KR100297810B1 - 고체 지지체상 유기 반응에 유용한 비닐 에테르 연결체가 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 비닐 에테르 연결체(linker)가 포함된 레진(resin)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고체 지지체상에서 유기 반응을 수행하게 되는 조합화학합성 분야에서의 알코올, 티올, 이미다졸, 트리아졸 또는 테트라졸 기 등의 헤테로원자 함유 화합물 유도체 합성에 유용한 다음 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르(vinyl ether) 연결체(linker)가 포함된 신규 레진(resin)에 관한 것이다.
상기 화학식 1에서 :
Description
본 발명은 비닐 에테르 연결체(linker)가 포함된 레진(resin)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고체 지지체상에서 유기 반응을 수행하게 되는 조합화학합성 분야에서의 알코올, 티올, 이미다졸, 트리아졸 또는 테트라졸 기 등의 헤테로원자 함유 화합물 유도체 합성에 유용한 다음 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르(vinyl ether) 연결체(linker)가 포함된 신규 레진(resin)에 관한 것이다.
화학식 1
상기 화학식 1에서:는 폴리스티렌-디비닐벤젠을 나타내고, n은 1∼5의 정수이다.
조합화학합성(Combinatorial Chemical Synthesis, 이하 'CCS'라 함)은 신물질 및 신소재 개발의 새로운 연구기술 분야로서, 기존의 고전적인 유기 합성법이 한 번의 반응으로 하나의 화합물을 합성하는데 반하여, CCS 기술은 보다 다양하고 많은 수의 화합물을 동시에 합성하게 되는 신개념의 화학물질 합성법이라 할 수 있다. 따라서, 조합화학합성(CCS) 도입으로 인하여 새로운 구조의 선도물질(lead compound)의 탐색 및 이의 구조 및 기능을 최적화하는 것이 용이해졌다. 또한, 조합화학합성(CCS)기술은 대부분이 고체 지지체상에서 반응공정이 수행되므로 연속적인 다단계 반응 및 반응공정의 자동화가 가능하고, 생성물의 분리 정제공정이 매우 간단하므로 고효율 대량검정(High Throughput Screening, HTS)이 가능하다는 장점이 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 조합화학합성(CCS) 기술은 기존 합성기술의 비경제성 및 비효율성을 극복시킨 새로운 합성법인데도 불구하고, 이를 유기합성 분야에 쉽게 적용할 수 없었던 몇 가지 대표적인 원인 중의 하나가 고체 지지체의 사용으로 인한 반응속도 및 반응성의 감소에 있다.
이에, 일반적인 조합화학합성(CCS) 기술분야에서는 고체 지지체상에서의 화학반응을 수행함에 있어 반응속도 및 반응성의 감소문제를 해결하기 위하여 고체 지지체와 반응기 사이에 연결체(linker)를 도입하고 있다. 현재까지 조합화학합성(CCS) 기술을 위한 고체 지지체상 합성반응에서는 수 많은 연결체(linker)가 개발되어 응용되어지고 있다.
그 중에서도 알코올, 티올, 이미다졸, 트리아졸 및 테트라졸 기의 도입 및탈리반응에 유용한 대표적인 보호기 겸용 연결체로서 3,4-디하이드로-2H-피란-2일-메탄올(DHP) 연결체(linker)가 알려져 있으나, 그 유용성에 반하여 DHP 연결체의 단가가 비싸고 대량합성공정이 용이하지 않는 문제점을 가지고 있다.
본 발명은 많은 생리활성물질이 알코올, 티올, 이미다졸, 트리아졸 및 테트라졸기를 함유하고 있다는 것에 착안하여, 이러한 기능기들의 도입 및 탈리 반응에 유용한 보호기 겸용 연결체(linker)로서 비닐 에테르를 고체 지지체 인 메리필드 레진(Merrifield resin)에 도입하여 고체 지지체상 유기화학 반응의 효용가치를 증가시켰다.
