한 컷팅으로 인한 소자의 페일을 방지하고 리페어수율을 향상시킨 반도체 메모리 장치의 리페어 회로에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a repair circuit of a semiconductor memory device, and more particularly, to a repair circuit of a semiconductor memory device which prevents a device from failing due to incomplete cutting of a fuse due to battery operation and improves a repair yield.

일반적으로, 반도체 메모리 장치는 행과 열의 매트릭스 형태로 배열되는 다수개의 메모리 셀을 가지고 있으며, 메모리의 용량이 증가함에 따라 더욱 많은 수의 메모리 셀들이 단위면적에 배열된다. 한편, 반도체 메모리 장치에서는 어느 하나의 메모리 셀에 결함이 발생하여도 그 반도체 메모리 장치는 사용할 수 없게 된다. 이에 따라, 결함이 발생된 메모리 셀이 존재하더라도 이를 사용할 수 있도록 수율을 향상시키는 방법으로서, 노멀 메모리셀 어레이(normal memory cell array)에 스페이셀 어레이(spare cell array)를 구비하여 결함이 발생된 메모리셀을 스페어셀로 대치하는 방법이 제시되었다.In general, a semiconductor memory device has a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, and as memory capacity increases, a larger number of memory cells are arranged in a unit area. On the other hand, in a semiconductor memory device, even if a defect occurs in any one memory cell, the semiconductor memory device cannot be used. Accordingly, as a method of improving a yield so that even if a defective memory cell exists, a defective memory is provided by providing a spar cell array in a normal memory cell array. A method of replacing a cell with a spare cell has been proposed.

즉, 반도체 장치의 노멀셀에 로우(row)나 칼럼(column) 또는 비트(bit)가 패일(fail)된 셀이 발생되는 경우, 리페어(repair) 회로에서 리페어 동작의 수행에 따른 어드레스 신호가 지정되어, 스페어셀중 해당되는 셀이 로우나 칼럼단위로 대치됨으로써 리페어가 수행된다.That is, when a cell in which a row, column, or bit is failed in a normal cell of a semiconductor device is generated, an address signal according to performing a repair operation in a repair circuit is designated. Then, the repair is performed by replacing the corresponding cell among the spare cells by row or column unit.

도 1은 일반적인 리페어 회로를 나타낸 도면으로서, 도 1에 도시된 바와 같이, 전원전압(VCC)에 퓨즈(F1)가 연결되고, 퓨즈(F1)에 NMOS 트랜지스터(NM1)가 노드(N1)에서 직렬로 연결된다. 또한, 노드(N1)에는 인버터(INV1)가 연결되고, 인버터(INV1)의 출력단과 NMOS 트랜지스터(NM1)의 게이트가 연결된다.FIG. 1 is a diagram illustrating a general repair circuit. As shown in FIG. 1, a fuse F1 is connected to a power supply voltage VCC, and an NMOS transistor NM1 is connected to a fuse F1 at a node N1. Leads to. In addition, an inverter INV1 is connected to the node N1, and an output terminal of the inverter INV1 is connected to a gate of the NMOS transistor NM1.

즉, 도시되지는 않았지만, 메모리셀에 결함이 발생된 경우, 동작전원(VCC)을 증가시켜 퓨즈(F1)를 컷팅시킨다. 이에 따라, NMOS 트랜지스터(NM1)를 통하여 방전이 일어나서 노드(N1)은 로우(LOW)의 위상을 갖게되고, 인버터(INV1)을 통하여 하이(HIGH) 신호가 출력되어, 리페어 동작에 따른 어드레스가 지정됨으로써, 리페어가 진행된다.That is, although not shown, when a defect occurs in the memory cell, the fuse F1 is cut by increasing the operating power supply VCC. Accordingly, discharge occurs through the NMOS transistor NM1, and the node N1 has a low phase, a high signal is output through the inverter INV1, and an address according to the repair operation is designated. As a result, the repair proceeds.

