KR100281694B1 - Sludge separator for semiconductor device manufacturing equipment - Google Patents
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- C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
- C02F1/004—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance using large scale industrial sized filters
Abstract
본 발명은 반도체장치 제조설비에 연결되어 그로부터 방출되는 폐수로부터 오니를 연속적으로 그리고 효과적으로 분리하여 제거할 수 있는 오니분리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a sludge separation apparatus which is connected to a semiconductor device manufacturing facility and can continuously and effectively separate and remove sludge from wastewater discharged therefrom.
본 발명에 따른 반도체장치 제조설비용 오니분리장치는, 여과조(2), 상기 여과조(2)를 덮는 덮개(3), 상기 여과조(2)내로 폐수를 유입시키는 폐수인입관(4), 폐수인출구(51)를 경유하여 상기 여과조(2)로부터 폐수를 인출시키는 폐수인출관(5) 및 상기 폐수로부터 분리된 오니를 상기 여과조(2)로부터 인출시키는 오니인출관(6)을 포함하여 이루어지며, 상기 덮개(3)의 이면에 하방으로 향하여 상기 여과조(2)를 상기 폐수인출구(51) 보다 낮은 위치까지 수직방향으로 분리시키는 분리벽(21)이 취부되고, 상기 분리벽(21)의 하단에서 수평으로 상기 여과조(2)의 일측내벽까지 필터(22)가 취부되어 이루어진다.The sludge separator for semiconductor device manufacturing equipment according to the present invention includes a filtration tank 2, a cover 3 covering the filtration tank 2, a wastewater inlet pipe 4 for introducing wastewater into the filtration tank 2, and a wastewater outlet. A wastewater withdrawal pipe (5) for withdrawing wastewater from the filtration tank (2) via (51) and a sludge withdrawal tube (6) for withdrawing the sludge separated from the wastewater from the filtration tank (2), On the rear surface of the cover 3 is provided a separating wall 21 for separating the filtration tank 2 in a vertical direction to a position lower than the wastewater outlet 51, and at the bottom of the separating wall 21. The filter 22 is mounted to one inner wall of the filtration tank 2 horizontally.
따라서, 폐수로부터 오니를 연속적으로 그리고 효과적으로 제거할 수 있도록 하므로써 반도체장치 제조설비의 가동효율을 높이고, 오니의 퇴적 등으로 인한 폐수의 역류 등을 원인적으로 예방하는 효과가 있다.Therefore, it is possible to continuously and effectively remove the sludge from the wastewater, thereby increasing the operation efficiency of the semiconductor device manufacturing equipment and causing the backflow of the wastewater due to the deposition of the sludge or the like.
Description
본 발명은 반도체장치 제조설비용 오니분리장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 반도체장치 제조설비에 연결되어 그로부터 방출되는 폐수로부터 오니를 연속적으로 그리고 효과적으로 분리하여 제거할 수 있는 오니분리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a sludge separator for semiconductor device manufacturing equipment. More particularly, the present invention relates to a sludge separation apparatus that can be connected to a semiconductor device manufacturing facility and can continuously and effectively separate and remove sludge from wastewater discharged therefrom.
반도체장치를 제조하기 위한 제조설비들 중에는 직접적으로 웨이퍼를 가공하는 설비들 이외에 이들 설비들을 보조하기 위한 보조설비들이 있다. 예를 들면, 보조설비로는 탈이온수 또는 순수제조장치, 프레시에어의 준비 및 순환을 위한 공조설비, 제조설비에서 유출되는 배기가스로부터 독성가스들이나 분진 등을 제거하는 스크러버 및 제조설비 또는 스크러버에서 유출되는 폐수로부터 독성화학약품들이나 오니 등 고형분을 제거하는 폐수정화장치, 폐수로부터 오니 등 고형분을 제거하고, 여과된 폐수만을 방류토록 하는 오니분리장치 등을 들 수 있다.Among manufacturing facilities for manufacturing a semiconductor device, there are auxiliary facilities for assisting these facilities in addition to those for processing wafers directly. For example, ancillary equipment includes deionized water or pure water manufacturing equipment, air conditioning equipment for the preparation and circulation of fresh air, scrubbers for removing toxic gases and dusts from exhaust gas discharged from manufacturing equipment, and outflow from manufacturing equipment or scrubber. Wastewater purification apparatus for removing solids such as toxic chemicals and sludge from the wastewater, sludge separation apparatus for removing solids such as sludge from the wastewater and discharge only the filtered wastewater.
