KR100300266B1 - Thin semiconductor device, module structure using the same, and board mounting method of the semiconductor device - Google Patents

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KR100300266B1 KR1019930009009A KR930009009A KR100300266B1 KR 100300266 B1 KR100300266 B1 KR 100300266B1 KR 1019930009009 A KR1019930009009 A KR 1019930009009A KR 930009009 A KR930009009 A KR 930009009A KR 100300266 B1 KR100300266 B1 KR 100300266B1
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마스다마사치카
와다다마키
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스즈키 진이치로
히타치 쪼오 엘.에스.아이.엔지니아링 가부시키가이샤
가나이 쓰도무
가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
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    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection

Abstract

반도체칩의 주변단부의 근방에 인너리이드의 선단부가 배열설치되고 절연막테이프의 일부가 반도체칩의 주면에 접착제로 부착됨과 동시에 그 절연막테이프의 다른 부분이 상기 인너리이드의 일부에 접착제로 부착되어져 있다.The tip of the inner lead is arranged in the vicinity of the peripheral end of the semiconductor chip, a part of the insulating tape is attached to the main surface of the semiconductor chip with an adhesive, and another part of the insulating tape is attached to the part of the inner lead with an adhesive.

상기 반도체칩의 주면에 설치된 전극패드와 그들에 대응하는 상기 인너리이드의 선단부들이 본딩와이어에 의해 전기적으로 접속되고, 상기 반도체칩, 인너리이드, 전극패드, 절연막테이프, 본딩와이어가 모울드수지에 의해 봉지되어져 있다.The electrode pads provided on the main surface of the semiconductor chip and the tip portions of the inner leads corresponding thereto are electrically connected by bonding wires, and the semiconductor chips, inner leads, electrode pads, insulating tapes, and bonding wires are sealed by mold resins. It is done.

상기 절연막테이프의 두께는 상기 본딩와이어의 상기 반도체칩의 주면에서 그 정점까지의 높이 이하이고, 상기 본딩와이어가 접속된 상기 인너리이드의 선단면은 상기 반도체칩의 주면보다도 아래에 위치하고, 또 상기 인너리이드는 상기 반도체칩의 주면과 반대면과의 사이에 위치한다.The thickness of the insulating tape is equal to or less than a height from the main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire, the front end surface of the inner lead to which the bonding wire is connected is located below the main surface of the semiconductor chip, and the inner The lead is located between the main surface and the opposite surface of the semiconductor chip.

Description

박형 반도체 장치, 그것을 이용한 모듈구조체 및 그 반도체 장치의 기판 실장방법Thin semiconductor device, module structure using same, and substrate mounting method of the semiconductor device

제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 TOC 패키지의 박형 반도체 장치의 구성을 나타내는 상반분(上半分)의 모울드수지를 제거한 상태의 평면도.1 is a plan view of a state in which the upper half of the mold resin showing the structure of the thin semiconductor device of the TOC package according to the first embodiment of the present invention is removed.

제2도는 제1도에서 Ⅱ-Ⅱ선을 자른 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG.

제3도는 제1도에서 Ⅲ-Ⅲ선을 따라서 자른 단면도.3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG.

제4도는 제1도에서 절연테이프에 의한 지지형태의 다른 예를 나타내는 도면.4 is a view showing another example of the support form by the insulating tape in FIG.

제5도는 제1실시예의 반도체 칩의 주면에 알루미늄박(箔) 등의 광입사 차단 수단이 설치된 변형예의 구성을 나타내는 단면도.FIG. 5 is a sectional view showing a configuration of a modification in which light incidence blocking means such as aluminum foil is provided on the main surface of the semiconductor chip of the first embodiment. FIG.

제6도는 제1실시예에서 반도체 칩의 주면으로의 광입사를 차단하기 위해 반도체 칩의 주면이 실장기판에 대항하도륵 실장된 상태를 나타내는 단면도.6 is a cross-sectional view showing a state in which the main surface of the semiconductor chip is mounted against the mounting substrate in order to block light incidence to the main surface of the semiconductor chip in the first embodiment.

제7도는 제1실시예의 반도체 장치를 2단으로 포갠 제2실시예에 의한 적층체를 나타내는 단면도.7 is a cross-sectional view showing a laminate according to a second embodiment in which the semiconductor device of the first embodiment is stacked in two stages.

제8도는 제1실시예의 반도체 장치를 기판에 실장하는 방법을 설명하기 위한 단면도.8 is a cross-sectional view for explaining a method for mounting the semiconductor device of the first embodiment to a substrate.

제9도는 제1실시에의 반도체 장치를 기판에 2단 실장하는 방법을 설명하기 위한 단면도.9 is a cross-sectional view for explaining a method for mounting the semiconductor device of the first embodiment on a substrate in two stages.

제10도는 본 발명의 반도체 장치를 기판에 실장하는 다른 예를 설명하기 위한 단면도.10 is a cross-sectional view illustrating another example in which the semiconductor device of the present invention is mounted on a substrate.

제11도는 본 발명의 반도체 장치를 기판에 2단 실장하는 다른 방법을 설명하기 위한 단면도.11 is a cross-sectional view for explaining another method for mounting the semiconductor device of the present invention on a substrate in two stages.

제12도는 본 발명의 반도체 장치를 이용한 모듈구조체의 실시예를 나타내는 사시도.12 is a perspective view showing an embodiment of a module structure using the semiconductor device of the present invention.

제13도는 본 발명의 반도체 장치를 이용한 모듈구조체의 다른 실시예를 나타내는 사시도.13 is a perspective view showing another embodiment of the module structure using the semiconductor device of the present invention.

* 도면에 대한 주요부호의 설명* Explanation of the main symbols for the drawings

1 : 반도체 칩. 1a : 전극패드.1: semiconductor chip. 1a: electrode pad.

2 : 리드. 2a : 인너리드.2: lead. 2a: inner lead.

2b : 아웃터리드. 3 : 절연막 테이프.2b: Outstanding. 3: insulating film tape.

4 : 접착제. 5 : 지지 리드.4: adhesive. 5: Support lead.

6 : 본딩 와이어. 7 : 모울드 수지.6: bonding wire. 7: mold resin.

10 : 알루미늄박(箔).10: aluminum foil.

본 발명은 박형 반도체 장치, 그것을 이용한 모듈구조체 및 그 반도체 장치를 기판에 실장하는 방법에 관한 것으로서, 특히 메모리 카드 혹은 반도체 장치를 다단으로 포갠 소형 패키지의 대용량 메모리 장치 등에 적용되는 초박형 반도체 장치, 그것을 이용한 모듈구조체 및 그 반도체 장치를 기판에 실장하는 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin semiconductor device, a module structure using the same, and a method of mounting the semiconductor device on a substrate, and in particular, an ultra-thin semiconductor device applied to a large-capacity memory device in a small package including a memory card or a semiconductor device in multiple stages, A module structure and a method for mounting the semiconductor device on a substrate.

종래의 박형 반도체 장치의 소형 패키지로서 탭(tab)부착 리드 프레임과 와이어 본딩방식을 채용한 1.2㎜ 두께의 TSOP(Thin Small Outline Package)형이 개발되어 있다. 이것에 대해서는, 예를들면 (주)히다찌 제작소 발행의 GAIN 83, 11월, 1990, 30∼31페이지에 기재되어 있다.As a small package of a conventional thin semiconductor device, a 1.2 mm thick thin small outline package (TSOP) type employing a tabbed lead frame and a wire bonding method has been developed. This is described, for example, in GAIN 83, November, 1990, pages 30 to 31 of Hitachi, Ltd., issued.

또, 3.3㎜ 두께의 메모리 카드에 있어서, TSOP형의 박형 반도체 장치를 양면 실장하고, 실장효율을 최대로 한 대용량 메모리 카드가 개발되어 있다. 그러나, 보다 얇은 TSOP형의 요구가 강하기 때문에, TSOP형과 같은 외형 사이즈로 한 0.5㎜ 두께의 TCP(Tape Carrier Package)형이 제안되어 있다. 이것에 대해서는, 예를들면, 니케이 마이크로디바이스, 1991년 2월호, 65∼66페이지에 기재되어 있다. 이 TCP형의 박형 반도체 장치는 반도체 칩을 0.2㎜ 정도 얇게 하고, TAB(Tape Automated Bonding)방식의 본딩에 의해 반도체 칩과 인너리드를 전기적으로 접속하여 플라스틱 모울드한 구조로 구성된다.In addition, in a 3.3-mm-thick memory card, a large-capacity memory card has been developed in which a TSOP type thin semiconductor device is mounted on both sides and the mounting efficiency is maximized. However, since the demand for a thinner TSOP type is strong, a 0.5 mm thick TCP (Tape Carrier Package) type having the same outer size as the TSOP type has been proposed. This is described, for example, in Nikkei Micro Devices, Feb. 1991, pages 65-66. This TCP-type thin semiconductor device has a structure in which the semiconductor chip is made thin by about 0.2 mm, and the semiconductor chip and the inner lead are electrically connected by TAB (Tape Automated Bonding) bonding to electrically connect the semiconductor chip.

또한, 폴리이미드로 형성된 박형 내열(耐熱)수지로 이루어지는 소자 유지체(素子維持體)를 반도체 소자의 확산면의 일부와 인너리드의 일부에 접착 고정하는 것에 의해 패키지 두께를 얇게하도록 한 반도체 장치가 일본공개특허 평 4-106941호에 나타나 있다. 이 장치에서는 반도체 소자의 전극과 인너리드를 금속 와이어에 의해 결선할 때, 반도체 소자의 단부와 금속 와이어와의 간격을 숏트 불량이 일어나지 않도록 크게하고, 또 반도체 소자의 주면과 인너리드의 상면을 동일 평면으로 하고 있다.In addition, a semiconductor device in which the package thickness is made thin by adhesively fixing an element holder made of a thin heat-resistant resin formed of polyimide to a part of the diffusion surface and a part of the inner lead of the semiconductor element It is shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 4-106941. In this device, when connecting the electrode and the inner lead of the semiconductor element with a metal wire, the distance between the end of the semiconductor element and the metal wire is increased so as not to cause a short defect, and the main surface of the semiconductor element and the upper surface of the inner lead are the same. It is made flat.

또한, 금속막 리드를 절연 테이프상에 배치하고, 그 절연 테이프의 일부의 하면에서 반도체 소자의 주면을 지지하도록 한 반도체 장치가 일본공개특허 평 3-261153호에 나타나 있다.Further, a semiconductor device in which a metal film lead is disposed on an insulating tape and the main surface of the semiconductor element is supported on a lower surface of a portion of the insulating tape is shown in Japanese Patent Laid-Open No. 3-261153.

또, 반도체 소자의 주면상에 리드 프레임의 탭부(다이패드부)를 배치하고, 그 텝부에서 반도체 소자를 지지하도록 한 반도체 장치가 일본공개특허 평 1-286342호에 나타나 있다.Moreover, the semiconductor device which arrange | positions the tab part (die pad part) of a lead frame on the main surface of a semiconductor element, and supports the semiconductor element at the said step part is shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 1-286342.

본 발명자는, 상기 TAB방식 본딩으로 플라스틱 모울드의 TCP구조의 박형 반도체 장치를 검토한 결과, 다음의 문제점을 발견했다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of examining the thin semiconductor device of the TCP structure of a plastic mold by the said TAB system bonding, the present inventor discovered the following problem.

(1) 아웃터리드가 동(Cu)박으로 구성되어 있기 때문에, 아웃터리드의 강도가 약하다. 그 때문에, 리드가 구부러져 접촉불량을 발생한다.(1) Since the outright is made of copper foil, the strength of the outward is weak. As a result, the lead is bent, resulting in poor contact.

(2) 아웃터리드의 강도가 약하기 때문에, 소켓의 선별이 곤란하다.(2) Since the strength of the outlier is weak, it is difficult to select the socket.

