KR100300324B1 - Shadow mask for cathode ray tube and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

섀도우 마스크의 도오밍을 방지하기 위하여 그 표면에 전자반사물질 또는 강화물질을 코팅할 때, 섀도우 마스크의 홀 막힘을 효과적으로 방지할 수 있는 섀도우 마스크의 제조방법으로서, 이는 스크린 인쇄기에 섀도우 마스크와 스크린 메쉬를 제 1 정위치에 고정시키고 페이스트를 인쇄하는 제 1 인쇄 공정과, 섀도우 마스크를 제 1 정위치에서 제 2 정위치로 수평 이동시킨 후 페이스트를 인쇄하는 제 2 인쇄 공정과, 상기 제 1 인쇄 공정과 제 2 인쇄 공정을 순차적으로 적어도 한번 이상 반복 수행하는 반복 인쇄 공정과, 평판 형상의 섀도우 마스크를 프레스 성형하는 성형 공정을 포함하여 이루어진다. 여기서, 섀도우 마스크의 이동 거리는 대략 수평방향 홀 피치의 절반 정도로 이루어지며,이로서 스크린 메쉬는 홀수번째 인쇄시 빔통과용 홀과 마주하여 페이스트가 잔류된 부분이 짝수번째 인쇄시에는 빔통과용 홀 사이의 무공부에 위치하게 된다. 따라서 앞선 인쇄 공정에서 잔류된 페이스트는 다음번 인쇄 공정에서 새로 도포되는 페이스트와 함께 무공부에 인쇄되어 페이스트의 누적을 방지하며, 빔통과용 홀의 막힘을 효과적으로 억제할 수 있다.A method of manufacturing a shadow mask that can effectively prevent hole clogging of a shadow mask when coating an electron reflection material or a reinforcing material on the surface thereof to prevent the shadowing of the shadow mask, which is a shadow mask and a screen mesh in a screen printing machine. A first printing step of fixing the paste to the first position and printing the paste, a second printing process of printing the paste after the shadow mask is horizontally moved from the first position to the second position, and the first printing process And a repeating printing step of sequentially repeating the second printing step at least once or more, and a molding step of press molding the flat shadow mask. Here, the movement distance of the shadow mask is approximately half of the pitch of the horizontal hole, so that the screen mesh faces the beam passing hole in the odd-numbered printing so that a portion of the paste remains between the beam passing holes in the even-numbered printing. It is located in no study. Therefore, the paste remaining in the previous printing process is printed in the unperforated area together with the newly applied paste in the next printing process to prevent the accumulation of the paste and to effectively block the blockage of the beam passing hole.

Description

음극선관용 섀도우 마스크의 제조방법{Shadow mask for cathode ray tube and method of manufacturing the same}Shadow mask for cathode ray tube and method of manufacturing the same}

본 발명은 음극선관용 섀도우 마스크의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 섀도우 마스크의 도오밍을 방지하기 위하여 그 표면에 전자반사물질 또는강화물질 등을 코팅할 때, 섀도우 마스크의 빔통과용 홀 막힘을 효과적으로 억제할 수 있는 섀도우 마스크의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a shadow mask for a cathode ray tube, and more particularly, to block the beam passing hole of a shadow mask when coating an electron reflection material or a reinforcing material on the surface of the shadow mask to prevent doming of the shadow mask. It relates to a method of manufacturing a shadow mask that can effectively suppress the.

일반적으로 음극선관은 내면으로 형광막 스크린을 형성하는 패널과, 내주면으로 전자총을 장착하는 넥크부와, 상기 패널과 넥크부를 연결하는 나팔체 형상의 펀넬이 결합하여 벌브를 구성하며, 상기 형광막 스크린의 후면으로 섀도우 마스크를 장착하고 있다.In general, a cathode ray tube includes a panel forming a fluorescent film screen on an inner surface, a neck portion for mounting an electron gun on an inner circumferential surface, and a trumpet-shaped funnel connecting the panel and the neck to form a bulb. The shadow mask is attached to the back of the car.