그러나, 종래의 경우 단순여과방식에 의하여 오니를 포함하는 폐수를 중력에 의하여 상방에서 하방으로 유수시키면서 오니를 필터로 여과토록 하였으나, 이러한 종래의 오니분리장치의 경우 빈번하게 오니를 필터로부터 제거하여야만 하였으며, 그러하지 아니한 경우, 오니에 의하여 필터가 폐색되어 오니의 제거가 곤란할 뿐더러 필터의 폐색은 폐수의 흐름을 저해하여 폐수가 오히려 제조설비 쪽으로 역류하여 제조설비의 원활한 가동을 저해하는 문제점이 있었다. 이는 오니를 여과하기 위한 필터가 설치되지 않은 단순방류의 경우에도 오니가 점차 폐수를 방류하는 폐수라인의 내부에 퇴적되어 역시 폐수라인을 폐색시키는 문제점을 유발할 뿐만 아니라 오니가 포함된 폐수를 그대로 방류하기 때문에 환경오염의 원인이 되었다.However, in the conventional case, the wastewater containing sludge was flowed from the upper side to the lower side by gravity by a simple filtration method, and the sludge was filtered by a filter. However, in the conventional sludge separation apparatus, the sludge was frequently removed from the filter. If not, the filter is blocked by sludge, and it is difficult to remove the sludge, and the blockage of the filter inhibits the flow of wastewater, and the wastewater flows back toward the manufacturing facility, which hinders the smooth operation of the manufacturing facility. This is a simple discharge that does not have a filter for filtering sludge, but the sludge gradually accumulates inside the wastewater line that discharges the wastewater, which also causes the problem of clogging the wastewater line and also discharges the wastewater containing the sludge as it is. Therefore, it became the cause of environmental pollution.
본 발명의 목적은 필터의 폐색을 방지하여 지속적인 오니의 분리가 가능한 반도체장치 제조설비용 오니분리장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a sludge separation apparatus for a semiconductor device manufacturing facility which is capable of continuously separating sludge by preventing clogging of a filter.
도 1은 본 발명에 따른 반도체장치 제조설비용 오니분리장치를 개략적으로 도시한 측단면도이다.1 is a side cross-sectional view schematically showing a sludge separating apparatus for a semiconductor device manufacturing apparatus according to the present invention.
도 2는 도 1의 오니분리장치만을 분리하여 도시한 사시도이다.Figure 2 is a perspective view showing only the sludge separating apparatus of Figure 1 separated.
※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of code for main part of drawing
1 : 외조 2 : 여과조1: outer tank 2: filtration tank
3 : 덮개 4 : 폐수인입관3: cover 4: wastewater inlet pipe
5 : 폐수인출관 6 : 오니인출관5: wastewater withdrawal pipe 6: sludge withdrawal pipe
21 : 분리벽 22 : 필터21: separating wall 22: filter
23 : 경사저면 41 : 폐수인입단속밸브23: inclined bottom 41: wastewater inlet check valve
51 : 폐수인출구 52 : 폐수인출단속밸브51: wastewater discharge outlet 52: wastewater discharge control valve
61 : 오니인출단속밸브61: sludge drawout control valve
본 발명에 따른 반도체장치 제조설비용 오니분리장치는, 여과조, 상기 여과조를 덮는 덮개, 상기 여과조내로 폐수를 유입시키는 폐수인입관, 폐수인출구를 경유하여 상기 여과조로부터 폐수를 인출시키는 폐수인출관 및 상기 폐수로부터 분리된 오니를 상기 여과조로부터 인출시키는 오니인출관을 포함하여 이루어지며, 상기 덮개의 이면에 하방으로 향하여 상기 여과조를 상기 폐수인출구 보다 낮은 위치까지 수직방향으로 분리시키는 분리벽이 취부되고, 상기 분리벽의 하단에서 수평으로 상기 여과조의 일측내벽까지 필터가 취부되어 이루어진다.The sludge separator for semiconductor device manufacturing equipment according to the present invention includes a filtration tank, a cover covering the filtration tank, a wastewater inlet pipe for introducing wastewater into the filtration tank, a wastewater withdrawal pipe for withdrawing wastewater from the filtration tank via a wastewater outlet. And a sludge drawing tube for drawing the sludge separated from the waste water from the filtration tank, wherein a separating wall separating the filtration tank in a vertical direction to a position lower than the wastewater outlet is installed on the rear side of the cover downward. A filter is mounted to the inner wall of one side of the filtration tank horizontally from the bottom of the separation wall.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 및 도 2에 개략적으로 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체장치 제조설비용 오니분리장치는, 여과조(2)내에 필터(22)를 구획하여 설치하고, 이 필터(22)를 중심으로 하방에서 상방으로 여과될 폐수가 흐르도록 하여 배출되도록 이루어짐을 특징으로 한다.As schematically shown in Figs. 1 and 2, the sludge separation apparatus for semiconductor device manufacturing equipment according to the present invention is provided by partitioning the filter 22 in the filtration tank 2, and focusing on the filter 22. Characterized in that it is made to be discharged by flowing the waste water to be filtered from below to upward.