한편, 도시되지는 않았지만, 메모리셀에 배터리 동작을 사용할 경우, 콘트롤러에서 배터리로의 역전류를 방지하기 위하여, 동작전원(VCC)를 일정기간의 시간을 두고 천천히 증가시킨다. 이때, 리페어 회로의 퓨즈(F1)가 컷팅되지 않은 경우, 잔재하는 퓨즈로 인하여 노드(N1)으로 누설전류가 흐르게 되어, 노드(N1)의 위상이 로우를 만족하지 못하게 되어, 결국 인버터(INV1)를 통하여 하이신호의 리페어 신호가 출력되지 못하여, 리페어 어드레스가 제대로 지정되지 못한다. 이에 따라, 소자의 패일이 유발되어 메모리 장치의 오동작이 발생되고, 리페어 수율이 저하된다.On the other hand, although not shown, when using the battery operation in the memory cell, in order to prevent the reverse current from the controller to the battery, the operating power supply (VCC) is slowly increased over a period of time. At this time, when the fuse F1 of the repair circuit is not cut, a leakage current flows to the node N1 due to the remaining fuse, so that the phase of the node N1 does not satisfy the low, and eventually the inverter INV1. The repair signal of the high signal cannot be outputted through, and the repair address is not properly specified. As a result, failure of the device is caused, a malfunction of the memory device occurs, and a repair yield is reduced.

따라서, 본 발명은 상기 종래 문제점을 해결하기 위한여 이루어진 것으로, 본 발명의 목적은 리페어된 메모리 칩이 배터리동작에 사용되었을 경우 리페어 퓨즈 커팅(repair fuse cutting)이 불완전하여 퓨즈에 잔류물이 존재하게 될때 전원을 인가하는 동안 저전압에서는 전원전압(Vcc)으로 부터의 전류 소스 경로를 차단하고, 디바이스 페일을 방지할 수 있는 전압 레벨 이상에서만 리페어 퓨즈 회로가 동작할 수 있게 한 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problem, and an object of the present invention is that repair fuse cutting is incomplete when a repaired memory chip is used in battery operation, so that a residue exists in the fuse. When the low voltage is applied while the power is applied, the repair circuit of the semiconductor memory device which cuts off the current source path from the power supply voltage (Vcc) and allows the repair fuse circuit to operate only at a voltage level that can prevent the device from failing. To provide.

도 1은 종래의 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 나타낸 도면.1 is a view showing a repair circuit of a conventional semiconductor memory device.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 메모리 장치의 리페어 회로를 나타낸 도면.2 illustrates a repair circuit of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

〔도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명〕[Description of Code for Major Parts of Drawing]

VCC : 전원전압 N1, N2 : 노드VCC: Power supply voltage N1, N2: Node

PM1∼PM3 : 제 1 내지 제 3 PMOS 트랜지스터PM1 to PM3: first to third PMOS transistors

NM1∼NM3 : 제 1 내지 제 3 NMOS 트랜지스터NM1 to NM3: first to third NMOS transistors

INV1∼INV3 : 제 1 내지 제 3 인버터INV1 to INV3: first to third inverters

R1 : 저항 GND : 접지R1: resistance GND: ground

100 : 기준전압 발생부 10 : CMOS 인버터회로100: reference voltage generator 10: CMOS inverter circuit

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 반도체 메모리 장치의 리페어 회로는,The repair circuit of the semiconductor memory device according to the present invention for achieving the above object,

스위칭 동작에 의해 제1 노드로 전원전압을 공급하는 스위칭 소자와,A switching element for supplying a power supply voltage to the first node by a switching operation;

상기 스위칭 소자의 일측 단자와 상기 제1 노드 사이에 접속되며 리페어 동작의 유무를 선택하기 위한 퓨즈와,A fuse connected between one terminal of the switching element and the first node to select a repair operation;