(3) TAB방식의 본딩을 이용하기 때문에, 리드 프레임 방식의 본딩과 비교해서 고가로 된다.(3) Since the bonding of the TAB method is used, it is expensive compared with the bonding of the lead frame method.

상기 일본공개특허 평 4-106941호에서는 반도체 소자의 주면과 인너리드의 상면을 동일 평면으로 하고 있기 때문에, 반도체 소자의 전극과 인너리드를 금속와이어에 의해 결선할 때, 금속 와이어의 정점부의 반도체 소자의 주면에서의 높이가 높게 되어 박형의 패키지가 얻어지지 않는다. 또한, 금속 와이어를 와이어 리버스 본딩에 의해 결선한다고 하여도 반도체 소자의 주면과 인너리드의 상면이 동일 평면에 있기 때문에, 패키지를 충분히 얇게 할 수 없다.In Japanese Patent Laid-Open No. 4-106941, since the main surface of the semiconductor element and the upper surface of the inner lead are coplanar, when the electrode and the inner lead of the semiconductor element are connected by metal wires, the semiconductor element is a semiconductor element. The height at the main surface of the film becomes high, and a thin package cannot be obtained. Further, even when the metal wires are connected by wire reverse bonding, the main surface of the semiconductor element and the upper surface of the inner lead are coplanar, so that the package cannot be made sufficiently thin.

또한, 상기 일본공개특허 평 3-261153호에서는 인너리드의 상면은 반도체 소자의 주면보다 위에 위치하기 때문에, 본딩 와이어 정점부의 반도체 소자의 주면에서의 높이(이하, 루우프 높이)가 높게되어 박형의 패키지가 얻어지지 않는다.In addition, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-261153, since the upper surface of the inner lead is located above the main surface of the semiconductor element, the height (hereinafter referred to as a "loop height") at the main surface of the semiconductor element of the bonding wire vertex becomes high, and thus a thin package. Is not obtained.

또한, 상기 일본공개특허 평 1-286342호에는 수지 테이프보다 두꺼운 다이패드부가 반도체 소자의 주면상에 있고, 또 인너리드의 상면은 반도체 소자의 주면보다도 위에 위치한다. 따라서, 루우프 높이가 높게되어 박형의 패키지가 얻어지지 않는다.Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 1-286342, the die pad portion thicker than the resin tape is on the main surface of the semiconductor element, and the upper surface of the inner lead is located above the main surface of the semiconductor element. Therefore, the loop height is high and a thin package cannot be obtained.

본 발명의 목적은 0.5㎜ 두께 정도의 TOC(Tape On Chip)형 등의 패키지의 박형 반도체 장치, 그것을 이용한 모듈구조체 및 그것을 기판에 실장하는 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a thin semiconductor device in a package such as a tape on chip (TOC) type having a thickness of about 0.5 mm, a module structure using the same, and a method of mounting the same on a substrate.

본 발명의 다른 목적은 리드 프레임을 이용한 아웃터리드 강도가 높은 0.5㎜ 두께 정도의 박형 반도체 장치, 그것을 이용한 모듈구조체 및 그것을 기판에 실장하는 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a thin semiconductor device of about 0.5 mm thickness having a high outstretch strength using a lead frame, a module structure using the same, and a method of mounting the same on a substrate.

본 발명의 일면에 의하면, 반도체 칩의 주변단부의 근방에 선단부가 배열 설치된 인너리드와, 상기 반도체 칩의 주면에 일부가 접착제로 부착된 절연막 테이프에서, 상기 절연막 테이프의 다른 부분이 상기 인너리드의 일부에 접착제로 부착되고, 상기 반도체 칩의 주면에 설치된 전극패드와 그것에 대응하는 상기 인너리드의 선단부를 전기적으로 접속하는 본딩 와이어와, 상기 반도체 칩, 인너리드, 전극패드, 절연막 테이프, 본딩 와이어를 밀봉(sealing)하는 모울드 수지를 구비하고, 상기 절연막 테이프의 두께는 상기 본딩 와이어의 상기 반도체 칩의 주면에서 그 정점까지의 높이 이하이고, 상기 본딩 와이어가 접속된 상기 인너리드의 선단부의 면은 상기 반도체 칩의 주면보다도 아래에 위치하며, 또 상기 인너리드는 상기 반도체 칩의 주면과 반대의 면과의 사이에 위치하는 박형 반도체 장치를 제공한다.According to one aspect of the present invention, an inner lead having an end portion arranged in the vicinity of a peripheral end portion of a semiconductor chip, and an insulating tape in which a part of the insulating film is attached with an adhesive to a main surface of the semiconductor chip, the other part of the insulating tape is formed of the inner lead. Bonding wires, which are attached to a portion of the semiconductor chip and electrically connected to the electrode pads provided on the main surface of the semiconductor chip, and the tip of the inner lead corresponding thereto, the semiconductor chip, inner lead, electrode pad, insulating film tape, and bonding wire And a thickness of the insulating tape, the thickness of the insulating tape being less than or equal to a height from the main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire, and the surface of the tip of the inner lead to which the bonding wire is connected is formed. Located below the main surface of the semiconductor chip, the inner lead is opposite to the main surface of the semiconductor chip It provides a thin type semiconductor device which is located between the side.

이와 같이, 칩 지지용의 상기 절연막 테이프의 두께는 상기 본딩 와이어의 상기 반도체 칩의 주면에서 그 정점까지의 높이 이하이고, 상기 본딩 와이어가 접속된 상기 인너리드의 선단부의 면은 상기 반도체 칩의 주면보다도 아래에 위치하며, 또 상기 인너리드는 상기 반도체 칩의 주면과 반대면과의 사이에 위치하기 때문에, 이웃터리드의 강도가 높은 0.5㎜ 두께 정도의 TOC(Tape On Chip)형 등의 패키지의 박형 반도체 장치를 얻을 수 있다.As such, the thickness of the insulating tape for supporting the chip is equal to or less than the height from the main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire, and the surface of the tip portion of the inner lead to which the bonding wire is connected is the main surface of the semiconductor chip. Since the inner lead is located between the main surface and the opposite surface of the semiconductor chip, the inner lead is placed in a package such as a tape on chip (TOC) type with a high strength of neighboring 0.5 mm thickness. A thin semiconductor device can be obtained.

본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 본딩 와이어의 구조가 볼 본딩법에 의한 볼측이 인너리드에 설치되고, 비볼측이 반도체 칩에 설치되어 있는 것에 의해, 본딩 와이어의 상측에 두꺼운 모울드 수지를 설치하는 것이 가능하기 때문에, 더 얇은 초박형 반도체 장치가 얻어진다.According to one embodiment of the present invention, a thick mold resin is provided on the upper side of the bonding wire by having the ball side by the ball bonding method in the structure of the bonding wire and the non-ball side in the semiconductor chip. Since it is possible to do so, a thinner ultra-thin semiconductor device is obtained.

본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 상기 절연막 테이프가 부착된 상기 인너리드의 일부는 상기 반도체 칩의 주면과 같은 면에 위치한다. 따라서, 절연막 테이프를 용이하게 인너리드에 부착할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, a part of the inner lead to which the insulating film tape is attached is located on the same surface as the main surface of the semiconductor chip. Therefore, the insulating film tape can be easily attached to the inner lead.

본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 상기 인너리드의 각각은 상기 모울드 수지의 상기 주면에 수직한 방향의 두께의 거의 중앙부에서 밖으로 연장하는 아웃터리드를 형성하고 있다. 따라서, 모울드 수지의 두께를 얇게 할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, each of the inner leads forms an outwardly extending outward from a substantially central portion of the thickness in the direction perpendicular to the main surface of the mold resin. Therefore, the thickness of the mold resin can be made thin.

본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 상기 아웃터리드의 각각은 상기 주면에 수직한 방향의 폭은 상기 모울드 수지의 상기 주면에 수직한 방향의 폭보다 크다. 따라서, 각 아웃터리드의 일부는 모울드 수지에서 돌출되기 때문에, 기판에의 납땜 부착시의 기판의 휘어짐 등이 생겨도 양호하게 납땜부착이 행해질 수 있다.According to one embodiment of the present invention, each of the outounds has a width in a direction perpendicular to the main surface than a width in a direction perpendicular to the main surface of the mold resin. Therefore, since a part of each outward protrusion protrudes from the mold resin, soldering can be performed satisfactorily even if the substrate is bent or the like during soldering to the substrate.

본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 상기 아웃터리드의 각각은 상기 모울드 수지에서 상기 주면에 거의 평행하게 연장된 제1부분과, 그 제1부분에서 상기 모울드 수지의 상기 주면에 거의 평행한 반대면의 한쪽으로 구부러진 제2부분과, 그 제2부분에서 상기 반대면의 한쪽과 거의 동일면을 이루도록 밖으로 연장된 제3부분과, 그 제3부분에서 상기 반대면의 다른쪽으로 구부러진 제4부분과, 그 제4부분에서 상기 반대면의 다른쪽과 거의 동일면을 이루게 안으로 연장된 제5부분을 가진다. 이와 같이, 아웃터리드를 만곡시켜서 아웃터리드의 칫수를 길게하고, 또 탄력성을 갖게 함으로써, 납땜 부착시 온도사이클에 의한 응력을 흡수할 수 있기 때문에, 실장부의 납땜에 균열이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, each of the outlets may include a first portion extending substantially parallel to the main surface in the mold resin, and an opposite surface substantially parallel to the main surface of the mold resin in the first portion. A second portion bent to one side of the second portion, a third portion extending outward so as to be substantially flush with one side of the opposite surface, and a fourth portion bent from the third portion to the other side of the opposite surface, The fourth portion has a fifth portion extending inward to be substantially flush with the other side of the opposite surface. In this manner, by bending the outwards to lengthen the dimension of the outwards and making them elastic, the stress caused by the temperature cycle during soldering can be absorbed, so that the cracks in the soldering of the mounting portion can be prevented. .

본 발명의 하나의 실시예에 의하면, 상기 아웃터리드의 각각은 그 외부 주위에 도금층을 가진다. 따라서, 납땜을 일괄해서 행할 수 있고, 특히 반도체 장치를 복수 적층한 경우에 납땜 공정을 한번에 행할 수 있기 때문에 조립공정을 대폭으로 감소할 수 있다.According to one embodiment of the present invention, each of the outounds has a plating layer around its outside. Therefore, soldering can be performed collectively, and in particular, in the case where a plurality of semiconductor devices are stacked, the soldering process can be performed at once, so that the assembly process can be significantly reduced.