상기 섀도우 마스크는 다수개의 빔통과용 홀이 형성되어 전자총에서 출사된 세줄기의 전자빔을 형광막 스크린내의 해당 형광체로 분리 랜딩시키는 역할을 한다. 따라서 빔통과용 홀이 기준 위치에서 조금이라도 벗어나면 전자빔의 경로가 어긋나게 되어 타색 형광체를 발광시키는 등 색순도를 저하시키므로, 빔통과용 홀의 위치 변동을 적극적으로 억제하는 것이 중요하다.The shadow mask serves to separate and land three beams of electron beams emitted from the electron gun to the corresponding phosphors in the phosphor screen by forming a plurality of beam passing holes. Therefore, if the beam passing hole is slightly shifted from the reference position, the path of the electron beam is shifted and the color purity is lowered, for example, to emit other color phosphors. Therefore, it is important to actively suppress the positional change of the beam passing hole.

그러나 전자총에서 출사된 전자빔의 20% 정도만이 빔통과용 홀을 통과하여 형광막 스크린에 도달하므로 나머지 전자빔들은 섀도우 마스크에 충돌하여 섀도우 마스크의 온도를 상승시키고, 이로서 섀도우 마스크는 형광막 스크린을 향하여 볼록하게 팽창하는 도오밍 현상을 일으킨다.However, only about 20% of the electron beam emitted from the electron gun passes through the beam passing hole to reach the fluorescent screen, so that the remaining electron beams collide with the shadow mask to raise the temperature of the shadow mask, which causes the shadow mask to convex toward the fluorescent screen. Causes a bloating phenomenon.

또한 상기 섀도우 마스크는 극히 얇은 금속 재질로 제작되므로 외부의 충격이나 진동 등에 의해 특정 부분이 영구 변형되는 경우가 발생할 수 있다.In addition, since the shadow mask is made of an extremely thin metal material, a specific portion may be permanently deformed by external shock or vibration.

이로서 전자빔의 경로가 어긋나게 되어 타색 형광체를 발광시키는 등, 색순도를 저하시킨다. 따라서 이와 같은 색순도 저하를 방지하기 위하여, 미세한 격자 형상의 스크린 메쉬를 사용하여 전자반사물질을 코팅하는 방법이 고안되었다. 이는 스크린 메쉬를 섀도우 마스크의 일면에 배치한 다음, 페이스트 상태의 전자반사물질을 스크린 인쇄법으로 반복 인쇄하여 빔통과용 홀을 제외한 섀도우 마스크의 표면에 코팅시키는 방법이다.As a result, the path of the electron beam is shifted, and the color purity is lowered, for example, to emit other color phosphors. Therefore, in order to prevent such a drop in color purity, a method of coating an electron reflection material using a fine grid-shaped screen mesh has been devised. This is a method of disposing the screen mesh on one surface of the shadow mask, and then repeatedly printing the electronic reflective material in a paste state by screen printing to coat the surface of the shadow mask except for the beam passing hole.

그러나 위 방법은 스크린 인쇄 후 빔통과용 홀과 마주한 스크린 메쉬의 일부분에 페이스트가 남게 되며, 스크린 인쇄를 반복 수행하는 과정에서 위 부분에 페이스트가 계속 누적된다. 이로서 빔통과용 홀이 막히거나 직경이 감소하는 등, 섀도우 마스크의 전자빔 랜딩 특성을 저하시키는 불리한 점이 있다.However, in the above method, paste remains in a portion of the screen mesh facing the beam passing hole after screen printing, and the paste continues to accumulate in the upper portion during the screen printing process. This has the disadvantage of degrading the electron beam landing characteristics of the shadow mask, such as clogging of the beam passing hole or reduction in diameter.

이와 같은 빔통과용 홀의 막힘을 최소화하기 위하여, 국내 특허 출원번호 95-40615호는 스크린 메쉬에 빔통과용 홀과 동일한 형상의 포토레지스트막을 형성하여 코팅하는 방법을 제안하고 있다.In order to minimize the blockage of the beam through hole, Korean Patent Application No. 95-40615 proposes a method of forming and coating a photoresist film having the same shape as the beam through hole in the screen mesh.

그러나 위 방법은 포토레지스트막 형성을 위한 제판 공정이 복잡하여 사용에 불리한 단점을 갖는다.However, the above method has a disadvantage in that the plate making process for forming a photoresist film is complicated and thus disadvantageous.