따라서, 본 발명은 보호기 겸용 연결체로서 비닐 에테르가 포함된 레진(resin)과 이의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 신규 레진을 고체 지지체로하여 알코올, 티올, 이미다졸, 트리아졸 및 테트라졸 기 등의 헤테로원자 함유 화합물 유도체의 조합화학합성(CCS)하는 방법을 제공하는데도 또 다른 목적이 있다.
본 발명은 조합화학합성에 유용한 다음 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(resin)을 그 특징으로 한다.
화학식 1
상기 화학식 1에서 :는 폴리스티렌-디비닐벤젠을 나타내고, n은 1∼5의 정수이다.
이와 같은 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(resin)의 제조방법은 다음에서 설명한 바와 같은 3 단계 제조과정으로 구성된다.
첫 번째 과정은 다음 화학식 2로 표시되는 메틸(4-히드록시벤질)에스테르의 환원반응에 의해 다음 화학식 3으로 표시되는 4-히드록시펜에틸 알코올의 제조과정이다.
상기한 환원반응은 통상의 환원제를 과량 첨가한 후 수행하는 바, 바람직하기로는 2.0 당량 이상의 리튬알루미늄히드리드 또는 디이소프로필알루미늄히드리드를 환원제로 사용하여 수행하는 것이다. 환원반응의 용매로는 테트라히드로퓨란(THF)을 비롯한 통상의 비양성자성(aprotic) 유기용매를 사용하며, 반응은 0 ℃에서 환원제를 첨가한 후, 상온에서 교반하여도 원활히 수행된다.
두 번째 과정은 상기에서 제조한 화학식 3으로 표시되는 화합물을 다음 화학식 4로 표시되는 에틸비닐에테르와 반응시켜 다음 화학식 5로 표시되는 4-(2-비닐옥시에틸)페놀의 제조과정이다.
상기 화학식 3으로 표시되는 펜에틸 알코올에 비닐 에테르의 도입반응은 수은 아세테이트 촉매량 존재하에서 화학식 4로 표시되는 에틸비닐에테르를 용매겸 시약으로 사용하여 수행하며, 반응은 상온 조건하에서도 원할히 수행된다.
그리고, 세 번째 과정은 상기에서 제조한 화학식 5로 표시되는 화합물을 다음 화학식 6으로 표시되는 메리필드 레진(Merrifield resin)과 반응시켜 본 발명이 목적으로 하는 다음 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(resin)의 제조과정이다.
상기 화학식 6으로 표시되는 메리필드 레진(Merrifield resin)의 도입반응은 알콕시나트륨 또는 소디움히드리드와 같은 염기 촉매 존재하에서 수행하며, 반응용매로는 디메틸아세트아미드를 비롯한 통상의 극성 유기용매를 사용하고, 반응은 50 ℃ 조건하에서 수행된다. 상기 반응을 수행한 결과, 잔여 메리필드 레진(Merrifield resin)이 검출되지 않았는 바, 이는 XPS 원소분석결과 염소이온이 전혀 검출되지 않았기 때문이다.
본 발명에 따른 상기 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 신규 레진(resin)의 제조방법에 대한 보다 상세한 반응조건 및 구조 확인 결과는 다음의 실시예 1에서 구체적으로 기술하고자 한다.
또한, 본 발명은 상기 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(resin)을 고체 지지체로 사용하여 조합화학합성(CCS)기술에 응용하는 방법도 포함하는 바, 이러한 응용분야로서 바람직하기로는 다음 화학식 7로 표시되는 헤테로원자 함유 화합물 유도체를 합성하는 유기반응이다.