상기 제1 노드의 신호를 반전시켜 출력 단자로 전달하는 제1 인버터와,A first inverter for inverting and transmitting the signal of the first node to an output terminal;

상기 출력 단자의 신호에 의해 상기 제1 노드의 전위를 접지전위로 방전시키는 NMOS 트랜지스터와,An NMOS transistor for discharging a potential of the first node to a ground potential by a signal of the output terminal;

상기 전원전압을 감지하여 저전압에서는 상기 스위칭 소자의 동작을 제어하는 신호를 발생하고 고전압에서는 상기 스위칭 소자를 구동하는 신호를 발생하는 기준전압 발생부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.And a reference voltage generator configured to sense the power supply voltage to generate a signal for controlling the operation of the switching element at low voltage and to generate a signal to drive the switching element at high voltage.

여기서, 상기 스위칭 소자는 PMOS 트랜지스터이다.Here, the switching element is a PMOS transistor.

상기 기준전압 발생부는 상기 전원전압 및 제2 노드 사이에 다이오드 구조로 접속된 제1 PMOS 트랜지스터와, 상기 제2 노드 및 접지전압 사이에 접속된 저항과, 상기 제2 노드의 신호를 입력으로 하는 PMOS 및 NMOS 트랜지스터로 구성된 CMOS 인버터와, 상기 CMOS 인버터의 출력 노드 및 상기 스위칭 소자의 게이트 사이에 직렬 접속된 제2 및 제3 인버터로 구성된다.The reference voltage generator includes a first PMOS transistor connected in a diode structure between the power supply voltage and the second node, a resistor connected between the second node and a ground voltage, and a PMOS input signal. And a CMOS inverter composed of NMOS transistors, and second and third inverters connected in series between an output node of the CMOS inverter and a gate of the switching element.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치의 리페어 회로를 나타낸 도면으로서, 도 1에서와 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여한다.FIG. 2 is a view showing a repair circuit of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention, and the same reference numerals are assigned to the same components as in FIG.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에서는 퓨즈(F1)와 전원전압(VCC) 사이에 제 1 PMOS 트랜지스터(PM1)가 개재되고, 제 1 PMOS 트랜지스터(PM1)의 게이트에는 제 1 PMOS 트랜지스터(PM1)의 출력을 제어하는 기준전압 발생부(100)가 연결된다. 또한, 퓨즈(F1)에 NMOS 트랜지스터(NM1)가 노드(N1)에서 직렬로 연결되고,노드(N1)에는 제 1 인버터(INV1)가 연결되고, 제 1 인버터(INV1)의 출력단과 제 1 NMOS 트랜지스터(NM1)의 게이트가 연결된다. 또한, 기준전압 발생부(100)는 전원전압(VCC)에 연결되고, 그의 게이트가 소오스 및 드레인에 각각 연결된 제 2 PMOS 트랜지스터(PM2)와, 노드(N2)에서 제 2 PMOS 트랜지스터(PM2)에 직렬연결됨과 더불어 접지(GND)된 저항(R1)과, 노드(N2)의 신호를 입력으로 하여 반전신호를 출력하는 CMOS 인버터회로(10)와, CMOS 인버터회로(10)의 출력을 반전하는 제 2 인버터(INV2)와, 제 2 인버터(INV2)의 출력을 반전하여 제 1 PMOS 트랜지스터(PM1)로 입력하는 제 3 인버터(INV3)로 구성된다. 또한, CMOS 인버터회로(10)는 전원전압(VCC)에 연결된 제 3 PMOS 트랜지스터(PM3)와 제 3 PMOS 트랜지스터(PM3)에 직렬연결된 제 2 NMOS 트랜지스터(NM2)로 구성된다. 즉, 기준전압 발생부(100)는 전원전압(VCC)이 스윙(swing)할 때 일정 전압을 기준으로하여 CMOS 레벨의 로우신호 또는 하이신호를 출력한다.As shown in FIG. 2, in the present invention, the first PMOS transistor PM1 is interposed between the fuse F1 and the power supply voltage VCC, and the first PMOS transistor PM1 is disposed at the gate of the first PMOS transistor PM1. Reference voltage generator 100 for controlling the output of the) is connected. In addition, an NMOS transistor NM1 is connected to the fuse F1 in series at the node N1, a first inverter INV1 is connected to the node N1, and an output terminal and a first NMOS of the first inverter INV1 are connected. The gate of the transistor NM1 is connected. In addition, the reference voltage generator 100 is connected to the power supply voltage VCC and its gate is connected to the source and the drain, respectively, and the node P2 is connected to the second PMOS transistor PM2. A CMOS inverter circuit 10 for inverting the output of the CMOS inverter circuit 10 and a resistor connected to the ground and grounded (GND) and a signal of the node N2 as an input and outputting an inverted signal. It consists of 2 inverters INV2 and 3rd inverters INV3 which invert the output of the 2nd inverter INV2 and input into the 1st PMOS transistor PM1. In addition, the CMOS inverter circuit 10 includes a third PMOS transistor PM3 connected to the power supply voltage VCC and a second NMOS transistor NM2 connected in series with the third PMOS transistor PM3. That is, the reference voltage generator 100 outputs a low signal or a high signal of a CMOS level based on a predetermined voltage when the power supply voltage VCC swings.