본 발명의 다른 일면에 의하면, 반도체 칩의 주변단부의 근방에 선단부가 배열 설치된 인너리드와, 상기 반도체 칩의 주면에 일부가 접착제로 부착된 절연막 테이프에서, 상기 절연막 테이프의 다른 부분이 상기 인너리드의 일부에 접착제로 부착되고, 상기 반도체 칩의 주면에 설치된 전극패드와 그것에 대응하는 상기 인너리드의 선단부를 전기적으로 접속하는 본딩 와이어와, 상기 반도체 칩, 인너리드, 전극패드, 절연막 테이프, 본딩 와이어를 밀봉하는 모울드 수지를 구비하고, 상기 절연막 테이프의 두께는 상기 본딩 와이어의 상기 반도체 칩의 주면에서 그 정점까지의 높이 이하이고, 상기 인너리드의 각각은 모울드 수지에서 밖으로 연장되는 아웃터리드를 형성하며, 상기 인너리드의 각각은 상기 모울드 수지에서 상기 주면에 거의 평행하게 연장된 제1부분과, 그 제1부분에서 상기 모울드 수지의 상기 주면에 거의 평행한 반대면의 한쪽으로 구부러진 제2부분과, 그 제2부분에서 상기 반대면의 한쪽과 거의 동일면을 이루도록 밖으로 연장된 제3부분과, 그 제3부분에서 상기 반대면의 다른쪽으로 구부러진 제4부분과, 그 제4부분에서 상기 반대면의 다른쪽과 거의 동일면을 이루도록 안으로 연장된 제5부분을 가지는 박형 반도체 장치를 제공한다.According to another aspect of the present invention, an inner lead having an end portion arranged in the vicinity of a peripheral end portion of a semiconductor chip, and an insulating tape in which a portion of the insulating film is attached to the main surface of the semiconductor chip with an adhesive, wherein the other portion of the insulating tape is the inner lead. A bonding wire attached to a portion of the semiconductor chip and electrically connected to an electrode pad provided on a main surface of the semiconductor chip and an end portion of the inner lead corresponding thereto; the semiconductor chip, inner lead, electrode pad, insulating film tape, and bonding wire. And a mold resin for sealing the film, wherein the thickness of the insulating tape is equal to or less than a height from a main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire, and each of the inner leads forms an outward extending out of the mold resin. And each of the inner leads is opened substantially parallel to the main surface in the mold resin. An elongated first portion, a second portion bent to one side of the opposite side substantially parallel to the main surface of the mold resin at the first portion, and extending out to be substantially flush with one side of the opposite side at the second portion; A thin semiconductor device having a third portion, a fourth portion bent from the third portion to the other side of the opposite side, and a fifth portion extending inward from the fourth portion to be substantially flush with the other side of the opposite side; to provide.

이하, 도면을 참조해서 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

또, 실시예를 설명하기 위한 전체 도면에서 동일기능을 가지는 것은 동일부호를 붙여 그 반복설명은 생략한다.In addition, in the whole figure for demonstrating an embodiment, the same code | symbol is attached | subjected and the repeated description is abbreviate | omitted.

제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 TOC(tape On Chip) 패키지의 막형 반도체 장치의 평면도로서, 여기서는 그 구성을 설명하기 위해 상반분의 모울드 수지를 제거한 상태의 평면도를 나타낸다. 제2도 및 제3도는 각각 제1도의 Ⅱ-Ⅱ선, Ⅲ-Ⅲ선에 따라서 자른 도면이다.FIG. 1 is a plan view of a film type semiconductor device of a tape on chip (TOC) package according to a first embodiment of the present invention, and shows a plan view of a state in which the upper half of the mold resin is removed to explain the configuration. 2 and 3 are cut along the lines II-II and III-III of FIG. 1, respectively.

제1실시예의 박형 반도체 장치(TOC패키지)는 제1도 및 제2도에 나타낸 바와같이, 상기 반도체 칩(1)의 주변단부의 근방에 리드(2)의 인너리드(2A)의 선단부가 평면 형상으로 배열 설치되어 있다. 그리고, 상기 반도체 칩(1)의 주면에 스트라이프 형상의 절연막 테이프(3)의 일부가 접착제(4)로 부착되고, 그 절연막 테이프(3)의 다른부분이 인너리드(2A)중 몇갠가에 또는 지지리드(5)가 설치되어 있는 경우는 예를들면 적어도 그 하나에 접착제(4)로 부착되어 있다. 상기 반도체 칩(1)의 주면에 설치되어 있는 전극패드(1A)와 대응하는 인너리드(2A)의 선단부가 본딩 와이어(6)로 각각 전기적으로 접속되고, 이들이 모울드 수지(7)로 밀봉되어 있는 구조로 되어 있다.In the thin semiconductor device (TOC package) of the first embodiment, as shown in FIGS. 1 and 2, the tip of the inner lead 2A of the lead 2 is planar in the vicinity of the peripheral end of the semiconductor chip 1. It is arranged in a shape. A portion of the stripe-shaped insulating tape 3 is attached to the main surface of the semiconductor chip 1 with an adhesive 4, and another portion of the insulating tape 3 is attached to some of the inner leads 2A or the like. When the support lead 5 is provided, it is attached to the at least one with the adhesive agent 4, for example. The tip portions of the electrode pads 1A provided on the main surface of the semiconductor chip 1 and the corresponding inner leads 2A are electrically connected to the bonding wires 6, respectively, and these are sealed with the mold resin 7. It is structured.

또한, 반도체 칩(1)을 지지하기 위한 상기 절연막 테이프(3)는 모울드시에 반도체 칩이 비틀리거나(경사지거나) 움직이거나 하지 않도록, 바람직하게는 4점 이상으로 또는 적어도 3점으로 인너리드(2A)를 지지한다. 단, 4점으로 지지하는 경우는 제4도에 점선으로 나타난 바와 같이, 예를들면 +자형상의 절연막 테이프(3)를 이용하고, 그 4개의 선단부에서 인너리드를 지지해도 좋고, 또, 3점으로 지지하는 경우는 제4도에 실선으로 나타낸 바와같이, 예를 들면 T자형상의 절연막 테이프를 이용해서 그 3개의 선단부로 인너리드를 지지해도 좋다. 이 경우, 적어도 하나의 지지리드(5)가 설치되어 있는 경우는 상기 절연 테이프의 적어도 하나의 선단부에서 지지리드를 지지해도 좋다.In addition, the insulating tape 3 for supporting the semiconductor chip 1 is preferably at least four points or at least three points such that the semiconductor chip is not twisted (tilted) or moved during the mold. Support 2A). However, when supporting at four points, as shown by the dotted line in FIG. 4, for example, the inner lead may be supported at the four leading ends by using a + -shaped insulating tape 3, and at three points. The inner lead may be supported by the three leading ends thereof, for example, using a T-shaped insulating tape, as shown by the solid line in FIG. In this case, when at least one support lead 5 is provided, the support lead may be supported by at least one tip of the insulating tape.

상기 절연막 테이프(3)로서는, 예를들면 폴리이미드계 수지가 사용되고, 접착제(4)로서는, 예를들면 폴리이미드계 수지 또는 에폭시계 수지가 사용된다. 그리고, 절연막 테이프(3)의 두께는 반도체 칩(1)의 주면에서 상기 본딩 와이어(6)의 정점부까지의 높이(이하, 루우프 높이라고 한다) 이하의 두께이고, 예를들면 제2도에 나타난 바와같이, 접착제(4)의 두께도 포함해서 0.05㎜이다. 상기 절연막 테이프(3) 이외의 각부의 두께 치수는, 예를들면 모울드 수지(7)의 하면에서 반도체 칩(1)까지의 두께 0.10㎜, 반도체 칩(1)의 두께 0.28㎜, 반도체 칩(1)의 주면에서 모울드 수지(7)의 상면까지의 두께 0.12㎜이고, 실장기판면과 모울드 수지(7)의 하면과의 간격은 0.03㎜이다.As the insulating film tape 3, for example, a polyimide resin is used, and as the adhesive agent 4, for example, a polyimide resin or an epoxy resin is used. The thickness of the insulating film tape 3 is equal to or less than a height (hereinafter referred to as a loop height) from the main surface of the semiconductor chip 1 to the apex of the bonding wire 6, for example, in FIG. 2. As shown, the thickness of the adhesive agent 4 is also 0.05 mm. The thickness of each part other than the insulating film tape 3 is, for example, 0.10 mm in thickness from the bottom surface of the mold resin 7 to the semiconductor chip 1, 0.28 mm in thickness of the semiconductor chip 1, and the semiconductor chip 1. Is 0.12 mm in thickness from the main surface of the mold) to the top surface of the mold resin 7, and the distance between the mounting substrate surface and the bottom surface of the mold resin 7 is 0.03 mm.

상기 모울드 수지(7)는, 예를들면 저응력화를 도모하기 위해 페놀계 경화제, 실리콘 고무 및 필러(filler)가 첨가된 에폭시계 수지를 사용한다.The mold resin 7 uses, for example, an epoxy resin to which a phenolic curing agent, a silicone rubber, and a filler are added in order to achieve low stress.

상기 본딩 와이어(6)의 본딩은 볼 본딩법을 이용해서, 본딩 와이어(6)의 볼측이 인너리드(2A)에 설치되고, 비볼측이 반도체 칩(1)에 설치되어 있다. 이와같이 역본딩하는 것에 의해 본딩 와이어(6)상의 모울드 수지(7)의 양이 많게 되기 때문에, 동일한 두께라면 신뢰성 향상이 도모되고, 또 신뢰성의 점에서 문제가 되면, 본딩 와이어(6)상의 모울드 수지(7)의 양을 감소시킬수 있기 때문에, 더 얇게 하는 것이 가능하다. 따라서, 이와 같이 역본딩으로 하는가, 통상 본딩으로 하는가는 반도체 장치의 두께의 요구에 응해서 선택하면 좋다.The bonding of the said bonding wire 6 is a ball bonding method, the ball side of the bonding wire 6 is provided in the inner lead 2A, and the non-ball side is provided in the semiconductor chip 1. Since the amount of the mold resin 7 on the bonding wire 6 is increased by the reverse bonding in this way, if the same thickness is achieved, the reliability is improved, and if the problem is a problem in terms of reliability, the mold resin on the bonding wire 6 is Since the amount of (7) can be reduced, it is possible to make it thinner. Therefore, the reverse bonding or the normal bonding may be selected in accordance with the thickness demand of the semiconductor device.

또한, 제2도에서 명백해진 바와 같이 인너리드의 본딩면은 반도체 칩의 주면보다 아래에 위치하고, 인너리드의 상기 본딩면과 반대의 면(面)은 반도체 칩의 주면과 반대의 면 이상에 위치하고 있다. 이것에 의해 상기 루우프 높이를 보다 낮게 할 수 있고, 또한 본딩 와이어의 길이를 보다 짧게 할 수 있다.Further, as evident in FIG. 2, the bonding surface of the inner lead is located below the main surface of the semiconductor chip, and the surface opposite to the bonding surface of the inner lead is located above the surface opposite to the main surface of the semiconductor chip. have. As a result, the roof height can be made lower, and the length of the bonding wire can be made shorter.

또한, 인너리드중 절연막 테이프(3)가 부착되어 있는 것의 선단부분은 구부러지고, 제3도에 나타낸 바와 같이, 반도체 칩의 주면과 같은 높이로 되어 있기 때문에 절연막 테이프의 부착이 쉽다.Further, the tip portion of the inner lead having the insulating film 3 attached thereto is bent, and as shown in FIG. 3, the insulating film tape is easily attached since the tip portion is flush with the main surface of the semiconductor chip.

또, 리드는 제2도에 나타낸 바와같이 모울드 수지, 즉 패키지의 두께방향의 거의 중앙부에서 돌출하고 있다.Further, as shown in FIG. 2, the lead protrudes from the mold resin, i.e., almost the center portion in the thickness direction of the package.

또, 아웃터리드(2B)는 패키지의 두께방향의 거의 중앙부에서 반도체 칩의 주면에 거의 평행하게 돌출한 부분(2B1)과, 그 후(後)주면측으로 구부러진 부분(2B2)과, 그 후주면측의 패키지 표면과 거의 동일면을 이루는 부분(2B3)과, 그 후(後)반도체 칩의 주면과 반대측으로 구부러져 거의 주면과 수직을 이루는 면(2B4)과, 그후 패키지로 향해서 주면과 반대측의 면측의 패키지 표면과 거의 같은 높이를 이루는 부분(2B5)으로 형성된다. 또한, 바람직하게는 그 부분(2B5)의 하면은 모울드 수지(패키지)의 하면에 대해서 약 0.3㎜ 돌출하고 있다. 이것에 의해, 그 반도체 장치의 기판으로의 실장시의 납땜시에 기판이 휘어지거나 구부러져도 그 부분(2B5)을 기판에 확실하게 납땜할 수 있다.The outer 2B includes a portion 2B1 protruding substantially parallel to the main surface of the semiconductor chip at a substantially center portion in the thickness direction of the package, a portion 2B2 bent to the main surface side thereafter, and a rear surface side thereof. Part 2B3 almost flush with the surface of the package, the surface 2B4 nearly bent perpendicularly to the main surface of the semiconductor chip, and then perpendicular to the main surface, and then packaged on the side opposite to the main surface toward the package. It is formed of the part 2B5 which becomes substantially the same height as the surface. Further, preferably, the lower surface of the portion 2B5 protrudes about 0.3 mm from the lower surface of the mold resin (package). Thereby, the part 2B5 can be reliably soldered to the board | substrate even if a board | substrate is bent or bent at the time of soldering at the time of the mounting of the semiconductor device to the board | substrate.