상기 화학식 7에서 : Y는 산소원자 또는 NH를 나타내고; X는 H, OH, SH, 할로겐, 페닐기, 할로겐원자로 치환된 페닐기 또는 비페닐기를 나타내거나, 또는 또다른 헤테로원자(X')와 함께 Y와 결합하여를 형성하며, 이때 Y와 X'는 서로 같거나 다른 헤테로원자로서 그 갯수가 1∼5개이며, 이들은 탄소원자수 1 내지 4개의 알킬렌기 또는 탄소원자수 2 내지 4개의 알케닐기로 연결되고; m은 1 내지 4의 정수이다.
다음 반응식 1은 상기 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체(linker)가 포함된 레진(resin)을 고체 지지체로하여 여기에 상기 화학식 7로 표시되는 헤테로원자 함유 화합물 유도체를 도입하는 과정과 유도체 합성후에 고체 지지체로부터 탈리시키는 과정을 나타낸 것이다.
상기 반응식 1에서 :, X, Y, n 및 m은 각각 상기에서 정의한 바와 같다.
상기 반응식 1에 따른 방법에서, 상기 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(resin)에 상기 화학식 7로 표시되는 헤테로원자 함유 화합물의 도입 반응은 산 촉매 존재하에서 가능하며, 대표적으로 유용한 산 촉매로서는 캄파술폰산, 트리플루오로아세트산 및 피리디움 파라톨루엔술폰산 염 중에서 선택되며, 반응용매로는 1,2-디클로로에탄을 사용하여 수행한다. 상기 화학식 7로 표시되는 화합물이 산소 또는 황원자 함유 화합물인 경우 산 촉매로서는 피리디움 파라톨루엔술폰산 염(PPTS)을 사용하는 것이 특히 바람직하고, 상기 화학식 7로 표시되는 화합물이 질소원자 함유 화합물인 경우 산 촉매로서는 캄파술폰산(CSA) 또는 트리플루오로아세트산(TFA)을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 이때, 상기 화학식 7로 표시되는 헤테로원자 함유 화합물은 상기 화학식 1로 표시되는 고체 지지체인 레진에 대하여 3 내지 5 당량배를 사용하는 것이 바람직하며, 생성된 화학식 8로 표시된 화합물의 확인은 IR 스펙트럼을 사용하여 화학식 1로 표시된 화합물의 올레핀 피크의 소멸로써 간접적으로 확인하였다.
그리고, 상기 화학식 8로 표시되는 화합물을 근간으로하여 다양한 고체 지지체상 유기반응을 수행한 후에 합성된 헤테로원자 함유 화합물 유도체를 고체 지지체로부터 탈리시키는 반응은 과량의 산 존재하에서 수행하며, 대표적인 탈리반응 조건으로는 염산/메탄올 용액하에 실온에서 수행하는 것이다. 헤테로원자 함유 화합물의 구조분석은 적외선 분광분석(IR), 핵자기 공명분광분석(NMR) 및 질량분석(Mass) 스펙트럼을 이용하여 확인하였다. 상기 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(resin)에 헤테로원자 함유 화합물의 도입과 탈리반응과 관련된 구체적인 반응조건 및 구조확인 결과는 다음의 실시예 2 및 실시예 3에서 구체적으로 기술한다.
이상에서 설명한 바와 같이, 상기 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(resin)은 신규의 고체 지지체이며, 이러한 고체 지지체에 알코올, 티올, 이미다졸, 트리아졸 및 테트라졸 기 등을 포함하는 화합물의 도입 및 탈리반응이 용이하기 때문에 고체 지지체상 화학반응에 유용하다는 것을 확인할 수 있다.