즉, 본 발명에 따른 오니분리장치는 여과조(2), 상기 여과조(2)를 덮는 덮개(3), 상기 여과조(2)내로 폐수를 유입시키는 폐수인입관(4), 폐수인출구(51)를 경유하여 상기 여과조(2)로부터 폐수를 인출시키는 폐수인출관(5) 및 상기 폐수로부터 분리된 오니를 상기 여과조(2)로부터 인출시키는 오니인출관(6)을 포함하여 이루어지며, 상기 덮개(3)의 이면에 하방으로 향하여 상기 여과조(2)를 상기 폐수인출구(51) 보다 낮은 위치까지 수직방향으로 분리시키는 분리벽(21)이 취부되고, 상기 분리벽(21)의 하단에서 수평으로 상기 여과조(2)의 일측내벽까지 필터(22)가 취부되어 이루어진다.That is, the sludge separating apparatus according to the present invention includes a filtration tank 2, a cover 3 covering the filtration tank 2, a wastewater inlet pipe 4 for introducing wastewater into the filtration tank 2, and a wastewater outlet 51. A wastewater withdrawal pipe (5) for withdrawing wastewater from the filtration tank (2) via a via, and a sludge withdrawal pipe (6) for withdrawing the sludge separated from the wastewater from the filtration tank (2); A separation wall 21 for separating the filtration tank 2 in a vertical direction to a position lower than the wastewater outlet 51 is installed on the rear surface of the back side), and the filtration tank is horizontally disposed at the lower end of the separation wall 21. The filter 22 is attached to one side inner wall of (2).
상기 폐수인입관(4)은 상기 여과조(2)를 덮는 덮개(3)나 상기 여과조(2)에서 필터(22)와 연결되는 측벽과 대향되는 측벽 등에 연결될 수 있으나, 바람직하게는 상기 덮개(3)에 연결될 수 있다. 상기 폐수인입관(4)이 상기 여과조(2)의 측벽에 연결되는 경우에도 그 입구가 상기 분리벽(21)의 하단보다 높은 위치에서 연결되는 것이 바람직하다.The wastewater inlet pipe 4 may be connected to a cover 3 covering the filtration tank 2 or a side wall facing the side wall connected to the filter 22 in the filtration tank 2, but preferably the cover 3. ) Can be connected. Even when the wastewater inlet pipe 4 is connected to the side wall of the filtration tank 2, the inlet thereof is preferably connected at a position higher than the lower end of the separation wall 21.
상기 오니인출관(6)은 상기 여과조(2)의 경사저면(23)의 최저중심부에 연결되는 것이 오니의 원활한 인출을 위하여 바람직하다.The sludge withdrawal pipe 6 is preferably connected to the lowest center of the inclined bottom 23 of the filtration tank 2 for smooth withdrawal of the sludge.
상기 여과조(2)의 경사저면(23)은 그 중심부쪽으로 갈수록 낮아지도록 하여 5 내지 50°의 경사각을 이루도록 경사지게 형성될 수 있다. 상기 경사저면(23)의 경사각이 5° 미만으로 형성되는 경우, 경사각이 너무 작아 폐수로부터 분리된 오니의 오니인출관(6)쪽으로의 흐름이 너무 완만하여 경사저면(23)의 경사효과가 적어지는 문제점이 있을 수 있으며, 상기 경사저면(23)의 경사각이 50°를 초과하는 경우, 경사각이 너무 커서 오히려 오니인출관(6)이 연결되는 부분이 너무 좁아져서 다량의 오니가 포함된 폐수가 유입되는 경우, 오니에 의하여 오니인출관(6)이 급속히 폐색되는 문제점이 있을 수 있다.The inclined bottom surface 23 of the filtration tank 2 may be formed to be inclined to form an inclination angle of 5 to 50 ° by lowering toward the central portion thereof. When the inclination angle of the inclined bottom surface 23 is formed to be less than 5 °, the inclination angle is too small so that the flow of sludge separated from the wastewater to the sludge drawing tube 6 is too gentle and the inclination effect of the inclined bottom 23 is less. If the inclination angle of the inclined bottom surface 23 exceeds 50 °, the inclination angle is so large that the portion to which the sludge extraction pipe 6 is connected is too narrow so that the wastewater containing a large amount of sludge When introduced, there may be a problem that the sludge draw tube 6 is rapidly occluded by the sludge.