또, 제9도 및 제11도와 같은 반도체 장치를 기판상에 납땜해서 상방에 적층한 경우에는, 아웃터리드(2B)의 면(2B4)은 주면과 거의 수직을 이를 필요는 없고, 주면에 수직한 면보다 기울어도 좋다.In the case where the semiconductor devices shown in FIGS. 9 and 11 are soldered onto a substrate and stacked upward, the surface 2B4 of the outlier 2B does not need to be substantially perpendicular to the main surface, and is perpendicular to the main surface. You may tilt it more than the face.

또한, 아웃터리드(2B)는 제2도와 대칭적으로 패키지의 두께방향의 거의 중앙에서 반도체 칩의 주면측으로 구부러지도록 형성해도 좋다(제6도 참조). 이와같은 아웃터리드를 여기서는 역(逆)구부러짐의 아웃터리드라고 하고, 제2도의 것을 정(正)구부러짐의 아웃터리드라고 한다.The outlier 2B may be formed to be bent toward the main surface side of the semiconductor chip symmetrically with FIG. 2 in the thickness direction of the package symmetrically (see FIG. 6). Such an outlier is referred to herein as an outward bent outward, and the second one is called an outwardly bent outward.

이와 같이 아웃터리드(2B)를 거의 J밴드 형상으로 만곡시키고 있기 때문에 아웃터리드(2B)의 전체 길이를 길게하고, 또 탄력성을 갖게 할 수 있다. 이와 같이 구성으로 하는 것에 의해, 아웃터리드(2B)의 탄력성에 의해 기판 실장시의 납땜시 등의 온도사이클에 의한 응력을 흡수하기 때문에, 실장 기판상의 배선패드와의 접속부의 납땜에 균열이 발생하는 것을 방지할 수 있다.In this manner, since the bent 2B is curved in a nearly J-band shape, the entire length of the beaded 2B can be lengthened and elasticity can be provided. In this configuration, since the elasticity of the outer 2B absorbs the stress caused by the temperature cycle during soldering at the time of mounting the substrate, cracking occurs in the soldering of the connecting portion with the wiring pad on the mounting substrate. Can be prevented.

상기 인너리드(2A), 아웃터리드(2B)의 각각은 절단성형 공정 전에 있어서 리드 프레임에 일체로 구성된다. 이 리드 프레임은, 예를들면 Fe-Ni(예를들면 Ni 함유율 42 또는 50%[5])합금, Cu 등으로 형성된다.Each of the inner lead 2A and the outer lead 2B is integrally formed with a lead frame before the cutting process. The lead frame is made of, for example, a Fe-Ni (eg Ni content 42 or 50% [5]) alloy, Cu, or the like.

다음에, 본 실시예의 박형 반도체 장치의 조립공정을 간단히 설명한다.Next, the assembly process of the thin semiconductor device of this embodiment will be briefly described.

상기 본 실시예의 박형 반도체 장치의 조립공정은 다음의 공정순으로 행한다.The assembling process of the thin semiconductor device of the present embodiment is performed in the following process order.

(1) 리드 프레임의 인너리드(2A)의 몇개에 절연막 테이프(3)를 열가소성 접착제(4)에 의해 부착 고정한다.(1) The insulating tape 3 is attached and fixed to some of the inner leads 2A of the lead frame by the thermoplastic adhesive 4.

(2) 상기 절연막 테이프(3)에 반도체 칩(1)을 열가소성 접착제(4)에 의해 부착 고정한다(펠릿부착).(2) The semiconductor chip 1 is fixed to the insulating film tape 3 by the thermoplastic adhesive 4 (with a pellet).

(3) 하부 베이스를 진공으로 해서 반도체 칩(1)을 고정하고, 와이어 본딩을 행한다.(3) The semiconductor chip 1 is fixed by making the lower base into a vacuum, and wire bonding is performed.

(4) 전체를 수지(레진)으로 모울드해서 밀봉한다.(4) The whole is molded with resin (resin) and sealed.

(5) 각 아웃터리드(2B)에 납땜 도금처리를 행하고, 아웃터리드의 예를들면 전체 두께 약 10㎛의 납땜 도금층(도시되지 않음)을 설치한다.(5) A solder plating treatment is performed on each of the outlets 2B, and for example, a solder plating layer (not shown) having a total thickness of about 10 μm is provided.

(6) 리드 프레임에서 아웃터리드(2B)의 절단 가공을 행한다.(6) The lead frame 2B is cut in the lead frame.

(7) 각 아웃터리드(2B)를 상기와 같은 거의 J밴드 형상으로 성형 가공한다. 이 가공의 공수는 5공정이다.(7) Each outward 2B is molded into a substantially J band shape as described above. This process is 5 steps.

(8) 마크를 부착, 선별을 행한다.(8) A mark is attached and sorted.

이상의 설명에서 알 수 있는 바와 같이, 본 실시예에 의하면, 리드로서 리드 프레임을 사용하고 있기 때문에, 아웃터리드(2B)의 강도를 강하게 할 수 있다.As can be seen from the above description, according to the present embodiment, since the lead frame is used as the lead, the strength of the output 2B can be strengthened.

또, 반도체 칩(1)의 주면에 절연막 테이프(3)의 일부가 접착제(4)로 부착되고, 그 절연막 테이프(3)의 다른부분이 인너리드(2A)의 몇갠가에 혹은 지지리드(5)에 접착제(4)로 부착되며, 상기 반도체 칩(1)의 주면에 설치되어 있는 전극패드(1A)와 인너리드(2A)의 선단부가 본딩 와이어(6)로 전기적으로 접속되고, 모울드 수지(7)로 밀봉되며, 상기 절연막 테이프(3)의 두께를 본딩 와이어(6)의 루우프 높이 이하로 하고 있기 때문에, 0.5㎜ 두께 정도의 TOC 패키지의 박형 반도체 장치를 얻을 수 있다.In addition, a part of the insulating film 3 is attached to the main surface of the semiconductor chip 1 with an adhesive agent 4, and another part of the insulating film 3 is attached to the inner lead 2A or the supporting lead 5. ), The tip of the electrode pad 1A and the inner lead 2A provided on the main surface of the semiconductor chip 1 are electrically connected to the bonding wire 6, and the mold resin ( 7), the thickness of the insulating film tape 3 is less than or equal to the loop height of the bonding wire 6, so that a thin semiconductor device of a TOC package having a thickness of about 0.5 mm can be obtained.

또, 와이어 본딩은 볼 본딩법을 이용하여 본딩 와이어(6)의 볼측이 인너리드(2A)에 설치되고, 비볼측이 반도체 칩(1)에 설치되어 있는 역본딩 와이어 구조로 되어 있다. 또, 인너리드의 본딩면은 반도체 칩의 주면보다 아래에 위치하고 있는 것에 의해 본딩 와이어(6)의 상측에 설치되는 모울드 수지를 감소시킬수 있기 때문에, 더 얇은 초박형 반도체 장치를 얻을 수 있다.The wire bonding has a reverse bonding wire structure in which the ball side of the bonding wire 6 is provided on the inner lead 2A and the non-ball side is provided on the semiconductor chip 1 using the ball bonding method. In addition, since the bonding surface of the inner lead is located below the main surface of the semiconductor chip, the mold resin provided on the upper side of the bonding wire 6 can be reduced, whereby a thinner ultra-thin semiconductor device can be obtained.

또, 아웃터리드(2B)를 상기 부분(2B2)을 갖도록 만곡시켜서 아웃터리드(2B)의 전체 길이를 길게하고, 또 탄력성을 갖게 함으로써 온도사이클에 의한 응력을 흡수할 수 있기 때문에, 실장부의 납땜에 균열이 발생하는 것을 방지할 수 있다.Further, by bending the outer 2B to have the above-described portion 2B2 to lengthen the entire length of the outer 2B and making it elastic, the stress caused by the temperature cycle can be absorbed. Cracks can be prevented from occurring.

또, 상기 실시예에서, 제5도에 나타낸 바와 같이, 상기 반도체 칩(1)의 주면에 알루미늄박(10) 등의 광입사 차단수단을 설치하거나 혹은 제6도를 나타낸 바와 같이 반도체 칩(1)의 주면이 실장기판(11)에 대향하도록 실장해서 반도체 칩(1)의 주면으로의 광입사를 차단하도록 한다. 이와 같은 광입사 차단수단을 설치하는 것에 의해, 반도체 칩(1)의 주면으로의 광입사를 방지할 수 있기 때문에, 초박형 반도체 장치에서도 광에 의한 데이터 리텐션(retension) 등의 특성 열화를 방지할 수 있다.In the above embodiment, as shown in FIG. 5, light incidence blocking means such as aluminum foil 10 is provided on the main surface of the semiconductor chip 1, or as shown in FIG. ) Is mounted so as to face the mounting substrate 11 so as to block light incidence to the main surface of the semiconductor chip 1. Since light incidence to the main surface of the semiconductor chip 1 can be prevented by providing such light incidence blocking means, deterioration of characteristics such as data retention due to light can be prevented even in an ultra-thin semiconductor device. Can be.

제7도는 본 발명의 제2실시예의 적층체의 구성을 설명하기 위한 주요부 단면도이다.7 is a cross-sectional view of an essential part for explaining the structure of a laminate according to a second embodiment of the present invention.

본 실시예의 적층체는 제7도에 나타낸 바와 같이, 상기 제1실시예의 TOC 패키지의 박형 반도체 장치를 2단으로 포개진 구조로 되어 있다.As shown in Fig. 7, the laminate of the present embodiment has a structure in which the thin semiconductor device of the TOC package of the first embodiment is stacked in two stages.

이 실시예의 메모리 장치에 있어서는, 양 반도체 장치 모두 본딩 와이어(6)의 볼측이 인너리드(2A)로 설치되고, 비볼측이 반도체 칩(1)에 설치되어 있는 역본딩 와이어로 되어 있지만, 하단의 박형 반도체 장치의 본딩 와이어(6)는 역본딩 와이어 구조로 하고, 상단의 박형 반도체 장치의 본딩 와이어(6)는 통상 본딩 와이어 구조로 해도 좋다.In the memory device of this embodiment, in both semiconductor devices, although the ball side of the bonding wire 6 is provided with the inner lead 2A and the non-ball side is the reverse bonding wire provided with the semiconductor chip 1, The bonding wire 6 of the thin semiconductor device may have a reverse bonding wire structure, and the bonding wire 6 of the upper thin semiconductor device may have a bonding wire structure.

이상의 설명에서 알 수 있는 바와 같이 본 실시예에 의하면, 초박형 반도체 장치를 포개 합쳐도 1㎜ 정도로 얇은 대용량의 메모리 장치를 얻을 수 있다.As can be seen from the above description, according to the present embodiment, a large-capacity memory device as thin as 1 mm can be obtained even when the ultra-thin semiconductor devices are stacked together.

또한, 본 실시예에서는 2단의 반도체 장치를 적층한 구조의 적층체에 대해서 설명하였지만, 또 다단으로 적층한 구조의 적층체로 할 수 있는 것은 용이하게 예측할 수 있다.In addition, although the laminated body of the structure which laminated | stacked the two-stage semiconductor device was demonstrated in this Example, what can be made into the laminated body of the structure laminated | stacked in multiple stages can be easily estimated.