이와 같은 본 발명은 다음의 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하겠는 바, 본 발명의 이에 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 :비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(화학식 1)의 제조
i)4-히드록시펜에틸 알코올(화학식 3a)의 제조
메틸-4-히드록시페닐 아세테이트(23.0 g, 139.0 mmol)을 THF(400 ㎖)를 녹이고 0 ℃로 냉각한 후, 리튬알루미늄히디리드(LAH; 7.9 g, 209.0 mmol)를 1시간에 걸쳐 분할해서 넣고 2시간동안 교반한 다음, 실온에서 8시간동안 교반하였다. 반응종료후, 반응혼합물에 0 ℃의 1N HCl 수용액(300 ㎖)을 적가하고, 에틸아세테이트(200 ㎖ × 3)로 유기물을 추출한 다음, 유기층을 물(200 ㎖ × 2)과 포화 소금물(200 ㎖)로 세척한 후 무수 황산마그네슘으로 건조 여과후, 농축하였다. 생성된 백색 고형물을 실리카겔 상에서 후레쉬 컬럼 크로마토 그래피(헥산/에틸아세테이트=3/1, v/v)로 분리정제하여 백색고체의 생성물인 4-히드록시펜에틸알코올(16.3 g, 118.0 mmol, 수율 85%)을 얻었다.
1H NMR(200 MHz, CDCl3) : δ 7.10(d, 2H, J=8.6 Hz), 6.78(d, 2H, J=8.4 Hz),
4.96(s, 1H), 3.83(t, 2H, J=6.6 Hz), 2.81(t, 2H, J=6.6 Hz).
ii)
4-(2-비닐옥시에틸)페놀(화학식 5a)의 제조
에틸비닐에테르(화학식 4; 200 ㎖)에 4-히드록시펜에틸 알코올(화학식 3a; 15.0 g, 108.0 mmol)을 적가한 후 20 분간 교반한 다음, 0 ℃로 냉각하고 수은아세테이트(3.4 g, 10.8 mmol)를 가한 후, 실온에서 24시간 교반하였다. 반응 종료후, 용매를 제거하고 실리카겔 상에서 후레쉬 컬럼 크로마토그래피(헥산/에틸아세테이트=5/1, v/v)로 분리정제한 후, 담황색 액체인 생성물 4-(2-비닐옥시에틸)페놀(화학식 5a; 11.0 g, 65 mmol, 수율 60%)를 얻었다.
1H NMR(200 MHz, CDCl3) : δ7.08(d, 2H, J=8.8 Hz), 6.76(d, 2H, J=8.6 Hz), 6.46(dd, 1H, J=14.0, 6.8 Hz), 4.20(dd, 1H, J=14.0, 2.0 Hz),
4.01(dd, 1H, J=6.0, 2.0 Hz)
iii)
비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(화학식 1a)의 제조
4-(2-비닐옥시에틸)페놀(3.0 g, 18.0 mmol)의 디메틸아세트아미드(25 ㎖) 용액에 소디움히드리드(720.0 mg, 18.0 mmol)를 가한 후 실온에서 30분간 교반한 후, 메리필드 레진(2 mmol/g, 3.0 g, 6.0 mmol)을 가하고 50 ℃에서 24시간 교반하였다. 반응종료후, 반응혼합물을 여과하고 CH2Cl2, DMF, DMF/H2O, H2O 및 MeOH으로 반복 세척한 후 건조시켜 담갈색의 레진인 생성물(화학식 1a; 4.08 g)을 얻었다.
IR(KBr) : 1600, 1491, 1449, 1209, 1191, 1013 cm-1
실시예 2 : 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진을 이용한 알코올의 도입 및 탈리반응
i-1)
4-브로모벤질 알코올의 도입반응
비닐 에테르 레진(화학식 1a; 340.0 mg, 0.5 mmole)의 1,2-디클로로에탄 용액(8 ㎖)에 피리디움 파라톨루엔술폰산 염(25.0 mg, 0.1 mmol)을 가한 후, 4-브로모벤질 알코올(280.0 mg, 1.5 mmol)을 넣고 실온에서 24시간 교반하였다. 반응종료후, 반응혼합물을 여과하고 CH2Cl2, DMF, DMF/H2O, H2O 및 MeOH으로 반복세척하고 건조시켜 담갈색 고체인 레진(화학식 8a; 392 mg)을 얻었다.
i-2)
4-브로모벤질 알코올 레진(8a)에서 알코올의 탈리반응
상기 반응에서 수득한 레진(화학식 8a; 392.0 mg)을 1.5% HCl/MeOH 용액(15 ㎖)에 넣고 실온에서 5시간동안 교반한 다음 여과한 후, 여과액을 농축시켜 탈리된 4-브로모벤질 알코올(57.0 mg, 수율 61%; 메리필드 레진부터 3단계 반응)을 얻었다.