따라서 본 발명은 상기한 문제점을 해소하기 위하여 고안된 것으로서, 본 발명의 목적은 스크린 메쉬에 페이스트가 누적되는 것을 방지하여 섀도우 마스크의 표면에 전자반사물질이나 강화물질을 코팅할 때, 섀도우 마스크의 홀 막힘을 억제하며 코팅성을 향상시킬 수 있는 섀도우 마스크의 제조방법을 제공하는데 있다.Therefore, the present invention is designed to solve the above problems, an object of the present invention is to prevent the accumulation of paste on the screen mesh to block the hole of the shadow mask when coating the electron reflection material or reinforcing material on the surface of the shadow mask To provide a method of manufacturing a shadow mask that can suppress and improve the coating properties.

도 1은 본 발명에 의한 제조공정 이전 상태의 섀도우 마스크의 사시도.1 is a perspective view of a shadow mask in a state before the manufacturing process according to the present invention.

도 2는 제 1 인쇄 공정에서 스크린 인쇄기에 장착된 섀도우 마스크와 스크린 메쉬의 부분 확대도.2 is a partially enlarged view of a shadow mask and screen mesh mounted to a screen printing machine in a first printing process.

도 3∼도 5는 제 1 인쇄 공정을 나타내는 도 2 A-A선의 단면도.3 to 5 are cross-sectional views taken along a line A-A of the second printing step.

도 6은 제 2 인쇄 공정에서 스크린 인쇄기에 장착된 섀도우 마스크와 스크린 메쉬의 부분 확대도.6 is a partially enlarged view of a shadow mask and a screen mesh mounted to a screen printing machine in a second printing process.

도 7∼도 9는 제 2 인쇄 공정을 나타내는 도 6 B-B선의 단면도.7-9 is sectional drawing of the FIG. 6B-B line | wire which shows a 2nd printing process.

도 10은 슬롯 타입 빔통과용 홀을 갖는 섀도우 마스크의 부분 확대도.10 is a partially enlarged view of a shadow mask having a slot type beam passing hole;

도 11은 원형 타입 빔통과용 홀을 갖는 섀도우 마스크의 부분 확대도.11 is a partially enlarged view of a shadow mask having a circular type beam passing hole.

도 12는 성형 공정에 의해 완성된 섀도우 마스크의 사시도.12 is a perspective view of a shadow mask completed by a molding process.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,In order to achieve the above object, the present invention,

스크린 인쇄기에 빔통과용 홀이 형성된 평판 형상의 섀도우 마스크와 미세한격자 형상의 스크린 메쉬를 모두 제 1 정위치에 고정시킨 다음, 페이스트를 도포하고 인쇄하는 제 1 인쇄 공정과, 섀도우 마스크에서 스크린 메쉬를 분리시키고, 섀도우 마스크 또는 스크린 메쉬를 제 1 정위치에서 제 2 정위치로 수평 이동시킨 후, 페이스트를 도포하고 인쇄하는 제 2 인쇄 공정과, 상기 제 1 인쇄 공정과 제 2 인쇄 공정을 순차적으로 적어도 한번 이상 반복 수행하는 반복 인쇄 공정과, 평판 형상의 섀도우 마스크를 프레스 성형하는 성형 공정을 포함하는 섀도우 마스크의 제조방법을 제공한다.The first printing process of fixing both the flat shadow mask and the fine grid screen mesh having the beam passing hole formed in the screen printing machine to the first position, and then applying and printing the paste, and applying the screen mesh to the shadow mask Separating, moving the shadow mask or screen mesh horizontally from the first home position to the second home position, and then applying at least a second printing process, and printing the paste, and at least the first printing process and the second printing process. Provided are a method of manufacturing a shadow mask including a repeating printing step of repeating one or more times and a molding step of press molding a flat shadow mask.

여기서, 제 1 정위치와 제 2 정위치와의 거리는 대략 수평방향 홀 피치의 절반 정도가 바람직하다.Here, the distance between the first home position and the second home position is preferably about half of the horizontal hole pitch.