또한, 적층체로서는 제5도에 나타낸 반도체 장치를 다단으로 적층하여도 좋다.In addition, as a laminated body, you may laminate | stack the semiconductor device shown in FIG. 5 in multiple stages.

다음에, 상기 각 실시예의 반도체 장치 및 적층체를 기판에 실장해서 모듈구조체를 구성하는 방법에 대해서 설명한다. 먼저, 제1실시예 또는 제5도의 반도체 장치, 여기서는 예를들면 제1실시예의 반도체 장치를 기판에 실장하는 방법에 대해서 제8도를 참조해서 설명한다.Next, a method of configuring a module structure by mounting the semiconductor device and the laminated body of each of the above embodiments on a substrate will be described. First, a method of mounting the semiconductor device of the first embodiment or the fifth embodiment, for example, the semiconductor device of the first embodiment, on a substrate will be described with reference to FIG.

(1) 우선, 프린트 기판(1)의 면(L)중, 반도체 장치 또는 반도체 패키지의 아웃터리드(2B)의 M부(2B5의 외부 표면)에 대응하는 부분에 납땜 페이스트를 도포한다.(1) First, a solder paste is applied to a portion of the surface L of the printed board 1 corresponding to the M portion (outer surface of 2B5) of the semiconductor device or the outer package 2B of the semiconductor package.

(2) 반도체 장치를 프린트 기판에 탑재하고, 납땜(예를들면, 리플로우 납땜)을 행한다. 이렇게해서 반도체 장치를 기판에 실장한다.(2) The semiconductor device is mounted on a printed board and soldered (for example, reflow soldering). In this way, the semiconductor device is mounted on a substrate.

다음에, 반도체 장치를 2단으로 적층하는 경우에 대해서 제9도를 참조해서 설명한다.Next, a case where the semiconductor device is stacked in two stages will be described with reference to FIG.

(1) 우선, 상기와 같은 기판에 실장된 반도체 장치(A)의 아웃터리드(2B)의 N부(2B3의 외부 표면)에 납땜 페이스트를 도포한다.(1) First, a solder paste is applied to the N portion (outer surface of 2B3) of the outlet 2B of the semiconductor device A mounted on the substrate as described above.

(2) 그후, 다른 반도체 장치(B)를 반도체 장치(A)의 위에 탑재하고, 납땜을 행한다. 이와 같은 공정을 반목해서 행하는 것에 의해 반도체 장치를 2단 이상 기판상에 적층하는 것이 가능하게 된다. 또한, 반도체 장치(A)의 위에 반도체 장치(B)를 탑재해서 N부를 납땜한 후에 이들을 일체화 된 반도체 장치를 기판에 실장하도록 해도 좋다.(2) Then, the other semiconductor device B is mounted on the semiconductor device A, and soldered. By performing such a process in opposition, it becomes possible to laminate | stack a semiconductor device two or more steps on a board | substrate. In addition, after mounting the semiconductor device B on the semiconductor device A and soldering the N part, the semiconductor device in which these are integrated may be mounted on a substrate.

다음에, 반도체 장치로서 제10도에 나타낸 바와 같이, 예를들어 그 아웃터리드의 전체에 두께가 예를들면 20㎛인 납땜 도금층(12A,12B)을 설치한 것의 기판으로의 실장방법에 대해서 설명한다. 이 경우, 기판에 반도체 장치를 제10도와 같이 탑재하고, 그후, 납땜 도금층이 녹을 수 있을 정도의 온도(예를들면 195℃ 이상)로 가열하는 것으로 M부의 도금층이 녹아서 납땜이 행해진다. 또한, 납땜 도금층의 두께는 아웃터리드의 성형이 용이하게 행해지도록 20㎛정도가 바람직하다.Next, as a semiconductor device, as shown in FIG. 10, for example, the mounting method on the substrate of the solder plating layers 12A and 12B having a thickness of, for example, 20 mu m in the entirety of the outer portion will be described. do. In this case, the semiconductor device is mounted on the substrate as shown in FIG. 10, and then heated to a temperature (for example, 195 ° C. or higher) at which the solder plating layer can be melted so that the plating layer of the M portion is melted and soldered. In addition, the thickness of the solder plating layer is preferably about 20 μm so that the formation of the outlier is easily performed.

이와 같은 납땜 도금층이 설치된 반도체 장치를 2단으로 적층하는 경우에 대해서 설명한다. 이 경우 제11도에 나타낸 바와 같이, 2개의 반도체 장치를 기판(11)의 위에 2단으로 탑재하고, 그후 상기 온도르 가열하는 것으로 N부, M부의 납땜 도금층이 녹아서 납땜이 이루어진다. 이와 같은 방법에 있어서는, 반도체 장치의 단수(段數)에 관계없이 납땜의 공정을 1회로 끝낼 수 있다. 또한, 반도체 장치를 적층할 때, 반도체 장치를 기판에 탑재한 후 190℃ 정도로 예비가열을 행해서 납땜 도금층을 약간 녹이고, 이들 반도체 장치와 기판들을 고정한 후, 195 ℃ 이상으로 가열하도록 해도 좋다.The case where the semiconductor device provided with such a solder plating layer is laminated | stacked in two stages is demonstrated. In this case, as shown in FIG. 11, two semiconductor devices are mounted on the substrate 11 in two stages, and then heated at the above temperature, whereby the solder plating layers of the N and M portions are melted and soldered. In such a method, the soldering process can be completed in one step regardless of the number of stages of the semiconductor device. In addition, when laminating a semiconductor device, after mounting a semiconductor device on a board | substrate, preheating about 190 degreeC may melt | dissolve a solder plating layer slightly, and after fixing these semiconductor devices and board | substrates, you may make it heat above 195 degreeC.

또한, 반도체 장치로서 DRAM 등의 반도체 기억장치를 2단 적층한 경우에는, 칩 셀렉터용의 리드핀이 각 반도체 장치에 대해서 2개 증가된다(추가한다). 따라서, 메모리로서 상기 각 실시예의 반도체 장치를 N단 적층한 경우에는 칩 셀렉터용의 리드핀이 각 반도체 장치에 대해서 N개 증가한다.In the case where two stages of semiconductor memory devices such as DRAM are stacked as semiconductor devices, two lead pins for the chip selector are increased (added) to each semiconductor device. Therefore, when N semiconductor devices of the above embodiments are stacked as a memory, N lead pins for the chip selector are increased for each semiconductor device.

또한, 상기한 바와 같이 제10도, 제11도를 제외한 제2도, 제3도, 제5도∼제9도에서도 제10도, 제11도에 나타낸 바와 같이 각 아웃터리드에 약 10㎛의 두께로 도금층이 설치되어 있는 것이 도시 생략되어 있다.As described above, as shown in FIGS. 2, 3, 5 to 9, 10, and 11 except for FIG. It is omitted from the illustration in which the plating layer is provided at a thickness.

또한, 각 실시예에 있어,서 각 아웃터리드의 도금층은 아웃터리드의 납땜이 행해지는 부분에만 설치해도 좋고, 또 외측(예를들면 제10도의 예에서는 12B)에만 설치해도 좋다.In each of the embodiments, the plating layer of each of the outliers may be provided only at the portion where the outward soldering is performed, or may be provided only at the outer side (for example, 12B in the example of FIG. 10).

또한, 각 실시예에 있어서서, 각 인너리드의 본딩이 이루어진 부분에는 제10도, 제11도에 나타낸 바와 같은 은(銀)도금층(12C)이 설치되어 있다.In each embodiment, the silver plating layer 12C as shown in Figs. 10 and 11 is provided in the portion where the inner leads are bonded.

다음에 상기 실시예의 반도체 장치를 고밀도로 기판에 실장한 모듈구조체의 몇개의 실시예에 대해서 설명한다.Next, some embodiments of the module structure in which the semiconductor device of the above embodiment is mounted on a substrate with high density will be described.

제12도는 복수단, 예를들면 2단으로 적층한 반도체 장치를 횡(橫)으로 복수 열, 예를들면 2열로 배치한 모듈구조체의 실시예이다. 2열중 한쪽 열의 반도체 장치(A),(B)는 제9도 또는 제11도에 나타낸 바와 같이 정(正)구부러짐의 아웃터리드를 가지고, 다른쪽 열의 반도체 장치(C),(D)는 제6도에 나타낸 바와같이 역(逆)구부러짐의 아웃터리드를 가진다. 이 경우, 반도체 장치(A),(B)의 아웃터리드와 그것에 대향하는 반도체(C),(D)의 아웃터리드의 핀번호는, 예를들면 모두 1pin∼10pin으로 동일하게 된다. 따라서, 예를들면 반도체 장치(A),(B)의 1pin과 반도체 장치(C),(D)의 1pin을 연결할 때의 배선길이를 짧게 할 수 있고, 따라서 노이즈를 감소할 수 있음과 동시에 데이터의 고속화 처리가 가능하게 된다. 또, 반도체 장치의 고밀도 실장이 가능하게 되고, 따라서 종래와 동일한 공간에서 메모리 용량을 크게할 수 있다.12 is an embodiment of a modular structure in which semiconductor devices stacked in multiple stages, for example, two stages, are arranged in multiple rows, for example, two rows. The semiconductor devices A and B in one of the two rows have positively bent outwards as shown in FIG. 9 or 11, and the semiconductor devices C and D in the other row are As shown in Fig. 6, it has an outward bend outward. In this case, the pin numbers of the outliers of the semiconductor devices A and B and the outliers of the semiconductors C and D facing the same are, for example, 1 pin to 10 pin. Therefore, for example, the wiring length when connecting 1 pin of the semiconductor devices A and B and 1 pin of the semiconductor devices C and D can be shortened, thereby reducing noise and simultaneously reducing data. This speeds up the processing. In addition, high-density mounting of the semiconductor device becomes possible, and therefore the memory capacity can be increased in the same space as in the prior art.

다음에, 이와 같은 모듈구조체의 조립방법에 대해서 설명한다. 우선, 각 반도체 장치의 아웃터리드가 제8도, 제9도와 같은 통상의 것인 경우에 대해서 기술한다.Next, a method of assembling such a module structure will be described. First, the case where the outdent of each semiconductor device is a normal thing like FIG. 8, FIG. 9 is demonstrated.

하나의 방법으로서,우선 제9도의 적층체의 조립방법과 같이 한쪽 열의 반도체 장치(A),(B)끼리를 납땜하고, 그후 같은 방법으로 다른쪽 열의 반도체 장치(C),(D)끼리를 납땜하며, 이들 2열의 적층체를 기판(11)에 납땜함과 동시에 2열의 반도체 장치의 서로 대향하는 아웃터리드의 면(2B4)끼리를 납땜한다. 이 경우는, 그 아웃터리드의 제8도의 면(P)부에 납땜 페이스트를 도포해서 납땜을 행한다.As one method, first, the semiconductor devices A and B in one row are soldered as in the assembly method of the laminate of FIG. 9, and then the semiconductor devices C and D in the other row are Soldering is performed to solder these two rows of laminates to the substrate 11, and at the same time, two surface rows of the semiconductor devices 2B4 facing each other. In this case, a solder paste is applied to the surface P of FIG. 8 of the outward solder.

또, 다른 방법으로서, 반도체 장치(B),(D)를 기판에 납땜한 후에, 반도체 장치(A),(C)를 각각 반도체 장치(B),(D)의 위에 적층하여 납땜하도록 해도 좋다.Alternatively, after soldering the semiconductor devices B and D to the substrate, the semiconductor devices A and C may be laminated and soldered onto the semiconductor devices B and D, respectively. .

한편, 각 반도체 장치의 아웃터리드가 제10도에 나타낸 바와 같이 납땜 도금층(12A,12B)을 가지고 있는 경우는, 제11도의 실시예와 같이 전체의 반도체 장치(A)∼(D)를 제12도와 같이 배치한 후에 일괄해서 납땜을 행할 수 있다.On the other hand, when the outward of each semiconductor device has the solder plating layers 12A and 12B as shown in Fig. 10, the entire semiconductor devices A to D are made as in the embodiment of Fig. 11 as shown in Fig. 11. After arranging together with a tile, soldering can be performed collectively.