1H NMR(200 MHz, CDCl3) : δ 7.48(d, 2H, J=8.4 Hz), 7.24(d, 2H, J=8.8 Hz), 4.65(s, 2H)
ii-1)
1-페닐-2-프로판올의 도입반응
비닐 에테르 레진(화학식 1a; 340.0 mg, 0.5 mmol)의 1,2-디클로로에탄 용액(8 ㎖)에 피리디움 파라톨루엔술폰산 염(25.0 mg, 0.1 mmol)을 가한 후, 1-페닐-2-프로판올(204.0 mg, 1.5 mmol)을 넣고 상기 화학식 8a로 표시되는 화합물의합성과 동일한 반응조작을 실시하여 담갈색 레진(화학식 8b; 379.0 mg)을 얻었다.
ii-2)
1-페닐-2-프로판올 레진(8b)에서 알코올의 탈리반응
상기 반응에서 수득한 화학식 8b로 표시되는 레진(379.0 mg)을 1.5% HCl/MeOH 용액(15 ㎖)에 넣고 실온에서 5시간 교반한 후 여과한 다음, 여과액을 농축시켜 탈리된 1-페닐-2-프로판올(42.0 mg, 수율 62%; 메리필드 레진부터 3단계 반응)을 얻을 수 있었다.
1H NMR(200 MHz, CDCl3) : δ 7.36∼7.20(m, 5H), 4.05∼3.99(m, 1H), 2.83∼
2.63(m, 2H), 1.25(d, 3H, J=6.2 Hz)
iii-1)
N-히드록시메틸 프탈이미드의 도입반응
비닐 에테르 레진(화학식 1a; 340.0 mg, 0.5 mmol)의 1,2-디클로로에탄 용액(8 ㎖)에 피리디움 파라톨루엔술폰산 염(25.0 mg, 0.1 mmol)을 넣고 N-히드록시메틸 프탈이미드(266.0 mg, 1.5 mmol)를 가한 다음, 상기 화학식 8a로 표시되는 화합물의 합성과 동일한 반응조작을 실시하여 담갈색 레진(화학식 8c; 392.0 mg)을 얻었다.
IR(KBr) : 1706 cm-1
iii-2)
N-히드록시메틸 프탈이미드 레진(8c)에서 알코올의 탈리반응
상기 반응에서 수득한 화학식 8c로 표시되는 레진(392.0 mg)을 1.5% HCl/MeOH 용액(15 ㎖)에 넣고 실온에서 5시간 교반한 후 여과한 다음, 여과액을 농축시켜 탈리된 N-히드록시메틸 프탈이미드(47.0 mg, 수율 53%; 메리필드 레진부터 3단계 반응)을 얻었다.
1H NMR(200 MHz, CDCl3) : δ 7.91∼7.84(m, 2H), 7.79∼7.73(m, 2H), 5.25(s, 2H)
iv-1)
4-페닐 페놀의 도입반응
비닐 에테르 레진(화학식 1a; 340.0 mg, 0.5 mmol)의 1,2-디클로로에탄 용액(8 ㎖)에 피리디움 파라톨루엔술폰산 염(25.0 mg, 0.1 mmol)을 넣고 4-페닐 페놀(255.0 mg, 1.5 mmol)을 가한 다음, 상기 화학식 8a로 표시되는 화합물의 합성과 동일한 반응조작을 실시하여 담갈색 레진(화학식 8d; 387.0 mg)을 얻었다.
iv-2)
4-페닐 페놀 레진(8d)에서 알코올의 탈리반응
상기 반응에서 수득한 화학식 8d로 표시되는 레진(387.0 mg)을 1.5% HCl/MeOH 용액(15 ㎖)에 넣고 실온에서 5시간 교반시킨 후 여과한 다음, 여과액을 농축시켜 탈리된 4-페닐 페놀(51.0 mg, 수율 60%; 메리필드 레진부터 3단계 반응)을 얻었다.