이어서, 상기한 리페어 회로의 동작을 설명한다.Next, the operation of the repair circuit described above will be described.

배터리 동작에 의해 전원전압(VCC)이 인가되면, 기준전압 발생부(100)의 제 2 PMOS 트랜지스터(PM2)로 전류가 흐르고, 저항(R1)을 통하여 접지(GND)로의 전류경로가 생성된다. 이때, 전원전압(VCC)에서 제 2 PMOS 트랜지스터(PM2)를 통하여 공급되는 전류와 저항(R1)을 통하여 접지(GND)로 흐르는 전류의 비에 의해, 노드(N2)의 전압레벨이 결정되는데, 이 전압레벨은 CMOS 인버터회로(10)의 제 3 PMOS 트랜지스터(PM3)와 제 2 NMOS 트랜지스터(NM2)의 문턱전압이 된다. 이 문턱전압에 따라, CMOS 인버터회로(10)의 출력레벨이 하이 또는 로우신호로 결정되어, 기준전압신호가 출력되어, 이 기준전압신호에 의해 제 1 PMOS 트랜지스터(PM1)의 출력이 제어된다. 예컨대, 기준전압신호가 로우인 경우, 제 1 PMOS 트랜지스터(PM1)가 턴온되어 퓨즈(F1)로 전원전압(VCC)이 공급되고, 기준전압신호가 하이인 경우, 제 1 PMOS 트랜지스터(PM1)가 턴오프되어, 퓨즈(F1)로 전원전압(VCC) 공급이 차단된다. 이때, 전원전압 발생부(100)에 의해 차단되는 전압레벨은 어느정도 마진을 가질 수 있는 레벨을 확보하는 것이 바람직하다.When the power supply voltage VCC is applied by the battery operation, current flows to the second PMOS transistor PM2 of the reference voltage generator 100, and a current path to the ground GND is generated through the resistor R1. At this time, the voltage level of the node N2 is determined by the ratio of the current supplied through the second PMOS transistor PM2 from the power supply voltage VCC and the current flowing through the resistor R1 to the ground GND. This voltage level becomes the threshold voltage of the third PMOS transistor PM3 and the second NMOS transistor NM2 of the CMOS inverter circuit 10. According to this threshold voltage, the output level of the CMOS inverter circuit 10 is determined to be a high or low signal, a reference voltage signal is output, and the output of the first PMOS transistor PM1 is controlled by this reference voltage signal. For example, when the reference voltage signal is low, the first PMOS transistor PM1 is turned on to supply the power supply voltage VCC to the fuse F1. When the reference voltage signal is high, the first PMOS transistor PM1 is turned off. It is turned off and the supply of the power supply voltage VCC to the fuse F1 is cut off. At this time, the voltage level blocked by the power supply voltage generator 100 is preferably secured to a level having a certain margin.