이로서, 스크린 메쉬는 홀수번째 인쇄시 빔통과용 홀과 마주하여 페이스트가 남겨진 부분이 짝수번째 인쇄시에는 빔통과용 홀 사이의 무공부에 위치하게 된다. 따라서 홀수번째 인쇄시 남겨진 페이스트는 짝수번째 인쇄시 새로 도포되는 페이스트와 함께 무공부에 인쇄되므로 페이스트의 누적을 방지하여 빔통과용 홀의 막힘을 효과적으로 억제할 수 있는 것이다.As a result, the screen mesh is positioned in the no space between the beam passing holes in the even numbered printing, while the portion of the screen facing the beam passing hole in the odd printing is left. Therefore, the paste left during the odd-numbered printing is printed in the unperforated together with the newly applied paste during the even-numbered printing, thereby preventing the accumulation of the paste and effectively suppressing the blockage of the hole for hole passing.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 의한 제조공정 이전 상태의 섀도우 마스크를 도시하고 있다. 도시하는 바와 같이 섀도우 마스크(10)는 다수개의 빔통과용 홀(2)이 조밀하게 형성된 유효화면부(4)를 포함하며, 이러한 빔통과용 홀(2)의 형성은 사진제판 기술을 응용한 부식법으로 이루어진다. 그리고 섀도우 마스크(10) 본체는 통상의알루미늄 킬드강(AK강)으로 제작된다.1 shows a shadow mask in a state before the manufacturing process according to the present invention. As shown in the drawing, the shadow mask 10 includes an effective screen portion 4 in which a plurality of beam passing holes 2 are densely formed, and the formation of the beam passing holes 2 is performed by applying photolithography technology. It is made by the corrosion method. The shadow mask 10 body is made of ordinary aluminum kilted steel (AK steel).

여기서, 상기 섀도우 마스크(10)는 비교적 높은 열팽창계수를 갖는 알루미늄 킬드강의 단점을 보완하기 위하여, 전자빔을 반사시키며 열반산을 유도하는 등, 섀도우 마스크(10)의 도오밍을 억제하기 위한 코팅막을 적어도 일표면으로 형성한다.Here, the shadow mask 10 includes at least a coating film for suppressing doming of the shadow mask 10, such as reflecting an electron beam and inducing thermal reflection, in order to compensate for the shortcomings of aluminum-kilted steel having a relatively high coefficient of thermal expansion. It is formed on one surface.

이러한 코팅막에는 전자빔의 반사 효율이 크며, 열방사 효율이 높은 W, WC, Bi 등의 금속막이 대표적이다.Such coating films are typical of metal films such as W, WC, Bi, which have high electron beam reflection efficiency and high thermal radiation efficiency.

이에, 본 실시예는 이와 같은 다양한 코팅 재료를 빔통과용 홀(2)의 막힘 없이 섀도우 마스크(10)의 일면으로 균일하게 코팅할 수 있는 방법을 제공하고자 하는데 있으며, 이하, 본 실시예에 의한 섀도우 마스크의 제조방법은 다음과 같다.Thus, the present embodiment is to provide a method for uniformly coating such a variety of coating materials on one surface of the shadow mask 10 without clogging the beam passing hole (2), according to the present embodiment The manufacturing method of the shadow mask is as follows.

먼저, 섀도우 마스크(10)와 스크린 메쉬(20)를 공지된 스크린 인쇄기의 제 1 정위치에 모두 고정시킨다. 도 2는 이와 같이 스크린 인쇄기(도시하지 않음)에 고정된 섀도우 마스크(10)와 스크린 메쉬(20)의 일부를 확대하여 도시하고 있으며, 도 3은 도 2 A-A선의 단면을 도시하고 있다.First, both the shadow mask 10 and the screen mesh 20 are fixed in the first in situ position of a known screen printing press. FIG. 2 is an enlarged view of a portion of the shadow mask 10 and the screen mesh 20 fixed to the screen printing machine (not shown). FIG. 3 is a cross-sectional view of the line A-A of FIG. 2.