1H NMR(200 MHz, CDCl3) : δ 7.57∼7.25(m, 7H), 6.91(d, 2H, J=8.6 Hz)
실시예 3 : 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진(화학식 1)을 이용한 질소함유 복소고리 화합물의 도입 및 탈리반응
i-1)
퓨린의 도입(화학식 8e) 반응
비닐 에테르 레진(화학식 1a; 340.0 mg, 0.5 mmol)의 1,2-디클로로에탄 용액(8 ㎖)에 캄파술폰산(23.0 mg, 0.1 mmol)을 가한 후, 퓨린(180.0 mg, 1.5 mmol)을 넣고 실온에서 24시간동안 교반하였다. 반응종료 후, 반응혼합물을 여과하고 CH2Cl2, DMF, DMF/H2O, H2O 및 MeOH으로 반복세척하고 건조시켜 담갈색 레진(화학식 8e; 369.0 mg)을 얻었다.
i-2)
퓨린 레진(8e)에서 퓨린의 탈리반응
상기 반응에서 수득한 화학식 8e로 표시되는 레진(369.0 mg)을 1.5% HCl/MeOH 용액(15 ㎖)에 넣고 실온에서 5시간 교반한 후 여과한 다음, 여과액을 농축시켜 탈리된 퓨린 염(35.0 mg, 수율 45%; 메리필드 레진부터 3단계 반응)을 얻었다.
1H NMR(200 MHz, CD3OD) : δ 9.57(s, 1H), 9.34(s, 1H), 9.10(s, 1H)
ii-1)
5-(4-파라톨루일)페닐 테트라졸의 도입(8f) 반응
비닐 에테르 레진(화학식 1a; 340.0 mg, 0.5 mmol)의 1,2-디클로로에탄 용액(8 ㎖)에 트리플루오로아세트산(11.4 mg, 0.1 mmol)을 가한 후, 5-(4-파라톨루일)페닐 테트라졸(354.0 mg, 1.5 mmol)을 넣고 실온에서 24시간동안 교반하였다. 반응종료 후, 반응혼합물을 여과하고 CH2Cl2, DMF, DMF/H2O, H2O 및 MeOH으로 반복세척하고 건조시켜 담갈색 레진(화학식 8f; 413.0 mg)을 얻었다.
IR(KBr) : 1119, 1029 cm-1
i-2)
5-(4-파라톨루일)페닐 테트라졸 레진(8f)에서 테트라졸의 탈리반응
상기 반응에서 수득한 화학식 8f로 표시되는 레진(413.0 mg)을 1.5% HCl/MeOH 용액(15 ㎖)에 넣고 실온에서 5시간 교반한 후 여과한 다음, 여과액을 농축시켜 탈리된 테트라졸 화합물(95.0 mg, 수율 85%; 메리필드 레진부터 3단계 반응)을 얻었다.
1H NMR(200 MHz, CD3OD) : δ 7.66∼7.51(m, 4H), 7.11(d, 2H, J=8.2 Hz), 6.98(d, 2H, J=8.0 Hz), 2.32(s, 3H)
이상의 실시예에서 밝힌 바와 같이, 본 발명에 따른 비닐 에테르 연결체를 포함하는 신규 레진은 새로운 고체 지지체로서 알코올, 티올, 이미다졸, 트리아졸 및 테트라졸 기 등의 헤테로원자 함유 화합물의 고체 지지체상 유기합성반응에 유용하다.