또한, 제12도의 실시예에서는 2층으로 적층된 적층체를 2열로 배치하였지만, 1층의 반도체 장치를 횡방향으로 복수열 배치한 것에 본 실시예를 적용해도 좋고, 그 경우는 정구부러짐, 역구부러짐의 아웃터리드를 가진 반도체 장치를 교대로 배치하면 좋다. 또,3개 이상의 반도체 장치를 적층한 적층체를 복수열 배치한 경우에도 본 실시예는 적용할 수 있고, 그 경우도 정구부러짐, 역구부러짐의 아웃터리드를 가진 적층체를 교대로 횡방향으로 배치하면 좋다.In addition, although the laminated body laminated | stacked in two layers was arrange | positioned in two rows in the Example of FIG. 12, you may apply this Example to having arrange | positioned multiple rows of the semiconductor device of one layer, and in that case, it may be a ball | bowl inverse. It is good to alternately arrange the semiconductor device which has a bent outward. The present embodiment can also be applied to a case where a plurality of stacks of three or more semiconductor devices are stacked, and in this case, a stack having an outward bent or reversed bend is alternately arranged laterally. Do it.

제13도는 복수단, 예를들면 4단으로 적층한 반도체 장치를 종으로 복수열, 예를들면 2열로 배치된 모듈구조체의 실시예이다. 2열의 적층체의 각 반도체 장치(A)∼(D), (E)∼(H)의 아웃터리드는 기판(21,31)에 납땜된다. 바람직하게는, 각 반도체 장치(A)∼(D), (E)∼(H)의 아웃터리드는 전부 정구부러짐 또는 역 구부러짐이다. 이 경우, 반도체 장치(A)∼(E)의 아웃터리드의 1pin∼10pin이 반도체 장치(E)∼(H)의 아웃터리드의 1pin∼10pin과 동일기판, 예를들면 기판(31)에 납땜되도록 하면, 예를들면 반도체 장치(A)∼(D)의 1pin과 반도체 장치(E)∼(H)의 1pin을 연결할 때의 배선길이를 짧게 할 수 있다. 따라서, 제12도의 실시예와 같이, 노이즈를 저감할 있음과 동시에 데이터의 고속화 처리가 가능하게 된다. 또한, 반도체 장치의 고밀도 실장이 가능하게 되고, 따라서 종래와 동일한 공간에서 메모리 용량을 크게 할 수 있다.FIG. 13 shows an embodiment of a module structure in which semiconductor devices stacked in multiple stages, for example four stages, are arranged in multiple rows, for example, two rows. Each of the semiconductor devices (A) to (D) and (E) to (H) of the two rows of stacked bodies is soldered to the substrates 21 and 31. Preferably, all the outliers of each of the semiconductor devices (A) to (D) and (E) to (H) are tennis bent or reverse bent. In this case, 1 pin to 10 pins of the outliers of the semiconductor devices A to E are soldered to the same substrate, for example, the substrate 31, as 1 pin to 10 pins of the outlets of the semiconductor devices E to H. For example, the wiring length when connecting 1 pin of the semiconductor devices A to D and 1 pin of the semiconductor devices E to H can be shortened. Therefore, as in the embodiment of Fig. 12, the noise can be reduced and the data can be speeded up. In addition, high-density mounting of the semiconductor device becomes possible, and therefore the memory capacity can be increased in the same space as in the prior art.

다음에, 이와 같은 모듈구조체의 조립방법에 대해서 설명한다. 우선, 각 반도체 장치의 아웃터리드가 제8도, 제9도와 같이 통상의 것인 경우에 대해서 기술한다.Next, a method of assembling such a module structure will be described. First, the case where the outdent of each semiconductor device is a normal thing like FIG. 8, FIG. 9 is demonstrated.

하나의 방법으로서, 우선 제9도의 적층체의 조립방법과 같이 한쪽 열의 반도체 장치(A)∼(D)끼리를 납땜하고, 그후 같은 방법으로 다른쪽 열의 반도체 장치(E)∼(H) 끼리를 납땜하며, 이들 2열의 적층체를 기판(21,31)에 각각 납땜한다. 기판(21,31)으로의 납땜시는 그 아웃터리드의 제8도의 면(P)부에 납땜 페이스트를 도포해서 납땜을 행한다.As one method, first, the semiconductor devices (A) to (D) in one row are soldered as in the method of assembling the laminate of FIG. 9, and then the semiconductor devices (E) to (H) in the other row are connected in the same manner. The two-row laminates are soldered to the substrates 21 and 31, respectively. When soldering to the substrates 21 and 31, soldering paste is applied to the surface P of FIG.

한편, 각 반도체 장치의 아웃터리드가 제10도에 나타낸 바와 같이 납땜 도금층(12A, 12B)을 가지고 있는 경우는, 제11도의 실시예의 경우와 같게 전부의 반도체 장치(A)∼(H)를 제13도와 같이 배치한 후에 일괄해서 납땜을 행할 수 있다.On the other hand, when the outliers of the semiconductor devices have the solder plating layers 12A and 12B as shown in FIG. 10, all semiconductor devices A to H are removed as in the case of the embodiment of FIG. After arranging as shown in 13 degree | times, soldering can be performed collectively.

또한, 상기 각 실시예는 TOC 패키지에 본 발명을 적용한 것이지만, 본 발명은 절연막 테이프를 이용하지 않고 접착제로 직접 반도체 칩과 인너리드를 고정한 것에도 적용 가능하다.In addition, although each of the above embodiments applies the present invention to a TOC package, the present invention can also be applied to fixing a semiconductor chip and an inner lead directly with an adhesive without using an insulating film tape.

이상, 본 발명자에 의해 이루어진 발명을, 상기 실시예에 의거해서 구체적으로 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니고, 그 요지를 이탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경가능한 것은 물론이다.As mentioned above, although the invention made by this inventor was demonstrated concretely based on the said Example, this invention is not limited to the said Example, Of course, various changes are possible in the range which does not deviate from the summary.

Claims (39)