도시하는 바와 같이 섀도우 마스크(10)는 통상의 민생용 음극선관에 적용되는 슬롯(slot) 타입의 빔통과용 홀(2)을 수직으로 연속 형성하고 있으며, 섀도우 마스크(10)의 상면으로 배치되는 스크린 메쉬(20)는 스테인레스 스틸, 폴리에스테르 또는 나일론 등으로 이루어지는 극히 가느다란 강선들이 미세한 격자 형상으로 조직된 구성을 이루고 있다.As shown in the figure, the shadow mask 10 vertically and continuously forms a slot-type beam passing hole 2 applied to a normal cathode ray tube, and is disposed on an upper surface of the shadow mask 10. The screen mesh 20 has a structure in which extremely thin steel wires made of stainless steel, polyester or nylon are organized in a fine lattice shape.

이 때, 제 1 정위치에 고정된 스크린 메쉬(20)와 섀도우 마스크(10)를 관통하는 공통 위치상의 일지점을 각각 P1 및 P1'라고 가정한다.At this time, it is assumed that one point on the common position passing through the screen mesh 20 and the shadow mask 10 fixed at the first position is P1 and P1 ', respectively.

이와 같이 제 1 정위치에 스크린 메쉬(20)와 섀도우 마스크(10)를 고정시킨 상태에서, 도 4에서 도시하는 바와 같이 전자반사물질 또는 강화물질을 구성하는 페이스트(22)를 스퀴이즈(24)를 이용하여 스크린 메쉬(20)에 인쇄하는 첫번째 인쇄 공정을 수행한다.As described above, in the state where the screen mesh 20 and the shadow mask 10 are fixed in the first position, as shown in FIG. 4, the paste 22 constituting the electron reflection material or the reinforcing material is squeezed 24. The first printing process of printing on the screen mesh 20 is performed.

첫번째 인쇄 공정 후, 도 5에서 도시하는 바와 같이 스크린 메쉬(20)를 섀도우 마스크(10)에서 분리시키면, 첫번째 인쇄 공정에서 섀도우 마스크(10)의 빔통과용 홀(2)과 마주한 부분에 도포된 페이스트(22)는 스크린 메쉬(20)에 잔류하지만, 빔통과용 홀(2) 사이의 무공부(6)와 마주한 부분에 도포된 페이스트(22)는 스크린 메쉬(20)를 통하여 무공부(6)의 표면에 안착됨으로써 1차적으로 코팅막을 형성하게 된다.After the first printing process, as shown in FIG. 5, the screen mesh 20 is separated from the shadow mask 10 to be applied to a portion facing the beam passing hole 2 of the shadow mask 10 in the first printing process. The paste 22 remains in the screen mesh 20, but the paste 22 applied to the portion facing the unperforated portion 6 between the beam passing holes 2 is unperforated through the screen mesh 20. It is deposited on the surface of) to form a coating film primarily.

다음으로, 도 6에서 도시하는 바와 같이 섀도우 마스크(10) 또는 스크린 메쉬(20)를 제 1 정위치에서 제 2 정위치로 수평하게 이동시켜 두 부재 사이의 상대 위치를 변화시킨다.Next, as shown in FIG. 6, the shadow mask 10 or the screen mesh 20 is horizontally moved from the first home position to the second home position to change the relative position between the two members.

이러한 상대 위치 변화는 스크린 메쉬(20)를 고정시킨 상태에서 섀도우 마스크(10)를 이동시키거나, 섀도우 마스크(10)를 고정시킨 상태에서 스크린 메쉬(20)를 이동시키는 경우 모두를 포함하나, 실질적으로 인쇄 공정시 스크린 메쉬(20)를 이동시키는 것이 곤란하므로, 섀도우 마스크(10)의 위치를 변경시키는 것이 바람직하다. 이에, 상기 섀도우 마스크(10)를 제 2 정위치로 수평하게 이동시킨 후 고정시킨다.This relative position change includes both the case where the shadow mask 10 is moved while the screen mesh 20 is fixed, or the screen mesh 20 is moved while the shadow mask 10 is fixed. Since it is difficult to move the screen mesh 20 during the printing process, it is preferable to change the position of the shadow mask 10. Thus, the shadow mask 10 is horizontally moved to the second correct position and then fixed.