따라서, 본 발명은 고체 지지체상 유기 반응을 이용한 조합화학합성 기술의 응용성을 높였으며, 이는 새로운 구조의 선도물질(lead compound)의 탐색 및 구조와 기능의 최적화 하는 것이 보다 용이해졌다.
Claims (11)
- 조합화학합성(CCS)에서의 고체 지지로 이용되는 것임을 특징으로 하는 다음 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진.화학식 1상기 화학식 1에서 :는 폴리스티렌-디비닐벤젠을 나타내고, n은 1∼5의 정수이다.
- (a) 다음 화학식 2로 표시되는 메틸(4-히드록시벤질)에스테르를 환원시켜 다음 화학식 3으로 표시되는 4-히드록시펜에틸 알코올을 제조하는 과정;(b) 상기에서 제조한 화학식 3으로 표시되는 화합물을 다음 화학식 4로 표시되는 에틸비닐에테르와 반응시켜 다음 화학식 5로 표시되는 4-(2-비닐옥시에틸)페놀을 제조하는 과정; 그리고(c) 상기에서 제조한 화학식 5로 표시되는 화합물을 다음 화학식 6으로 표시되는 메리필드 레진(Merrifield resin)과 반응시키는 과정이 포함된 것을 특징으로하는 다음 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진의 제조방법.화학식 1상기 화학식에서 :는 폴리스티렌-디비닐벤젠을 나타내고, n은 1∼5의 정수이다.
- 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물에 비닐 에테르기의 도입반응(b)은 수은 아세테이트 촉매하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진의 제조방법.
- 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 메리필드 레진에 도입하는 반응(c)은 염기 촉매하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진의 제조방법.
- 제 4 항에 있어서, 상기 염기 촉매가 알콕시나트륨 또는 소디움히드리드인것을 특징으로 하는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진의 제조방법.
- 다음 화학식 1로 표시되는 비닐 에테르 연결체가 포함된 레진을 고체 지지체로하여 다음 화학식 7로 표시되는 헤테로원자 함유 화합물을 도입한 후, 다단계의 유기반응을 수행 한 다음, 고체 지지체로부터 탈리시키는 것을 특징으로 하는 고체 지지체상의 유기합성법.화학식 1화학식 7상기 화학식에서 :는 폴리스티렌-디비닐벤젠을 나타내고; Y는 산소원자 또는 NH를 나타내고; X는 H, OH, SH, 할로겐, 페닐기, 할로겐원자로 치환된 페닐기 또는 비페닐기를 나타내거나, 또는 또다른 헤테로원자(X')와 함께 Y와 결합하여를 형성하며, 이때 Y와 X'는 서로 같거나 다른 헤테로원자로서 그 갯수가 1∼5개이며, 이들은 탄소원자수 1 내지 4개의 알킬렌기 또는 탄소원자수 2 내지 4개의 알케닐기로 연결되고; m은 1 내지 4의 정수이다.
- 제 6 항에 있어서, 상기 화학식 7로 표시되는 화합물이 4-브로모벤질 알코올, 1-페닐-2-프로판올, 4-페닐페놀, N-히드록시메틸 프탈이미드, 퓨린 또는 4-(파라톨루일)페닐 테트라졸인 것을 특징으로 하는 고체 지지체상의 유기합성법.
- 제 6 항에 있어서, 상기 헤테로원자 함유 화합물을 레진에 도입하는 반응은 산 촉매하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 고체 지지체상의 유기합성법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 산 촉매가 캄파 술폰산, 트리플루오로아세트산 및 피리디움 파라톨루엔술폰산 염 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 고체 지지체상의 유기합성법.
- 제 6 항에 있어서, 상기 레진으로부터 헤테로원자 함유 화합물을 탈리하는 반응은 무수 유기용매 및 산(acid) 존재하에서 수행하는 것을 특징으로 하는 고체지지체상의 유기합성법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 산(acid)은 염산/메탄올 용액인 것을 특징으로 하는 고체 지지체상의 유기합성법.
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