상측 및 하측 주면과, 상기 상측과 하측 주면과의 사이에서 연장되는 측면을 가지되, 상기 상측 주면은 전극패드를 포함하는 것인 반도체 칩과, 상기 반도체 칩의 주변에 배치된 제1부분 및 제2부분을 각각 가지는 인너리드와, 제1표면 및 제2표면을 가지되, 상기 제2표면은 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면에 접착제로 부착된 부분과, 상기 인너리드의 각각의 상기 제1부분에 접착제로 부착된 부분을 포함하는 것인 절연막 테이프와, 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면에 배치된 상기 전극패드와, 상기 전극패드에 대응하는 상기 인너리드의 각각의 상기 제2부분을 전기적으로 접속하는 본딩 와이어 및, 상기 반도체 칩, 상기 인너리드, 상기 전극패드, 상기 절연막 테이프 및 상기 본딩 와이어를 밀봉(sealing)하는 모울드 수지를 구비하고, 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면에서 상기 절연막 테이프의 상기 제1표면까지의 높이는 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면에서 상기 본딩 와이어의 정점(apex)까지의 높이보다도 낮고, 상기 본딩 와이어에 접속된 상기 인너리드의 각각의 상기 제2부분의 표면은 상기 반도체 칩의 상측 주면보다도 낮게 위치되어 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면과 상기 상측 주면과 대향하는 상기 반도체 칩의 상기 하측 주면과의 사이에 위치되며, 상기 인너리드의 각각의 상기 제1부분은 상기 반도체 칩의 상기 측면의 주변에 배치되어 상기 반도체 칩과 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.A semiconductor chip having an upper side and a lower main surface and a side surface extending between the upper and lower main surfaces, wherein the upper main surface includes an electrode pad, and first and second portions disposed around the semiconductor chip. An inner lead having two portions, each having a first surface and a second surface, the second surface having an adhesive portion attached to the upper main surface of the semiconductor chip, and each of the first portions of the inner lead; An insulating tape including a portion attached to the substrate by an adhesive, the electrode pad disposed on the upper main surface of the semiconductor chip, and the second portions of the inner leads corresponding to the electrode pads. And a mold resin for sealing the semiconductor chip, the inner lead, the electrode pad, the insulating film tape, and the bonding wire. The height from the upper main surface to the first surface of the insulating film tape is lower than the height from the upper main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire and each of the inner leads connected to the bonding wire. The surface of the second portion is located lower than the upper main surface of the semiconductor chip, and is located between the upper main surface of the semiconductor chip and the lower main surface of the semiconductor chip opposite the upper main surface, each of the inner leads. And the first portion is disposed around the side of the semiconductor chip and separated from the semiconductor chip. 제 1 항에 있어서, 상기 본딩 와이어는, 상기 인너리드에 볼 본딩법으로 부착되고, 상기 본딩 와이어의 각각의 볼은 상기 인너리드상에 설치되며, 상기 볼과 대향하는 상기 본딩 와이어의 각각의 단부는 대응하는 하나의 상기 전극패드에 설치되는 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.The bonding wire of claim 1, wherein the bonding wire is attached to the inner lead by a ball bonding method, and each ball of the bonding wire is provided on the inner lead, and each end of the bonding wire facing the ball is formed. The thin semiconductor device, characterized in that provided in the corresponding one electrode pad. 제 1 항에 있어서, 상기 절연막 테이프가 부착된 상기 인너리드의 각각의 상기 제1부분의 상기 표면은, 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면과 거의 같은 레벨에 위치되어 있는 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.The thin semiconductor device according to claim 1, wherein the surface of each of the first portions of the inner lead to which the insulating film tape is attached is located at substantially the same level as the upper main surface of the semiconductor chip. 제 1 항에 있어서, 상기 인너리드의 각각은, 상기 모울드 수지의 거의 중앙부에서 그 주면과 수직한 방향으로 밖으로 향해 연장되어 아웃터리드를 형성하는 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.The thin semiconductor device according to claim 1, wherein each of the inner leads extends outward in a direction perpendicular to the main surface of the mold resin at substantially a central portion thereof. 제 1 항에 있어서, 상기 절연막 테이프는, 상기 인너리르의 두께보다도 얇은 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.The thin semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film tape has a thickness thinner than the thickness of the inner layer. 제 1 항에 있어서, 상기 절연막 테이프는, 폴리이미드 수지로 제조된 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.The thin semiconductor device according to claim 1, wherein the insulating film tape is made of polyimide resin. 상측 주면과, 상기 상측 주면과 대향하는 하측 주면 및 상기 상측 주면과 하측 주면 사이에서 연장되는 측면을 가지되, 상기 상측 주면은 전극패드를 포함하는 것인 반도체 칩과, 상기 반도체 칩의 주변에 배치된 제1 인너리드 및 제2 인너리드와, 제1표면과, 상기 제1표면과 대향하는 제2표면을 가지되, 상기 제2표면은 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면에 부착된 부분과, 상기 제1 인너리드에 부착된 부분을 포함하는 것인 절연막 테이프와, 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면의 상기 전극패드와 상기 제2 인너리드를 전기적으로 접속하는 본딩 와이어 및, 상기 반도체 칩, 상기 제1 및 제2 인너리드, 상기 절연막 테이프 및 상기 본딩 와이어를 밀봉(sea1ing)하는 모울드 수지를 구비하고, 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면에서 상기 절연막 테이프의 상기 제1표면까지의 높이는, 상기 반도체 칩의 상기 상측 주면에서 상기 본딩 와이어의 정점(apex)까지의 높이보다도 낮고, 상기 본딩 와이어에 접속된 상기 제2 인너리드의 표면은, 상기 반도체 칩의 상측 주면보다도 낮게 위치되며, 상기 제1 및 제2 인너리드는 상기 반도체 칩의 상기 측면의 주변에 배치되어 상기 반도체 칩과 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.A semiconductor chip having an upper main surface, a lower main surface facing the upper main surface, and a side surface extending between the upper main surface and the lower main surface, wherein the upper main surface includes an electrode pad; A first inner lead and a second inner lead, a first surface, and a second surface opposite to the first surface, wherein the second surface is a portion attached to the upper main surface of the semiconductor chip; An insulating film including a portion attached to a first inner lead, a bonding wire electrically connecting the electrode pad of the upper main surface of the semiconductor chip to the second inner lead, the semiconductor chip, and the first And a mold resin sealing a sealing of the insulating tape and the insulating wire, and a second inner lead, wherein the first surface of the insulating tape is formed on the upper main surface of the semiconductor chip. The height of the edge is lower than the height from the upper main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire, and the surface of the second inner lead connected to the bonding wire is located lower than the upper main surface of the semiconductor chip. And the first and second inner leads are arranged around the side surface of the semiconductor chip and separated from the semiconductor chip. 제 7 항에 있어서, 상기 절연막 테이프는, 상기 제1 및 제2 인너리드의 두께보다도 얇은 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 박형 반도체 장치.8. The thin semiconductor device according to claim 7, wherein the insulating film tape has a thickness thinner than the thicknesses of the first and second inner leads. 제 7 항에 있어서, 상기 절연막 테이프는, 폴리이미드 수지로 제조된 것을 특징으르 하는 박형 반도체 장치.8. The thin semiconductor device according to claim 7, wherein the insulating tape is made of polyimide resin. 주면과, 상기 주면과 대향하는 이면 및 상기 주면에서 상기 이면으로 연장되는 측면을 가지되, 상기 주면은 반도체 소자 및 외부단자를 가지는 것인 반도체 칩과, 인너리드 및 아웃터리드를 각각 가지고, 상기 인너리드는 상기 반도체 칩의 상기 측면에 인접해서 배치되는 복수의 리드와, 상기 외부단자와 상기 인너리드를 전기적으로 접속하는 본딩 와이어와, 상기 반도체 칩의 상기 주면상에 배치된 제1부분과 상기 반도체 칩의 외부의 제2부분을 가지되, 상기 제2부분은 상면과 상기 상면과 대향하는 하면을 가지며, 상기 하면은 상기 반도체 칩의 상기 주면에 접착제로 부착되는 것인 상기 반도체 칩을 지지하는 수단 및, 상기 반도체 칩, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드, 본딩 와이어 및 상기 수단을 밀봉하는 모울드 수지를 구비하고, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드는 상기 반도체 칩의 상기 주면과 상기 이면과의 사이에서 상기 반도체 칩의 두께방향으로 배치되고, 상기 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 수단의 상기 상면까지의 높이는 상기 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 본딩 와이어의 정점까지의 높이보다도 낮은 것을 특징으로 하는 반도체 장치.A main surface, a back surface facing the main surface, and a side surface extending from the main surface to the back surface, wherein the main surface has a semiconductor chip and an inner lead and an outer lead respectively having a semiconductor element and an external terminal, and the inner The lead includes a plurality of leads arranged adjacent to the side surface of the semiconductor chip, a bonding wire for electrically connecting the external terminal and the inner lead, a first portion disposed on the main surface of the semiconductor chip, and the semiconductor. Means for supporting said semiconductor chip having a second portion external to said chip, said second portion having a top surface and a bottom surface opposite said top surface, said bottom surface being adhesively attached to said main surface of said semiconductor chip; And a mold resin for sealing the semiconductor chip, the inner lead of the plurality of leads, the bonding wire, and the means. The inner lead of the semiconductor chip is disposed in the thickness direction of the semiconductor chip between the main surface and the rear surface of the semiconductor chip, and the height from the main surface of the semiconductor chip to the upper surface of the means is the main surface of the semiconductor chip. And lower than a height to a vertex of the bonding wire in the semiconductor device. 제 10 항에 있어서, 상기 수단은, 칩 지지리드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 10, wherein said means comprises a chip support lead. 제 11 항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 한쪽 단부는, 상기 모울드 수지의 내부와 외부 사이의 경계면에서 끝나는 것을 특징으르 하는 반도체 장치.12. The semiconductor device according to claim 11, wherein one end of the chip support lead terminates at an interface between the inside and the outside of the mold resin. 제 12 항에 있어서, 상기 칩 지지리드는, 상기 반도체 칩의 상기 측면과 상기 모울드 수지의 상기 경계면 사이에서 단차부를 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 12, wherein the chip support lead has a step portion between the side surface of the semiconductor chip and the interface of the mold resin. 제 13 항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 상기 한쪽 단부는, 상기 반도체 칩의 상기 두께방향에서 상기 복수의 리드와 거의 같은 레벨에 위치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 13, wherein said one end of said chip support lead is located at substantially the same level as said plurality of leads in said thickness direction of said semiconductor chip. 제 10 항에 있어서, 상기 반도체 칩의 상기 이면은 상기 모울드 수지와 접촉하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 10, wherein the back surface of the semiconductor chip is in contact with the mold resin. 주면과, 상기 주면과 대향하는 이면 및 상기 주면에서 상기 이면으로 연장되는 측면을 가지고, 한쌍의 긴 에지 및 한쌍의 짧은 에지를 가지되, 상기 주면은 반도체 소자 및 외부단자를 가지는 것인 직사각형 형태의 반도체 칩과, 상기 한쌍의 긴 에지를 따라서 배열되고, 각각 인너리드 및 아웃터리드를 가지되, 상기 인너리드는 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 측면에 인접해서 배치되는 것인 복수의 리드와, 상기 외부단자와 상기 인너리드를 전기적으르 접속하는 본딩 와이어와, 상기 직사각형 형태의 반도체 칩을 지지하는 제1 및 제2 수단으로서, 상기 제1 수단은 상기 직사각형 반도체 칩의 외부에서 상기 한쌍의 하나의 짧은 에지를 지나 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 주면으로 연장되고, 상기 제2 수단은 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 외부에서 상기 한쌍의 다른 하나의 짧은 에지를 지나 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 주면으로 연장되며, 상기 제1 수단 및 제2 수단의 각각은 상기 직사각형 반도체 칩의 상기 주면상에 배치된 제1 부분과 상기 직사각형 반도체 칩의 외부의 제2부분을 가지고, 상기 제1 수단 및 제2 수단의 상기 제1부분의 각각은 상면과 상기 상면과 대향하는 하면을 가지며, 상기 제1 수단 및 제2 수단의 상기 하면의 각각은 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 주면에 접착제로 부착되는 것인 상기 제1 수단 및 제2 수단 및, 상기 직사각형 형태의 반도체 칩, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드, 본딩 와이어 및 상기 제1 및 제2 수단을 밀봉하는 직사각형 모울드 수지로서, 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 한쌍의 긴 에지를 따라서 한쌍의 긴 측면과 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 한쌍의 짧은 에지를 따라서 한쌍의 짧은 측면을 가지며, 상기 복수의 리드 상기 아웃터리드는 상기 직사각형 모울드 수지의 상기 한쌍의 긴 측면에서 밖으로 돌출하는 것인 직사각형 모울드 수지를 구비하고, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드는 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 주면과 상기 이면과의 사이에서 상기 직사각형 반도체 칩의 두께방향으로 배치되고, 상기 직사각형 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 제1 및 제2 수단의 각각의 상기 상면까지의 높이는 상기 직사각형 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 본딩 와이어의 각각의 정점까지의 높이보다도 낮은 반도체 장치.It has a main surface, a back surface facing the main surface and a side extending from the main surface to the back surface, and has a pair of long edge and a pair of short edge, the main surface of the rectangular shape having a semiconductor element and an external terminal A plurality of leads arranged along a pair of long edges, each having an inner lead and an outer lead, wherein the inner lead is disposed adjacent to the side surface of the rectangular semiconductor chip; Bonding wires for electrically connecting an external terminal to the inner lead, and first and second means for supporting the rectangular semiconductor chip, wherein the first means is a pair of one pair of shorter ones outside the rectangular semiconductor chip. Extends through the edge to the main surface of the rectangular semiconductor chip, the second means being a peninsula of the rectangular shape Extends from the outside of the sieve chip to the main surface of the rectangular semiconductor chip past the pair of other short edges, each of the first and second means disposed on the main surface of the rectangular semiconductor chip A first portion and a second portion external to the rectangular semiconductor chip, each of the first means and the first portion of the second means has an upper surface and a lower surface opposite the upper surface, the first means and Each of said bottom surface of said second means is attached to said main surface of said rectangular shape semiconductor chip with an adhesive, said first means and said second means, said rectangular shape semiconductor chip, said inner lead of said plurality of leads. A rectangular mold resin for sealing a bonding wire and the first and second means, the pair of long along the pair of long edges of the rectangular semiconductor chip A rectangular mold resin having a side and a pair of short sides along the pair of short edges of the rectangular-shaped semiconductor chip, wherein the plurality of leads and the outer leads protrude out from the pair of long sides of the rectangular mold resin And the inner leads of the plurality of leads are disposed in a thickness direction of the rectangular semiconductor chip between the main surface and the rear surface of the rectangular semiconductor chip, and the first lead on the main surface of the rectangular semiconductor chip. The height to each said upper surface of a 1st and 2nd means is a semiconductor device lower than the height from the said main surface of the said rectangular semiconductor chip to each vertex of the said bonding wire. 