도 7은 도 6 B-B선의 단면도로서, 첫번째 인쇄 공정에서 스크린 메쉬(20)의P1 지점과 동일 위치이던 섀도우 마스크(10)상의 P1' 지점은 섀도우 마스크(10)의 이동 거리만큼 수평방향으로 이동되었음을 알 수 있다.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. 6, in the first printing process, the point P1 'on the shadow mask 10, which is the same position as the point P1 of the screen mesh 20, is moved horizontally by the moving distance of the shadow mask 10. FIG. Able to know.

이 때, 스크린 매쉬(20)의 P1 지점과 동일 위치인 섀도우 마스크(10)상의 일지점을 P2 지점이라고 가정하면, 섀도우 마스크(10)의 이동 거리, 즉 P1'와 P2 지점과의 거리는 대략 빔통과용 홀(2) 수평피치(Ph : 수평방향으로 인접한 빔통과용 홀 중심점 사이의 거리)의 1/2 정도가 바람직하며, 이 값은 빔통과용 홀(2)의 중심점에서 무공부 중앙점까지의 거리와 동일한 값을 의미한다.At this time, assuming that one point on the shadow mask 10 that is the same position as the point P1 of the screen mesh 20 is the point P2, the moving distance of the shadow mask 10, that is, the distance between the point P1 'and the point P2 is approximately beam. It is preferable that about half of the horizontal pitch (Ph: distance between the beam center holes adjacent to each other in the horizontal direction) of the through hole (2) is used. It means the same value as the distance to.

이로서 섀도우 마스크(10)의 무공부(6)는 첫번째 인쇄 공정에서 빔통과용 홀(2)과 마주했던 스크린 메쉬(20)의 일부분과 마주하게 되어, 첫번째 인쇄 공정시 잔류된 페이스트(22)는 표면으로 1차 코팅막이 형성된 섀도우 마스크(10)의 무공부(6)와 마주하게 된다.As a result, the non-perforated portion 6 of the shadow mask 10 faces a portion of the screen mesh 20 that faced the beam passing hole 2 in the first printing process, so that the paste 22 remaining during the first printing process The surface of the shadow mask 10 having the primary coating film is formed to face the no-hole (6).

다음으로, 도 8에서 도시하는 바와 같이 스크린 메쉬(20)의 일면으로 스퀴이즈(24)를 이용하여 페이스트(22)를 인쇄하는 것으로 두번째 인쇄 공정을 수행한다. 두번째 인쇄 공정은 첫번째 인쇄 공정시 페이스트(22)가 잔류된 스크린 메쉬(20)의 일부분이 섀도우 마스크(10)의 무공부(6)와 마주하게 됨에 따라, 잔류된 페이스트(22)는 새로 도포되는 페이스트(22)와 함께 무공부(6)의 표면으로 안착되어 추가 코팅막을 형성하게 된다.Next, as shown in FIG. 8, the second printing process is performed by printing the paste 22 using the squeeze 24 on one surface of the screen mesh 20. In the second printing process, as the portion of the screen mesh 20 in which the paste 22 remains during the first printing process faces the non-perspective 6 of the shadow mask 10, the remaining paste 22 is newly applied. The paste 22 is seated on the surface of the non-porous portion 6 to form an additional coating film.

따라서 두번째 인쇄 공정 후, 도 9에서 도시하는 바와 같이 스크린 메쉬(20)를 섀도우 마스크(10)에서 분리시키면, 스크린 메쉬(20)는 첫번째 인쇄 공정에서 도포된 페이스트(22)의 잔류 없이 두번째 인쇄 공정에서 도포된 페이스트(22)만이잔류하게 된다.Therefore, after the second printing process, as shown in FIG. 9, when the screen mesh 20 is separated from the shadow mask 10, the screen mesh 20 is subjected to the second printing process without remaining of the paste 22 applied in the first printing process. Only the paste 22 applied at will remain.

이어서, 섀도우 마스크(10)를 제 2 정위치에서 제 1 정위치로 재위치시킨 후, 세번째 인쇄 공정을 수행하고, 다음으로 섀도우 마스크(10)를 제 1 정위치에서 제 2 정위치로 재위치하여 네번째 인쇄 공정을 수행한다.Subsequently, after the shadow mask 10 is repositioned from the second home position to the first home position, a third printing process is performed, and then the shadow mask 10 is repositioned from the first home position to the second home position. To perform a fourth printing process.