상기한 바의 구성에 의하여 상기 폐수인입단속밸브(41)가 취부된 폐수인입관(4)을 경유하여 유입된 폐수가 상기 여과조(2)내에 수직하방으로 설치된 분리벽(21)에 의하여 직접 폐수인출관(5)의 폐수인출구(51)로 유입되지 못하고, 분리벽(21)을 따라 하강하였다가 다시 상승하면서 상기 여과조(2)의 측벽에 형성된 폐수인출구(51)와 그에 연결된 폐수인출관(5)과 그에 취부된 폐수인출단속밸브(52)를 통하여 배출되도록 하며, 이때 폐수 중에 포함된 오니들이 상기 분리벽(21)의 하단에 수평으로 설치된 필터(22)에 의하여 여과되고, 동시에 중력에 의하여 하강하면서 상기 필터(22)로부터 분리되도록 한다. 따라서, 오니가 필터(22)에 퇴적되지 않아 필터(22)를 폐색하지 않기 때문에 항상 필터(22)의 여과능력이 일정하게 유지될 수 있게 된다.The wastewater introduced via the wastewater inlet pipe (4) on which the wastewater intake control valve (41) is mounted by the above-described configuration is directly discharged by the separating wall (21) installed in the filter tank (2). The wastewater outlet 51 which does not flow into the wastewater outlet 51 of the outlet pipe 5, descends along the separation wall 21, and then rises again, and the wastewater outlet pipe 51 formed on the side wall of the filtration tank 2 and the wastewater outlet pipe connected thereto ( 5) and the wastewater discharge control valve 52 mounted thereon, wherein the sludge contained in the wastewater is filtered by a filter 22 horizontally installed at the lower end of the separation wall 21, and at the same time To be separated from the filter 22 while descending. Therefore, since the sludge does not accumulate in the filter 22 and does not block the filter 22, the filtration capacity of the filter 22 can always be kept constant.
상기 오니인출관(6)에는 오니인출단속밸브(61)가 취부되어 정기적으로 상기 여과조(2)내에 퇴적된 오니를 제거할 수 있도록 한다.The sludge drawing-out valve 6 is attached to the sludge drawing pipe 6 so as to periodically remove the sludge deposited in the filtration tank 2.
상기 여과조(2)는 바람직하게는 그 자체로서 내구성이 우수한 재질로 이루어질 수 있으며, 더욱 바람직하게는 투명한 재질로 이루어져 여과조(2) 내부의 오니의 퇴적상태나 여과상태 등을 감시할 수 있도록 할 수 있다.Preferably, the filtration tank 2 may be made of a material having excellent durability by itself, and more preferably, may be made of a transparent material to monitor the deposition state or filtration state of sludge inside the filtration tank 2. have.
또한, 상기 여과조(2)의 외측에 별도의 내구성이 강한 외조(1)를 더 설치하여 상기 여과조(2)를 보호토록 할 수 있다. 상기 외조(1)에는 그 내부에 수용되는 여과조(2)의 감시를 위한 감시창(도시하지 않음)이 더 설치될 수 있다.In addition, a separate durable outer tank 1 may be further provided on the outside of the filtration tank 2 to protect the filtration tank 2. The outer tank 1 may be further provided with a monitoring window (not shown) for monitoring the filtration tank 2 accommodated therein.
또한, 상기 여과조(2)의 상방에는 여과조(2)의 유지, 보수를 위한 그레이팅이 더 설치될 수 있다.In addition, a grating for maintenance and repair of the filtration tank 2 may be further provided above the filtration tank 2.
따라서, 본 발명에 의하면 폐수로부터 오니를 연속적으로 그리고 효과적으로 제거할 수 있도록 하므로써 반도체장치 제조설비의 가동효율을 높이고, 오니의 퇴적 등으로 인한 폐수의 역류 등을 원인적으로 예방하는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, it is possible to continuously and effectively remove the sludge from the wastewater, thereby increasing the operation efficiency of the semiconductor device manufacturing equipment and causing the backflow of the wastewater due to the deposition of the sludge or the like.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.
Claims (8)
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