제 16 항에 있어서, 상기 제1 수단은 제1 칩 지지리드를 포함하고, 상기 제2 수단은 제2 칩 지지리드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.17. The semiconductor device according to claim 16, wherein said first means comprises a first chip support lead and said second means comprises a second chip support lead. 제 17 항에 있어서, 상기 제1 칩 지지리드의 한쪽 단부는, 상기 모울드 수지의 상기 한쌍의 짧은 측면중의 하나에서 끝나고, 상기 제2 칩 지지리드의 한쪽 단부는, 상기 모울드 수지의 상기 한쌍의 짧은 측면중의 다른 하나에서 끝나는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.18. The method of claim 17, wherein one end of the first chip support lead ends at one of the pair of short sides of the mold resin, and one end of the second chip support lead is formed of the pair of mold resins. A semiconductor device characterized by ending on the other of the short sides. 제 18 항에 있어서, 상기 제1 칩 지지리드는, 상기 모울드 수지의 상기 한쌍의 짧은 측면중의 상기 하나와 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 측면과의 사이에서 단차부를 가지고, 상기 제2 칩 지지리드는, 상기 모울드 수지의 상기 한쌍의 짧은 측면중의 상기 다른 하나와 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 측면과의 사이에서 단차부를 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.19. The second chip support according to claim 18, wherein the first chip support lead has a stepped portion between the one of the pair of short side faces of the mold resin and the side face of the rectangular semiconductor chip. And a lead has a stepped portion between the other one of the pair of short side faces of the mold resin and the side face of the rectangular semiconductor chip. 제 19)항에 있어서, 상기 제1 및 제2 칩 지지리드의 상기 한쪽 단부의 각각은, 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 두께방향에서 상기 복수의 리드와 거의 같은 레멜에 위치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.20. The semiconductor device according to claim 19, wherein each of said one end of said first and second chip support leads is located at substantially the same level as said plurality of leads in said thickness direction of said rectangular semiconductor chip. Semiconductor device. 제 16 항에 있어서, 상기 직사각형 형태의 반도체 칩의 상기 이면은, 상기 모울드 수지와 접촉하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 16, wherein the back surface of the rectangular semiconductor chip is in contact with the mold resin. 주면과, 상기 주면과 대향하는 이면 및 상기 주면에서 상기 이면으로 연장되는 측면을 가지되, 상기 주면은 반도체 소자 및 외부단자를 가지는 것인 반도체 칩과, 인너리드 및 아웃터리드를 각각 가지되, 상기 인너리드는 상기 반도체 칩의 상기 측면에 인접해서 배치되며, 상기 인너리드의 각각은 상면과 상기 상면과 대향하는 하면을 가지는 것인 복수의 리드와, 상기 외부단자와 상기 인너리드들 전기적으로 접속하고, 상기 인너리드의 상기 상면과 각각 접촉되는 본딩 와이어와, 상기 반도체 칩의 상기 주면상에 배치된 제1부분과 상기 반도체 칩의 외부의 제2부분을 가지되, 상기 제1부분은 상면과 상기 상면과 대향하는 하면을 가지고, 상기 하면은 상기 반도체 칩의 상기 주면에 접착제로 부착되는 것인 상기 반도체 칩을 지지하는 수단 및, 상기 반도체 칩, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드, 본딩 와이어 및 상기 수단을 밀봉하는 모울드 수지를 구비하고, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드의 상기 상면은 상기 반도체 칩의 두께방향에서 상기 반도체 칩의 상기 주면 아래에 배치되고, 상기 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 수단의 상기 상면까지의 높이는 상기 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 본딩 와이어의 정점까지의 높이보다도 낮은 반도체 장치.And a main surface, a back surface facing the main surface and a side surface extending from the main surface to the back surface, wherein the main surface has a semiconductor chip and an inner lead and an outer lead each having a semiconductor element and an external terminal. An inner lead is disposed adjacent to the side surface of the semiconductor chip, each of the inner leads has a plurality of leads having an upper surface and a lower surface opposite the upper surface, the external terminals and the inner leads are electrically connected to each other; A bonding wire in contact with the upper surface of the inner lead, a first portion disposed on the main surface of the semiconductor chip, and a second portion external to the semiconductor chip, wherein the first portion includes the upper surface and the Means for supporting the semiconductor chip having a lower surface opposite the upper surface, wherein the lower surface is attached to the main surface of the semiconductor chip with an adhesive; A sieve chip, a mold resin for sealing the inner lead, the bonding wire, and the means of the plurality of leads, wherein the upper surface of the inner lead of the plurality of leads is formed in the thickness direction of the semiconductor chip. And a height from the main surface of the semiconductor chip to the upper surface of the means is lower than a height from the main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire. 제 22 항에 있어서, 상기 수단은 칩 지지리드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.23. A semiconductor device according to claim 22, wherein said means comprises a chip support lead. 제 23 항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 한쪽 단부는, 상기 모울드 수지의 내부와 외부 사이의 경계면에서 끝나는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.24. The semiconductor device according to claim 23, wherein one end of the chip support lead terminates at an interface between an inside and an outside of the mold resin. 제 24 항에 있어서, 상기 칩 지지리드는, 상기 반도체 칩의 상기 측면과 상기 모울드 수지의 상기 경계면과의 사이에서 단차부를 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 24, wherein the chip support lead has a stepped portion between the side surface of the semiconductor chip and the interface of the mold resin. 제 25 항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 상기 한쪽 단부는, 상기 반도체 칩의 상기 두께방향에서 상기 복수의 리드와 거의 같은 레벨에 위치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 25, wherein said one end of said chip support lead is located at substantially the same level as said plurality of leads in said thickness direction of said semiconductor chip. 제 26 항에 있어서, 상기 반도체 칩의 이면은 상기 모울드 수지와 접촉하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.27. The semiconductor device according to claim 26, wherein the back surface of the semiconductor chip is in contact with the mold resin. 주면과, 상기 주면과 대향하는 이면 및 상기 주면에서 상기 이면으로 연장되는 측면을 가지되, 상기 주면은 반도체 소자 및 외부단자를 가지는 것인 반도체 칩과, 인너리드 및 아웃터리드를 각각 가지되, 상기 인너리드는 상기 반도체 칩의 상기 측면에 인접해서 배치되는 것인 복수의 리드와, 상기 외부단자와 상기 인너리드를 전기적으르 접속하는 본딩 와이어와, 상기 반도체 칩의 상기 주면상에 배치되어 상기 주면에서 상기 반도체 칩의 외부로 연장되며, 상면과 상기 상면과 대향하는 하면을 가지되, 상기 하면은 상기 반도체 칩의 상기 주면에 접착제로 부착되는 것인 부재 및, 상기 반도체 칩, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드, 본딩 와이어 및 상기 부재를 밀봉하는 모울드 수지를 구비하고, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드는 상기 반도체 칩의 두께방향에서 상기 반도체 칩의 상기 주면 아래에 배치되고, 상기 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 부재의 상기 상면까지의 높이는 상기 반도체 칩의 상기 주면에서 상기 본딩 와이어의 정점까지의 높이보다도 낮은 반도체 장치.And a main surface, a back surface facing the main surface and a side surface extending from the main surface to the back surface, wherein the main surface has a semiconductor chip and an inner lead and an outer lead each having a semiconductor element and an external terminal. Inner leads are arranged adjacent to the side surface of the semiconductor chip, a bonding wire for electrically connecting the external terminal and the inner lead, and the main surface of the semiconductor chip is disposed on the main surface A member extending outwardly of the semiconductor chip and having a top surface and a bottom surface opposite the top surface, wherein the bottom surface is attached to the main surface of the semiconductor chip with an adhesive; An inner lead, a bonding wire, and a mold resin for sealing the member, wherein the inner leads of the plurality of leads are formed of the semiconductor chip. And a height from the main surface of the semiconductor chip to the upper surface of the member, the height being lower than the height from the main surface of the semiconductor chip to the apex of the bonding wire in the thickness direction. 제 28 항에 있어서, 상기 부재는 칩 지지리드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.29. A semiconductor device according to claim 28, wherein said member comprises a chip support lead. 제 29 항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 한쪽 단부는 상기 모울드 수지의 내부와 외부 사이의 경계면에서 끝나는 것을 특징으르 하는 반도체 장치.30. The semiconductor device according to claim 29, wherein one end of the chip support lead terminates at an interface between the inside and the outside of the mold resin. 제 30 항에 있어서, 상기 칩 지지리드는, 상기 반도체 칩의 상기 측면과 상기 모울드 수지의 상기 경계면과의 사이에서 단차부를 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 30, wherein the chip support lead has a stepped portion between the side surface of the semiconductor chip and the boundary surface of the mold resin. 제 31 항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 상기 한쪽 단부는, 상기 반도체 칩의 상기 두께방향에서 상기 복수의 리드와 거의 같은 레벨에 위치되어 있는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.32. The semiconductor device according to claim 31, wherein said one end of said chip support lead is located at substantially the same level as said plurality of leads in said thickness direction of said semiconductor chip. 제 28 항에 있어서, 상기 반도체 칩의 이면은 상기 모울드 수지와 접촉하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 28, wherein a back surface of the semiconductor chip is in contact with the mold resin. (신설) 수지밀봉체와, 상기 수지밀봉체로 밀봉될 피(被)밀봉체로서, 제1 표면과, 상기 제1 표면에 대향하는 제2 표면과, 상기 제1 표면에 형성된 복수의 반도체 소자 및 복수의 외부 단자를 가지는 피밀봉체와, 각각이 인너리드와 상기 인너리드와 일체로 형성된 아웃터리드를 가지는 복수의 리드로서, 상기 각 인너리드의 상기 아웃터리드와 반대측의 단부가 상기 피밀봉체의 주변에 위치하는 복수의 리드와, 제1 부분과 상기 제1 부분과 일체로 형성된 제2 부분을 가지며, 상기 피밀봉체를 지지하기 위한 피밀봉체 지지수단으로서, 상기 제1 부분이 상기 피밀봉체의 제1 표면상에 배치되고, 또한 상기 제2 부분이 상기 피밀봉체의 외측에 배치된 피밀봉체 지지수단과, 상기 복수의 리드의 상기 인너리드의 단부와 상기 복수의 외부단자를 전기적으로 접속하는 복수의 본딩와이어를 가지며, 상기 피밀봉체, 상기 인너리드, 상기 복수의 본딩와이어 및 상기 피밀봉체 지지수단은 상기 수지밀봉체에 의해 밀봉되고, 상기 복수의 리드의 상기 아웃터리드는 상기 수지밀봉체로부터 외측으로 돌출하며, 상기 인너리드의 단부는, 상기 피밀봉체의 두께방향에 있어서, 상기 인너리드의 상측면이 상기 피밀봉체의 제1 표면보다 아래에 위치하도록, 또한 상기 피밀봉체의 두께방향에 있어서 상기 인너리드의 하측면이 상기 피밀봉체의 제2 표면보다 위에 위치하도록, 상기 피밀봉체의 제1 표면과 제2 표면의 사이에 배치되고, 상기 피밀봉체 지지수단의 제1 부분의 하측면은 상기 피밀봉체의 제1 표면에 접착제에 의해 접착되며, 상기 피밀봉체 지지수단의 제1 부분의 상측면은 상기 복수의 본딩와이어의 정점(頂点)보다 하측에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.(New) A resin sealing body and a to-be-sealed body to be sealed by the resin sealing body, comprising: a first surface, a second surface facing the first surface, a plurality of semiconductor elements formed on the first surface, and A plurality of leads each having a sealed body having a plurality of external terminals, each of the inner lead and the outer lead formed integrally with the inner lead, the end portion of the inner lead of the inner lead is opposite to the outer lead of the sealed body. And a plurality of leads positioned in the periphery, and a first portion and a second portion integrally formed with the first portion, wherein the sealed portion supporting means for supporting the sealed body is the first portion. Sealed body support means disposed on a first surface of the sieve and wherein the second portion is disposed outside the sealed body, and end portions of the inner leads of the plurality of leads and the plurality of external terminals. Accessing A plurality of bonding wires, the sealed body, the inner lead, the plurality of bonding wires, and the sealed body supporting means are sealed by the resin sealing body, and the outliers of the plurality of leads are sealed. Protrudes outward from the sieve, and an end portion of the inner lead is located in the thickness direction of the sealed body such that the upper surface of the inner lead is located below the first surface of the sealed body. Is disposed between the first surface and the second surface of the sealed body so that the lower side of the inner lead is positioned above the second surface of the sealed body in the thickness direction of the The lower side of the first portion is adhered to the first surface of the sealed body by an adhesive, and the upper side of the first portion of the sealed body supporting means is lower than the vertices of the plurality of bonding wires. A semiconductor device, characterized in that positioned. (신설) 제 34항에 있어서, 상기 피밀봉체 지지수단은 상기 피밀봉체를 구성하는 칩의 지지리드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.(New) The semiconductor device according to claim 34, wherein the sealed body supporting means includes a support lead of a chip constituting the sealed body. (신설) 제 35항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 한쪽 단부는 상기 수지밀봉체의 내부와 외부의 경계면에서 종단하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.(New) The semiconductor device according to claim 35, wherein one end of the chip support lead terminates at an interface between the inside and the outside of the resin sealing member. (신설) 제 36 항에 있어서, 상기 칩 지지리드는 상기 수지밀봉체의 측면과 상기 수지밀봉체의 상기 경계면과의 사이에서 단차부를 가지는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.(New) The semiconductor device according to claim 36, wherein the chip support lead has a stepped portion between a side surface of the resin sealing member and the boundary surface of the resin sealing member. (신설) 제 37 항에 있어서, 상기 칩 지지리드의 상기 한쪽 단부는 상기 피밀봉체의 두께 방향에 있어서 상기 인너리드와 거의 동일한 높이에 위치하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.(New) The semiconductor device according to claim 37, wherein said one end of said chip support lead is located at substantially the same height as said inner lead in the thickness direction of said sealed body. (신설) 제 34 항에 있어서, 상기 수지밀봉체의 제2표면은 상기 수지밀봉체와 접촉하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.(New) The semiconductor device according to claim 34, wherein the second surface of the resin sealing body is in contact with the resin sealing body.
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