이와 같이 본 실시예는 섀도우 마스크(10)를 제 1 정위치에 고정된 상태에서 홀수번째 인쇄를 수행하고, 섀도우 마스크(10)를 제 2 정위치에 고정된 상태에서 짝수번째 인쇄를 수행하는 것으로 이루어진다.As such, the present embodiment performs odd-numbered printing while the shadow mask 10 is fixed at the first correct position, and even-numbered printing is performed while the shadow mask 10 is fixed at the second correct position. Is done.

이 때, 섀도우 마스크(10)의 이동 거리, 즉 제 1 정위치와 제 2 정위치와의 거리(H)는 아래 수학식 1에 따른 범위내에서 설정되도록 함이 바람직하다.At this time, the movement distance of the shadow mask 10, that is, the distance H between the first and second correct positions is preferably set within a range according to Equation 1 below.

≤ H ≤ ≤ H ≤

여기서, 상기 D1은 도 10에서 도시하는 바와 같이 슬롯 타입 빔통과용 홀(2)의 수평방향 너비를 나타내며, L1은 슬롯 타입 빔통과용 홀(2) 사이의 수평방향 무공부(6) 너비를 나타내고, 상기 H와 D1 및 L1은 모두 동일한 단위로 표현된다.Here, D1 denotes a horizontal width of the slot type beam passing hole 2 as shown in FIG. 10, and L1 denotes a width of the horizontal non-perforated portion 6 between the slot type beam passing hole 2. And H and D1 and L1 are all expressed in the same unit.

또한 상기 섀도우 마스크는 다른 실시예로서 도 11 에서 도시하는 바와 같이 공업용 모니터에 적용되는 원형 타입의 빔통과용 홀(8)을 형성할 수 있다. 상기 경우 또한 섀도우 마스크(10)의 이동 거리, 즉 제 1 정위치와 제 2 정위치와의 거리(H)는 다음의 수학식 2에 따른 범위내에서 설정되도록 함이 바람직하다.In addition, the shadow mask may form a circular type beam passing hole 8 applied to an industrial monitor as shown in FIG. 11 as another embodiment. In this case, it is also preferable that the moving distance of the shadow mask 10, that is, the distance H between the first and second correct positions is set within a range according to Equation 2 below.

≤ H ≤ ≤ H ≤

여기서, D2는 원형 타입 빔통과용 홀(8)의 직경을 나타내고, L2는 원형 타입 빔통과용 홀(2) 사이의 수평방향 무공부(6) 너비를 나타내며, 상기 H와 D2 및 L2는 모두 동일한 단위로 표현된다.Here, D2 denotes the diameter of the circular type beam passing hole 8, L2 denotes the width of the horizontal non-perforated portion 6 between the circular type beam passing hole 2, and H, D2 and L2 are both It is expressed in the same units.

상기한 수학식 1과 수학식 2의 범위는 스크린 메쉬(20)에 잔류하는 페이스트(22)의 양을 최소화할 수 있는 범위로서, 상기한 수학식 1 및 수학식 2의 범위내에서 섀도우 마스크(10)를 이동시킬 경우, 잔류 페이스트(22)를 실질적으로 없앨 수 있다.The range of Equation 1 and Equation 2 is a range that can minimize the amount of the paste 22 remaining in the screen mesh 20, the shadow mask (within the range of Equation 1 and Equation 2 above) In moving 10), the residual paste 22 can be substantially removed.

이와 같은 페이스트 인쇄 공정은 원하는 코팅막 두께를 수득할 때까지 여러번 반복 수행될 수 있으며, 필요에 따라 섀도우 마스크(10)의 양쪽 표면 모두에 코팅막을 형성할 수 있다.This paste printing process may be repeated several times until a desired coating film thickness is obtained, and coating films may be formed on both surfaces of the shadow mask 10 as necessary.