상기한 본 발명에 의하면, 전원전압 발생부의 전압레벨에 따라 전원전압과 퓨즈사이에 구비된 PMOS 트랜지스터의 출력이 제어되어, 퓨즈로 전원전압이 공급되거나 완전히 차단된다. 이에 따라, 배터리 동작 시스템을 사용하는 경우, 불완전한 퓨즈 컷팅이 이루어지더라도 정확한 리페어 신호의 출력이 가능해지므로, 메모리 장치의 오동작이 방지되고, 리페어 수율이 향상된다.According to the present invention described above, the output of the PMOS transistor provided between the power supply voltage and the fuse is controlled according to the voltage level of the power supply voltage generator, so that the power supply voltage is supplied to the fuse or completely cut off. Accordingly, in the case of using the battery operating system, accurate repair signal output is possible even when incomplete fuse cutting is performed, thereby preventing malfunction of the memory device and improving repair yield.

또한, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 다양하게 변형시켜 실시할 수 있다.In addition, this invention is not limited to the said Example, It can variously deform and implement within the range which does not deviate from the technical summary of this invention.

Claims (3)

스위칭 동작에 의해 제1 노드로 전원전압을 공급하는 스위칭 소자와,A switching element for supplying a power supply voltage to the first node by a switching operation; 상기 스위칭 소자의 일측 단자와 상기 제1 노드 사이에 접속되며 리페어 동작의 유무를 선택하기 위한 퓨즈와,A fuse connected between one terminal of the switching element and the first node to select a repair operation; 상기 제1 노드의 신호를 반전시켜 출력 단자로 전달하는 제1 인버터와,A first inverter for inverting and transmitting the signal of the first node to an output terminal; 상기 출력 단자의 신호에 의해 상기 제1 노드의 전위를 접지전위로 방전시키는 NMOS 트랜지스터와,An NMOS transistor for discharging a potential of the first node to a ground potential by a signal of the output terminal; 상기 전원전압을 감지하여 저전압에서는 상기 스위칭 소자의 동작을 제어하는 신호를 발생하고 고전압에서는 상기 스위칭 소자를 구동하는 신호를 발생하는 기준전압 발생부를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 리페어 회로.And a reference voltage generator configured to sense the power supply voltage to generate a signal for controlling the operation of the switching element at low voltage and to generate a signal for driving the switching element at high voltage. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 스위칭 소자는 PMOS 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 리페어 회로.The switching element is a repair circuit of a semiconductor memory device, characterized in that the PMOS transistor. 제 1 항에 있어서, 상기 기준전압 발생부는,The method of claim 1, wherein the reference voltage generator, 상기 전원전압 및 제2 노드 사이에 다이오드 구조로 접속된 제1 PMOS 트랜지스터와, 상기 제2 노드 및 접지전압 사이에 접속된 저항과, 상기 제2 노드의 신호를 입력으로 하는 PMOS 및 NMOS 트랜지스터로 구성된 CMOS 인버터와, 상기 CMOS 인버터의 출력 노드 및 상기 스위칭 소자의 게이트 사이에 직렬접속된 제2 및 제3 인버터로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 메모리 장치의 리페어 회로.A first PMOS transistor connected in a diode structure between the power supply voltage and the second node, a resistor connected between the second node and a ground voltage, and a PMOS and NMOS transistor configured to receive a signal of the second node; And a second inverter and a third inverter connected in series between a CMOS inverter and an output node of the CMOS inverter and a gate of the switching element.
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