다음으로, 코팅막 형성이 완료된 섀도우 마스크(10)를 통상의 프레스 성형기에 투입하여 도 12에서 도시하는 바와 같이 소정의 곡률을 갖는 유효화면부(4)와, 스커트부(12) 등을 프레스 가공하여 최종 형상으로 완성한다.Next, the shadow mask 10 having the coating film formed thereon is put into a conventional press molding machine, and as shown in FIG. 12, the effective screen portion 4 having a predetermined curvature, the skirt portion 12, and the like are press processed. Finish to the final shape.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the range of.

이와 같이 본 발명은 스크린 메쉬에 페이스트가 누적되는 것을 방지하여 빔통과용 홀의 막힘을 효과적으로 억제하며, 보다 균일한 표면을 갖는 코팅막을 형성할 수 있다. 이로서 섀도우 마스크의 전자빔 랜딩 특성을 향상시키고, 도오밍을 억제하여 도오밍에 의한 화질 저하를 효과적으로 방지할 수 있다.As described above, the present invention prevents the accumulation of the paste on the screen mesh to effectively suppress the blockage of the beam passing hole and form a coating film having a more uniform surface. As a result, the electron beam landing characteristic of the shadow mask can be improved, and the picture quality can be effectively prevented due to the suppressing of the doming.

Claims (3)

스크린 인쇄기에 빔통과용 홀이 형성된 평판 형상의 섀도우 마스크와, 섀도우 마스크의 일면으로 미세한 격자 형상의 스크린 메쉬를 모두 제 1 정위치에 고정시킨 다음, 페이스트를 도포하고 인쇄하는 제 1 인쇄 공정과;A first printing process of fixing a flat shadow mask having a beam through hole formed on the screen printing machine and a fine grid screen mesh to one surface of the shadow mask in a first position, and then applying and printing a paste; 섀도우 마스크에서 스크린 메쉬를 이격시키고, 섀도우 마스크 또는 스크린 메쉬를 제 1 정위치에서 제 2 정위치로 수평 이동시킨 후, 페이스트를 도포하고 인쇄하는 제 2 인쇄 공정과;A second printing process of spaced apart the screen mesh from the shadow mask, horizontally moving the shadow mask or screen mesh from the first home position to the second home position, and then applying and printing a paste; 상기 제 1 인쇄 공정과 제 2 인쇄 공정을 순차적으로 적어도 한번 이상 반복 수행하는 반복 인쇄 공정과;A repeating printing process of repeatedly performing the first printing process and the second printing process at least once in sequence; 평판 형상의 섀도우 마스크를 프레스 성형하는 성형 공정을 포함함을 특징으로 하는 섀도우 마스크의 제조방법.And a molding step of press molding the flat shadow mask. 제 1항에 있어서, 상기 제 1 정위치와 제 2 정위치와의 거리는 아래 수학식에 따른 범위내에서 설정되도록 하여 이루어지는 섀도우 마스크의 제조방법.The method of claim 1, wherein the distance between the first and second positions is set within a range according to the following equation. ≤ H ≤ ≤ H ≤ 여기서,here, H는 제 1 정위치와 제 2 정위치와의 거리 (mm),H is the distance between the first exact position and the second exact position (mm), D1은 슬롯 타입 빔통과용 홀의 수평방향 너비 (mm),D1 is the horizontal width of the slot-type beam through hole (mm), L1은 슬롯 타입 빔통과용 홀 사이의 수평방향 무공부 너비 (mm).L1 is the horizontal blank width (mm) between slot-type beam-through holes. 제 1항에 있어서, 상기 제 1 정위치와 제 2 정위치와의 거리는 아래 수학식에 따른 범위내에서 설정되도록 하여 이루어지는 섀도우 마스크의 제조방법.The method of claim 1, wherein the distance between the first and second positions is set within a range according to the following equation. ≤ H ≤ ≤ H ≤ 여기서,here, H는 제 1 정위치와 제 2 정위치와의 거리 (mm),H is the distance between the first exact position and the second exact position (mm), D2는 원형 타입 빔통과용 홀의 직경 (mm),D2 is the diameter of the circular beam through hole (mm), L2는 원형 타입 빔통과용 홀 사이의 수평방향 무공부 너비 (mm).L2 is the horizontal non-perforated width (mm) between the circular beam through holes.
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